JP2004101574A - 画像露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】マスク不要の露光を複数の微小ミラーを用いて実現した画像露光装置において、微小ミラー間の隙間による未露光部分を、分解能の低下を招かず、新たな制御回路の追加や困難調整など無く補完する。
【解決手段】微小ミラーで反射した記録光が偏光光学素子を通過すると、任意の偏光成分を有する記録光が微小ミラー間の隙間を補完するように屈折される。
【選択図】 図1
【解決手段】微小ミラーで反射した記録光が偏光光学素子を通過すると、任意の偏光成分を有する記録光が微小ミラー間の隙間を補完するように屈折される。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、微小ミラーなどを用いて感光材料に画像を露光する装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来のマイクロリソグラフィにおける露光装置はいずれも露光原板、すなわちマスクを用いて、そのマスクの像を、感光材料を表面に塗布した被露光体上に結像させる装置である。しかしこの装置は大量生産には良いが、多品種、少量生産においては、その都度新たにマスクの作製から始めなければならないので費用と時間がかかり、そのような用途には不向きであった。
【0003】
そこで、マスクの代わりに複数の微小ミラーデバイスを有する空間変調素子を用いる方法が提案された(たとえば特許文献1参照)。この複数の微小ミラーデバイスは、各々の微小ミラーデバイスの向きを独立に変える駆動部を有し、入射した記録光を微小ミラー毎に2つのいずれかの方向に反射させるものである。
【0004】
このような複数の微小ミラーデバイスを有する空間変調素子をマスクの代わりに用いれば、画像信号に応じて上記駆動部の動作を制御することにより、微小ミラーデバイスに入射してきた光を微小ミラーデバイス毎に変調し、感光材料を塗布した被露光体に任意の画像を露光することができる。そして新たな画像を露光するときは、上記微小ミラーデバイスを駆動することで新たな画像を作り出すことができるので、マスクを新たに作製する必要は無い。さらに露光中に微小ミラーを駆動させることで、同じ露光画像に対し、領域ごとに露光時間を変化させることも可能である。
【0005】
ところでこのような微小ミラーデバイスには、微小ミラーと微小ミラーの間には各微小ミラーが駆動できるように隙間が存在している。そのため、この隙間に入射してきた記録光は微小ミラーで反射されず、感光材料を塗布した被露光体まで到達しない。そのために、被露光体に未露光部分が発生してしまう。
【0006】
この隙間を露光するために、マイクロレンズを露光光学系に挿入する方法(たとえば特許文献2参照)や画素ずらしを利用した方法(たとえば特許文献3参照)が提案されている。
【0007】
【特許文献1】
特開昭62−21220号公報
【特許文献2】
特開平9−17719号公報
【特許文献3】
特開平9−292657号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
マイクロレンズを露光光学系に挿入する方法は、微小ミラーとマイクロレンズを一対一で対応させて設置し、記録光を絞って各微小ミラーに入射させ、反射した記録光を再びマイクロレンズで平行光にすることによって、微小ミラー間の隙間による未露光部分の発生を防いでいる。しかしこの方法だと、微小ミラーとマイクロレンズ位置合わせの精度は非常に厳しくなり、組み立てが困難となる。
【0009】
また画素ずらしを利用する方法では、画素ずらしを行うためのデバイスを新たに追加しなければならないことや、画素ずらしを実行するための複雑な制御系を追加しなければならない。
【0010】
本発明の目的は、上記の事情を鑑みて新たに複雑な制御系を追加せず、更に組み立て調整も容易な方法で微小ミラー間の隙間によって発生する未露光部分を露光することができる画像露光装置を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記問題点を解決するため、以下の様な構成とするものである。
【0012】
本発明は、感光材料を表面に塗布した被露光体を露光するための記録光を発する光源と、
前記光源からの光を平行光に変換する光学素子と、前記光学素子からの光を選択的に被露光体に照射するための露光選択手段とを有する画像露光装置において、
上記被露光体にいたる平行光路中に、偏光成分を有する光を屈折させる偏光光学素子を設けたことを特徴とする画像露光装置である。
【0013】
本発明に従えば、露光選択手段によって生じる未露光領域を、偏光光学素子によって任意の偏光成分を有する記録光を屈折させて照射することで、上記未露光領域を露光することができる。また、複雑な制御系や困難な画像露光装置の調整を追加せずに未露光領域を補完して露光することができる。
【0014】
また本発明は、前記露光選択手段は平行光を受ける位置に設置された複数の微小ミラーを有する空間変調素子であり、前記空間変調素子通過後の光路中に偏光光学素子を配置したことを特徴とする。
【0015】
本発明に従えば、光源からの光は、複数の微小ミラーを介してそれぞれ選択的に被露光体に照射させることができるうえ、微小ミラー間の隙間による未露光領域を補完して露光することができる。
