JP2004086328A

JP2004086328A - タッチパネル、その製造方法、およびタッチパネル付き表示装置

Info

Publication number: JP2004086328A
Application number: JP2002243770A
Authority: JP
Inventors: Katsumi Inoue; 井上　克己; Kentaro Shirato; 白土　健太郎
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2002-08-23
Filing date: 2002-08-23
Publication date: 2004-03-18

Abstract

【課題】表示装置の高コントラスト化、薄型・軽量化に対応可能であって、低コストのタッチパネルを提供する。
【解決手段】λ／４板とレターデーション値が２０ｎｍ以下である保護膜との間に、偏光膜の吸収軸が保護膜およびλ／４板の遅相軸と２０°以上７０°未満の角度をなすように配置された円偏光板を１枚以上有し、かつ、少なくとも片面に透明導電膜を有する第一の透光性基板と、少なくとも片面に透明導電膜を有する第二の透光性基板とが、第一の透光性基板が視認側になるように透明導電膜同士を対向させて配置されたタッチパネルであって、　該円偏光板の厚みが、８０μｍ以上３００μｍ以下であることを特徴とするタッチパネル。
【選択図】　　なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、タッチパネルおよびその製造方法に関し、さらにはタッチパネル付き表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現代社会は、高度情報社会と言われており、情報の流通量が増大し、各個人における情報の収集や選択に対する要求が増大している。このような社会的背景においては、情報携帯端末やカーナビゲーションなど移動しながら情報を処理することに対するニーズが大きくなり、積極的に開発が進められている。
【０００３】
ところで、移動型の情報端末では、操作者とのインターフェイスとしてはキーボードを用いるより、携帯性を重視して、表示装置の表示部に重ねて使用する透明のタッチパネルを搭載することが主流となってきている。
【０００４】
また、近年は情報量増加に伴い表示装置のカラー化の要求も高まっている。しかし、カラー表示ではカラーフィルタにより透過率が低下し、明度が白黒表示時に比べて極端に低下し、視認識性が悪くなる。そのため、カラー液晶表示装置においては、高明度化および高コントラスト化の要求が高くなる。更に、表示装置にタッチパネルを搭載した場合は、表面の反射に加え、タッチパネルの内部に存在する高屈折率の透明導電膜と空気との界面での反射率が大きく、明るい環境下でのコントラストの低下が大きく、高コントラスト化の要求がより高まることとなる。
【０００５】
タッチパネルが装備される表示装置としては、液晶表示装置、ＣＲＴ、ＥＬ、ＰＤＰなどがある。液晶表示装置ではそのほとんどが画面の表示のために偏光板を１枚以上用いている。また、ＥＬではセル内部での反射防止のため、外面側に偏光板と位相差板を組み合わせた円偏光板を設けている。
【０００６】
また、このような表示装置にタッチパネルを搭載する場合は、前述のように、タッチパネル部の反射率が大きく、反射光が増大し、コントラストが低下することと、さらに装置自体が厚くなるという問題点があった。これに対して液晶表示装置の偏光板と液晶セルの間に抵抗膜式タッチパネルの機能を挿入したインナー型タッチパネルの提案がされている。この方式によれば、界面が減少し、さらにλ／４板と組み合わせることで、界面反射が著しく低減され、視認性が著しく向上する。
抵抗膜式タッチパネルでは、透明導電膜を有する２枚の透明基板（操作者面側の上部基板と表示部側の下部基板）を透明導電膜同士が対向するように配置されるが、上記のようなインナー型タッチパネルの構成としては、１．偏光板と位相差板をタッチパネルの上部基板にのみ設けるもの（Ａタイプ）、２．偏光板と位相差板をタッチパネルの上部基板に設ける以外に下部基板に位相差板を有するもの（Ｂタイプ）の２つのタイプの提案がなされている。
【０００７】
以上のように、タッチパネル付き表示装置では、偏光板は非常に重要な部材である。偏光板は一般に偏光能を有する偏光膜の両面あるいは片面に、接着剤層を介して保護膜が貼り合わせられている。
偏光膜の素材としては、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡ）が主に用いられており、ＰＶＡフィルムを一軸延伸してから、ヨウ素あるいは二色性染料で染色するかあるいは染色してから延伸し、さらにホウ素化合物で架橋することにより偏光膜が形成される。
保護膜としては、光学的に透明で複屈折が小さいことから、主にセルローストリアセテートが用いられている。偏光膜は、通常連続フィルムの走行方向（長手方向）に一軸延伸して製造されるため、偏光膜の吸収軸は長手方向にほぼ平行となる。
【０００８】
偏光板は、液晶表示装置の画面の縦あるいは横方向に対して偏光板の透過軸を４５゜傾けて配置しているため、ロール形態で製造される偏光板の打ち抜き工程において、ロール長手方向に対し４５゜方向に打ち抜く必要があった。しかしながら４５゜方向に打ち抜いたときには、ロールの端付近で使用できない部分が発生し、特に大サイズの偏光板では、得率が小さくなるという問題があり、結果として、コストの上昇、さらには廃棄物が増える問題があった。
また、上部基板に円偏光板を有するものでは、その後の工程に円偏光板の片側の透明導電膜上に銀電極などのタッチパネル用の電極および／または絶縁コートを印刷する工程があるが、既に打ち抜いているために、印刷を連続処理できずに、枚葉処理で処理するしかなく、生産性、コストの上で問題があった。
【０００９】
また、円偏光板としては、偏光板をλ／４板、またはλ／４板とλ／２板などの位相差膜を組み合わせて利用されるが、従来は、偏光膜の含水率が高いため位相差膜と偏光膜は保護膜を介して貼り合わせていたので、円偏光板自体の厚みも増し、液晶表示装置の薄型・軽量化の妨げになっていた。さらに、前記のインナータイプタッチパネルの場合には、円偏光板が可動側の基板であるタッチパネルの上部基板に用いられ、厚みが厚いほど入力のための荷重（以下、ＯＮ荷重と述べる）が増し、入力感が悪くなるという問題があった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、表示装置の入力感を損なうことなく、薄型化・軽量化または低コスト化に対応可能なタッチパネル、あるいは薄型化・軽量化または低コスト化に対応可能で、かつ、高コントラスト化に対応可能なタッチパネルを提供することにある。
本発明の他の目的は、該タッチパネルを搭載した表示装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、下記構成のタッチパネル、その製造方法及びタッチパネル付き表示装置が提供され、本発明の上記目的が達成される。
１．λ／４板とレターデーション値が２０ｎｍ以下である保護膜との間に、偏光膜の吸収軸が保護膜およびλ／４板の遅相軸と２０°以上７０°未満の角度をなすように配置された円偏光板を１枚以上有し、かつ、
少なくとも片面に透明導電膜を有する第一の透光性基板と、少なくとも片面に透明導電膜を有する第二の透光性基板とが、第一の透光性基板が視認側になるように透明導電膜同士を対向させて配置されたタッチパネルであって、
該円偏光板の厚みが、８０μｍ以上３００μｍ以下であることを特徴とするタッチパネル。
２．該円偏光板が、操作者面側の透光性基板であることを特徴とする上記１に記載のタッチパネル。
【００１２】
３．円偏光板の作製工程として、偏光膜と保護膜とλ／４板とを各々ロール状態で供給し、偏光膜の両側を保護膜とλ／４板で挟み込んで連続的に貼合し、ロール状態で巻き取る工程を有することを特徴とするタッチパネルの製造方法。
４．少なくとも片面に透明導電膜が形成された円偏光板をロール状態で供給し、該透明導電膜上にタッチパネル用の電極および／または絶縁コートおよび／またはドットスペーサーを連続的に印刷し、第１の透光性基板をロール状態で巻き取る工程を有することを特徴とする上記３に記載のタッチパネルの製造方法。
５．円偏光板の偏光膜を、連続的に供給される偏光膜用ポリマーフィルムの両端を保持手段により保持し、該保持手段をフィルムの長手方向に進行させつつ張力を付与して延伸して、その際、
（ｉ）偏光膜用ポリマーフィルムの一方端の実質的な保持開始点から実質的な保持解除点までの保持手段の軌跡Ｌ１及びポリマーフィルムのもう一端の実質的な保持開始点から実質的な保持解除点までの保持手段の軌跡Ｌ２と、二つの実質的な保持解除点の距離Ｗが、下記式（１）を満たし、
（ｉｉ）ポリマーフィルムの支持性を保ち、揮発分率が５％以上の状態を存在させて延伸し、その後、収縮させ揮発分率を低下させる、
ことで形成し、その後偏光膜の含水率を５％以下に保ったまま保護膜および／またはλ／４板と貼り合わせる工程を有することを特徴とする上記３または４に記載のタッチパネルの製造方法。
式（１）：｜Ｌ２−Ｌ１｜＞０．４Ｗ
【００１３】
６．上記１または２に記載のタッチパネルを搭載した表示装置。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明のタッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置の構成の代表的な例を、図１２に概略断面図として模式的に示した。
