JP2004079720A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】小さな面積でウェルバイアス領域を確保できるようにしたウェルバイアス構造を持つ半導体装置を提供する。
【解決手段】シリコン基板10と、このシリコン基板10に形成されたn型ウェル11と、このn型ウェル11内に形成されてp+型ソース/ドレイン拡散層15の表面にシリサイド膜16が形成されたトランジスタQPと、トランジスタQPのソース/ドレイン拡散層15のうちVccが与えられるソース拡散層に隣接して形成された、ウェル11にVccを与えるためのウェルバイアス領域20とを有し、ウェルバイアス領域20は、Vccが与えられるソース拡散層15に隣接してウェル11の表面に形成されたn+型拡散層21と、ソース拡散層15の表面からn+型拡散層21の表面に連続するシリサイド膜により形成された、ウェル11にVccを与えるための電圧供給線22とを有する
【選択図】 図1
【解決手段】シリコン基板10と、このシリコン基板10に形成されたn型ウェル11と、このn型ウェル11内に形成されてp+型ソース/ドレイン拡散層15の表面にシリサイド膜16が形成されたトランジスタQPと、トランジスタQPのソース/ドレイン拡散層15のうちVccが与えられるソース拡散層に隣接して形成された、ウェル11にVccを与えるためのウェルバイアス領域20とを有し、ウェルバイアス領域20は、Vccが与えられるソース拡散層15に隣接してウェル11の表面に形成されたn+型拡散層21と、ソース拡散層15の表面からn+型拡散層21の表面に連続するシリサイド膜により形成された、ウェル11にVccを与えるための電圧供給線22とを有する
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体装置に係り、特にトランジスタが形成されるウェルのウェルバイアス領域の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
トランジスタを用いて構成される半導体メモリ等においては、通常半導体基板に形成された一つのウェル内に多数のトランジスタが形成される。トランジスタが形成されたウェルには、固定バイアスが与えられる。一般に、NMOSトランジスタが形成されるp型ウェルには、低レベル電源電圧であるVssが与えられ、PMOSトランジスタが形成されるn型ウェルには、高レベル電源電圧であるVccが与えられる。
【0003】
図6は、p型シリコン基板10に形成されたn型ウェル11内の二つのPMOSトランジスタQPの間に設けられたウェルバイアス領域の構造を示している。図示の二つのPMOSトランジスタQPのソース/ドレイン拡散層15の一方は、電源Vccに接続される端子層であり、原理的には一つの拡散層で共有できるものであるが、ここでは互いに独立した拡散層として形成されて、それらの間をウェルバイアス領域としている。
【0004】
具体的には、ウェルバイアス領域は素子分離絶縁膜12により区画された素子形成領域となっており、ここにはn型ウェル11にコンタクトをとるためにn+型層20が形成されている。トランジスタQPが形成された基板は、層間絶縁膜17で覆われ、この上にメタル配線であるドレイン配線18やソース配線(例えばVcc配線)19が形成される。Vcc配線19は、ソース/ドレイン拡散層15の一方(ソース)にコンタクト接続されると共に、n+型層20にもコンタクト接続される。
【0005】
ウェルバイアス領域の幅L1は、例えば素子分離領域の幅を0.3μm、n+型拡散層20を形成するに必要な素子形成領域の幅をこのn+型層20に対するコンタクトの幅0.2とし、コンタクトの素子分離領域に対する合わせ余裕を0,1μmとすると、L1=0.3×2+0.2+0.1×2=0.7μmとなる。
【0006】
SRAMセルアレイのように、細長いパターンのウェル内に多数のトランジスタを配列形成する場合には、ラッチアップやソフトエラー対策ために、そのウェルの複数箇所にウェルバイアス領域を設けることが必要になる。しかし、上述のような幅のウェルバイアス領域を所定間隔で多数設けなければならないとすると、セルアレイのシュリンクの効果が期待できなくなる。
【0007】
具体的に、SRAMセルアレイでその事情を説明する。図7は、SRAMセルMCの等価回路を示している。フルCMOS構成のSRAMセルMCは、二つのドライバNMOSトランジスタQN1,QN2と、二つの負荷PMOSトランジスタQP1,QP2からなる双安定回路を基本とし、これにトランスファゲートNMOSトランジスタQN3,QN4を組み合わせて、1セルが構成される。
【0008】