【0016】
また本発明は、前記記録光を発する光源は複数の光源部を有しており、前記露光選択手段は複数の各々の光源部をオン/オフすることによって選択的露光を行うことを特徴とする。
【0017】
本発明に従えば、各光源部をオン/オフすることによって、光を被露光体へ選択に到達させて照射することができる。
【0018】
また本発明は、上記光源は直線偏光を有するレーザであり、レーザの偏光方向を回転することによって記録光の強度分布を調整することを特徴とする。
【0019】
本発明に従えば、光源は直線偏光を有するレーザであり、レーザの偏光方向を回転することによって、記録光の強度分布を調整することができる。
【0020】
また本発明は、上記光源は直線偏光を有するレーザであり、レーザの偏光を直線偏光から円偏光に変換してから上記画像露光装置に用いることを特徴とする。
【0021】
本発明に従えば、光源は直線偏光を有するレーザであり、レーザの偏光を直線偏光から円偏光に変換することによって、記録光の強度分布を調整することができる。
【0022】
また本発明は、上記偏光光学素子による屈折量は、上記被露光体上に未露光領域が発生しないように設定されることを特徴とする。
【0023】
本発明に従えば、露光画像の分解能をほとんど低下させることなく、未露光領域を補完して露光することができる。
【0024】
また本発明は、上記偏光光学素子は水晶から作製されていることを特徴とする。
本発明に従えば、水晶を偏光光学素子に用いることで、安価で量産に向く。
【0025】
また本発明は、上記偏光光学素子は構造的な変化で複屈折性を有する素子であることを特徴とする。
【0026】
本発明に従えば、構造的な変化で複屈折性を有する偏光光学素子によって、被露光体の不所望の未露光領域を露光することができる。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【0028】
図1に本発明の実施の形態における、画像露光装置40の概略図を示す。
図1の画像露光装置40は、感光材料を表面に塗布した被露光体8を露光する記録光を発する光源1、該光源から発せられた記録光を平行光にする光学系2、記録光を反射するミラー3と4、複数の微小ミラー11を有する空間変調素子5、偏光光学素子6、結像光学系7、感光材料を表面に塗布した被露光体8、空間変調素子駆動回路9とを有している。なお、光学系2は図1では省略しレンズ1枚にて図示しており、また結像光学系7も本実施の形態において詳細な光学素子の配置は省略して簡単に示している。
【0029】
光源1から発せられた記録光は光学系2において平行光となりミラー3、4で反射を繰り返して空間変調素子5に入射される。空間変調素子5は矢印A方向から眺めると、図2に示すように複数からなる微小ミラー11を有している。該複数の微小ミラー11はシリコン基板10上に隙間14を開けて1次元に配列されている。各微小ミラー11は、図3(a)に示すように微小ミラー11を支持するための捩れヒンジ12と、1対の電極13とを備えている。
【0030】
微小ミラー11の電極側表面25には電気伝導率の大きい、例えばAuなどからできている。微小ミラー11の駆動は電極13と微小ミラー11の電圧印加状態に応じて以下のように行うことができる。
【0031】
各微小ミラー11の電極13への電圧印加は空間変調素子駆動回路9によって制御される。例えば電極13と微小ミラー11との間に電圧が印加されていない場合、図3(a)に示すように微小ミラー11は駆動しない。また電極13と微小ミラー11との間に所定の電圧が印加されると微小ミラー11と電極13の間に静電力が働き、図3(b)のように捩れヒンジ12を中心に回転する。
【0032】
そこで、微小ミラー11が図3(a)の状態の場合、微小ミラー11で反射した記録光29は結像光学系の開口から外れるが、微小ミラー11が図3(b)の場合、微小ミラー11で反射した記録光29は結像光学系を通過して、被露光体8に到達する。このようにして記録光の被露光体8への到達を、各微小ミラー11単位で制御できることになる。
【0033】
上記のように各微小ミラー11で図3(a),(b)の状態を制御すると、被露光体8上に記録光が到達した箇所と到達しなかった箇所が一次元状に並び、記録光が到達した箇所では、感光材料は露光される。更に、記録光の被露光体8への到達を微小ミラー11ごとに制御しながら被露光体8を微小ミラー列と垂直な方向、すなわち図1で紙面に垂直な方向に移動すると、被露光体8に所望の画像を露光することができる。なお、図1において被露光体8を微小ミラー列と垂直な方向に移動する被露光体駆動部は省略している。
【0034】
しかし各微小ミラー11の間には、微小ミラー11が駆動しても隣接する微小ミラーとの接触が起こらないためと作製上の理由から、図2に示すような隙間14を設けてあるため、その隙間に入射した記録光は反射されない。そのため、その隙間が原因で被露光体8に記録光が到達しない未露光部分41(未露光領域に相当する)が発生し、所望の画像を被露光体8に正確に露光できない。
【0035】
そこで微小ミラー11間の隙間14によって発生する未露光部分41を、偏光光学素子6を用いて露光する。以下に偏光光学素子6によって未露光部分41を露光する方法を述べる。
【0036】