図１２の例は、タッチパネルの操作者面側の基板である上部基板を円偏光板としたいわゆるインナー型タッチパネルタッチパネルであり、円偏光板によって内部反射を無くすことにより、コントラストを向上させることができる。図１２において、透明導電膜２０５を有する第一の透光性基板２０４と透明導電膜２０６を有する円偏光板（第二の透光性基板）２０７は、各々の透明導電膜が対向するように配置されてタッチパネル２１１を構成している。円偏光板２０７上にはハードコート膜２０８と反射防止膜２０９がこの順序で配置されている。
一方、本発明との対比例として、通常のタッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置の構成例を図１３に概略断面図として模式的に示した。
図１３に示すように、通常の液晶表示装置では、液晶セルの上部にある基板上に円偏光板を有するものである。図１３において、透明導電膜２５６を有する第一の透光性基板２５５と透明導電膜２５７を有する第二の透光性基板２５８は、各々の透明導電膜が対向するように配置され、タッチパネル２６１を構成しており、両側に円偏光板を有する液晶セルの上に搭載されている。
図１２、１３のどちらにも示されているように、タッチパネルの耐擦傷性を強化したり、タッチパネル表面での反射を防止するために、第二の透光性基板（２０７，２５８）上にはハードコート膜（２０８，２５９）と反射防止膜（２０９，２６０）を設けてもよい。
図１２、１３に関しては両側に円偏光板を有する透過型または半透過型の液晶セルの例を記載しているが、当然、反射型の液晶セルの上に搭載することも可能である。また、図１３の例に関しては、両側に直線偏光板を有する液晶セル上に搭載することも可能である。
なお、本発明のタッチパネル付き表示装置は図１２の例に限定されず、各種のバリエーションがあることは言うまでもない。
【００１５】
（円偏光板）
本発明のタッチパネル付き表示装置に用いられる円偏光板（本明細書中、「本発明の偏光板」ともいう）について、詳細に説明する。
本発明の円偏光板は、偏光能を持つ偏光膜を有し、該偏光膜の片面に保護膜がさらに反対側の面には、λ／４板が設けられる。
通常、長尺の偏光板（通常ロール形態）を製造し、それを用途に合わせて打ち抜くことにより、実用上の偏光板が得られるものである。なお、本明細書の記載において、特に断らない限り、長尺の偏光板及び打ち抜いた偏光板の両者を含む意味で用いられる。
【００１６】
本発明の円偏光板を構成するλ／４板としては、特開平５−２７１１８号および同５−２７１１９号の各公報に記載されたレターデーションが大きい複屈折性フイルムと、レターデーションが小さい複屈折率フイルムとを、それらの光軸が直交するように積層させた位相差板、特開平１０−６８８１６号公報に記載された、特定波長においてλ／４となっているポリマーフイルムと、それと同一材料からなり同じ波長においてλ／２となっているポリマーフイルムとを積層させて、広い波長領域でλ／４が得られる位相差板、特開平１０−９０５２１号公報に記載された二枚のポリマーフイルムを積層することにより広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板、ＷＯ００／２６７０５号に記載された変性ポリカーボネートフイルムを用いた広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板、ＷＯ００／６５３８４号に記載されたセルロースアセテートフイルムを用いた広い波長領域でλ／４を達成できる位相差板等を挙げることができる。
【００１７】
本発明では、円偏光板の作製で偏光膜とλ／４板との貼り合わせを、偏光膜とλ／４板とを各々ロール状態で供給し、連続的に貼合し、ロール状態で巻き取る工程により行うことが製造効率を上げ、コストを下げる意味で好ましい。
具体的には、後述するように、偏光膜を延伸して作製する工程を終えた後、続いて行われる乾燥工程中あるいは乾燥工程後に、偏光膜とλ／４板とを貼合する工程を組み込むことで、各々がロール状態で供給し、連続的に供給することができ、なおかつ、貼合後もロール状態で巻き取ることにより、次工程に一貫した製造ラインでつなげることができる。なお、偏光膜とλ／４板を貼合する際に、同時に保護膜もロール状態で供給し、連続的に貼合することもでき、性能および生産効率上は偏光膜にλ／４板と保護膜を同時に貼合する方がさらに好ましい。また、偏光膜を延伸して作製する工程を終えた後、続いて行われる乾燥工程中あるいは乾燥工程後に、両側に保護膜を貼合し、両側保護膜付きの偏光板を作成した後、粘着剤を介して、ロール状態でλ／４板と貼合せ、ロール状態の円偏光板を得ることも可能である。
この円偏光板は通常のタッチパネルの下部基板にも用いることができる。
【００１８】
表示装置の液晶材料や配向方向、視野角特性などの観点から、λ／４板の遅相軸と偏光膜の吸収軸との角度は２０°以上７０°未満とするが、好ましくは４５°の角度であることが望ましい。
また、λ／４板の光の波長に対する位相遅れの公差を補償するために、偏光膜とλ／４板との間にλ／２板を配置することもある。
【００１９】
一般に、λ／４板、λ／２板などの位相差板は疎水性で透湿性が低く、偏光膜と直に貼り合わせると、偏光膜の含水率は通常１０％以上と比較的高いので、疎水性保護膜と貼り合わせると偏光膜中の水が偏光板外に揮発するまでの時間が長くなり、偏光度が低下したり、色ムラを生じたり好ましくない。したがって、通常は、λ／４板が偏光膜の保護膜を兼ねることができず、円偏光板としては、保護膜／偏光膜／保護膜／（λ／４板）の構成となる。
本発明では、最終的に偏光膜の含水率が５％以下の少ない状態に乾燥することで、λ／４板のように透湿性の低いフィルムを偏光膜の保護膜として、偏光膜に直接貼り合わせることができる。結果として、保護膜の使用枚数を減らすこととなり、円偏光板全体の厚みを薄くすることができ、タッチパネル、さらには該タッチパネルを搭載する表示装置をさらに薄膜・軽量化することが可能となる。
さらに、本発明の円偏光板には、各種機能膜を直接片面または両面に貼合することができる。貼合する機能膜の例としては、上記のλ／４板、λ／２板などの位相差膜、光拡散膜、偏光膜と反対面に導電層を設けたプラスチックセル、反射板、半透過機能を持つ反射板、ハードコート膜、反射防止膜等があげられる。
本発明で円偏光板の厚みは、８０μｍ以上３００μｍ以下であり、タッチパネルの軽量・薄膜化の観点からは、１００μｍ以上２５０μｍ以下であることがより好ましい。
【００２０】
本発明の円偏光板は、長尺の円偏光板において、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない（かかる長尺の円偏光板を以下、単に「斜め配向した」円偏光板と称することもある）。長手方向と吸収軸方向とがなす角度は、好ましくは２０°以上７０゜未満、より好ましくは４０°以上５０゜未満、特に好ましくは４４以上４６゜未満である。これにより、長尺の偏円光板からの打ち抜き工程において、得率よく単板の円偏光板を得ることができる。本発明では、長手方向と吸収軸方向とがなす角度を自由に設定することができる。従って、他の光学部材と組み合わせて使用する際にも最適な角度を選ぶことができる。
【００２１】
また、本発明の円偏光板は、単板透過率が５５０ｎｍで３５％以上かつ偏光度が５５０ｎｍで８０％以上であることを特徴とする。単板透過率は、好ましくは４０％以上であり、偏光度は好ましくは９５．０％以上、より好ましくは９９％以上、特に好ましくは９９．９％以上である。なお、以下の記載において、特に断りのない限り透過率は単板透過率のことである。
本発明の円偏光板は、優れた単板透過率及び偏光度を有しているため、液晶表示装置として用いる場合に、そのコントラストを高めることができ、有利である。
【００２２】
本発明の斜め配向した円偏光板は、以下に述べる方法により容易に得ることができる。すなわち、斜め配向を偏光膜用ポリマーフィルムの延伸により得るとともに、フィルムの延伸時の揮発分率、フィルムを収縮させる際の収縮率などを工夫することにより得られる。更には、延伸前のフィルムに付着している異物の量を調節することも好ましい。これにより、斜め延伸しても、延伸したフィルムにシワ、ツレが発生せず、表面粗さの小さい優れた平滑性の偏光膜を得ることができる。
以下に、本発明の円偏光板を得るための好ましい延伸方法（以下、「本発明の延伸方法」と称することもある）について詳述する。
【００２３】
＜延伸方法＞
図１および図２に、偏光膜用ポリマーフィルムを斜め延伸する方法の例が、概略平面図として示されている。
本発明の延伸方法は、（ａ）で示される原反フィルムを矢印（イ）方向に導入する工程、（ｂ）で示される幅方向延伸工程、及び（ｃ）で示される延伸フィルムを次工程、即ち（ロ）方向に送る工程を含む。以下「延伸工程」と称するときは、これらの（ａ）〜（ｃ）工程を含んで、本発明の延伸方法を行うための工程全体を指す。
【００２４】
フィルムは（イ）の方向から連続的に導入され、上流側から見て左側の保持手段にＢ１点で初めて保持される。この時点ではいま一方のフィルム端は保持されておらず、幅方向に張力は発生しない。つまり、Ｂ１点は本発明の実質的な保持開始点（以下、「実質保持開始点」という）には相当しない。
本発明では、実質保持開始点は、フィルム両端が初めて保持される点で定義される。実質保持開始点は、より下流側の保持開始点Ａ１と、Ａ１から導入側フィルムの中心線１１（図１）または２１（図２）に略垂直に引いた直線が、反対側の保持手段の軌跡１３（図１）または２３（図２）と交わる点Ｃ１の２点で示される。
