JP2004090372A - 光記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【課題】波長３９０〜４３０ｎｍの範囲から選択される青紫色レーザーを用いて２２〜２７ＧＢ相当の高密度記録及び再生が可能である光記録媒体を提供する。
【解決手段】溝深さが３０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内から選択され、且つ溝幅（半値幅）がトラックピッチに対する比率で２０％〜５０％の範囲から選択される案内溝を有す支持基板上に、少なくとも膜厚が１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲から選択される反射層、一般式（１）で表されるポリアセンジイミド系色素骨格を主成分として含有してなり且つ膜厚が２５〜７０ｎｍの範囲から選択される記録層、透明な保護層、光透過層がこの順に形成された光記録媒体。
【化１】
【選択図】 なし
【解決手段】溝深さが３０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内から選択され、且つ溝幅（半値幅）がトラックピッチに対する比率で２０％〜５０％の範囲から選択される案内溝を有す支持基板上に、少なくとも膜厚が１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲から選択される反射層、一般式（１）で表されるポリアセンジイミド系色素骨格を主成分として含有してなり且つ膜厚が２５〜７０ｎｍの範囲から選択される記録層、透明な保護層、光透過層がこの順に形成された光記録媒体。
【化１】
【選択図】 なし
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、４３０ｎｍよりも短い波長（青紫色）で記録・再生可能な光記録媒体であって、ＣＤやＤＶＤよりも高密度で記録できる支持基板上に色素を含有する記録層を有する構造の高密度光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来技術】
色素を記録層とし、且つ反射率を大きくするための記録層の上に反射層を設けた記録可能な光記録媒体は、例えば、Ｏｐｔｉｃａｌ Ｄａｔａ Ｓｔｏｒａｇｅ １９８９ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｄｉｇｅｓｔ ｓｅｒｉｅｓ ｖｏｌ． １， ４５（１９８９）に開示されて以来、記録層にシアニン色素やフタロシアニン色素を用いた媒体はＣＤＲとして広く市場に供されてきている。これらの媒体は７８０ｎｍの半導体レーザーで記録する事ができ、且つ７８０ｎｍの半導体レーザーを搭載している市販のＣＤ−ＲＯＭプレーヤーと再生互換を有するという特徴をもつ。更に、近年、映像、動画などの大容量データに対して６３０〜６８０ｎｍの赤色半導体レーザーで記録できる４．７ＧＢ容量を有すＤＶＤＲ媒体が提案され市場に供給され出した。そして更に、昨今では、３９０〜４３０ｎｍの青紫色半導体レーザーの供試に伴い高精細動画をも対象とした１５ＧＢ以上の高密度を有するＨＤ−ＤＶＤＲ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｎｓｉｔｙ ＤＶＤＲ）媒体の検討もスタートしている。
【０００３】
かかる中、次世代高密度光ディスクの統一規格「Ｂｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ」が日欧韓９社により策定され、発表された。この規格によると、青紫色レーザーとＮＡ＝０．８５の高開口レンズとを組み合わせ、１２ｃｍ円板の片面に最大２７ＧＢの映像データを繰り返し記録・再生でき、同規格のレコーダを使えば、ディスク１枚にＨＤＴＶ映像を２時間以上録画できるようになる。これは、現行放送ＮＴＳＣ方式の映像データなら録画時間は１３時間以上に相当する。
【０００４】
同規格のディスク厚みは１．２ｍｍで、１００μｍ程度の光透過層越しに形成された記録膜にレーザー光を合焦させ、２３．３、２５、２７ＧＢの３種類の記録容量が提案されている。
【０００５】
同規格媒体への有機色素の適用可能性について言及された例としてはＩＳＯＭ２００１ＳＯＮＹ講演「Ｏｒｇａｎｉｃ Ｗｒｉｔｅ Ｏｎｃｅ Ｄｉｓｋ ｆｏｒ ａ Ｂｌｕｅ Ｌａｓｅｒ Ｄｉｏｄｅ」がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
一般に、記憶容量の増大を図るためには高密度に記録を行う必要があり、如何に小さな記録ピットが安定にレーザー記録・形成できるかがキーとなり、このため記録に使用する光学ビームを絞る目的で光源レーザーを短波長化し対物レンズの開口数（ＮＡ）を高めた光学系の適用が容量アップのための一つの方策となる。
【０００７】
しかしながら、実際に青紫レーザー搭載のＮＡ＝０．７以上の高開口レンズ光学系において達成可能な最小情報ピットの記録再生を実証し得た媒体は有機色素系ではまだ限られていた。更に色素系記録膜に対して当該光学系を適用し、ランド・グルーブ記録を施して高容量化を達成した具体例もなかった。
【０００８】
本発明では、波長３９０〜４３０ｎｍの範囲から選択される青紫色レーザーを用いて２２〜２７ＧＢ相当の高密度記録及び再生が可能である光記録媒体を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、支持基板上に反射層及びポリアセンジイミド系色素を主成分とした記録層を選択し、且つ、それらの適正な膜厚設定と基板上の案内溝の設計により、青紫色レーザーを用いた高ＮＡを有する光学ヘッドにて変調伝達関数（ＭＴＦ）の遮断空間周波数に相当する最小ピットサイズの情報信号がより良好に記録・再生できることを初めて検証し、本発明を達成した。
【００１０】
即ち、本発明は、
（１） 溝深さが３０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内から選択され、且つ溝幅（半値幅）がトラックピッチに対する比率で２０％〜５０％の範囲から選択される案内溝を有す支持基板上に、少なくとも膜厚が１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲から選択される反射層、一般式（１）で表されるポリアセンジイミド系色素骨格を主成分として含有してなり且つ膜厚が２５〜７０ｎｍの範囲から選択される記録層、透明な保護層、光透過層がこの順に形成された光記録媒体；
【００１１】
【化２】
【００１２】