図8は、この様なセル構成を用いた場合のSRAMセルアレイについて、一対のビット線BL,BBLに沿ったセルレイアウトを示している。図9及び図10はそれぞれ、図8のI−I’及びII−II’断面図である。シリコン基板100には、それぞれNMOSトランジスタが配列形成される、ビット線BL,BBLに沿って細長い2列のp型ウェル101a,101bと、これらに挟まれてPMOSトランジスタが配列形成されるn型ウェル102とが形成されている。
【0009】
p型ウェル101a,101bには、それぞれp型ウェル101a,101bに沿って連続する素子形成領域103a,103bが素子分離絶縁膜105によって区画される。n型ウェル102内には、飛び飛びの、且つ位相がずれた状態の2列の素子形成領域104a,104bが区画される。
【0010】
図8において、一点鎖線で囲んだ領域が、4つのNMOSトランジスタQN1−QN4と二つのPMOSトランジスタQP1,QP2からなる単位セルMCの範囲である。図8では、ビット線方向のセルアレイ配列中に所定間隔で形成されるウェルバイアス領域310の一つを示している。ウェルバイアス領域310は、p型ウェル101a,101b及びn型ウェル102のそれぞれに、素子分離絶縁膜105で囲まれた素子形成領域が形成されている。ウェルバイアス領域310におけるp型ウェル101a,101b内の素子形成領域には配線コンタクト用のp+型層107a,107bが、n型ウェル102の素子形成領域には配線コンタクト用のn+型層106がそれぞれ形成されている。
【0011】
そして、p+型層107a,107bにはそれぞれ、第2層メタル配線であるVss配線304a,304bを、n+型層106には同じく第2層メタル配線であるVcc配線305をそれぞれコンタクトさせている。
細長いパターンで形成される各ウェルのバイアス安定化のためには、この様なウェルバイアス領域310をなるべく多く配置することが好ましい。しかし図6で説明したように、ウェルバイアス領域310の幅が例えば、L1=0.7μm必要であるとすると、これをビット線方向に複数箇所に配置した場合には、セルアレイのシュリンク効果が大きく減殺される。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように、ウェルバイアス領域は、特にウェルが細長く且つ、そのウェル内に複数箇所形成しなければならないとすると、ウェル内のトランジスタ配列の一層の縮小化を妨げる大きな原因となる。
この発明は、小さな面積でウェルバイアス領域を確保できるようにしたウェルバイアス構造を持つ半導体装置を提供することを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る半導体装置は、半導体基板と、前記半導体基板に形成された第1導電型のウェルと、前記ウェル内に形成されて第2導電型のソース/ドレイン拡散層の表面にシリサイド膜が形成されたトランジスタと、前記トランジスタのソース/ドレイン拡散層のうち固定電圧が与えられる第2導電型拡散層に隣接して形成された、前記ウェルに固定電圧を与えるためのウェルバイアス領域とを有し、前記ウェルバイアス領域は、前記固定電圧が与えられる第2導電型拡散層に隣接して前記ウェルの表面に形成された第1導電型拡散層と、前記第2導電型拡散層の表面から前記第1導電型拡散層の表面に連続するシリサイド膜により形成された、前記ウェルに前記固定電圧を与えるための電圧供給線とを有することを特徴とする。
【0014】
この発明によると、ウェルバイアス領域は、素子分離絶縁膜を介在させることなく、トランジスタの拡散層に形成されるシリサイド膜の延長であるシリサイド膜を電圧供給線として構成される。従ってウェルバイアス領域の幅が小さいものとなる。
【0015】
この発明において具体的に、トランジスタは層間絶縁膜により覆われ、この層間絶縁膜上には、コンタクトを介してトランジスタのソース/ドレイン拡散層の一方に接続される配線が形成される。
またこの発明は、特にウェルが一方向に連続する細長いパターンで形成されて、そのなかに複数のトランジスタが配列される場合に有効である。この場合、ウェルバイアス領域を、ウェルのトランジスタ配列の複数箇所に形成しても、トランジスタ配列の縮小化を大きく妨げることはない。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態を説明する。
図1は、一実施の形態による半導体装置のウェルバイアス領域の構造を、図6に対応させて示している。ここでは、図6の従来例と同様に、シリコン基板10に形成されたn型ウェル11内の二つのPMOSトランジスタQPの間に設けられたウェルバイアス領域20を示している。
【0017】
二つのトランジスタQPのp+型ソース/ドレイン拡散層15のうち、本来であれば共有できるVcc側のソース拡散層15を二つに分離して、その間をウェルバイアス領域20としている。ウェルバイアス領域20は、ソース拡散層15に隣接して形成されたウェルバイアス用拡散層であるn+型層21を有する。このn+型層21とソース拡散層15の間には、従来のような素子分離絶縁膜は設けられていない。また、層間絶縁膜17上に形成されたVcc配線19は、ソース拡散層15にそれぞれコンタクト孔21を介してコンタクトさせているが、n+型層21上には配線コンタクトを形成していない。