この点を起点とし、両端の保持手段を実質的に等速度で搬送すると、単位時間ごとにＡ１はＡ２，Ａ３…Ａｎと移動し、Ｃ１は同様にＣ２，Ｃ３…Ｃｎに移動する。つまり同時点に基準となる保持手段が通過する点ＡｎとＣｎを結ぶ直線が、その時点での延伸方向となる。
【００２５】
本発明の方法では、図１、図２のようにＡｎはＣｎに対し次第に遅れてゆくため、延伸方向は、搬送方向垂直から徐々に傾斜していく。本発明の実質的な保持解除点（以下、「実質保持解除点」という）は、より上流で保持手段から離脱するＣｘ点と、Ｃｘから次工程へ送られるフィルムの中心線１２（図１）または２２（図２）に略垂直に引いた直線が、反対側の保持手段の軌跡１４（図１）または２４（図２）と交わる点Ａｙの２点で定義される。
最終的なフィルムの延伸方向の角度は、実質的な延伸工程の終点（実質保持解除点）での左右保持手段の行程差Ａｙ−Ａｘ（すなわち｜Ｌ１−Ｌ２｜）と、実質保持解除点の距離Ｗ（ＣｘとＡｙの距離）との比率で決まる。従って、延伸方向が次工程への搬送方向に対しなす傾斜角θは
ｔａｎθ＝Ｗ／（Ａｙ−Ａｘ）、即ち、
ｔａｎθ＝Ｗ／｜Ｌ１−Ｌ２｜
を満たす角度である。
図１及び図２の上側のフィルム端は、Ａｙ点の後も１８（図１）または２８（図２）まで保持されるが、もう一端が保持されていないため新たな幅方向延伸は発生せず、１８および２８は本発明の実質保持解除点ではない。
【００２６】
以上のように、本発明において、フィルムの両端にある実質保持開始点は、左右各々の保持手段への単純な噛み込み点ではない。本発明の二つの実質保持開始点は、上記で定義したことをより厳密に記述すれば、左右いずれかの保持点と他の保持点とを結ぶ直線がフィルムを保持する工程に導入されるフィルムの中心線と略直交している点であり、かつこれらの二つの保持点が最も上流に位置するものとして定義される。
同様に、本発明において、二つの実質保持解除点は、左右いずれかの保持点と他の保持点とを結ぶ直線が、次工程に送りだされるフィルムの中心線と略直交している点であり、しかもこれら二つの保持点が最も下流に位置するものとして定義される。
ここで、略直交とは、フィルムの中心線と左右の実質保持開始点、あるいは実質保持解除点を結ぶ直線が、９０±０．５゜であることを意味する。
【００２７】
テンター方式の延伸機を用いて左右の行程差を付けようとする場合、レール長などの機械的制約により、しばしば保持手段への噛み込み点と実質保持開始点に大きなずれが生じたり、保持手段からの離脱点と実質保持解除点に大きなずれが生ずることがあるが、上記定義する実質保持開始点と実質保持解除点間の工程が式（１）の関係を満たしていれば本発明の目的は達成される。
【００２８】
上記において、得られる延伸フィルムにおける配向軸の傾斜角度は、（ｃ）工程の出口幅Ｗと、左右の二つの実質的保持手段の行程差｜Ｌ１−Ｌ２｜の比率で制御、調整することができる。
偏光板、位相差膜では、しばしば長手方向に対し４５゜配向したフィルムが求められる。この場合、４５゜に近い配向角を得るために、下記式（２）を満たすことが好ましく、
式（２）：０．９Ｗ＜｜Ｌ１−Ｌ２｜＜１．１Ｗ
さらに好ましくは、下記式（３）を満たすことが好ましい。
式（３）：０．９７Ｗ＜｜Ｌ１−Ｌ２｜＜１．０３Ｗ
【００２９】
具体的な延伸工程の構造は、式（１）を満たす限り、図１〜６に例示するように、設備コスト、生産性を考慮して任意に設計できる。
【００３０】
延伸工程へのフィルム導入方向（イ）と、次工程へのフィルム搬送方向（ロ）のなす角度は、任意の数値が可能であるが、延伸前後の工程を含めた設備の総設置面積を最小にする観点からは、この角度は小さい方がよく、３゜以内が好ましく、０．５゜以内がさらに好ましい。例えば図１、図４に例示するような構造で、この値を達成することができる。
このようにフィルム進行方向が実質的に変わらない方法では、保持手段の幅を拡大するのみでは、偏光膜、位相差膜として好ましい長手方向に対して４５゜の配向角を得るのは困難である。そこで、図１の如く、一旦延伸した後、収縮させる工程を設けることで、｜Ｌ１−Ｌ２｜を大きくすることができる。
延伸率は１．１〜１０．０倍が望ましく、より望ましくは２〜１０倍であり、その後の収縮率は１０％以上が望ましい。また、図４に示すように、延伸−収縮を複数回繰り返すことも、｜Ｌ１−Ｌ２｜を大きくできるため好ましい。
【００３１】
また、延伸工程の設備コストを最小に抑える観点からは、保持手段の軌跡の屈曲回数、屈曲角度は小さい程良い。この観点からは、図２、図３、図５に例示する如くフィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向をフィルム両端を保持させた状態で屈曲させることが好ましい。
【００３２】
本発明において両端を保持しつつ張力を付与しフィルムを延伸する装置としては、いわゆる図１〜図５のようなテンター装置が好ましい。また、従来型の２次元的なテンターの他に、図６のように螺旋状に両端の把持手段に行路差を付ける延伸工程を用いることもできる。
【００３３】
テンター型の延伸機の場合、クリップが固定されたチェーンがレールに沿って進む構造が多いが、本発明のように左右不均等な延伸方法をとると、結果的に図１及び２に例示される如く、工程入口、出口でレールの終端がずれ、左右同時に噛み込み、離脱をしなくなることがある。この場合、実質工程長Ｌ１，Ｌ２は、上に述べたように単純な噛み込み−離脱間の距離ではなく、既に述べたように、あくまでフィルムの両端を保持手段が保持している部分の行程長である。
【００３４】
延伸工程出口でフィルムの左右に進行速度差があると、延伸工程出口におけるシワ、寄りが発生するため、左右のフィルム把持手段の搬送速度差は、実質的に同速度であることが求められる。速度差は好ましくは１％以下であり、さらに好ましくは０．５％未満であり、最も好ましくは０．０５％未満である。ここで述べる速度とは、毎分当たりに左右各々の保持手段が進む軌跡の長さのことである。一般的なテンター延伸機等では、チェーンを駆動するスプロケット歯の周期、駆動モータの周波数等に応じ、秒以下のオーダーで発生する速度ムラがあり、しばしば数％のムラを生ずるが、これらは本発明で述べる速度差には該当しない。
【００３５】
＜収縮＞
延伸ポリマーフィルムの収縮は、延伸時・延伸後のいずれの工程でも行って良い。収縮は、斜め方向に配向する際の発生するポリマーフィルムのシワが解消すればよく、フィルムを収縮させる手段としては、温度を掛けることにより、揮発分を除去する方法などが挙げられるが、フィルムを収縮させればいかなる手段を用いても良い。好ましいフィルムの収縮率としては、長手方向に対する配向角θを用いて、１／ｓｉｎθ倍以上収縮することで、値としては１０％以上収縮することが好ましい
【００３６】
＜揮発分率＞
延伸工程において、左右の行程差が生じるに従って、フィルムにシワ、寄りが発生する。この問題を解決するために、ポリマーフィルムの支持性を保ち、ポリマーフィルムの揮発分率が５％以上の状態を存在させて延伸し、その後収縮させて揮発分率を低下させることが好ましい。本発明における揮発分率とは、フィルムの単位体積あたりに含まれる揮発成分の体積を表し、揮発成分体積をフィルム体積で割った値（％）である。
本発明において、偏光膜用ポリマーフィルムの延伸前に揮発分を含有させる工程を少なくとも１工程設けることが好ましい。揮発分を含有させる工程は、フィルムをキャストし溶剤、水などを含有させる、溶剤、水などに浸漬、塗布、噴霧する、ことなどにより行われる。後述する＜染色処方、染色方法＞、＜硬膜剤（架橋剤）、金属塩添加＞の項に記載の染色工程または硬膜剤添加工程が、揮発分を含有させる工程を兼ねてもよい。染色工程が兼ねる場合は、硬膜剤添加工程を延伸前に設けることが好ましい。硬膜剤添加工程が兼ねる場合は、染色工程は、延伸前もしくは延伸後のいずれに設けてもよい。また、延伸前であれば染色工程と延伸工程を同時に行ってもよい。
【００３７】
好ましい揮発分率は、ポリマーフィルムの種類によって異なる。揮発分率の最大は、ポリマーフィルムの支持性を保つ限り可能である。ポリビニルアルコールでは揮発分率として１０％〜１００％が好ましい。セルロースアシレートでは、１０％〜２００％が好ましい。
【００３８】
＜揮発分成分の含有分布＞
長尺、特にロール形態の円偏光板を一貫工程で作製する場合には、染色のムラや抜けがないことが必要である。延伸前のフィルム中の揮発成分に分布のムラ（フィルム面内の場所による揮発成分量の差異）があると染色ムラ、抜けの原因となる。従って、延伸前のフィルム中の揮発分成分の含有分布は小さいほうが好ましく、少なくとも５％以下であることが好ましい。揮発成分の分布とは、揮発分率の１ｍ^２あたりの変動幅（平均揮発分率に対する、最大値または最小値と該平均揮発分率との差の大きい方の比））を表す。揮発分成分の含有分布を小さくする方法として、フィルムの表裏表面を均一なエアーでブローする、ニップローラーにて均一に絞る、ワイパーなどで拭き取る（ブレード、スポンジ拭き取りなど）などの方法挙げられるが、分布が均一になればいかなる方法を用いても良い。図９〜１１にエアーブロー装置、ニップ装置、ブレード装置の一例を示す。
【００３９】
＜シワ発生から消失までの距離＞
斜め方向に配向する際に発生するポリマーフィルムのシワは、本発明における実質保持解除点までに消失していればよい。しかし、シワの発生から消失までに時間がかかると、延伸方向のばらつきが生じることがあるため、好ましくは、シワが発生した地点からできるだけ短い移行距離でシワが消失することが良い。このためには、揮発分量の揮発速度を高くするなどの方法がある。