（式中、Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、置換もしくは無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニルチオ基、モノ置換アミノ基、ジ置換アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、モノ置換アミノカルボニル基、ジ置換アミノカルボニル基、アシルオキシ基、ヘテロアリール基、ヘテロアリールオキシ基またはヘテロアリールチオ基を表す。ｘ及びｙはそれぞれ０〜２のいずれかの整数から選択される。）
【００１３】
（２） 波長λが３９０ｎｍ〜４３０ｎｍの範囲から選択されるレーザー光を用い対物レンズの開口数（ＮＡ）の範囲が０．７０〜０．９０範囲から選択される光学系で厚さが２０μｍ〜２００μｍの範囲から選択される光透過層側から記録・再生が可能なことを特徴とする（１）記載の光記録媒体；
（３） 前記反射層の材質が少なくとも、Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａｌ，Ｎｉ、Ｒｈから選択される金属、またはそれらの合金からなることを特徴とする（１）又は（２）記載の光記録媒体；
（４） 透明な保護層は、ＳｉＯ２またはＴｉＯ２またはＡｌ２Ｏ３から選択され、その膜厚が１０〜５０ｎｍから選択される（１）〜（３）の何れか１項に記載の光記録媒体；
（５） グルーブ（溝中）及び又はランド（溝間）記録が可能な（１）〜（４）の何れか１項に記載の光記録媒体；
である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の光記録媒体は、図１に示すように、光入射とは反対面側から板厚１．１５〜１．２５ｍｍの支持基板１上に、反射層２、有機色素を主成分としてなる記録層３がこの順で積層されたような構造を有し、この記録層の上には保護層である透明な薄膜層４、及び光透過層５が貼り合わされた構造をとる。ここで、支持基板１と反射層２との間、反射層２と記録層３との間などには他の層が存在していても良い。
【００１５】
ここで、本発明によれば、一般式（１）に示すポリアセンジイミド系色素を記録層として用いれば、波長３９０〜４３０ｎｍの青紫色レーザー搭載の開口数（Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ Ａｐｅｒｔｕｒｅ）が０．８５の光学ヘッドで達成可能な最大記録容量が２５ＧＢの高密度で安定に記録及び／又は再生可能となる光記録媒体が実現される。すなわち該ヘッドでは検出可能な最小ピットサイズ（λ＝４０５ｎｍとすると、λ／（２・ＮＡ）＝２３８ｎｍ）以下近傍でも良好な信号コントラスト（変調度、ＣＮＲ）が得られることによって初めて、上記大容量の情報記録・再生が実現できる。
【００１６】
本発明に用いられる支持基板１は、例えばポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリオレフィン、エポキシ樹脂等の高分子材料、ガラスなどの無機材料等を用いることができる。特に機械強度、耐熱性に良好で、平滑性にすぐれた基板の選択が好ましいが、量産性実績からポリカーボネート系樹脂の適用が望ましい。
【００１７】
これら支持基板表面には記録位置を表す案内溝やピット、一部再生専用情報（アドレス情報等も含む）のためのプリピットを有していてもよい。これらの案内溝やピット等は射出成形により基板を作る際に付与するのが通常とられる方法であるが、レーザーカッティング法や２Ｐ法により作製しても良い。
【００１８】
当該基板上には溝中（グルーブ）に記録する場合、隣り合うグルーブ中心間の距離をトラックピッチと定義し、該トラックピッチが０．２５〜０．６５μｍの範囲から限定されたグルーブが形成される。このとき形成されるグルーブの半値幅は、青紫色レーザーによる記録安定性も考慮すればトラックピッチ（グルーブ記録時）に対する比率にして２０％〜５０％（より望ましくは３０〜４０％）の範囲から選ばれ、溝深さは３０ｎｍ〜１５０ｎｍ（より望ましくは４５〜７５ｎｍ）の範囲から選ばれる。溝深さが３０ｎｍ未満ではトラッキングが不安定であったし、１５０ｎｍを超える場合では反射率が減少するうえ、信号波形が歪みやすくなり好ましくなかった。また溝幅が２０％未満の場合は記録時のトラッキングサーボ信号が不安定になり記録ができなかった。溝幅が５０％を超える時は基板形成時の溝転写性が悪く実生産に向かなかった。
【００１９】
本発明に用いられる反射層の材質としてはＡｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａｌ，Ｎｉ、Ｒｈ等の金属やその合金を用いても良い。反射層は蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング法等によって成膜される。反射層の膜厚は、１０〜２００ｎｍ、より望ましくは３０〜１００ｎｍである。膜厚が１０ｎｍ未満の場合は、透過率が増大して反射率が大幅に低下し、２００ｎｍを超える場合は、反射層の光入射側の界面に溝形状の転写ができずトラッキングエラー信号が大幅に減少して、トラッキングサーボがかからなくなる場合があった。
【００２０】
この反射層と記録層との間に層間の密着力を向上させるため、または反射率を上げるため等の目的で中間層を設けてもよい。
【００２１】
本発明に用いられる記録層は、基本的には一般式（１）で表示される化合物からなり、３９０〜４３０ｎｍの波長範囲で記録される光記録媒体用記録膜に用いる場合のポリアセン母核の構造としては、ｘ＝０〜２、ｙ＝０〜２のいずれかから選ばれ、より好ましくはｘ＝０、ｙ＝０のナフタレンジイミド構造若しくは、ｘ＝１、ｙ＝０のアントラセンジイミド構造、ｘ＝１、ｙ＝１のテトラセンジイミド構造が好ましかった。式中のＲ１〜Ｒ６に導入する各種置換基は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、置換もしくは無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニルチオ基、モノ置換アミノ基、ジ置換アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、モノ置換アミノカルボニル基、ジ置換アミノカルボニル基、アシルオキシ基、ヘテロアリール基、ヘテロアリールオキシ基またはヘテロアリールチオ基から適宜、光学特性、熱分解特性に鑑み選択され、母核であるポリアセンジイミド核に機能修飾される。むろん、以上の置換基は更に前述の置換基を有してもよい。ここで、機能修飾団としては、とりわけ３９０〜４３０ｎｍで適正な光吸収をもたせるために当該波長域でｄ−ｄ遷移を有するようなフェロセン誘導体等の金属化合物の分子内修飾が有効であった。
【００２２】