【0018】
トランジスタのソース/ドレイン拡散層15及びゲート電極14上には、金属シリサイド膜16が形成されている。これらの金属シリサイド膜16は、ソース/ドレイン拡散層15及びゲート電極14の表面にTi,Co等の高融点金属膜を形成して熱処理を行い、シリコンと反応させるサリサイド工程により形成されるものである。二つのp+型ソース拡散層15とこれに挟まれたn+型拡散層21aとの間は、層間絶縁膜がなく連続している。従ってサリサイド工程では、シリサイド膜16は、ソース拡散層15からウェルバイアス領域のn+型層21上にまで連続的に形成される。このn+型層21に接するシリサイド膜部分がウェルに対するVcc供給線22として機能することになる。
【0019】
この実施の形態の場合、ウェルバイアス領域20は、従来と異なって素子分離絶縁膜がなく、n+型層21をイオン注入により形成できる幅があればよい。従ってその幅L2は、図6で説明した従来のウェルバイアス領域の幅L1に比べて十分に小さいものとすることができる。
【0020】
上述のようなウェルバイアス領域の構造を具体的にSRAMセルアレイに適用した実施の形態を、図8〜図10に対応させて、図2〜図4に示す。図2は、一対のビット線BL,BBLに沿ったセルレイアウトを示し、図3及び図4はそれぞれ、図2のI−I’及びII−II’断面を示している。図3は、一方のp型ウェル101aに沿った断面であるのに対し、更に図6として、他方のp型ウェル101bに沿ったIII−III’断面を示している。シリコン基板100には、図2に破線で示したように、それぞれNMOSトランジスタが配列形成される、ビット線BL,BBLに沿って細長いパターンの2列のp型ウェル101a,101bと、これらに挟まれてPMOSトランジスタが配列形成される細長いn型ウェル102とが形成されている。
【0021】
p型ウェル101a,101bには、それぞれp型ウェル101a,101bに沿って連続する素子形成領域103a,103bが素子分離絶縁膜105によって区画される。n型ウェル102内には、2列の素子形成領域104a,104bが、互いに位相がずれた状態で飛び飛びに区画される。そして、p型の素子形成領域103a,103bにNMOSトランジスタが、n型の素子形成領域104a,104bにPMOSトランジスタがそれぞれ形成される。
【0022】
図2において、一点鎖線で囲んだ領域が、図7に示す単位セルMCの4つのNMOSトランジスタQN1〜QN4と二つのPMOSトランジスタQP1,QP2の範囲である。この単位セルMCの領域に着目してセル構成を具体的に説明すれば、PMOSトランジスタQP1とNMOSトランジスタQN1についてゲート電極201が共通に、同様にPMOSトランジスタQP2とNMOSトランジスタQN2についてゲート電極201が共通にパターン形成される。
【0023】
PMOSトランジスタQP1とNMOSトランジスタQN1のゲート電極201は、PMOSトランジスタQP2のドレイン拡散層202にダイレクトコンタクトさせ、同様にPMOSトランジスタQP2とNMOSトランジスタQN2のゲート電極201は、PMOSトランジスタQP1のドレイン拡散層202にダイレクトコンタクトさせている。各トランジスタのソース/ドレイン拡散層202,203及びゲート電極201には、サリサイド工程により金属シリサイド膜204が形成されている。
【0024】
PMOSトランジスタQP1,QP2のドレイン拡散層202と、NMOSトランジスタQN1,QN4のドレイン拡散層203の間はそれぞれ、層間絶縁膜301上に形成された第1層メタル配線302により相互接続されている。NMOSトランジスタQN1,QN2のソース拡散層203には、層間絶縁膜303上に形成された第2層メタル配線であるVss配線304a,304bをそれそれコンタクトさせている。また、NMOSトランジスタQN3,QN4のソース拡散層203には、層間絶縁膜303上に形成された第2層メタル配線であるビット線304a,304bをそれそれコンタクトさせている。
【0025】
この実施の形態でのウェルバイアス領域310は、ビット線方向の複数箇所に設けられるが、図ではその一つを示している。そのウェルバイアス領域310は、n型ウェル102については、図4に示すように、隣接する二つのPMOSトランジスタのVcc配線305に接続されるp+型ソース拡散層202の間に設けられた、ウェルバイアス用のn+型拡散層層106を有する。ソース拡散層202とn+型拡散層106は、素子分離絶縁膜を介在させることなく連続するから、ソース拡散層202の表面に形成されるシリサイド膜204は、n+型拡散層層106表面にまで連続的に形成されて、この部分がn型ウェルに対するVcc供給線204aとなる。