図4(a)は偏光光学素子6を使用していない場合で、数枚の駆動した微小ミラー11が連続して並んでおり、その連続した領域は被露光体8へ記録光を到達させている。図4(b)はそのときの被露光体8上での露光像26を示している。この場合は、各微小ミラー11に存在する隙間14のため、露光像にも隙間14が発生する。ここで図5(a)のように微小ミラー11で記録光が反射した後に偏光光学素子6を挿入する。該偏光光学素子6は図6のような機能を有する。
【0037】
偏光光学素子6は複屈折性を有する光学素子で、紙面に平行な方向に偏光成分を有する光(P波)に対してそのまま直進させ、紙面に垂直な方向に偏光成分を持つ光(S波)に対しては図6のように屈折させて進行方向を変化させ、偏光光学素子から出るとP波と平行に進ませる。このように偏光光学素子6はS波のみを屈折させることによって、P波に対して矢印Bの方向にS波を平行にずらす事ができる。このずれ量dは入射光の波長λ、偏光光学素子6の厚さtと複屈折性によって決定することができる。本実施の形態ではP波は偏光光学素子6の中を直進しS波は屈折して斜めに進むが、これが逆になってP波が偏光光学素子6の中を屈折して斜めに進みS波が直進してもかまわない。以下においては、図6で示したようなP波が偏光光学素子6の中を直進しS波を屈折して斜めに進ませ、S波をP波に対して平行にずらすような機能を持つ偏光光学素子を用いて説明する。
【0038】
図5(a)のように、微小ミラー11で記録光が反射した後に偏光光学素子6を挿入すると、記録光のうちP波(実線)はそのまま直進するがS波(点線)は偏光光学素子6によって屈折し、偏光光学素子6の中を斜めに進み偏光光学素子6から再び出るときに屈折してP波と平行光になるため、結果として微小ミラー列の方向(矢印Bの方向)にずれたことになる。このS波がずれたことによって微小ミラー間の記録光が反射されない部分を埋めることができる。図5(b)に図5(a)の状態で露光した時の被露光体8上での露光像27を示す。偏光光学素子6を挿入することで、微小ミラー間の隙間による未露光部分を補完することができる。
【0039】
また、偏光光学素子6によるS波の矢印B方向へのずれ量を微小ミラー間の隙間に一致するように偏光光学素子6の厚さtと複屈折性の方向や大きさを設定しておくと、微小ミラー1つによって露光される露光領域は、偏光光学素子がない場合とほとんど同じで微小ミラー1つのサイズとほぼ一緒である。そのため、光学系による縮小を無視するとすれば最小露光幅をほぼ微小ミラーと同等のサイズにすることができ、分解能が高い露光を維持することができる。よって、偏光光学素子を用いて微小ミラー間の隙間を露光画像の分解能にほとんど影響を与えないようにできる。例えば、微小ミラー11の間隔を1μm補完するための偏光光学素子6の厚さtはおよそ0.2mm程度に設計できる。
【0040】
偏光光学素子6によって微小ミラー11の隙間を補完したときの、記録光の強度分布は図7のようになる。偏光光学素子6で補完するとS波の記録光がずれるので、28で示すような強度分布になる。記録光の強度分布は記録光がずれてS波とP波が重なっている箇所には最大強度I1が照射される。S波のみが照射される箇所にはI1よりも低い強度I2が照射され、P波のみが照射され箇所には強度I3が照射される。またS波とP波の強度が異なり例えばS波のほうがP波より強度が大きいと、I2とI3の強度も異なり28のような強度分布になってしまう。できるだけ記録光が強度分布を持たないようにするには、S波とP波の強度を等しくしI2とI3の強度を等しくすれば良い。そのためには例えば、光源にハロゲンランプ等の偏光がそろっていないものを用いた場合は、S波とP波の強度は等しくなる。また光源にレーザのような直線偏光を出射するものを用いた場合は、S波とP波が等しくなるように偏光方向を光線の進行方向に対して回転させるか、円偏光に変換して用いることが望ましい。
【0041】
S波とP波の強度が等しくなると、I1とI2(=I3)の関係は以下のように表すことができる。
I1=2・I2 …(1)
【0042】
上記のように偏光光学素子6を用いれば、偏光光学素子6を駆動する必要は無いので、複雑な制御回路を追加することなく微小ミラー間の隙間による未露光部分を補完することができる。さらに、偏光光学素子6とその他の光学系などとの困難な調整を必要とせずに、記録光の光路中に偏光光学素子6を挿入するだけで未露光部を補完できる。これらの理由からも、偏光光学素子6を用いれば微小ミラー11間の隙間による未露光部分を容易に補完することができる。
【0043】
本実施の形態では複数の微小ミラー11を用いた画像露光装置40を例に挙げたが、これに限定されたものではない。例えば図8に示すような画像露光装置40Aも考えられる。図8の画像露光装置40Aは、複数の光源部29が一列に並んでいる光源としての光源体15、偏光光学素子6、結像光学系7、感光材料を表面に塗布した被露光体8を有している。光源体15は例えば図9で示すように、光源部29とその出射光を平行光にするレンズ30が一体となったユニットが一次元に配列されている。
【0044】