【００４０】
＜異物＞
本発明において、延伸前のポリマーフィルムに異物が付着していると、表面が粗くなるため、異物を取ることが好ましい。異物が存在していると、特に円偏光板作製時には、色むら・光学むらの原因となる。また、保護膜を張り合わせるまでの間に、異物が付着しないことも重要で、極力浮遊するゴミが少ない環境下で製造することが好ましい。本発明における異物の量とは、フィルム表面に付着している異物の質量を表面積で割った値で、平方メートルあたりのグラム数を表す。異物は、１ｇ／ｍ^２以下が好ましく、更に好ましくは０．５ｇ／ｍ^２以下であり、少ないほど好ましい。
【００４１】
異物の除去方法としては特に限定されず、延伸前のポリマーフィルムに悪影響を与えることなく、異物を除去することができれば、いずれの方法でもよい。例えば、水流を吹き付けることにより異物を掻き落とす方法、気体噴射により異物を掻き落とす方法、布、ゴム等のブレードを用いて異物を掻き落とす方法等が挙げられる。
【００４２】
＜乾燥＞
発生したシワが消失する条件であれば、乾燥条件はいかようでもかまわない。ただし、好ましくは、所望の配向角度が得られた後、できるだけ短い移動距離で乾燥点が来るように調節するのがよい。乾燥点とは、フィルムの表面膜温度が環境雰囲気温度と同じになる場所を意味する。このことから、乾燥速度もできるだけ速いほうが好ましい。
【００４３】
＜乾燥温度＞
発生したシワが消失する条件であれば、乾燥条件はいかようでもかまわないが、延伸するフィルムによって異なる。本発明によりポリビニルアルコールフィルムを用いて円偏光板を作成する場合には、２０℃以上１００℃以下が好ましく、より好ましくは４０℃以上９０℃以下である。
【００４４】
＜膨潤率＞
本発明において、ポリマーフィルムがポリビニルアルコールで、硬膜剤を使用した場合、斜め方向に延伸した状態を緩和せずに保つために、延伸前後で水に対する膨潤率が異なることが好ましい。具体的には、延伸前の膨潤率が高く、延伸・乾燥後の膨潤率が低くなることが好ましい。更に好ましくは、延伸する前の水に対する膨潤率が３％以上で、乾燥後の膨潤率が３％以下であることが好ましい。
【００４５】
＜屈折部＞
本発明で保持手段の軌跡を規制するレールには、しばしば大きい屈曲率が求められる。急激な屈曲によるフィルム把持手段同士の干渉、あるいは局所的な応力集中を避ける目的から、屈曲部では把持手段の軌跡が円弧を描くようにすることが望ましい。
【００４６】
＜延伸速度＞
本発明にて、フィルムを延伸する速度は、単位時間当りの延伸倍率で表すと、１．１倍／分以上、好ましくは２倍／分以上で、早いほうが好ましい。また、長手方向の進行速度は、０．１ｍ／分以上、好ましくは１ｍ／分以上で、早いほうが生産性の観点から見て好ましい。いずれの場合も、上限は、延伸するフィルム及び延伸機により異なる。
【００４７】
＜長手方向の張力＞
本発明において、フィルムの両端を保持手段により保持する際、保持しやすいようにフィルムが張った状態にしておくことが好ましい。具体的には、長手方向に張力をかけてフィルムを張るなどの方法が挙げられる。張力としては、延伸前のフィルム状態により異なるが、弛まない程度にすることが好ましい。
【００４８】
＜延伸時温度＞
フィルム延伸時の環境温度は、少なくともフィルムに含まれる揮発分の凝固点以上であればよい。フィルムがポリビニルアルコールである場合には、２５℃以上が好ましい。また、偏光膜を作製するためのヨウ素・ホウ酸を浸漬したポリビニルアルコールを延伸する場合には、２５℃以上９０℃以下が好ましく、より好ましくは４０℃以上９０℃以下である。
【００４９】
＜延伸時湿度＞
揮発分が水であるフィルム、例えばポリビニルアルコール、セルロースアシレートなどを延伸する場合は、調湿雰囲気下で延伸しても良い。ポリビニルアルコールである場合は、５０％以上が好ましく、好ましくは８０％以上、更に好ましくは９０％以上である。
【００５０】
＜偏光膜用ポリマーフィルム＞
本発明で、偏光膜を形成するための延伸の対象とするポリマーフィルムに関しては特に制限はなく、熱可塑性の適宜なポリマーからなるフィルムを用いることができる。ポリマーの例としては、ＰＶＡ、ポリカーボネート、セルロースアシレート、ポリスルホンなどを挙げることができる。
好ましくはＰＶＡを包含するポリビニルアルコール系ポリマーである。ＰＶＡは通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能な成分を少量含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡもポリビニルアルコール系ポリマーに含まれ好ましく用いることができる。
なかでも、ＰＶＡが最も好ましい。
【００５１】
ＰＶＡのケン化度は特に限定されないが、溶解性等の観点から８０〜１００ｍｏｌ％が好ましく、９０〜１００ｍｏｌ％が特に好ましい。またＰＶＡの重合度は特に限定されないが、１０００〜１００００が好ましく、１５００〜５０００が特に好ましい。
【００５２】
延伸前のポリマーフィルムの好ましい弾性率は、ヤング率で表して、０．０１Ｍｐａ以上５０００Ｍｐａ以下、更に好ましくは０．１Ｍｐａ以上５００Ｍｐａ以下である。弾性率が低すぎると延伸時・延伸後の収縮率が低くなり、シワが消えにくくなり、また高すぎると延伸時にかかる張力が大きくなり、フィルム両端を保持する部分の強度を高くする必要が生じ、機械に対する負荷が大きくなる。
【００５３】
延伸前のフィルムの厚味は特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、１μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０〜２００μｍが特に好ましい。
【００５４】
＜染色処方・方法＞
偏光膜は、偏光膜用ポリマーフィルム、例えばＰＶＡフィルムを配向すると共に染色して得られる。染色は、気相または液相吸着により行われる。液相で行う場合の例として、偏光子としてヨウ素を用いる場合には、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液に偏光膜用ポリマーフィルムを浸漬させて行われる。ヨウ素は０．１〜２０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムは１〜２００ｇ／ｌ、ヨウ素とヨウ化カリウムの質量比は１〜２００が好ましい。染色時間は１０〜５０００秒が好ましく、液温度は５〜６０℃が好ましい。染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。染色操作は、本発明の延伸工程の前後いずれに置いても良い。また、適度に膜が膨潤され延伸が容易になることから、延伸工程前に液相で染色することが特に好ましい。
【００５５】
＜硬膜剤（架橋剤）、金属塩添加＞
偏光膜用ポリマーフィルム、例えばＰＶＡフィルムを延伸して偏光膜を製造する過程では、ＰＶＡに架橋させる添加物を用いることが好ましい。特に本発明の斜め延伸法を用いる場合、延伸工程出口でＰＶＡが十分に硬膜されていないと、工程のテンションでＰＶＡの配向方向がずれてしまうことがあるため、延伸前工程あるいは延伸工程で架橋剤溶液に浸漬、または溶液を塗布して硬膜剤（架橋剤）を含ませるのが好ましい。硬膜剤（架橋剤）を偏光膜用ポリマーフィルムに付与する手段は、特に限定されるものではなく、フィルムの液への浸漬、塗布、噴霧等任意の方法を用いることができるが、特に浸漬法、塗布法が好ましい。塗布手段としてはロールコータ、ダイコータ、バーコータ、スライドコータ、カーテンコータ等、通常知られている任意の手段をとることができる。また、溶液を含浸させた布、綿、多孔質素材等をフィルムに接触する方式も好ましい。硬膜剤（架橋剤）としては、米国再発行特許第２３２８９７号に記載のものが使用できるが、ホウ酸、ホウ砂が実用的に好ましく用いられる。また、亜鉛、コバルト、ジルコニウム、鉄、ニッケル、マンガン等の金属塩も併せて用いることができる。
【００５６】
硬膜剤（架橋剤）の付与は、延伸機に噛み込む前に行ってもよいし、噛み込んだ後に行っても良く、幅方向延伸が実質的に終了する図１、図２の例の（ｂ）工程の終端までのいずれかの工程で行えばよい。硬膜剤（架橋剤）を添加した後に洗浄・水洗工程を設けてもよい。
【００５７】
＜偏光子＞
ヨウ素の他に二色性色素で染色することも好ましい。二色性色素の具体例としては、例えばアゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素、アントラキノン系色素等の色素系化合物をあげることができる。水溶性のものが好ましいが、この限りではない。又、これらの二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置換基が導入されていることが好ましい。二色性分子の具体例としては、例えばシー．アイ．ダイレクト．イエロー１２、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ３９、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ７２、シー．アイ．ダイレクト．レッド３９、シー．アイ．ダイレクト．レッド７９、シー．アイ．ダイレクト．レッド８１、シー．アイ．ダイレクト．レッド８３、シー．アイ．ダイレクト．レッド８９、シー．アイ．ダイレクト．バイオレット４８、シー．アイ．ダイレクト．ブルー６７、シー．アイ．ダイレクト．ブルー９０、シー．アイ．ダイレクト．グリーン５９、シー．アイ．アシッド．レッド３７等が挙げられ、さらに特開昭６２−０７０８０２号、特開平１−１６１２０２号、特開平１−１７２９０６号、特開平１−１７２９０７号、特開平１−１８３６０２号、特開平１−２４８１０５号、特開平１−２６５２０５号、特開平７−２６１０２４号、の各公報記載の色素等が挙げられる。これらの二色性分子は遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として用いられる。これらの二色性分子は２種以上を配合することにより、各種の色相を有する偏光子を製造することができる。偏光素子または偏光板として偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物（色素）や黒色を呈するように各種の二色性分子を配合したものが単板透過率、偏光率とも優れており好ましい。