【0026】
2つのp型ウェル101a,101bについては、ウェルバイアス領域310の事情が異なる。図2のウェルバイアス領域310は、一方のp型ウェル101aについては、Vss配線304aをコンタクトさせる拡散層領域であるのに対し、他方のp型ウェル101bでは、ビット線306bをコンタクトさせる拡散層領域であるからである。即ち、前者のp型ウェル101aでは、ソースに与えられる低レベル電源Vssをそのままウェルバイアスとして与えることができるが、後者のp型ウェル101bでは、ビット線が接続される拡散層は電位固定ではないから、この拡散層電位をそのままウェルバイアスとするわけにはいかない。
【0027】
以上の事情を考慮して、p型ウェル101aについては、図3に示すように、隣接する二つのPMOSトランジスタのVss配線304aに接続されるn+型ソース拡散層203の間に、ウェルバイアス用のp+型拡散層107が形成されている。そして、ソース拡散層203上に形成されるシリサイド膜204は、p+型拡散層107上まで連続的に形成されて、この部分がウェルに対するVss供給線204bとなる。
【0028】
もう一方のp型ウェル101bについては、図6に示すように、ウェルバイアス用のp+型拡散層を形成せず、この例では二つのNMOSトランジスタのソース拡散層203を連続的に形成している。このp型ウェル101bに対するウェルバイアス構造としては、ビット線方向の他の位置、即ちp型ウェル101bでVss配線304bに接続されるべきソース拡散層の位置で、図3に示したp型ウェル101aに対すると同様のウェルバイアス構造を設ければよい。
【0029】
ウェルバイアス用拡散層であるn+型拡散層106やp+型拡散層107は、ソース/ドレイン拡散層のイオン注入工程で同時に形成することができる。即ち、p型ウェル101a,101b内にn+型ソース/ドレイン拡散層203を形成する際のイオン注入マスクに、n+型拡散層106を形成するための開口を形成すればよい。同様に、n型ウェル102内にp+型ソース/ドレイン拡散層202を形成する際のイオン注入マスクに、p+型拡散層107を形成するための開口を形成すればよい。
【0030】
以上のようにこの実施の形態によれば、従来のようにウェルバイアス領域に素子分離領域を設けることなく、また配線のコンタクトを形成することなく、ソース拡散層から連続するシリサイド膜を電位供給線としてウェルバイアスを与えるようにしている。従って、ウェルバイアス領域の幅を小さくすることができ、セルアレイの縮小効果をそれほど減殺することはなく、細長いウェルに対して複数箇所にウェルバイアス領域を設けることが可能になる。
【0031】
上記実施の形態では、SRAMセルアレイを説明したが、この発明はこれに限られる訳ではなく、トランジスタを配列形成する各種半導体集積回路に同様に適用することが可能である。
【0032】
【発明の効果】
以上述べたようにこの発明によれば、小さな面積でウェルバイアス領域を確保できるようにしたウェルバイアス構造を持つ半導体装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態によるウェルバイアス領域の構造を示す図である。
【図2】この発明をSRAMに適用した実施の形態のセルレイアウトを示す図である。
【図3】図2のI−I’断面図である。
【図4】図2のII−II’断面図である。
【図5】図2のIII−III’断面図である。
【図6】従来のウェルバイアス領域の構造を示す図である。
【図7】SRAMセルの等価回路である。
【図8】従来のSRAMセルアレイのレイアウトである。
【図9】図8のI−I’断面図である。
【図10】図8のII−II’断面図である。
【符号の説明】
10…シリコン基板、11…n型ウェル、14…ゲート電極、15…ソース/ドレイン拡散層、16…シリサイド膜、17…層間絶縁膜、18…ドレイン配線、19…Vcc配線、20…ウェルバイアス領域、21…n+型拡散層、22…Vcc供給線(シリサイド膜)、100…シリコン基板、101a,101b…p型ウェル、102…n型ウェル、103a,103b…p型素子形成領域、104a,104b…n型素子形成領域、105…素子分離絶縁膜、106…n+型拡散層、107…p+型拡散層、201…ゲート電極、202…p+型ソース/ドレイン拡散層、203…n+型ソース/ドレイン拡散層、204…金属シリサイド膜、204a…Vcc供給線(シリサイド膜)、204b…Vss供給線(シリサイド膜)、301,303…層間絶縁膜、302…第1層メタル配線、304a,304b…Vss配線、305…Vcc配線、306a,306b…ビット線、310…ウェルバイアス領域。