また記録層としては、一般式（１）の色素に１種または２種以上の色素を混合して使用してもよいし、記録特性や耐久性を改善するために、一般式（１）の色素または他の色素との混合物に更に光吸収物質以外のものを添加しても良い。
【００２３】
この記録層に混合される色素の具体例としては、大環状アザアヌレン系色素、ポリメチン系色素、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、アゾ系色素やメタロセン化合物などが挙げられる。
【００２４】
色素を用いた記録層は単層でなく２層以上積層してもよい。このとき一般式（１）に表示される色素を１層のみに用いても良いし２層以上に加えても良い。
【００２５】
積層される色素の具体例としては、大環状アザアヌレン色素、ポリメチン系色素、アゾ系色素などがある。
【００２６】
前記の色素を含有する記録層は、通常スピンコート、スプレーコート、ロールコート等の塗布方法での成膜することが可能である。塗布に際しては、色素やレジナスバインダーその他の記録層を形成する物質を、基板にダメージを与えない溶剤に溶かして用い、塗布後乾燥する。用いられる溶剤としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、シクロヘキサン等の脂肪族や脂環式炭化水素系；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラフルオロプロパノール、メチルセロソルブ等のアルコール系；クロロホルム、ジクロルメタン等のハロゲン化合物系の溶剤を好ましく用いる事ができる。これらの溶剤は単独で用いてもよいし混合して用いても良い。また記録層を２層以上積層する場合には先に塗布した層を浸食しない溶剤を選択する。
【００２７】
記録層を形成する方法としては真空蒸着法を用いてもよい。この方法は記録層物質が溶剤に溶け難い場合や、基板や反射層にダメージを与えない溶剤が選択できない場合に有効である。この場合、真空度と試料が載るボート上の加熱電流（ジュール熱）により成膜スピードが制御でき低ノイズ品質制御が適う。記録層の膜厚としては、２５ｎｍ〜７０ｎｍ、より望ましくは３０〜６０ｎｍである。この膜厚選択は極めて重要であり適正膜厚範囲を選択することにより、実施例に示すように、グルーブ及びランド共に良好な信号の記録再生が確認された。膜厚が２５ｎｍ未満の場合は、グルーブ未記録の反射率が良好な膜厚時に比べて３分の１に低下し、且つ膜厚が薄いためにピット形成に必要な膜温度に達せず、グルーブ及びランドともに安定再生に必要な大きさの信号が記録されなかった。また膜厚が７０ｎｍを超える場合は隣接トラック（グルーブとランド）間において、特に最小ピット信号間のクロストークが大きくなり、そのノイズ上昇のためグルーブ、ランド記録両方の信号ＣＮ比が大幅に劣化した。
【００２８】
上記記録層の上には、光透過層との界面保護と記録時のノイズ低減を目的として、例えば、ＳｉＯ２，ＴｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３等の透明な薄膜層を保護層として用いることが可能である。これらは単独で用いても良いし混合しても良い。また２種以上を積層して使用しても構わない。また該保護層は、反射率や信号振幅などの光学的増強及び又は再生時のレーザーパワーによる記録層の劣化防止としても機能する。
【００２９】
この保護層の膜厚としては、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、より望ましくは２０〜３０ｎｍである。膜厚が５０ｎｍを超える場合は、記録感度が大幅に不足し記録ができなかったり、一方、１０ｎｍ未満の場合は、機械強度が不足して記録時に該無機層が破壊されたりする場合がある。
【００３０】
上記保護層の上には通常光透過層を設ける。当該光透過層は、光透過性の紫外線硬化樹脂を塗布、延伸後、ＵＶ照射により硬化させて形成してもよいし、光透過性のフィルムシートを別途均一な厚みに形成しておき、紫外線硬化樹脂などからなる接着層を介して貼り合わせ形成してもよい。なお、上記保護層は、該紫外線硬化樹脂中に記録層を構成する有機色素が溶け出すことを回避する効果もある。該光透過層の厚みは、本発明で想定する高ＮＡ対物レンズ搭載の青色光学系を想定したときには、媒体チルトによって生じる収差抑制のため２０〜２００μｍの範囲で形成され、より好ましくは８０〜１２０μｍの範囲で形成されることが望ましい。
【００３１】
【実施例】
以下、本発明の実施例を示すが、本発明の実施形態はこれにより限定されるものではない。
【００３２】
実施例１
厚さ０．６ｍｍ，直径１２０ｍｍΦのスパイラルグルーブ（トラックピッチ＝０．６０μｍ、深さ＝５０ｎｍ，半値幅＝０．２０μｍ：トラックピッチの３３％）を有する射出成形ポリカーボネート基板にＡｇＰｄＣｕ反射膜をバルザース製スパッタ装置（ＣＤＩ−９００）を用いて膜厚５０ｎｍで形成し、下記式（Ａ）で示されるナフタレンジイミド系有機色素を真空蒸着装置（昭和真空製：型番＝ＳＧＣ−８Ｍ）を用い膜厚４５ｎｍとなるように成膜した後、更に、無機ＳｉＯ２膜を徳田製作所製スパッタ装置（ＣＦＳ−８ＥＰ）を用いて膜厚２５ｎｍで成膜し、更に１００μｍの光透過性シートを貼り、ＵＶ硬化接着剤にてＵＶ硬化・固定し、光記録媒体を作製した。
【００３３】
【化３】
【００３４】
この光記録媒体を青紫色レーザーピックアップ搭載のシバソク製ディスクテスター「ＬＭ３３０Ａ」（搭載波長＝４０５ｎｍ，ＮＡ＝０．８５）を用い、線速度＝５．７２ ｍ／ｓにて１−７ＲＬＬの２Ｔ相当（最小ピット長＝０．１７μｍ）でのＯＮ・ＯＦＦ繰り返し信号をパルストレーン型の記録ストラテジー条件にてグルーブ（溝中）へ記録を実施した。なお記録前のグルーブ反射電位は３４５ｍＶであった（記録パワー＝８．０ｍＷ、バイアスパワー＝３．５ｍＷ、Ｔｔｏｐ＝１．５Ｔ，Ｔｍｐ＝０．３３Ｔ）。その記録部位を同じ光学ピック（再生パワー＝０．３５ｍＷ）で再生した結果、ＣＮＲ＝５２．７ｄＢ、変調度＝０．３０が観測された。
【００３５】
更にひき続いて、同じ光学ピックアップを用い、１−７ＲＬＬの８Ｔ相当（最大ピット長＝０．６９μｍ）でのＯＮ・ＯＦＦ繰り返し信号をパルストレーン型の記録ストラテジー条件にて実施した（記録パワー＝５．０ｍＷ、バイアスパワー＝４．０ｍＷ、Ｔｔｏｐ＝１．５Ｔ，Ｔｍｐ＝０．３３Ｔ）。その記録部位を同じ光学ピック（再生パワー＝０．３５ｍＷ）で再生した結果、ＣＮＲ＝５１．６ｄＢ、変調度＝０．５３が観測された。
【００３６】
次にランド（溝間）にグルーブと同条件で記録再生したところ、２Ｔ信号でＣＮＲ＝５０．８ｄＢ、変調度＝０．２９、及び８Ｔ信号でＣＮＲ＝５１．２ｄＢ、変調度＝０．５１が観測された。なお記録前のランド反射電位は３５５ｍＶであった。表−１に結果をまとめた。
【００３７】
比較例１