【００５８】
また、ＰＶＡを脱水あるいはポリ塩化ビニルを脱塩化水素することによりポリエン構造をつくり、共役二重結合により偏光を得るいわゆるポリビニレン系偏光膜の製造にも、本発明の延伸法は好ましく用いることができる。
【００５９】
＜保護膜＞
本発明の円偏光板は、偏光膜の片面に保護膜を貼り付けて用いられる。保護膜の種類は特に限定されず、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート等のセルロースエステル類、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル等を用いることができる。
【００６０】
保護膜は、通常、ロール形態で供給され、長尺の円偏光板に対して、長手方向が一致するようにして連続して貼り合わされることが好ましい。ここで、保護膜の配向軸（遅相軸）は何れの方向であってもよく、操作上の簡便性から、保護膜の配向軸は、長手方向に平行であることが好ましい。保護膜は貼合せ前に片面または両面にハードコート膜を設けてもよい。特に、最外層に用いる場合は鉛筆硬度３Ｈ以上のハードコート膜を設けることが好ましい。
【００６１】
本発明の長尺の偏光膜は、吸収軸が長手方向に平行でないため、配向軸が長手方向に平行である保護膜を本発明の長尺の偏光膜に連続して貼り合わせると、偏光膜の吸収軸と保護膜の配向軸とが平行でない偏光板が得られる。偏光膜の吸収軸と保護膜の配向軸が平行でない角度で貼り合わされている偏光板は、寸度安定性に優れるという効果がある。この性能は、特に液晶表示装置に用いたときに好ましく発揮される。特に、本発明では、保護膜の遅相軸と偏光膜の吸収軸との角度は２０°以上７０°未満であり、寸度安定効果の点から好ましくは４０°以上５０°未満である。
【００６２】
保護膜のレターデーションは一般に低いことが好ましいが、偏光膜の吸収軸と保護膜の配向軸が平行でない場合には、特に保護膜のレターデーション値が一定値以上であると、偏光軸と保護膜の配向軸（遅相軸）が斜めにずれているため、直線偏光が楕円偏光に変化し、好ましくないので、本発明ではレターデーション値は２０ｎｍ以下とする必要があり、好ましくは波長６３２．８ｎｍにおいて１０ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以下である。
このような低レターデーションの観点から、保護膜として使用するポリマーはセルローストリアセテートが特に好ましい。また、ゼオネックス、ゼオノア（共に日本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）のようなポリオレフィン類も好ましく用いられる。その他、例えば特開平８−１１０４０２号又は特開平１１−２９３１１６号に記載されているような非複屈折性光学樹脂材料が挙げられる。
【００６３】
本発明では、円偏光板の製造工程において、含水率の低い状態で保護膜と偏光膜を貼り合わせるため、位相差フイルム（λ／４板、λ／２板）等の透湿性の低いフイルムを保護膜として直接、偏光膜に接着することができる。これにより、従来法より保護膜の使用枚数が液晶表示素子当たり２枚少ない薄型・軽量化されたタッチパネルおよび該タッチパネルを搭載した表示装置の提供が可能になる。しかしながら、偏光膜の両側を保護膜で貼りあわせた後に、位相差フィルムを粘着剤などで貼り合わせることも当然可能である。
【００６４】
＜接着剤＞
偏光膜と保護層との接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層厚みは乾燥後に０．０１乃至１０μｍが好ましく、０．０５乃至５μｍが特に好ましい。
【００６５】
＜一貫工程＞
本発明において、フィルム（偏光膜）を延伸後、収縮させ揮発分率を低下させる乾燥工程を有し、乾燥後もしくは乾燥中に偏光膜の含水率を１０％以下（好ましくは５％以下）にした状態で保護膜とλ／４板とを偏光膜に貼り合わせた後、後加熱工程を有することが好ましい。具体的な貼り付け方法として、乾燥工程中、両端を保持した状態で接着剤を用いてフィルムに保護膜とλ／４板を貼り付け、その後両端を耳きりする、もしくは乾燥後、両端保持部からフィルムを解除し、フィルム両端を耳きりした後、保護膜とλ／４板を貼り付けるなどの方法がある。耳きりの方法としては、刃物などのカッターで切る方法、レーザーを用いる方法など、一般的な技術を用いることができる。貼り合わせた後に、接着剤を乾燥させるため、および偏光性能を良化させるために、加熱することが好ましい。加熱の条件としては、接着剤により異なるが，水系の場合は、３０℃以上が好ましく、さらに好ましくは４０℃以上１００℃以下、さらに好ましくは５０℃以上８０℃以下である。これらの工程は一貫した製造ラインで行われることが、性能上及び生産効率上更に好ましい。
【００６６】
＜打ち抜き＞
図７に従来の円偏光板打ち抜きの例を、図８に本発明の円偏光板打ち抜きする例を示す。従来の円偏光板は、図７に示されるように、偏光膜の吸収軸７１すなわち延伸軸が長手方向７２と一致しているのに対し、本発明の円偏光板は、図８に示されるように、偏光膜の吸収軸８１すなわち延伸軸が長手方向８２に対して４５゜傾斜しており、この角度がＬＣＤにおける液晶セルに貼り合わせる際の偏光膜の吸収軸と、液晶セル自身の縦または横方向とのなす角度に一致しているため、打ち抜き工程において斜めの打ち抜きは不要となる。しかも図８からわかるように、本発明の円偏光板は切断が長手方向に沿って一直線であるため、打ち抜かず長手方向に沿ってスリットすることによっても製造可能であるため、生産性も格段に優れている。
以上、本発明のタッチパネルに用いられる円偏光板について説明した。
【００６７】
（透光性基板）
透光性基板としては、例えば、ガラス、非晶性フィルム、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、セルロースエステルなどのポリマーフィルムなどが挙げられる。タッチパネルの上部基板に円偏光板を有する構成の場合にはタッチパネルの下部基板に用いる透光性基板はＲｅが２０ｎｍ以下であることが望ましい。
また、上部基板に用いる基板は良好な動作性を有するために適度な可撓性を有することが望ましい。
【００６８】
（透明導電膜）
本発明のタッチパネルに用いる透明導電膜としては、表面抵抗率は、２０００Ω／□以下であることが好ましく、１０００Ω／□以下であることがさらに好ましい。さらに好ましくは１００Ω／□以上９００Ω／□以下である。
本発明では、第一の基板、第二の基板のいずれとも少なくとも片方の表面に透明導電膜が形成されている。操作者側の透明基板には、片面に透明導電膜を設け、反対面にハードコート層および反射防止膜を設けてタッチパネルとして用いることが特に好ましい。
【００６９】
基板としてのフィルム上に透明導電膜を形成する場合は、ロール式の連続スパッタ装置を用いることが好ましい。インナータイプのタッチパネルで基板として円偏光板を用いる場合は、円偏光板作製において偏光膜とλ／４板との貼合せを行う前にλ／４板または他のフィルム上に透明導電膜を形成するのが、生産性上では好ましい。勿論、貼合せして円偏光板を作成した後に透明導電膜を形成してもよい。
【００７０】
透明導電膜の表面抵抗率を上記のような値にするためには、導電性微粒子分散物、金属アルコキシドなどの塗布によって設けても構わないし、スパッタリング、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法によっても、大気圧での気相成長法によって透明導電膜を形成しても構わないが、好ましくはスパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング、特に好ましくはスパッタリング法である。
【００７１】
真空成膜法にとしては「透明導電膜の新展開」シーエムシー、澤田　豊監修＝ｕ月刊ディスプレイ」１９９９年９月号に記載の方法を用いることができる。
成膜する金属酸化物としてはＩｎ_２Ｏ_３系（Ｓｎなどドープ品、ＩＴＯ含む）、ＳｎＯ_２系（Ｆ、Ｓｂなどドープ品含む）、ＺｎＯ系（Ａｌ、Ｇａなどのドープ品含む）またはこれらの複合品Ｉｎ_２Ｏ_３−ＺｎＯ系などが挙げられる。金属窒化物としてはＴｉＮなどが挙げられる。
また、銀などと共に成膜してもよい。
【００７２】
スパッタなどでポリマーフィルム上に成膜する際にはその表面をフッ素系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、プロピレン系樹脂、ビニル系樹脂などの高分子や、ＳｉＯ_２，ＴｉＯ_２，ＺｒＯ_２，ＳｎＯ_２などの無機物でコートすることが好ましい。また、高分子中に無機微粒子を分散してコートすることも好ましい。