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体装置に係り、特にトランジスタが形成されるウェルのウェルバイアス領域の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
トランジスタを用いて構成される半導体メモリ等においては、通常半導体基板に形成された一つのウェル内に多数のトランジスタが形成される。トランジスタが形成されたウェルには、固定バイアスが与えられる。一般に、NMOSトランジスタが形成されるp型ウェルには、低レベル電源電圧であるVssが与えられ、PMOSトランジスタが形成されるn型ウェルには、高レベル電源電圧であるVccが与えられる。
【0003】
図6は、p型シリコン基板10に形成されたn型ウェル11内の二つのPMOSトランジスタQPの間に設けられたウェルバイアス領域の構造を示している。図示の二つのPMOSトランジスタQPのソース/ドレイン拡散層15の一方は、電源Vccに接続される端子層であり、原理的には一つの拡散層で共有できるものであるが、ここでは互いに独立した拡散層として形成されて、それらの間をウェルバイアス領域としている。
【0004】
具体的には、ウェルバイアス領域は素子分離絶縁膜12により区画された素子形成領域となっており、ここにはn型ウェル11にコンタクトをとるためにn+型層20が形成されている。トランジスタQPが形成された基板は、層間絶縁膜17で覆われ、この上にメタル配線であるドレイン配線18やソース配線(例えばVcc配線)19が形成される。Vcc配線19は、ソース/ドレイン拡散層15の一方(ソース)にコンタクト接続されると共に、n+型層20にもコンタクト接続される。
【0005】
ウェルバイアス領域の幅L1は、例えば素子分離領域の幅を0.3μm、n+型拡散層20を形成するに必要な素子形成領域の幅をこのn+型層20に対するコンタクトの幅0.2とし、コンタクトの素子分離領域に対する合わせ余裕を0,1μmとすると、L1=0.3×2+0.2+0.1×2=0.7μmとなる。
【0006】
SRAMセルアレイのように、細長いパターンのウェル内に多数のトランジスタを配列形成する場合には、ラッチアップやソフトエラー対策ために、そのウェルの複数箇所にウェルバイアス領域を設けることが必要になる。しかし、上述のような幅のウェルバイアス領域を所定間隔で多数設けなければならないとすると、セルアレイのシュリンクの効果が期待できなくなる。
【0007】
具体的に、SRAMセルアレイでその事情を説明する。図7は、SRAMセルMCの等価回路を示している。フルCMOS構成のSRAMセルMCは、二つのドライバNMOSトランジスタQN1,QN2と、二つの負荷PMOSトランジスタQP1,QP2からなる双安定回路を基本とし、これにトランスファゲートNMOSトランジスタQN3,QN4を組み合わせて、1セルが構成される。
【0008】
図8は、この様なセル構成を用いた場合のSRAMセルアレイについて、一対のビット線BL,BBLに沿ったセルレイアウトを示している。図9及び図10はそれぞれ、図8のI−I’及びII−II’断面図である。シリコン基板100には、それぞれNMOSトランジスタが配列形成される、ビット線BL,BBLに沿って細長い2列のp型ウェル101a,101bと、これらに挟まれてPMOSトランジスタが配列形成されるn型ウェル102とが形成されている。
【0009】
p型ウェル101a,101bには、それぞれp型ウェル101a,101bに沿って連続する素子形成領域103a,103bが素子分離絶縁膜105によって区画される。n型ウェル102内には、飛び飛びの、且つ位相がずれた状態の2列の素子形成領域104a,104bが区画される。
【0010】
図8において、一点鎖線で囲んだ領域が、4つのNMOSトランジスタQN1−QN4と二つのPMOSトランジスタQP1,QP2からなる単位セルMCの範囲である。図8では、ビット線方向のセルアレイ配列中に所定間隔で形成されるウェルバイアス領域310の一つを示している。ウェルバイアス領域310は、p型ウェル101a,101b及びn型ウェル102のそれぞれに、素子分離絶縁膜105で囲まれた素子形成領域が形成されている。ウェルバイアス領域310におけるp型ウェル101a,101b内の素子形成領域には配線コンタクト用のp+型層107a,107bが、n型ウェル102の素子形成領域には配線コンタクト用のn+型層106がそれぞれ形成されている。
【0011】
そして、p+型層107a,107bにはそれぞれ、第2層メタル配線であるVss配線304a,304bを、n+型層106には同じく第2層メタル配線であるVcc配線305をそれぞれコンタクトさせている。