光源体15から発せられた記録光束は図8のように、偏光素子6、結像光学系7を通って被露光体8に到達し、感光材料を露光する。各光源をそれぞれオン、オフに駆動することによって、被露光体8に露光された箇所と露光されなかった箇所が一列にできる。そして、各光源をオン、オフと駆動しながら被露光体8を紙面に垂直な方向に移動させると所望の画像を露光することができる。この場合でも各光源は図9のように密接して配置することはできないので各光源間には隙間14が存在し、その隙間14によって被露光体8には未露光部分が発生してしまう。しかし、図6のような機能を有する偏光光学素子6を光路中に挿入してやることで任意の偏光成分を有する記録光を屈折させてずらし、未露光部分を容易に補完することができる。またこの場合も、光ビームのずれ量を各光源間の間隔に設定しておけば、1つの光源にて露光できる領域はさほど広がらず分解能が高い画像の露光を維持することができる。
【0045】
本実施の形態で用いられた偏光光学素子6は、例えば複屈折性を有する水晶や方解石などがある。どちらを用いても良いが、方解石は人口育成されておらず天然の良質結晶が用いられているため、高価である。一方水晶は量産されているため容易に手に入れることができる。また、近年の微細加工の発達によって微小な構造物を2次元的に作製することによって構造的な変化で素子に複屈折性を持たせることができる。これは波長オーダの周期構造をもつ微小ピッチの格子や柱などを2次元配列させて構造的に方向性を持たせると、複屈折性を有することができる。それを利用して偏光光学素子を実現させたものである。この素子は、微細加工にて作製されるので一度に大量の素子を作製できると考えられる。
【0046】
また本実施の形態における微小ミラーの駆動は静電力を利用しているが、これに限定されたものではない。例えば、磁力を利用しても微小ミラーを駆動することができる。
【0047】
【発明の効果】
本発明によれば、露光選択手段によって生じる未露光領域を、偏光光学素子によって任意の偏光成分を有する記録光を屈折させて照射することで、上記未露光領域を露光することができる。また、複雑な制御系や困難な画像露光装置の調整を追加せずに微小ミラー間の隙間による未露光領域を補完して露光することができる。
【0048】
また本発明によれば、光源からの光は、複数の微小ミラーを介してそれぞれ選択的に被露光体に照射させることができるうえ、微小ミラー間の隙間による未露光領域を補完して露光することができる。
【0049】
また本発明によれば、各光源部をオン/オフすることによって、光を被露光体へ選択に到達させて照射することができる。
【0050】
また本発明によれば、前述の効果に加え、未露光領域を補完することによって発生する記録光の強度分布を小さくすることができる。
【0051】
また本発明によれば、光源は直線偏光を有するレーザであり、レーザの偏光を直線偏光から円偏光に変換することによって、記録光の強度分布を調整することができる。
【0052】
また本発明によれば、前述の効果に加え、露光画像の分解能をほとんど低下させることなく、微小ミラー間の隙間や各光源間の間隔による未露光領域を補完することができる。
【0053】
また本発明によれば、前述の効果に加え、水晶を偏光光学素子に用いることで、安価で量産に向く。また、2次元的に周期的な微小構造を形成することによっても、容易に実現できる。これらを偏光光学素子に用いることで、微小ミラー間や光源間の隙間による未露光領域を補完することができる。
【0054】
また本発明によれば、構造的な変化で複屈折性を有する偏光光学素子によって、被露光体の不所望の未露光領域を露光することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態における画像露光装置40の概略図である。
【図2】本発明の実施の形態における複数の微小ミラー11を有した空間変調素子5の概略図である。
【図3】微小ミラー11の駆動を示す図である。
【図4】偏光光学素子6を用いないときの微小ミラー11での反射を示した図である。
【図5】偏光光学素子6を用いたときの微小ミラー11での反射を示した図である。
【図6】偏光光学素子6の機能を示した図である。
【図7】本発明における記録光の強度分布を示した図である。
【図8】本発明の実施の形態における他の画像露光装置40Aの概略図である。
【図9】画像露光装置40Aの光源体15の部分拡大図である。
【符号の説明】
1 光源
2 平行光学系
3 ミラー
4 ミラー
5 空間変調素子
6 偏光光学素子
7 結像光学系
8 被露光体
9 空間変調素子駆動回路
10 シリコン基板
11 微小ミラー
12 回転の中心
13 電極対
14 隙間
40 画像露光装置
【発明の属する技術分野】
本発明は、微小ミラーなどを用いて感光材料に画像を露光する装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来のマイクロリソグラフィにおける露光装置はいずれも露光原板、すなわちマスクを用いて、そのマスクの像を、感光材料を表面に塗布した被露光体上に結像させる装置である。しかしこの装置は大量生産には良いが、多品種、少量生産においては、その都度新たにマスクの作製から始めなければならないので費用と時間がかかり、そのような用途には不向きであった。
【0003】
そこで、マスクの代わりに複数の微小ミラーデバイスを有する空間変調素子を用いる方法が提案された(たとえば特許文献1参照)。この複数の微小ミラーデバイスは、各々の微小ミラーデバイスの向きを独立に変える駆動部を有し、入射した記録光を微小ミラー毎に2つのいずれかの方向に反射させるものである。
【0004】