コートする膜厚としては２ｎｍ以上１００μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは２ｎｍ以上５０μｍ以下であり、特に好ましくは２ｎｍ以上１０μｍ以下である。
スパッタ法により酸化インジウムを主として含む膜を成膜する方法としては、インジウムを主成分とする金属ターゲット、または酸化インジウムを主成分とする焼結体であるターゲットを用いた反応性スパッタリングを行うことができる。反応の制御上、後者が好ましい。特に好ましくは酸化スズを含有する酸化インジウムであり、酸化スズを１質量％から２０質量％含むのが望ましく、３質量％から１２質量％含むのが特に望ましい。反応性スパッタリング法においてはスパッタリングガスとしては、アルゴンなどの不活性ガスを用い、反応性ガスとしては酸素を用いる。また、酸素の流量を制御する方法としてはプラズマエミッションモニター法で行うことが好ましい。放電形式には特に規定しないが、ＤＣマグネトロンスパッタ、ＲＦマグネトロンスパッタ、１対のターゲット間にＡＣ電圧を印加する方法などが好ましい。成膜時の基板の温度は特に規定はないが、基板の硝子転移点以下で可能な範囲で加熱した方が膜強度は向上する傾向がある。
【００７３】
透明導電膜が形成された状態で、透明基板の光の透過率は、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがさらに好ましく、８５％以上であることが特に好ましい。
インナータイプのタッチパネルで円偏光板が基板を兼ねる場合には、円偏光板を作成する前にλ／４板または他の透明フィルムの上に透明導電膜を形成することが望ましく、上記透過率はこの状態での透過率を示す。
【００７４】
透明導電膜の厚みは、ＩＴＯを用いた場合を例にとると、５〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜１５０ｎｍ、更に好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍ、最も好ましくは７〜２０ｎｍである。
透明導電膜は、全面を電極として用いる場合と、全面電極形成後にレジスト形成およびエッチングを行なってパターン加工して用いる場合がある。
【００７５】
（タッチパネル、その製法、用途など）
本発明のタッチパネルを製造する際には、少なくとも片面に透明導電膜が形成された円偏光板または透光性基板を供給して、該透明導電膜上にタッチパネル用の電極および／または絶縁コートおよび／またはドットスペーサーを連続的に印刷するが、円偏光板または透光性基板を枚葉で供給してもよいが、より好ましくはをロール状態で供給し、該透明導電膜上にタッチパネル用の電極および／または絶縁コートおよび／またはドットスペーサーを連続的に印刷し、ロール状態で巻き取る印刷工程を用いることが好ましい。なお、上部基板に円偏光板を有する場合は、本発明の円偏光板を用いないと、円偏光板作製時の偏光板とλ／４板の貼合せ時に、軸合せのために、偏光板とλ／４板を枚葉に切り出してから貼りあわせる必要があり、ロール状態で印刷機に供給することができず、生産性およびコスト面で問題がある。
この印刷工程は、具体的には、スクリーン印刷を用いることが望ましいが、これに限るものではなく、印刷以外のパターン形成方法を使用しても構わない。
【００７６】
（ハードコート膜および反射防止膜）
円偏光板において、偏光膜のλ／４板とは反対側の透明保護膜の上には、耐傷性を向上させるためハードコート層を設けることが好ましい。ハードコート層付き保護膜の鉛筆硬度は２Ｈ以上が望ましく、３Ｈ以上が更に望ましく、最も望ましくは４Ｈ以上である。最外層には反射防止層を設けることが好ましい。
また、外光のうつり込みを低減させて視認性を向上させるための反射防止膜に関しては、屈折率の異なる２層以上の層から構成され、その反射率は２．５％以下が好ましく、更に好ましくは２％以下である。
【００７７】
本発明のタッチパネルは、様々な表示装置と組合せて用いることができる。例えば、カソードレイチューブ（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールド・エミッション・ディスプレイ（ＦＥＤ）、無機ＥＬデバイス、有機ＥＬデバイス、液晶表示装置などである。本発明の円偏光板を用いることで、これら表示装置の外光の反射を低減することができる。この表示装置の中では、液晶表示装置または有機ＥＬデバイス、無機ＥＬデバイスと組合せて用いるのが好ましい。
【００７８】
液晶表示装置と組み合わせて用いる場合は、用いられる液晶モードは特に限定されないが、ＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ　ｎｅｍａｔｉｃ　）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ　Ａｌｉｇｎｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ　ｂｅｎｄ）型、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ　ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ　ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ　Ａｌｉｇｎｅｄ）型または、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ　Ｈｏｓｔ）型であることが好ましい。また、反射型、半透過型、透過型いずれに対しても用いることができる。
【００７９】
【実施例】
以下、実施例に基づき、本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定して解釈されない。
【００８０】
実施例１
〔Ｉ〕λ／４板の作製
（１）λ／４板Ａの作製
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデカ−３−エン１００ｇ、１，２−ジメトキシエタン６０ｇ、シクロヘキサン２４０ｇ、１−ヘキセン２５ｇ、およびジエチルアルミニウムクロライド０．９６モル／リットルのトルエン溶液３．４ｍｌを、内容積１リットルのオートクレーブに加えた。一方、別のフラスコに、六塩化タングステンの０．０５モル／リットルの１，２−ジメトキシエタン溶液２０ｍｌとパラアルデヒドの０．１モル／リットルの１，２−ジメトキシエタン溶液１０ｍｌを混合した。この混合溶液４．９ｍｌを、上記オートクレーブ中の混合物に添加した。密栓後、混合物を８０℃に加熱して３時間攪拌を行った。得られた重合体溶液に、１，２−ジメトキシエタンとシクロヘキサンの２／８（質量比）の混合溶媒を加えて重合体／溶媒を１／１０（質量比）にした後、トリエタノールアミン２０ｇを加えて１０分間攪拌した。
【００８１】
この重合溶液に、メタノール５００ｇを加えて３０分間攪拌して静置した。２層に分離した上層を除き、再びメタノールを加えて攪拌、静置後、上層を除いた。同様の操作をさらに２回行い、得られた下層をシクロヘキサン、１，２−ジメトキシエタンで適宜希釈し、重合体濃度が１０質量％のシクロヘキサン−１，２−ジメトキシエタン溶液を得た。この溶液に２０ｇのパラジウム／シリカマグネシア〔日揮化学（株）製、パラジウム量＝５質量％〕を加えて、オートクレーブ中で水素圧４０ｋｇ／ｃｍ^２として１６５℃で４時間反応させたのち、水添触媒をろ過によって取り除き、水素添加（共）重合体溶液を得た。
また、この水素添加（共）重合体溶液に、酸化防止剤であるペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕を、水素添加（共）重合体に対して０．１質量％加えてから、３８０℃で減圧下に脱溶媒を行った。次いで、溶融した樹脂を、チッ素雰囲気下で押し出し機によりペレット化し、トリシクロデカンを基本骨格とする熱可塑性樹脂Ａを得た。
【００８２】
熱可塑性樹脂Ａのペレットを原料として、塩化メチレンを溶媒として用いた溶液キャスト法により、厚さ１００μｍ、レータデーション値１５ｎｍのベースフィルムを得た。得られたベースフィルムを延伸倍率１２５％で１軸延伸し、厚さ９０μｍ、レターデーション値１３５ｎｍのλ／４板Ａを得た。
（膜の厚み）
キーエンス（株）製レーザーフォーカス変位計ＬＴ−８０１０を用いて測定した。
なお、レターデーション値の測定は、王子計測機器（株）製ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用いて行った。以下同じである。
【００８３】
（２）λ／４板Ｂの作製
ＷＯ００／２６７０５号の実施例３に従って、ポリカーボネート共重合体延伸フイルム（λ／４板Ｂ）を作製した。
波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値は１４８．５ｎｍ、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値は１６１．１ｎｍ、波長６５０ｎｍにおけるレターデーション値は１６２．９ｎｍだった。また、次式で定義される波長４５０ｎｍにおけるＫ値は−７３．８、波長５５０ｎｍにおけるＫ値は−８０．５、波長６５０ｎｍにおけるＫ値は−８１．５だった。
Ｋ＝（ｎ_ｚ−（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２）×ｄ