細長いパターンで形成される各ウェルのバイアス安定化のためには、この様なウェルバイアス領域310をなるべく多く配置することが好ましい。しかし図6で説明したように、ウェルバイアス領域310の幅が例えば、L1=0.7μm必要であるとすると、これをビット線方向に複数箇所に配置した場合には、セルアレイのシュリンク効果が大きく減殺される。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように、ウェルバイアス領域は、特にウェルが細長く且つ、そのウェル内に複数箇所形成しなければならないとすると、ウェル内のトランジスタ配列の一層の縮小化を妨げる大きな原因となる。
この発明は、小さな面積でウェルバイアス領域を確保できるようにしたウェルバイアス構造を持つ半導体装置を提供することを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る半導体装置は、半導体基板と、前記半導体基板に形成された第1導電型のウェルと、前記ウェル内に形成されて第2導電型のソース/ドレイン拡散層の表面にシリサイド膜が形成されたトランジスタと、前記トランジスタのソース/ドレイン拡散層のうち固定電圧が与えられる第2導電型拡散層に隣接して形成された、前記ウェルに固定電圧を与えるためのウェルバイアス領域とを有し、前記ウェルバイアス領域は、前記固定電圧が与えられる第2導電型拡散層に隣接して前記ウェルの表面に形成された第1導電型拡散層と、前記第2導電型拡散層の表面から前記第1導電型拡散層の表面に連続するシリサイド膜により形成された、前記ウェルに前記固定電圧を与えるための電圧供給線とを有することを特徴とする。
【0014】
この発明によると、ウェルバイアス領域は、素子分離絶縁膜を介在させることなく、トランジスタの拡散層に形成されるシリサイド膜の延長であるシリサイド膜を電圧供給線として構成される。従ってウェルバイアス領域の幅が小さいものとなる。
【0015】
この発明において具体的に、トランジスタは層間絶縁膜により覆われ、この層間絶縁膜上には、コンタクトを介してトランジスタのソース/ドレイン拡散層の一方に接続される配線が形成される。
またこの発明は、特にウェルが一方向に連続する細長いパターンで形成されて、そのなかに複数のトランジスタが配列される場合に有効である。この場合、ウェルバイアス領域を、ウェルのトランジスタ配列の複数箇所に形成しても、トランジスタ配列の縮小化を大きく妨げることはない。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態を説明する。
図1は、一実施の形態による半導体装置のウェルバイアス領域の構造を、図6に対応させて示している。ここでは、図6の従来例と同様に、シリコン基板10に形成されたn型ウェル11内の二つのPMOSトランジスタQPの間に設けられたウェルバイアス領域20を示している。
【0017】
二つのトランジスタQPのp+型ソース/ドレイン拡散層15のうち、本来であれば共有できるVcc側のソース拡散層15を二つに分離して、その間をウェルバイアス領域20としている。ウェルバイアス領域20は、ソース拡散層15に隣接して形成されたウェルバイアス用拡散層であるn+型層21を有する。このn+型層21とソース拡散層15の間には、従来のような素子分離絶縁膜は設けられていない。また、層間絶縁膜17上に形成されたVcc配線19は、ソース拡散層15にそれぞれコンタクト孔21を介してコンタクトさせているが、n+型層21上には配線コンタクトを形成していない。
【0018】
トランジスタのソース/ドレイン拡散層15及びゲート電極14上には、金属シリサイド膜16が形成されている。これらの金属シリサイド膜16は、ソース/ドレイン拡散層15及びゲート電極14の表面にTi,Co等の高融点金属膜を形成して熱処理を行い、シリコンと反応させるサリサイド工程により形成されるものである。二つのp+型ソース拡散層15とこれに挟まれたn+型拡散層21aとの間は、層間絶縁膜がなく連続している。従ってサリサイド工程では、シリサイド膜16は、ソース拡散層15からウェルバイアス領域のn+型層21上にまで連続的に形成される。このn+型層21に接するシリサイド膜部分がウェルに対するVcc供給線22として機能することになる。
【0019】
この実施の形態の場合、ウェルバイアス領域20は、従来と異なって素子分離絶縁膜がなく、n+型層21をイオン注入により形成できる幅があればよい。従ってその幅L2は、図6で説明した従来のウェルバイアス領域の幅L1に比べて十分に小さいものとすることができる。
【0020】