このような複数の微小ミラーデバイスを有する空間変調素子をマスクの代わりに用いれば、画像信号に応じて上記駆動部の動作を制御することにより、微小ミラーデバイスに入射してきた光を微小ミラーデバイス毎に変調し、感光材料を塗布した被露光体に任意の画像を露光することができる。そして新たな画像を露光するときは、上記微小ミラーデバイスを駆動することで新たな画像を作り出すことができるので、マスクを新たに作製する必要は無い。さらに露光中に微小ミラーを駆動させることで、同じ露光画像に対し、領域ごとに露光時間を変化させることも可能である。
【0005】
ところでこのような微小ミラーデバイスには、微小ミラーと微小ミラーの間には各微小ミラーが駆動できるように隙間が存在している。そのため、この隙間に入射してきた記録光は微小ミラーで反射されず、感光材料を塗布した被露光体まで到達しない。そのために、被露光体に未露光部分が発生してしまう。
【0006】
この隙間を露光するために、マイクロレンズを露光光学系に挿入する方法(たとえば特許文献2参照)や画素ずらしを利用した方法(たとえば特許文献3参照)が提案されている。
【0007】
【特許文献1】
特開昭62−21220号公報
【特許文献2】
特開平9−17719号公報
【特許文献3】
特開平9−292657号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
マイクロレンズを露光光学系に挿入する方法は、微小ミラーとマイクロレンズを一対一で対応させて設置し、記録光を絞って各微小ミラーに入射させ、反射した記録光を再びマイクロレンズで平行光にすることによって、微小ミラー間の隙間による未露光部分の発生を防いでいる。しかしこの方法だと、微小ミラーとマイクロレンズ位置合わせの精度は非常に厳しくなり、組み立てが困難となる。
【0009】
また画素ずらしを利用する方法では、画素ずらしを行うためのデバイスを新たに追加しなければならないことや、画素ずらしを実行するための複雑な制御系を追加しなければならない。
【0010】
本発明の目的は、上記の事情を鑑みて新たに複雑な制御系を追加せず、更に組み立て調整も容易な方法で微小ミラー間の隙間によって発生する未露光部分を露光することができる画像露光装置を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記問題点を解決するため、以下の様な構成とするものである。
【0012】
本発明は、感光材料を表面に塗布した被露光体を露光するための記録光を発する光源と、
前記光源からの光を平行光に変換する光学素子と、前記光学素子からの光を選択的に被露光体に照射するための露光選択手段とを有する画像露光装置において、
上記被露光体にいたる平行光路中に、偏光成分を有する光を屈折させる偏光光学素子を設けたことを特徴とする画像露光装置である。
【0013】
本発明に従えば、露光選択手段によって生じる未露光領域を、偏光光学素子によって任意の偏光成分を有する記録光を屈折させて照射することで、上記未露光領域を露光することができる。また、複雑な制御系や困難な画像露光装置の調整を追加せずに未露光領域を補完して露光することができる。
【0014】
また本発明は、前記露光選択手段は平行光を受ける位置に設置された複数の微小ミラーを有する空間変調素子であり、前記空間変調素子通過後の光路中に偏光光学素子を配置したことを特徴とする。
【0015】
本発明に従えば、光源からの光は、複数の微小ミラーを介してそれぞれ選択的に被露光体に照射させることができるうえ、微小ミラー間の隙間による未露光領域を補完して露光することができる。
【0016】
また本発明は、前記記録光を発する光源は複数の光源部を有しており、前記露光選択手段は複数の各々の光源部をオン/オフすることによって選択的露光を行うことを特徴とする。
【0017】
本発明に従えば、各光源部をオン/オフすることによって、光を被露光体へ選択に到達させて照射することができる。
【0018】
また本発明は、上記光源は直線偏光を有するレーザであり、レーザの偏光方向を回転することによって記録光の強度分布を調整することを特徴とする。
【0019】
本発明に従えば、光源は直線偏光を有するレーザであり、レーザの偏光方向を回転することによって、記録光の強度分布を調整することができる。
【0020】
また本発明は、上記光源は直線偏光を有するレーザであり、レーザの偏光を直線偏光から円偏光に変換してから上記画像露光装置に用いることを特徴とする。
【0021】
本発明に従えば、光源は直線偏光を有するレーザであり、レーザの偏光を直線偏光から円偏光に変換することによって、記録光の強度分布を調整することができる。
【0022】
また本発明は、上記偏光光学素子による屈折量は、上記被露光体上に未露光領域が発生しないように設定されることを特徴とする。
【0023】
本発明に従えば、露光画像の分解能をほとんど低下させることなく、未露光領域を補完して露光することができる。
【0024】
また本発明は、上記偏光光学素子は水晶から作製されていることを特徴とする。
本発明に従えば、水晶を偏光光学素子に用いることで、安価で量産に向く。
【0025】
また本発明は、上記偏光光学素子は構造的な変化で複屈折性を有する素子であることを特徴とする。
【0026】