式中、ｎ_ｘ，ｎ_ｙ，ｎ_ｚはフイルムの三次元屈折率でそれぞれｘ軸、ｙ軸、ｚ軸方向の屈折率であり、ｄはフイルムの厚さである。
【００８４】
（３）λ／４板Ｃの作製
室温において、平均酢化度５９．５％のセルロースアセテート１００質量部、トリフェニルホスフェート７．８質量部、ビフェニルジフェニルホスフェート３．９質量部、レターデーション制御剤（４，１−ｔｒａｎｓ）１．３２質量部、メチレンクロリド５８７．６９質量部、メタノール５０．８５質量部を混合して、溶液（ドープ）を調製した。
レターデーション制御剤（４，１−ｔｒａｎｓ）
【００８５】
【化１】

【００８６】
得られたドープを、製膜バンド上に流延し、室温で１分間乾燥後、４５℃で５分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は３０質量％であった。セルロースアセテートフイルムをバンドから剥離し、１２０℃で１０分間乾燥した後、１３０℃で流延方向とは平行な方向に実倍で１．３４倍に延伸した。延伸方向と垂直な方向は、自由に収縮できるようにした。延伸後、１２０℃で３０分間乾燥した後、得られたフイルムをλ／４板Ｃとして使用した。延伸後の溶剤残留量は０．１質量％であった。
【００８７】
得られたポリマーフイルムフイルムの厚さは、１１２．７μｍであり、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、それぞれ、１２５．２ｎｍ、１３７．８ｎｍおよび１４１．１ｎｍであった。さらに、アッベ屈折率計による屈折率測定と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長５５０ｎｍにおける面内の遅相軸方向の屈折率ｎｘ、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率ｎｙおよび厚み方向の屈折率ｎｚを求め、（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）の値を計算したところ、１．４８であった。
【００８８】
（４）λ／４板Ｄの作製
６−メチル−１，４，５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレンに、重合触媒としてトリエチルアルミニウムの１５質量％シクロヘキサン溶液１０質量部、トリエチルアミン５質量部、および四塩化チタンの２０質量％シクロヘキサン溶液１０質量部を添加して、シクロヘキサン中で開環重合し、得られた開環重合体をニッケル触媒で水素添加してポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をイソプロピルアルコール中で凝固させ、乾燥し、粉末状の樹脂を得た。この樹脂の数平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されたポリスチレン換算値）は、４０，０００、水素添加率は９９．８％以上、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１４２℃であった。
上述の粉末状樹脂を２５０℃で溶融し、ペレット化を行った。このペレットを４０ｍｍのフルフライト型スクリューを有する単軸押出機を用いて、幅３００ｍｍのＴダイから溶融押し出しし、直径３００ｍｍの３本構成の冷却ロールで巻き取ることにより、シートを作製した。この際のダイ部での樹脂温度は２７５℃、冷却ロールの温度は、第１、第２、第３ロールの順に１２０℃、１００℃、１００℃だった。
【００８９】
この延伸前シートの両端は厚さが不均一となるため、幅２０ｍｍの部分は切り落とし、表面を目視および光学顕微鏡で観察したが、発泡、スジ、キズなどは観察されなかった。Ｔｇは１３９℃、平均厚さは７５μｍで厚さムラは±２μｍ以下、光線透過率は９１．５％、レターデーション値は平均で１１ｎｍ、その面内でのバラツキは±５ｎｍであった。
【００９０】
この延伸前のシートを１４０±２℃に制御し、１．２５倍の延伸倍率で一軸方向に延伸し、λ／４板Ｄを得た。
【００９１】
λ／４板Ｄの平均厚さは５０μｍ、厚さムラは±１．２μｍ、レターデーションは平均で１４０ｎｍ、その面内でバラツキは±７ｎｍであった。
λ／４板Ｄを８０℃で２時間保持した後、室温まで降温し、レターデーション値を測定したところ、平均で１３６ｎｍだった。
【００９２】
〔ＩＩ〕透明導電膜付きλ／４板の形成
上記で作製したλ／４板の片面にＳｉＯ_２微粒子を３０質量％含有するアクリル系のハードコート膜を３μｍ設け、ロール式の連続スパッタリング装置にセットして、真空槽を１．２ｍＰａの圧力まで排気した後、Ａｒ＋Ｏ_２混合ガス（Ｏ_２＝１．５％）を導入し、圧力を０．３Ｐａに調整した後、基板温度を２５℃、投入電力密度１Ｗ／ｃｍ^２にて、ＤＣスパッタリングを行ない、厚み２０ｎｍの酸化スズを約１０質量％含有する酸化インジウム・酸化スズ膜をハードコート膜上に形成した。
このようにして得られた透明導電膜付きλ／４板の透明導電膜側の表面抵抗率を、４端子法にて測定した結果、４１５Ω／□であり、波長５５０ｎｍの光の透過率は酸化インジウム・酸化スズ膜のみで９６％であった。
【００９３】
〔ＩＩＩ〕円偏光板の作製
（１）円偏光板Ａの作製
平均重合度が１７００、膜厚７５μｍのＰＶＡフィルムの両面を水流２Ｌ／分で、イオン交換水にて洗浄し、エアーブローして表面水分を飛ばした後、該ＰＶＡフィルムをヨウ素１．０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム６０．０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて９０秒浸漬し、さらにホウ酸４０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム３０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて１２０秒浸漬後、フィルムの両面をエアーブローして、余剰水分を除去し、フィルム中の含有水分率の分布を２％以下にした状態で、図１の形態のテンター延伸機に導入した。搬送速度を５ｍ／分として、１００ｍ送出し、４０℃９５％雰囲気下で５．５倍に一旦延伸した後４．０倍まで収縮させ、以降幅を一定に保ち、６０℃で乾燥中に延伸膜の含水率が６％となった時点で、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として一方の面を上記で作製した透明導電膜付きλ／４板Ａと、もう一方の面をハードコート膜および反射防止膜付きセルロースエステルフィルムと貼り合わせ、さらに６０℃で３０分間加熱した。透明導電膜付きλ／４板Ａは透明導電膜と反対の面を貼合せ、反射防止膜付きセルロースエステルフィルムは反射防止膜の反対の面をケン化処理した後に貼りあわせた。この後、テンターより離脱し、幅方向から３ｃｍ、カッターにて耳きりをし、有効幅６５０ｍｍ、長さ１００ｍのロール形態の円偏光板Ａを作製した。
乾燥点は（ｃ）ゾーンの中間であり、延伸開始前のＰＶＡフィルムの含水率は３０％で、乾燥後の含水率は１．５％であった。
左右のテンタークリップの搬送速度差は、０．０５％未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの中心線のなす角は、０゜だった。ここで｜Ｌ１−Ｌ２｜は０．７ｍ、Ｗは０．７ｍであり、｜Ｌ１−Ｌ２｜＝Ｗの関係にあった。テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。
得られた円偏光板Ａの吸収軸方向は、保護膜（フジタック）およびλ／４板の遅相軸に対し４５゜傾斜していた。５５０ｎｍで測定された偏光度は９９．９７％、単板透過率は４２．９％であった。また、円偏光板Ａの厚みは１９２μｍであった。
【００９４】
（２）円偏光板Ｂ、Ｃ、Ｄおよび比較円偏光板Ｅの作製
λ／４板Ａの替わりに、各々λ／４板Ｂ、Ｃ、Ｄを上述の円偏光板製造プロセスにそれぞれ使用することで円偏光板Ｂ、Ｃ、Ｄをそれぞれ作製した。
また、λ／４板Ａの替わりに、富士写真フィルム（株）製フジタック（セルローストリアセテート、レターデーション値３．０ｎｍ、膜厚８０μｍ）を上述の円偏光板製造プロセスに使用することで偏光板を作製し、さらにアクリル系粘着剤（膜厚２０μｍ）を用いてλ／４板Ｂと貼り合わせて比較円偏光板Ｅを作製した。
各円偏光板の５５０ｎｍで測定された偏光度と単板透過率、および円偏光板の厚みは下記の通りである。
円偏光板Ｂ：偏光度９９．８％、単板透過率３９％、厚み１９５μｍ
円偏光板Ｃ：偏光度９９．９％、単板透過率３８％、厚み２２３μｍ
円偏光板Ｄ：偏光度９９．８％、単板透過率４０％、厚み１６０μｍ
円偏光板Ｅ：偏光度９９．５％、単板透過率３７％、厚み３１５μｍ
【００９５】
〔ＩＶ〕タッチパネルＡ〜Ｅの作製
片面の表面抵抗率が４１５Ω／□の透明導電膜（ＩＴＯ）が付いた０．７ｍｍ厚みのガラス板を用意し、表面に１ｍｍピッチのドットスペーサと両端部に銀電極を印刷した。また、得られた透明導電膜付き円偏光板（ロール状）の両端に銀電極を印刷した。それぞれの基板には銀電極印刷前に、透明導電性膜と銀電極が接触してはいけないところに絶縁コート膜を印刷した。銀電極および絶縁コートはアライメント機構付きロール式連続スクリーン印刷機にて印刷したのち、連続で硬化を行った。銀電極を形成した透明導電膜付き円偏光板（ロール状）は、タッチパネルのサイズに打ち抜かれ、上記透明導電ガラス板と、透明導電膜が対向するように接着し、同時にフレキシブル電極を取り付けた。この際、両基板の周囲に１００μｍ厚の絶縁性貼り合せ剤を挟んだ。このようにしてタッチパネルＡ〜Ｅを完成した。