上述のようなウェルバイアス領域の構造を具体的にSRAMセルアレイに適用した実施の形態を、図8〜図10に対応させて、図2〜図4に示す。図2は、一対のビット線BL,BBLに沿ったセルレイアウトを示し、図3及び図4はそれぞれ、図2のI−I’及びII−II’断面を示している。図3は、一方のp型ウェル101aに沿った断面であるのに対し、更に図6として、他方のp型ウェル101bに沿ったIII−III’断面を示している。シリコン基板100には、図2に破線で示したように、それぞれNMOSトランジスタが配列形成される、ビット線BL,BBLに沿って細長いパターンの2列のp型ウェル101a,101bと、これらに挟まれてPMOSトランジスタが配列形成される細長いn型ウェル102とが形成されている。
【0021】
p型ウェル101a,101bには、それぞれp型ウェル101a,101bに沿って連続する素子形成領域103a,103bが素子分離絶縁膜105によって区画される。n型ウェル102内には、2列の素子形成領域104a,104bが、互いに位相がずれた状態で飛び飛びに区画される。そして、p型の素子形成領域103a,103bにNMOSトランジスタが、n型の素子形成領域104a,104bにPMOSトランジスタがそれぞれ形成される。
【0022】
図2において、一点鎖線で囲んだ領域が、図7に示す単位セルMCの4つのNMOSトランジスタQN1〜QN4と二つのPMOSトランジスタQP1,QP2の範囲である。この単位セルMCの領域に着目してセル構成を具体的に説明すれば、PMOSトランジスタQP1とNMOSトランジスタQN1についてゲート電極201が共通に、同様にPMOSトランジスタQP2とNMOSトランジスタQN2についてゲート電極201が共通にパターン形成される。
【0023】
PMOSトランジスタQP1とNMOSトランジスタQN1のゲート電極201は、PMOSトランジスタQP2のドレイン拡散層202にダイレクトコンタクトさせ、同様にPMOSトランジスタQP2とNMOSトランジスタQN2のゲート電極201は、PMOSトランジスタQP1のドレイン拡散層202にダイレクトコンタクトさせている。各トランジスタのソース/ドレイン拡散層202,203及びゲート電極201には、サリサイド工程により金属シリサイド膜204が形成されている。
【0024】
PMOSトランジスタQP1,QP2のドレイン拡散層202と、NMOSトランジスタQN1,QN4のドレイン拡散層203の間はそれぞれ、層間絶縁膜301上に形成された第1層メタル配線302により相互接続されている。NMOSトランジスタQN1,QN2のソース拡散層203には、層間絶縁膜303上に形成された第2層メタル配線であるVss配線304a,304bをそれそれコンタクトさせている。また、NMOSトランジスタQN3,QN4のソース拡散層203には、層間絶縁膜303上に形成された第2層メタル配線であるビット線304a,304bをそれそれコンタクトさせている。
【0025】
この実施の形態でのウェルバイアス領域310は、ビット線方向の複数箇所に設けられるが、図ではその一つを示している。そのウェルバイアス領域310は、n型ウェル102については、図4に示すように、隣接する二つのPMOSトランジスタのVcc配線305に接続されるp+型ソース拡散層202の間に設けられた、ウェルバイアス用のn+型拡散層層106を有する。ソース拡散層202とn+型拡散層106は、素子分離絶縁膜を介在させることなく連続するから、ソース拡散層202の表面に形成されるシリサイド膜204は、n+型拡散層層106表面にまで連続的に形成されて、この部分がn型ウェルに対するVcc供給線204aとなる。
【0026】
2つのp型ウェル101a,101bについては、ウェルバイアス領域310の事情が異なる。図2のウェルバイアス領域310は、一方のp型ウェル101aについては、Vss配線304aをコンタクトさせる拡散層領域であるのに対し、他方のp型ウェル101bでは、ビット線306bをコンタクトさせる拡散層領域であるからである。即ち、前者のp型ウェル101aでは、ソースに与えられる低レベル電源Vssをそのままウェルバイアスとして与えることができるが、後者のp型ウェル101bでは、ビット線が接続される拡散層は電位固定ではないから、この拡散層電位をそのままウェルバイアスとするわけにはいかない。
【0027】
以上の事情を考慮して、p型ウェル101aについては、図3に示すように、隣接する二つのPMOSトランジスタのVss配線304aに接続されるn+型ソース拡散層203の間に、ウェルバイアス用のp+型拡散層107が形成されている。そして、ソース拡散層203上に形成されるシリサイド膜204は、p+型拡散層107上まで連続的に形成されて、この部分がウェルに対するVss供給線204bとなる。
【0028】
もう一方のp型ウェル101bについては、図6に示すように、ウェルバイアス用のp+型拡散層を形成せず、この例では二つのNMOSトランジスタのソース拡散層203を連続的に形成している。このp型ウェル101bに対するウェルバイアス構造としては、ビット線方向の他の位置、即ちp型ウェル101bでVss配線304bに接続されるべきソース拡散層の位置で、図3に示したp型ウェル101aに対すると同様のウェルバイアス構造を設ければよい。