実施例１の媒体で、色素層を膜厚７５ｎｍで成膜した以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様の記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００３８】
比較例２
実施例１の媒体で、色素層を膜厚２０ｎｍで成膜した以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様の記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００３９】
比較例３
実施例１の媒体で、色素層を膜厚１５０ｎｍで成膜した以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様の記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００４０】
比較例４
実施例１の媒体で、案内溝深さが２５ｎｍの支持基板を用いた以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００４１】
比較例５
実施例１の媒体で、案内溝深さが１５５ｎｍの支持基板を用いた以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００４２】
比較例６
実施例１の媒体で、案内溝幅を０．１１μｍ（トラックピッチの１８％）の条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００４３】
比較例７
実施例１の媒体で、案内溝幅を０．３３μｍ（トラックピッチの５５％）の条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００４４】
比較例８
実施例１の媒体で、反射層膜厚を５ｎｍの条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００４５】
比較例９
実施例１の媒体で、反射層膜厚を２１０ｎｍの条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００４６】
比較例１０
実施例１の媒体で、無機薄膜層厚を５ｎｍの条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００４７】
比較例１１
実施例１の媒体で、無機薄膜層厚を５５ｎｍの条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００４８】
比較例１２
実施例１の媒体で、光透過シートの膜厚を１５μｍの条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００４９】
比較例１３
実施例１の媒体で、光透過シートの膜厚を２１０μｍの条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００５０】
比較例１４
実施例１の媒体で、記録層を下記式（Ｂ）の化合物にして膜厚４５ｎｍで蒸着成膜した以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００５１】
【化４】
【００５２】
【表１】
【００５３】
【表２】
【００５４】
【発明の効果】
本発明によれば、特異なポリアセンジイミド化合物を記録層として用い、特定の基板形状及び記録層膜厚の制御された記録媒体と３９０〜４３０ｎｍの単一青紫色レーザー高ＮＡ光学ヘッドの併用により、高密度記録に必要な情報信号の安定な記録再生が達成された。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１ 支持基板
２ 反射層
３ 記録層
４ 保護層（薄膜層）
５ 光透過層
【発明の属する技術分野】
本発明は、４３０ｎｍよりも短い波長（青紫色）で記録・再生可能な光記録媒体であって、ＣＤやＤＶＤよりも高密度で記録できる支持基板上に色素を含有する記録層を有する構造の高密度光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来技術】
色素を記録層とし、且つ反射率を大きくするための記録層の上に反射層を設けた記録可能な光記録媒体は、例えば、Ｏｐｔｉｃａｌ Ｄａｔａ Ｓｔｏｒａｇｅ １９８９ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｄｉｇｅｓｔ ｓｅｒｉｅｓ ｖｏｌ． １， ４５（１９８９）に開示されて以来、記録層にシアニン色素やフタロシアニン色素を用いた媒体はＣＤＲとして広く市場に供されてきている。これらの媒体は７８０ｎｍの半導体レーザーで記録する事ができ、且つ７８０ｎｍの半導体レーザーを搭載している市販のＣＤ−ＲＯＭプレーヤーと再生互換を有するという特徴をもつ。更に、近年、映像、動画などの大容量データに対して６３０〜６８０ｎｍの赤色半導体レーザーで記録できる４．７ＧＢ容量を有すＤＶＤＲ媒体が提案され市場に供給され出した。そして更に、昨今では、３９０〜４３０ｎｍの青紫色半導体レーザーの供試に伴い高精細動画をも対象とした１５ＧＢ以上の高密度を有するＨＤ−ＤＶＤＲ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｎｓｉｔｙ ＤＶＤＲ）媒体の検討もスタートしている。
【０００３】
かかる中、次世代高密度光ディスクの統一規格「Ｂｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ」が日欧韓９社により策定され、発表された。この規格によると、青紫色レーザーとＮＡ＝０．８５の高開口レンズとを組み合わせ、１２ｃｍ円板の片面に最大２７ＧＢの映像データを繰り返し記録・再生でき、同規格のレコーダを使えば、ディスク１枚にＨＤＴＶ映像を２時間以上録画できるようになる。これは、現行放送ＮＴＳＣ方式の映像データなら録画時間は１３時間以上に相当する。
【０００４】
同規格のディスク厚みは１．２ｍｍで、１００μｍ程度の光透過層越しに形成された記録膜にレーザー光を合焦させ、２３．３、２５、２７ＧＢの３種類の記録容量が提案されている。
【０００５】
同規格媒体への有機色素の適用可能性について言及された例としてはＩＳＯＭ２００１ＳＯＮＹ講演「Ｏｒｇａｎｉｃ Ｗｒｉｔｅ Ｏｎｃｅ Ｄｉｓｋ ｆｏｒ ａ Ｂｌｕｅ Ｌａｓｅｒ Ｄｉｏｄｅ」がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
一般に、記憶容量の増大を図るためには高密度に記録を行う必要があり、如何に小さな記録ピットが安定にレーザー記録・形成できるかがキーとなり、このため記録に使用する光学ビームを絞る目的で光源レーザーを短波長化し対物レンズの開口数（ＮＡ）を高めた光学系の適用が容量アップのための一つの方策となる。