【００９６】
〔Ｖ〕タッチパネル付き半透過型液晶表示装置Ａ〜Ｅの作製
半透過型液晶セルを用意し、背面面側にタッチパネル部に用いたものと同じ円偏光板を貼合せ、その後面にバックライトを配置し、前面側に上記で作製したタッチパネルＡ〜Ｅをガラス基板が液晶セル上にくるように取り付けた。なお、半透過型液晶表示装置Ｅは、比較用である。
【００９７】
実施例２
〔ＶＩ〕透明導電膜付きフィルムの作製
透明導電膜の成膜面側に３μｍ厚のアクリル系のハードコート膜を有する厚さ１８８μｍのＰＥＴをロール式連続スパッタリング装置にセットして、真空槽を１．２ｍＰａの圧力まで排気した後、Ａｒ＋Ｏ_２混合ガス（Ｏ_２＝１．５％）を導入し、圧力を０．３Ｐａに調整した後、基板温度を２５℃、投入電力密度１Ｗ／ｃｍ^２にて、ＤＣスパッタリングを行ない、厚み２０ｎｍの酸化スズを約１０質量％含有する酸化インジウム・酸化スズ膜を形成した。
このようにして得られたフィルムの透明導電膜側の表面抵抗率を、４端子法にて測定した結果、４５０Ω／□であり、波長５　５０ｎｍの光の透過率は酸化インジウム・酸化スズ膜のみで９６％であった。
【００９８】
〔ＶＩＩ〕タッチパネルＸの作製
片面の表面抵抗率が４３８Ω／□の透明導電膜（ＩＴＯ）が付いた０．７ｍｍ厚みのガラス板を用意し、表面に２ｍｍピッチのドットスペーサと両端部に銀電極を印刷した。また、得られた透明導電膜付きフィルムの両端に銀電極を印刷した。それぞれの基板には銀電極印刷前に、透明導電膜と銀電極が接触してはいけないところに絶縁コート膜を印刷した。銀電極および絶縁コートはアライメント機構付きロール式連続スクリーン印刷機にて印刷したのち、連続で硬化を行った。銀電極を形成した透明導電膜付きフィルムをタッチパネルのサイズに打ち抜き、上記透明導電膜付きガラス板と透明導電膜同士が対向するように接着し、同時にフレキシブル電極を取り付けた。この際、両基板の周囲に１００μｍ厚の絶縁性貼り合せ剤を挟んだ。このようにして作製したタッチパネルの最外層にはハードコート膜付き反射防止膜を貼り付け、タッチパネルＸを完成した。
【００９９】
〔ＶＩＩＩ〕タッチパネル付き半透過型液晶表示装置Ｆ〜Ｊの作製
半透過型液晶セルを用意し、前後面両方に実施例１で作製した円偏光板Ａ〜Ｅを貼合せ、後側にバックライトを配置し、前面側に上記で作製したタッチパネルＸを取り付け、タッチパネル付き半透過型液晶表示装置Ｆ〜Ｊを作製した。なお、半透過型液晶表示装置Ｊは、比較用である。
【０１００】
〔ＩＶ〕液晶表示装置の評価
作製したタッチパネル付き半透過型液晶表示装置Ａ〜Ｊにつき、下記の評価を行い、結果を表１及び２に示した。
（１）反射モード時の表示品位
ミノルタ（株）製の分光測色計ＣＭ−２００２を用いて液晶表示装置の白色表示の反射率と黒色表示の反射率とを測定し、コントラスト比を算出した。
（２）透過モード時の表示品位
ＴＯＰＣＯＭ（株）製の輝度計ＢＭ−５Ａを用いてバックライト点灯時の液晶表示装置の白色表示の輝度と黒色表示の輝度とを測定し、コントラスト比を算出した。
（３）ＯＮ荷重測定
タッチパネルの上から０．８Ｒのポリアセタールのペンで荷重を加え、上部基板と下部基板が電気的に接触する時の荷重量を測定した。
【０１０１】
【表１】

【０１０２】
【表２】

【０１０３】
表１に示される結果から、本発明に関わるタッチパネル付き半透過型液晶表示装置Ａ〜ＤおよびＦ〜Ｉは、それぞれ比較例Ｅおよび比較例Ｊと比べ、反射モード時および透過モード時のいずれにおいても、コントラスト比を低下することなく、円偏光板の厚みが１００μｍ前後薄くできていることが明らかである。
また、表１に示される結果から、本発明に係わるタッチパネル付き半透過型液晶表示装置Ａ〜Ｄは、比較例Ｊと比べ、反射モード時および透過モード時のいずれにおいても、円偏光板の厚みが１００μｍ前後薄くできていながら、ほぼ同レベルの高コントラスト比が達成されており、かつ、円偏光板が薄くできていることにより、ＯＮ荷重が効果的に低減されていることが明らかである。
また、タッチパネル付き半透過型液晶表示装置Ａ〜Ｅは、Ｆ〜Ｊと比較して、コントラストが改善しており、円偏光板をタッチパネルの上部基板側に持ってくることによるコントラストの向上が確認された。また、ロール処理工程が多く、生産性が著しく向上することが明確である。
【０１０４】
【発明の効果】
本発明のタッチパネルは、表示装置の高コントラスト化、薄型・軽量化に対応可能であって、かつ、書き心地が良好で、低コストである。
また、このタッチパネルを搭載した本発明の表示装置は、高コントラスト化、薄型・軽量化に対応可能であって、低コストである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わる、ポリマーフィルムを斜め延伸する方法の一例を示す概略平面図である。
【図２】本発明に係わる、ポリマーフィルムを斜め延伸する方法の一例を示す概略平面図である。
【図３】本発明に係わる、ポリマーフィルムを斜め延伸する方法の一例を示す概略平面図である。
【図４】本発明に係わる、ポリマーフィルムを斜め延伸する方法の一例を示す概略平面図である。
【図５】本発明に係わる、ポリマーフィルムを斜め延伸する方法の一例を示す概略平面図である。
【図６】本発明に係わる、ポリマーフィルムを斜め延伸する方法の一例を示す概略平面図である。
【図７】従来の円偏光板を打ち抜く様子を示す概略平面図である。
【図８】本発明において、円偏光板を打ち抜く様子を示す概略平面図である。
【図９】エアーブロー装置の概略概念図である。
【図１０】ニップ装置の概略概念図である。
【図１１】ブレード装置の概略概念図である。
【図１２】本発明のタッチパネル付き液晶表示装置を模式的に示す概略断面図である。
【図１３】通常ののタッチパネルを搭載した液晶表示装置を模式的に示す概略断面図である。
【符号の説明】
（イ）　フィルム導入方向
（ロ）　次工程へのフィルム搬送方向
（ａ）　フィルムを導入する工程
（ｂ）　フィルムを延伸する工程
（ｃ）　延伸フィルムを次工程へ送る工程
Ａ１　フィルムの保持手段への噛み込み位置とフィルム延伸の起点位置（実質保持開始点：右）
Ｂ１　フィルムの保持手段への噛み込み位置（左）
Ｃ１　フィルム延伸の起点位置（実質保持開始点：左）
Ｃｘ　フィルム離脱位置とフィルム延伸の終点基準位置（実質保持解除点：左）
Ａｙ　フィルム延伸の終点基準位置（実質保持解除点：右）
｜Ｌ１−Ｌ２｜　左右のフィルム保持手段の行程差
Ｗ　　フィルムの延伸工程終端における実質幅
θ　　延伸方向とフィルム進行方向のなす角
１１　導入側フィルムの中央線
１２　次工程に送られるフィルムの中央線
１３　フィルム保持手段の軌跡（左）
１４　フィルム保持手段の軌跡（右）
１５　導入側フィルム
１６　次工程に送られるフィルム
１７、１７’　左右のフィルム保持開始（噛み込み）点
１８、１８’　左右のフィルム保持手段からの離脱点
２１　導入側フィルムの中央線
２２　次工程に送られるフィルムの中央線
２３　フィルム保持手段の軌跡（左）
２４　フィルム保持手段の軌跡（右）
２５　導入側フィルム
２６　次工程に送られるフィルム
２７、２７’　左右のフィルム保持開始（噛み込み）点
２８、２８’　左右のフィルム保持手段からの離脱点
３３、４３、５３、６３　フィルム保持手段の軌跡（左）
３４、４４、５４、６４　フィルム保持手段の軌跡（右）
３５、４５、５５、６５　導入側フィルム
３６、４６、５６、６６　次工程に送られるフィルム
７１　吸収軸（延伸軸）
７２　長手方向
８１　吸収軸（延伸軸）
８２　長手方向
９１、９２　ヨウ素系偏光フィルム（偏光層）
９３　液晶セル
９４　バックライト
１０１　エアブロー
１１１　ニップ装置
１２１　ブレード装置
２０１　バックライト
２０２　円偏光板
２０３　液晶セル
２０４　透光性基板
２０５　透明導電膜
２０６　透明導電膜
２０７　円偏光板
２０８　ハードコート膜
２０９　反射防止膜
２５１　バックライト
２５２　円偏光板
２５３　液晶セル
２５４　円偏光板
２５５　透光性基板
２５６　透明導電膜
２５７　透明導電膜
２５８　透光性基板
２５９　ハードコート膜
２６０　反射防止膜

Claims

λ／４板とレターデーション値が２０ｎｍ以下である保護膜との間に、偏光膜の吸収軸が保護膜およびλ／４板の遅相軸と２０°以上７０°未満の角度をなすように配置された円偏光板を１枚以上有し、かつ、
少なくとも片面に透明導電膜を有する第一の透光性基板と、少なくとも片面に透明導電膜を有する第二の透光性基板とが、第一の透光性基板が視認側になるように透明導電膜同士を対向させて配置されたタッチパネルであって、
該円偏光板の厚みが、８０μｍ以上３００μｍ以下であることを特徴とするタッチパネル。
該円偏光板が、操作者面側の透光性基板であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
請求項１または２に記載のタッチパネルの製造方法であって、円偏光板の作製工程として、偏光膜と保護膜とλ／４板とを各々ロール状態で供給し、偏光膜の両側を保護膜とλ／４板で挟み込んで連続的に貼合し、ロール状態で巻き取る工程を有することを特徴とするタッチパネルの製造方法。
少なくとも片面に透明導電膜が形成された円偏光板をロール状態で供給し、該透明導電膜上にタッチパネル用の電極および／または絶縁コートおよび／またはドットスペーサーを連続的に印刷し、第１の透光性基板をロール状態で巻き取る工程を有することを特徴とする請求項３に記載のタッチパネルの製造方法。
請求項１または２に記載のタッチパネルを搭載した表示装置。