【0029】
ウェルバイアス用拡散層であるn+型拡散層106やp+型拡散層107は、ソース/ドレイン拡散層のイオン注入工程で同時に形成することができる。即ち、p型ウェル101a,101b内にn+型ソース/ドレイン拡散層203を形成する際のイオン注入マスクに、n+型拡散層106を形成するための開口を形成すればよい。同様に、n型ウェル102内にp+型ソース/ドレイン拡散層202を形成する際のイオン注入マスクに、p+型拡散層107を形成するための開口を形成すればよい。
【0030】
以上のようにこの実施の形態によれば、従来のようにウェルバイアス領域に素子分離領域を設けることなく、また配線のコンタクトを形成することなく、ソース拡散層から連続するシリサイド膜を電位供給線としてウェルバイアスを与えるようにしている。従って、ウェルバイアス領域の幅を小さくすることができ、セルアレイの縮小効果をそれほど減殺することはなく、細長いウェルに対して複数箇所にウェルバイアス領域を設けることが可能になる。
【0031】
上記実施の形態では、SRAMセルアレイを説明したが、この発明はこれに限られる訳ではなく、トランジスタを配列形成する各種半導体集積回路に同様に適用することが可能である。
【0032】
【発明の効果】
以上述べたようにこの発明によれば、小さな面積でウェルバイアス領域を確保できるようにしたウェルバイアス構造を持つ半導体装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態によるウェルバイアス領域の構造を示す図である。
【図2】この発明をSRAMに適用した実施の形態のセルレイアウトを示す図である。
【図3】図2のI−I’断面図である。
【図4】図2のII−II’断面図である。
【図5】図2のIII−III’断面図である。
【図6】従来のウェルバイアス領域の構造を示す図である。
【図7】SRAMセルの等価回路である。
【図8】従来のSRAMセルアレイのレイアウトである。
【図9】図8のI−I’断面図である。
【図10】図8のII−II’断面図である。
【符号の説明】
10…シリコン基板、11…n型ウェル、14…ゲート電極、15…ソース/ドレイン拡散層、16…シリサイド膜、17…層間絶縁膜、18…ドレイン配線、19…Vcc配線、20…ウェルバイアス領域、21…n+型拡散層、22…Vcc供給線(シリサイド膜)、100…シリコン基板、101a,101b…p型ウェル、102…n型ウェル、103a,103b…p型素子形成領域、104a,104b…n型素子形成領域、105…素子分離絶縁膜、106…n+型拡散層、107…p+型拡散層、201…ゲート電極、202…p+型ソース/ドレイン拡散層、203…n+型ソース/ドレイン拡散層、204…金属シリサイド膜、204a…Vcc供給線(シリサイド膜)、204b…Vss供給線(シリサイド膜)、301,303…層間絶縁膜、302…第1層メタル配線、304a,304b…Vss配線、305…Vcc配線、306a,306b…ビット線、310…ウェルバイアス領域。
Claims (3)
- 半導体基板と、
前記半導体基板に形成された第1導電型のウェルと、
前記ウェル内に形成されて第2導電型のソース/ドレイン拡散層の表面にシリサイド膜が形成されたトランジスタと、
前記トランジスタのソース/ドレイン拡散層のうち固定電圧が与えられる第2導電型拡散層に隣接して形成された、前記ウェルに固定電圧を与えるためのウェルバイアス領域とを有し、
前記ウェルバイアス領域は、
前記固定電圧が与えられる第2導電型拡散層に隣接して前記ウェルの表面に形成された第1導電型拡散層と、
前記第2導電型拡散層の表面から前記第1導電型拡散層の表面に連続するシリサイド膜により形成された、前記ウェルに前記固定電圧を与えるための電圧供給線とを有する
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記トランジスタを覆う層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上に形成されコンタクトを介して前記トランジスタのソース/ドレイン拡散層の一方に接続される、前記固定電圧が与えられる配線とを有することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 - 前記ウェルは、一方向に連続する細長いパターンで形成されて、そのなかに複数のトランジスタが配列され、
前記ウェルバイアス領域は、前記ウェルのトランジスタ配列の複数箇所に形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
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