【０００７】
しかしながら、実際に青紫レーザー搭載のＮＡ＝０．７以上の高開口レンズ光学系において達成可能な最小情報ピットの記録再生を実証し得た媒体は有機色素系ではまだ限られていた。更に色素系記録膜に対して当該光学系を適用し、ランド・グルーブ記録を施して高容量化を達成した具体例もなかった。
【０００８】
本発明では、波長３９０〜４３０ｎｍの範囲から選択される青紫色レーザーを用いて２２〜２７ＧＢ相当の高密度記録及び再生が可能である光記録媒体を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、支持基板上に反射層及びポリアセンジイミド系色素を主成分とした記録層を選択し、且つ、それらの適正な膜厚設定と基板上の案内溝の設計により、青紫色レーザーを用いた高ＮＡを有する光学ヘッドにて変調伝達関数（ＭＴＦ）の遮断空間周波数に相当する最小ピットサイズの情報信号がより良好に記録・再生できることを初めて検証し、本発明を達成した。
【００１０】
即ち、本発明は、
（１） 溝深さが３０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内から選択され、且つ溝幅（半値幅）がトラックピッチに対する比率で２０％〜５０％の範囲から選択される案内溝を有す支持基板上に、少なくとも膜厚が１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲から選択される反射層、一般式（１）で表されるポリアセンジイミド系色素骨格を主成分として含有してなり且つ膜厚が２５〜７０ｎｍの範囲から選択される記録層、透明な保護層、光透過層がこの順に形成された光記録媒体；
【００１１】
【化２】
（式中、Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、置換もしくは無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニルチオ基、モノ置換アミノ基、ジ置換アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、モノ置換アミノカルボニル基、ジ置換アミノカルボニル基、アシルオキシ基、ヘテロアリール基、ヘテロアリールオキシ基またはヘテロアリールチオ基を表す。ｘ及びｙはそれぞれ０〜２のいずれかの整数から選択される。）
【００１３】
（２） 波長λが３９０ｎｍ〜４３０ｎｍの範囲から選択されるレーザー光を用い対物レンズの開口数（ＮＡ）の範囲が０．７０〜０．９０範囲から選択される光学系で厚さが２０μｍ〜２００μｍの範囲から選択される光透過層側から記録・再生が可能なことを特徴とする（１）記載の光記録媒体；
（３） 前記反射層の材質が少なくとも、Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａｌ，Ｎｉ、Ｒｈから選択される金属、またはそれらの合金からなることを特徴とする（１）又は（２）記載の光記録媒体；
（４） 透明な保護層は、ＳｉＯ２またはＴｉＯ２またはＡｌ２Ｏ３から選択され、その膜厚が１０〜５０ｎｍから選択される（１）〜（３）の何れか１項に記載の光記録媒体；
（５） グルーブ（溝中）及び又はランド（溝間）記録が可能な（１）〜（４）の何れか１項に記載の光記録媒体；
である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の光記録媒体は、図１に示すように、光入射とは反対面側から板厚１．１５〜１．２５ｍｍの支持基板１上に、反射層２、有機色素を主成分としてなる記録層３がこの順で積層されたような構造を有し、この記録層の上には保護層である透明な薄膜層４、及び光透過層５が貼り合わされた構造をとる。ここで、支持基板１と反射層２との間、反射層２と記録層３との間などには他の層が存在していても良い。
【００１５】
ここで、本発明によれば、一般式（１）に示すポリアセンジイミド系色素を記録層として用いれば、波長３９０〜４３０ｎｍの青紫色レーザー搭載の開口数（Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ Ａｐｅｒｔｕｒｅ）が０．８５の光学ヘッドで達成可能な最大記録容量が２５ＧＢの高密度で安定に記録及び／又は再生可能となる光記録媒体が実現される。すなわち該ヘッドでは検出可能な最小ピットサイズ（λ＝４０５ｎｍとすると、λ／（２・ＮＡ）＝２３８ｎｍ）以下近傍でも良好な信号コントラスト（変調度、ＣＮＲ）が得られることによって初めて、上記大容量の情報記録・再生が実現できる。
【００１６】
本発明に用いられる支持基板１は、例えばポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリオレフィン、エポキシ樹脂等の高分子材料、ガラスなどの無機材料等を用いることができる。特に機械強度、耐熱性に良好で、平滑性にすぐれた基板の選択が好ましいが、量産性実績からポリカーボネート系樹脂の適用が望ましい。
【００１７】
これら支持基板表面には記録位置を表す案内溝やピット、一部再生専用情報（アドレス情報等も含む）のためのプリピットを有していてもよい。これらの案内溝やピット等は射出成形により基板を作る際に付与するのが通常とられる方法であるが、レーザーカッティング法や２Ｐ法により作製しても良い。
【００１８】
当該基板上には溝中（グルーブ）に記録する場合、隣り合うグルーブ中心間の距離をトラックピッチと定義し、該トラックピッチが０．２５〜０．６５μｍの範囲から限定されたグルーブが形成される。このとき形成されるグルーブの半値幅は、青紫色レーザーによる記録安定性も考慮すればトラックピッチ（グルーブ記録時）に対する比率にして２０％〜５０％（より望ましくは３０〜４０％）の範囲から選ばれ、溝深さは３０ｎｍ〜１５０ｎｍ（より望ましくは４５〜７５ｎｍ）の範囲から選ばれる。溝深さが３０ｎｍ未満ではトラッキングが不安定であったし、１５０ｎｍを超える場合では反射率が減少するうえ、信号波形が歪みやすくなり好ましくなかった。また溝幅が２０％未満の場合は記録時のトラッキングサーボ信号が不安定になり記録ができなかった。溝幅が５０％を超える時は基板形成時の溝転写性が悪く実生産に向かなかった。
【００１９】
本発明に用いられる反射層の材質としてはＡｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａｌ，Ｎｉ、Ｒｈ等の金属やその合金を用いても良い。反射層は蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング法等によって成膜される。反射層の膜厚は、１０〜２００ｎｍ、より望ましくは３０〜１００ｎｍである。膜厚が１０ｎｍ未満の場合は、透過率が増大して反射率が大幅に低下し、２００ｎｍを超える場合は、反射層の光入射側の界面に溝形状の転写ができずトラッキングエラー信号が大幅に減少して、トラッキングサーボがかからなくなる場合があった。