本発明に従えば、構造的な変化で複屈折性を有する偏光光学素子によって、被露光体の不所望の未露光領域を露光することができる。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【0028】
図1に本発明の実施の形態における、画像露光装置40の概略図を示す。
図1の画像露光装置40は、感光材料を表面に塗布した被露光体8を露光する記録光を発する光源1、該光源から発せられた記録光を平行光にする光学系2、記録光を反射するミラー3と4、複数の微小ミラー11を有する空間変調素子5、偏光光学素子6、結像光学系7、感光材料を表面に塗布した被露光体8、空間変調素子駆動回路9とを有している。なお、光学系2は図1では省略しレンズ1枚にて図示しており、また結像光学系7も本実施の形態において詳細な光学素子の配置は省略して簡単に示している。
【0029】
光源1から発せられた記録光は光学系2において平行光となりミラー3、4で反射を繰り返して空間変調素子5に入射される。空間変調素子5は矢印A方向から眺めると、図2に示すように複数からなる微小ミラー11を有している。該複数の微小ミラー11はシリコン基板10上に隙間14を開けて1次元に配列されている。各微小ミラー11は、図3(a)に示すように微小ミラー11を支持するための捩れヒンジ12と、1対の電極13とを備えている。
【0030】
微小ミラー11の電極側表面25には電気伝導率の大きい、例えばAuなどからできている。微小ミラー11の駆動は電極13と微小ミラー11の電圧印加状態に応じて以下のように行うことができる。
【0031】
各微小ミラー11の電極13への電圧印加は空間変調素子駆動回路9によって制御される。例えば電極13と微小ミラー11との間に電圧が印加されていない場合、図3(a)に示すように微小ミラー11は駆動しない。また電極13と微小ミラー11との間に所定の電圧が印加されると微小ミラー11と電極13の間に静電力が働き、図3(b)のように捩れヒンジ12を中心に回転する。
【0032】
そこで、微小ミラー11が図3(a)の状態の場合、微小ミラー11で反射した記録光29は結像光学系の開口から外れるが、微小ミラー11が図3(b)の場合、微小ミラー11で反射した記録光29は結像光学系を通過して、被露光体8に到達する。このようにして記録光の被露光体8への到達を、各微小ミラー11単位で制御できることになる。
【0033】
上記のように各微小ミラー11で図3(a),(b)の状態を制御すると、被露光体8上に記録光が到達した箇所と到達しなかった箇所が一次元状に並び、記録光が到達した箇所では、感光材料は露光される。更に、記録光の被露光体8への到達を微小ミラー11ごとに制御しながら被露光体8を微小ミラー列と垂直な方向、すなわち図1で紙面に垂直な方向に移動すると、被露光体8に所望の画像を露光することができる。なお、図1において被露光体8を微小ミラー列と垂直な方向に移動する被露光体駆動部は省略している。
【0034】
しかし各微小ミラー11の間には、微小ミラー11が駆動しても隣接する微小ミラーとの接触が起こらないためと作製上の理由から、図2に示すような隙間14を設けてあるため、その隙間に入射した記録光は反射されない。そのため、その隙間が原因で被露光体8に記録光が到達しない未露光部分41(未露光領域に相当する)が発生し、所望の画像を被露光体8に正確に露光できない。
【0035】
そこで微小ミラー11間の隙間14によって発生する未露光部分41を、偏光光学素子6を用いて露光する。以下に偏光光学素子6によって未露光部分41を露光する方法を述べる。
【0036】
図4(a)は偏光光学素子6を使用していない場合で、数枚の駆動した微小ミラー11が連続して並んでおり、その連続した領域は被露光体8へ記録光を到達させている。図4(b)はそのときの被露光体8上での露光像26を示している。この場合は、各微小ミラー11に存在する隙間14のため、露光像にも隙間14が発生する。ここで図5(a)のように微小ミラー11で記録光が反射した後に偏光光学素子6を挿入する。該偏光光学素子6は図6のような機能を有する。
【0037】
偏光光学素子6は複屈折性を有する光学素子で、紙面に平行な方向に偏光成分を有する光(P波)に対してそのまま直進させ、紙面に垂直な方向に偏光成分を持つ光(S波)に対しては図6のように屈折させて進行方向を変化させ、偏光光学素子から出るとP波と平行に進ませる。このように偏光光学素子6はS波のみを屈折させることによって、P波に対して矢印Bの方向にS波を平行にずらす事ができる。このずれ量dは入射光の波長λ、偏光光学素子6の厚さtと複屈折性によって決定することができる。本実施の形態ではP波は偏光光学素子6の中を直進しS波は屈折して斜めに進むが、これが逆になってP波が偏光光学素子6の中を屈折して斜めに進みS波が直進してもかまわない。以下においては、図6で示したようなP波が偏光光学素子6の中を直進しS波を屈折して斜めに進ませ、S波をP波に対して平行にずらすような機能を持つ偏光光学素子を用いて説明する。
【0038】
図5(a)のように、微小ミラー11で記録光が反射した後に偏光光学素子6を挿入すると、記録光のうちP波(実線)はそのまま直進するがS波(点線)は偏光光学素子6によって屈折し、偏光光学素子6の中を斜めに進み偏光光学素子6から再び出るときに屈折してP波と平行光になるため、結果として微小ミラー列の方向(矢印Bの方向)にずれたことになる。このS波がずれたことによって微小ミラー間の記録光が反射されない部分を埋めることができる。図5(b)に図5(a)の状態で露光した時の被露光体8上での露光像27を示す。偏光光学素子6を挿入することで、微小ミラー間の隙間による未露光部分を補完することができる。