【００２０】
この反射層と記録層との間に層間の密着力を向上させるため、または反射率を上げるため等の目的で中間層を設けてもよい。
【００２１】
本発明に用いられる記録層は、基本的には一般式（１）で表示される化合物からなり、３９０〜４３０ｎｍの波長範囲で記録される光記録媒体用記録膜に用いる場合のポリアセン母核の構造としては、ｘ＝０〜２、ｙ＝０〜２のいずれかから選ばれ、より好ましくはｘ＝０、ｙ＝０のナフタレンジイミド構造若しくは、ｘ＝１、ｙ＝０のアントラセンジイミド構造、ｘ＝１、ｙ＝１のテトラセンジイミド構造が好ましかった。式中のＲ１〜Ｒ６に導入する各種置換基は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、置換もしくは無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニルチオ基、モノ置換アミノ基、ジ置換アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、モノ置換アミノカルボニル基、ジ置換アミノカルボニル基、アシルオキシ基、ヘテロアリール基、ヘテロアリールオキシ基またはヘテロアリールチオ基から適宜、光学特性、熱分解特性に鑑み選択され、母核であるポリアセンジイミド核に機能修飾される。むろん、以上の置換基は更に前述の置換基を有してもよい。ここで、機能修飾団としては、とりわけ３９０〜４３０ｎｍで適正な光吸収をもたせるために当該波長域でｄ−ｄ遷移を有するようなフェロセン誘導体等の金属化合物の分子内修飾が有効であった。
【００２２】
また記録層としては、一般式（１）の色素に１種または２種以上の色素を混合して使用してもよいし、記録特性や耐久性を改善するために、一般式（１）の色素または他の色素との混合物に更に光吸収物質以外のものを添加しても良い。
【００２３】
この記録層に混合される色素の具体例としては、大環状アザアヌレン系色素、ポリメチン系色素、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、アゾ系色素やメタロセン化合物などが挙げられる。
【００２４】
色素を用いた記録層は単層でなく２層以上積層してもよい。このとき一般式（１）に表示される色素を１層のみに用いても良いし２層以上に加えても良い。
【００２５】
積層される色素の具体例としては、大環状アザアヌレン色素、ポリメチン系色素、アゾ系色素などがある。
【００２６】
前記の色素を含有する記録層は、通常スピンコート、スプレーコート、ロールコート等の塗布方法での成膜することが可能である。塗布に際しては、色素やレジナスバインダーその他の記録層を形成する物質を、基板にダメージを与えない溶剤に溶かして用い、塗布後乾燥する。用いられる溶剤としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、シクロヘキサン等の脂肪族や脂環式炭化水素系；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラフルオロプロパノール、メチルセロソルブ等のアルコール系；クロロホルム、ジクロルメタン等のハロゲン化合物系の溶剤を好ましく用いる事ができる。これらの溶剤は単独で用いてもよいし混合して用いても良い。また記録層を２層以上積層する場合には先に塗布した層を浸食しない溶剤を選択する。
【００２７】
記録層を形成する方法としては真空蒸着法を用いてもよい。この方法は記録層物質が溶剤に溶け難い場合や、基板や反射層にダメージを与えない溶剤が選択できない場合に有効である。この場合、真空度と試料が載るボート上の加熱電流（ジュール熱）により成膜スピードが制御でき低ノイズ品質制御が適う。記録層の膜厚としては、２５ｎｍ〜７０ｎｍ、より望ましくは３０〜６０ｎｍである。この膜厚選択は極めて重要であり適正膜厚範囲を選択することにより、実施例に示すように、グルーブ及びランド共に良好な信号の記録再生が確認された。膜厚が２５ｎｍ未満の場合は、グルーブ未記録の反射率が良好な膜厚時に比べて３分の１に低下し、且つ膜厚が薄いためにピット形成に必要な膜温度に達せず、グルーブ及びランドともに安定再生に必要な大きさの信号が記録されなかった。また膜厚が７０ｎｍを超える場合は隣接トラック（グルーブとランド）間において、特に最小ピット信号間のクロストークが大きくなり、そのノイズ上昇のためグルーブ、ランド記録両方の信号ＣＮ比が大幅に劣化した。
【００２８】
上記記録層の上には、光透過層との界面保護と記録時のノイズ低減を目的として、例えば、ＳｉＯ２，ＴｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３等の透明な薄膜層を保護層として用いることが可能である。これらは単独で用いても良いし混合しても良い。また２種以上を積層して使用しても構わない。また該保護層は、反射率や信号振幅などの光学的増強及び又は再生時のレーザーパワーによる記録層の劣化防止としても機能する。
【００２９】
この保護層の膜厚としては、１０ｎｍ〜５０ｎｍ、より望ましくは２０〜３０ｎｍである。膜厚が５０ｎｍを超える場合は、記録感度が大幅に不足し記録ができなかったり、一方、１０ｎｍ未満の場合は、機械強度が不足して記録時に該無機層が破壊されたりする場合がある。
【００３０】
上記保護層の上には通常光透過層を設ける。当該光透過層は、光透過性の紫外線硬化樹脂を塗布、延伸後、ＵＶ照射により硬化させて形成してもよいし、光透過性のフィルムシートを別途均一な厚みに形成しておき、紫外線硬化樹脂などからなる接着層を介して貼り合わせ形成してもよい。なお、上記保護層は、該紫外線硬化樹脂中に記録層を構成する有機色素が溶け出すことを回避する効果もある。該光透過層の厚みは、本発明で想定する高ＮＡ対物レンズ搭載の青色光学系を想定したときには、媒体チルトによって生じる収差抑制のため２０〜２００μｍの範囲で形成され、より好ましくは８０〜１２０μｍの範囲で形成されることが望ましい。
【００３１】
【実施例】
以下、本発明の実施例を示すが、本発明の実施形態はこれにより限定されるものではない。
【００３２】
実施例１
厚さ０．６ｍｍ，直径１２０ｍｍΦのスパイラルグルーブ（トラックピッチ＝０．６０μｍ、深さ＝５０ｎｍ，半値幅＝０．２０μｍ：トラックピッチの３３％）を有する射出成形ポリカーボネート基板にＡｇＰｄＣｕ反射膜をバルザース製スパッタ装置（ＣＤＩ−９００）を用いて膜厚５０ｎｍで形成し、下記式（Ａ）で示されるナフタレンジイミド系有機色素を真空蒸着装置（昭和真空製：型番＝ＳＧＣ−８Ｍ）を用い膜厚４５ｎｍとなるように成膜した後、更に、無機ＳｉＯ２膜を徳田製作所製スパッタ装置（ＣＦＳ−８ＥＰ）を用いて膜厚２５ｎｍで成膜し、更に１００μｍの光透過性シートを貼り、ＵＶ硬化接着剤にてＵＶ硬化・固定し、光記録媒体を作製した。
【００３３】
【化３】
この光記録媒体を青紫色レーザーピックアップ搭載のシバソク製ディスクテスター「ＬＭ３３０Ａ」（搭載波長＝４０５ｎｍ，ＮＡ＝０．８５）を用い、線速度＝５．７２ ｍ／ｓにて１−７ＲＬＬの２Ｔ相当（最小ピット長＝０．１７μｍ）でのＯＮ・ＯＦＦ繰り返し信号をパルストレーン型の記録ストラテジー条件にてグルーブ（溝中）へ記録を実施した。なお記録前のグルーブ反射電位は３４５ｍＶであった（記録パワー＝８．０ｍＷ、バイアスパワー＝３．５ｍＷ、Ｔｔｏｐ＝１．５Ｔ，Ｔｍｐ＝０．３３Ｔ）。その記録部位を同じ光学ピック（再生パワー＝０．３５ｍＷ）で再生した結果、ＣＮＲ＝５２．７ｄＢ、変調度＝０．３０が観測された。
【００３５】
更にひき続いて、同じ光学ピックアップを用い、１−７ＲＬＬの８Ｔ相当（最大ピット長＝０．６９μｍ）でのＯＮ・ＯＦＦ繰り返し信号をパルストレーン型の記録ストラテジー条件にて実施した（記録パワー＝５．０ｍＷ、バイアスパワー＝４．０ｍＷ、Ｔｔｏｐ＝１．５Ｔ，Ｔｍｐ＝０．３３Ｔ）。その記録部位を同じ光学ピック（再生パワー＝０．３５ｍＷ）で再生した結果、ＣＮＲ＝５１．６ｄＢ、変調度＝０．５３が観測された。
【００３６】
次にランド（溝間）にグルーブと同条件で記録再生したところ、２Ｔ信号でＣＮＲ＝５０．８ｄＢ、変調度＝０．２９、及び８Ｔ信号でＣＮＲ＝５１．２ｄＢ、変調度＝０．５１が観測された。なお記録前のランド反射電位は３５５ｍＶであった。表−１に結果をまとめた。
【００３７】
比較例１
実施例１の媒体で、色素層を膜厚７５ｎｍで成膜した以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様の記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００３８】
比較例２
実施例１の媒体で、色素層を膜厚２０ｎｍで成膜した以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様の記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００３９】
比較例３
実施例１の媒体で、色素層を膜厚１５０ｎｍで成膜した以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様の記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００４０】
比較例４
実施例１の媒体で、案内溝深さが２５ｎｍの支持基板を用いた以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００４１】
比較例５
実施例１の媒体で、案内溝深さが１５５ｎｍの支持基板を用いた以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００４２】
比較例６
実施例１の媒体で、案内溝幅を０．１１μｍ（トラックピッチの１８％）の条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００４３】
比較例７
実施例１の媒体で、案内溝幅を０．３３μｍ（トラックピッチの５５％）の条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行った結果を表−１に示した。
【００４４】
比較例８
実施例１の媒体で、反射層膜厚を５ｎｍの条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００４５】
比較例９
実施例１の媒体で、反射層膜厚を２１０ｎｍの条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００４６】
比較例１０
実施例１の媒体で、無機薄膜層厚を５ｎｍの条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００４７】
比較例１１
実施例１の媒体で、無機薄膜層厚を５５ｎｍの条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００４８】
比較例１２
実施例１の媒体で、光透過シートの膜厚を１５μｍの条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００４９】
比較例１３
実施例１の媒体で、光透過シートの膜厚を２１０μｍの条件にした以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００５０】
比較例１４
実施例１の媒体で、記録層を下記式（Ｂ）の化合物にして膜厚４５ｎｍで蒸着成膜した以外は全て同様の条件で媒体作製し、上記同様のグルーブ記録評価を行なった結果を表−１に示した。
【００５１】
【化４】
【表１】
【表２】
【発明の効果】
本発明によれば、特異なポリアセンジイミド化合物を記録層として用い、特定の基板形状及び記録層膜厚の制御された記録媒体と３９０〜４３０ｎｍの単一青紫色レーザー高ＮＡ光学ヘッドの併用により、高密度記録に必要な情報信号の安定な記録再生が達成された。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１ 支持基板
２ 反射層
３ 記録層
４ 保護層（薄膜層）
５ 光透過層
Claims (5)
- 溝深さが３０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内から選択され、且つ溝幅（半値幅）がトラックピッチに対する比率で２０％〜５０％の範囲から選択される案内溝を有す支持基板上に、少なくとも膜厚が１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲から選択される反射層、一般式（１）で表されるポリアセンジイミド系色素骨格を主成分として含有してなり且つ膜厚が２５〜７０ｎｍの範囲から選択される記録層、透明な保護層、光透過層がこの順に形成された光記録媒体。
- 波長λが３９０ｎｍ〜４３０ｎｍの範囲から選択されるレーザー光を用い対物レンズの開口数（ＮＡ）の範囲が０．７０〜０．９０範囲から選択される光学系で厚さが２０μｍ〜２００μｍの範囲から選択される光透過層側から記録・再生が可能なことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