【0039】
また、偏光光学素子6によるS波の矢印B方向へのずれ量を微小ミラー間の隙間に一致するように偏光光学素子6の厚さtと複屈折性の方向や大きさを設定しておくと、微小ミラー1つによって露光される露光領域は、偏光光学素子がない場合とほとんど同じで微小ミラー1つのサイズとほぼ一緒である。そのため、光学系による縮小を無視するとすれば最小露光幅をほぼ微小ミラーと同等のサイズにすることができ、分解能が高い露光を維持することができる。よって、偏光光学素子を用いて微小ミラー間の隙間を露光画像の分解能にほとんど影響を与えないようにできる。例えば、微小ミラー11の間隔を1μm補完するための偏光光学素子6の厚さtはおよそ0.2mm程度に設計できる。
【0040】
偏光光学素子6によって微小ミラー11の隙間を補完したときの、記録光の強度分布は図7のようになる。偏光光学素子6で補完するとS波の記録光がずれるので、28で示すような強度分布になる。記録光の強度分布は記録光がずれてS波とP波が重なっている箇所には最大強度I1が照射される。S波のみが照射される箇所にはI1よりも低い強度I2が照射され、P波のみが照射され箇所には強度I3が照射される。またS波とP波の強度が異なり例えばS波のほうがP波より強度が大きいと、I2とI3の強度も異なり28のような強度分布になってしまう。できるだけ記録光が強度分布を持たないようにするには、S波とP波の強度を等しくしI2とI3の強度を等しくすれば良い。そのためには例えば、光源にハロゲンランプ等の偏光がそろっていないものを用いた場合は、S波とP波の強度は等しくなる。また光源にレーザのような直線偏光を出射するものを用いた場合は、S波とP波が等しくなるように偏光方向を光線の進行方向に対して回転させるか、円偏光に変換して用いることが望ましい。
【0041】
S波とP波の強度が等しくなると、I1とI2(=I3)の関係は以下のように表すことができる。
I1=2・I2 …(1)
【0042】
上記のように偏光光学素子6を用いれば、偏光光学素子6を駆動する必要は無いので、複雑な制御回路を追加することなく微小ミラー間の隙間による未露光部分を補完することができる。さらに、偏光光学素子6とその他の光学系などとの困難な調整を必要とせずに、記録光の光路中に偏光光学素子6を挿入するだけで未露光部を補完できる。これらの理由からも、偏光光学素子6を用いれば微小ミラー11間の隙間による未露光部分を容易に補完することができる。
【0043】
本実施の形態では複数の微小ミラー11を用いた画像露光装置40を例に挙げたが、これに限定されたものではない。例えば図8に示すような画像露光装置40Aも考えられる。図8の画像露光装置40Aは、複数の光源部29が一列に並んでいる光源としての光源体15、偏光光学素子6、結像光学系7、感光材料を表面に塗布した被露光体8を有している。光源体15は例えば図9で示すように、光源部29とその出射光を平行光にするレンズ30が一体となったユニットが一次元に配列されている。
【0044】
光源体15から発せられた記録光束は図8のように、偏光素子6、結像光学系7を通って被露光体8に到達し、感光材料を露光する。各光源をそれぞれオン、オフに駆動することによって、被露光体8に露光された箇所と露光されなかった箇所が一列にできる。そして、各光源をオン、オフと駆動しながら被露光体8を紙面に垂直な方向に移動させると所望の画像を露光することができる。この場合でも各光源は図9のように密接して配置することはできないので各光源間には隙間14が存在し、その隙間14によって被露光体8には未露光部分が発生してしまう。しかし、図6のような機能を有する偏光光学素子6を光路中に挿入してやることで任意の偏光成分を有する記録光を屈折させてずらし、未露光部分を容易に補完することができる。またこの場合も、光ビームのずれ量を各光源間の間隔に設定しておけば、1つの光源にて露光できる領域はさほど広がらず分解能が高い画像の露光を維持することができる。
【0045】
本実施の形態で用いられた偏光光学素子6は、例えば複屈折性を有する水晶や方解石などがある。どちらを用いても良いが、方解石は人口育成されておらず天然の良質結晶が用いられているため、高価である。一方水晶は量産されているため容易に手に入れることができる。また、近年の微細加工の発達によって微小な構造物を2次元的に作製することによって構造的な変化で素子に複屈折性を持たせることができる。これは波長オーダの周期構造をもつ微小ピッチの格子や柱などを2次元配列させて構造的に方向性を持たせると、複屈折性を有することができる。それを利用して偏光光学素子を実現させたものである。この素子は、微細加工にて作製されるので一度に大量の素子を作製できると考えられる。
【0046】
また本実施の形態における微小ミラーの駆動は静電力を利用しているが、これに限定されたものではない。例えば、磁力を利用しても微小ミラーを駆動することができる。
【0047】
【発明の効果】
本発明によれば、露光選択手段によって生じる未露光領域を、偏光光学素子によって任意の偏光成分を有する記録光を屈折させて照射することで、上記未露光領域を露光することができる。また、複雑な制御系や困難な画像露光装置の調整を追加せずに微小ミラー間の隙間による未露光領域を補完して露光することができる。