- 前記反射層の材質が少なくとも、Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａｌ，Ｎｉ、Ｒｈから選択される金属、またはそれらの合金からなることを特徴とする請求項１又は２記載の光記録媒体。
- 透明な保護層は、ＳｉＯ２またはＴｉＯ２またはＡｌ２Ｏ３から選択され、その膜厚が１０〜５０ｎｍから選択される請求項１〜３の何れか１項に記載の光記録媒体。
- グルーブ（溝中）及び又はランド（溝間）記録が可能な請求項１〜４の何れか１項に記載の光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002254042A JP2004090372A (ja) | 2002-08-30 | 2002-08-30 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002254042A JP2004090372A (ja) | 2002-08-30 | 2002-08-30 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004090372A true JP2004090372A (ja) | 2004-03-25 |
Family
ID=32059884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002254042A Withdrawn JP2004090372A (ja) | 2002-08-30 | 2002-08-30 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004090372A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006043526A1 (ja) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Fujifilm Corporation | 光情報媒体 |
| WO2007089041A1 (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-09 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | 光情報記録媒体、並びにその製造方法及び記録方法 |
| JP2010080055A (ja) * | 2009-12-28 | 2010-04-08 | Toshiba Corp | 情報記憶媒体、再生方法及び記録方法 |
| US8142981B2 (en) | 2005-04-14 | 2012-03-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Storage medium, reproducing method, and recording method |
| WO2012103776A1 (zh) * | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 中国科学院化学研究所 | 并四苯-5，6：11，12-四羧酸二酰亚胺类化合物及其制备方法 |
-
2002
- 2002-08-30 JP JP2002254042A patent/JP2004090372A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006043526A1 (ja) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Fujifilm Corporation | 光情報媒体 |
| US8142981B2 (en) | 2005-04-14 | 2012-03-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Storage medium, reproducing method, and recording method |
| US8252510B2 (en) | 2005-04-14 | 2012-08-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Storage medium, reproducing method, and recording method |
| US8325584B2 (en) | 2005-04-14 | 2012-12-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Storage medium, reproducing method, and recording method |
| US8374069B2 (en) | 2005-04-14 | 2013-02-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Storage medium, reproducing method, and recording method |
| US8588047B2 (en) | 2005-04-14 | 2013-11-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Storage medium, reproducing method, and recording method |
| WO2007089041A1 (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-09 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | 光情報記録媒体、並びにその製造方法及び記録方法 |
| JP2010080055A (ja) * | 2009-12-28 | 2010-04-08 | Toshiba Corp | 情報記憶媒体、再生方法及び記録方法 |
| WO2012103776A1 (zh) * | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 中国科学院化学研究所 | 并四苯-5，6：11，12-四羧酸二酰亚胺类化合物及其制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050810 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20050810 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20060922 |