【0048】
また本発明によれば、光源からの光は、複数の微小ミラーを介してそれぞれ選択的に被露光体に照射させることができるうえ、微小ミラー間の隙間による未露光領域を補完して露光することができる。
【0049】
また本発明によれば、各光源部をオン/オフすることによって、光を被露光体へ選択に到達させて照射することができる。
【0050】
また本発明によれば、前述の効果に加え、未露光領域を補完することによって発生する記録光の強度分布を小さくすることができる。
【0051】
また本発明によれば、光源は直線偏光を有するレーザであり、レーザの偏光を直線偏光から円偏光に変換することによって、記録光の強度分布を調整することができる。
【0052】
また本発明によれば、前述の効果に加え、露光画像の分解能をほとんど低下させることなく、微小ミラー間の隙間や各光源間の間隔による未露光領域を補完することができる。
【0053】
また本発明によれば、前述の効果に加え、水晶を偏光光学素子に用いることで、安価で量産に向く。また、2次元的に周期的な微小構造を形成することによっても、容易に実現できる。これらを偏光光学素子に用いることで、微小ミラー間や光源間の隙間による未露光領域を補完することができる。
【0054】
また本発明によれば、構造的な変化で複屈折性を有する偏光光学素子によって、被露光体の不所望の未露光領域を露光することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態における画像露光装置40の概略図である。
【図2】本発明の実施の形態における複数の微小ミラー11を有した空間変調素子5の概略図である。
【図3】微小ミラー11の駆動を示す図である。
【図4】偏光光学素子6を用いないときの微小ミラー11での反射を示した図である。
【図5】偏光光学素子6を用いたときの微小ミラー11での反射を示した図である。
【図6】偏光光学素子6の機能を示した図である。
【図7】本発明における記録光の強度分布を示した図である。
【図8】本発明の実施の形態における他の画像露光装置40Aの概略図である。
【図9】画像露光装置40Aの光源体15の部分拡大図である。
【符号の説明】
1 光源
2 平行光学系
3 ミラー
4 ミラー
5 空間変調素子
6 偏光光学素子
7 結像光学系
8 被露光体
9 空間変調素子駆動回路
10 シリコン基板
11 微小ミラー
12 回転の中心
13 電極対
14 隙間
40 画像露光装置
Claims (8)
- 感光材料を表面に塗布した被露光体を露光するための記録光を発する光源と、
前記光源からの光を平行光に変換する光学素子と、前記光学素子からの光を選択的に被露光体に照射するための露光選択手段とを有する画像露光装置において、
上記被露光体にいたる平行光路中に、偏光成分を有する光を屈折させる偏光光学素子を設けたことを特徴とする画像露光装置。 - 前記露光選択手段は平行光を受ける位置に設置された複数の微小ミラーを有する空間変調素子であり、前記空間変調素子通過後の光路中に偏光光学素子を配置したことを特徴とする請求項1記載の画像露光装置。
- 前記記録光を発する光源は複数の光源部を有しており、前記露光選択手段は複数の各々の光源部をオン/オフすることによって選択的露光を行うことを特徴とする請求項1記載の画像記録装置。
- 上記光源は直線偏光を有するレーザであり、レーザの偏光方向を回転することによって記録光の強度分布を調整することを特徴とする請求項1〜3記載の画像露光装置。
- 上記光源は直線偏光を有するレーザであり、レーザの偏光を直線偏光から円偏光に変換してから上記画像露光装置に用いることを特徴とする請求項1〜3記載の画像露光装置。
- 上記偏光光学素子による屈折量は、上記被露光体上に未露光領域が発生しないように設定されることを特徴とする請求項1〜5記載の画像露光装置。
- 上記偏光光学素子は水晶から作製されていることを特徴とする請求項1〜6記載の画像露光装置。
- 上記偏光光学素子は構造的な変化で複屈折性を有する素子であることを特徴とする請求項1〜6記載の画像露光装置。
Priority Applications (1)
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JP2002259319A JP2004101574A (ja) | 2002-09-04 | 2002-09-04 | 画像露光装置 |
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JP (1) | JP2004101574A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2018527610A (ja) * | 2015-07-27 | 2018-09-20 | 中国科学院理化技術研究所 | クロススケール構造の協同的な作業におけるマスクレスフォトリソグラフィーシステム |
-
2002
- 2002-09-04 JP JP2002259319A patent/JP2004101574A/ja active Pending
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