JP2004077267A - 位置検出装置 - Google Patents

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清水 徹
Katsushi Goto
後藤 克志
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Abstract

【課題】非接触測定の手段として光ビームが用いられる場合に生じる、空気の揺らぎや擾乱による測定誤差を低減し、2点間の位置ズレを高精度で検出することのできる位置検出手段を提供すること。
【解決手段】位置検出手段10を、光源12から照射された光をコーナーキューブ22に向けて円形に走査し、コーナーキューブ22の稜線部22Aにおける反射光量の低下ポイントを受光手段28で検出し、データー処理手段32によって走査円の中心Оとコーナーキューブの中心22Cとのズレ量を算出して、対象物の位置ズレを求めるように構成した。
【選択図】     図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は測定対象物の位置の検出装置に関するものであり、特に工作機械や半導体製造装置等の精密な位置決めを要するテーブル等の位置ズレを非接触で検出する位置検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、工作機械や半導体製造装置等の精密位置決めがなされる装置において、例えば工作機械では、刃物台とワーク台との相対位置は常に所定の値に精密に位置決めされる。ところがこの刃物台やワーク台は、内部に組込まれたモータ等の自己発熱により部材が熱膨張し、長時間の運転の間に位置ズレが生じて、目標とする精度で加工することができないといった問題があった。
【0003】
このため、例えば、特開平9−108992号公報に記載された、刃物台やワーク台の温度を温度センサを用いて測定し、刃物台やワーク台の素材の線膨張係数から熱膨張量を計算することで位置ズレの量を推定して、そのズレ量を補正する方法や、特開平1−057110号公報及び特開平1−057111号公報に記載された、レーザー光等の光を移動体に設けた反射手段に投射し、反射光を2次元位置検出素子等で受光して位置ズレを検出する方法等が試みられてきた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、この特開平9−108992号公報に記載された方法では実際の位置ズレを直接測定していないため、誤差が大きい。また、特開平1−057110号公報及び特開平1−057111号公報に記載された方法では、レーザー光の通過する空間の空気の揺らぎや擾乱により測定値に誤差が生じる、といった問題があった。
【0005】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、非接触測定の手段として光ビームが用いられる場合に生じる、空気の揺らぎや擾乱による測定誤差を低減し、2点間の位置ズレを高精度で検出することのできる位置検出手段を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、対象物の基準位置からのズレ量を検出する位置検出装置において、光源と、前記基準位置側又は対象物側に設けられ、前記光源から発光された光を円形に走査する走査手段と、前記対象物側又は基準位置側に設けられ、前記走査手段によって円形に走査された光を反射するコーナーキューブと、該コーナーキューブで反射された光を受光する受光手段と、該受光手段で受光された受光データを解析するデーター処理手段と、を有し、前記データー処理手段では、円形に走査された光が前記コーナーキューブの稜線部又はコーナーキューブ前面に形成された遮光線において反射光量が低下することを利用して、前記走査される円の中心と前記コーナーキューブの中心とのズレ量を求めることによって、対象物の位置のズレ量を検出することを特徴としている。
【0007】
請求項1の発明によれば、光源から照射された光はコーナーキューブに向けて円形に走査され、コーナーキューブからの反射光が受光手段で受光される。この円形走査中のコーナーキューブの稜線部又はコーナーキューブ前面に形成された遮光線における反射光量の低下ポイントが検出され、データー処理手段によって走査円の中心とコーナーキューブの中心とのズレ量が算出されて対象物の位置ズレが求められるので、空気の揺らぎや擾乱による測定誤差が低減され、対象物の位置ズレを高精度で検出することができる。
【0008】
また、請求項2に記載の発明は、請求項1の位置検出装置において、前記データー処理手段では、前記コーナーキューブの稜線部又はコーナーキューブ前面に形成された遮光線において反射光量が低下する複数のポイント間の走査1周期内の時間比率を求め、この時間比率を基に前記走査される円の中心と前記コーナーキューブの中心とのズレ量を求めることを特徴としている。
【0009】
請求項2の発明によれば、コーナーキューブの稜線部又はコーナーキューブ前面に形成された遮光線における複数の反射光量低下ポイント間の走査1周期内の時間比率を求め、これを解析して走査される円の中心とコーナーキューブの中心とのズレ量を算出しているので、対象物の位置ズレを高精度で検出することができる。
【0010】
更に、請求項3に記載の発明は、請求項1又は請求項2の位置検出装置において、前記コーナーキューブの1つの反射面には、前記円形に走査された光の反射を遮る目印が形成されていることを特徴としている。
【0011】
請求項3の発明によれば、コーナーキューブの1つの反射面に形成された目印によって、その位置において光が遮られるので、走査1周期の開始ポイントが判別でき、求めるズレの方向を検出することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下添付図面に従って、本発明に係る位置検出装置の好ましい実施の形態について詳説する。尚各図において、同一の部材については同一の番号又は符号を付している。本実施の形態では、位置検出装置によって工作機械の刃物台のワーク台に対する位置ズレを検出する。
【0013】
図1は、本発明に係る位置検出装置の概念を示す構成図である。位置検出装置10は、図1に示すように、位置ズレ検出の対象物である工作機械の刃物台のツールスピンドル1にツールホルダ2が取付けられ、ツールホルダ2にはコーナーキューブ22が固定されている。
【0014】
コーナーキューブ22は、入射する光束を入射光と平行に、且つ入射方向と逆方向に反射するもので、コーナーキューブプリズムやコーナーキューブミラーに代表されるコーナーキューブリトロリフレクタである。
【0015】
工作機械の刃物台側には検出ヘッド11が取付けられている。検出ヘッド11は、光源であるレーザーダイオード12、コリメートレンズ14、及び16、傾斜ミラー18、傾斜ミラー18を回転する回転駆動手段20、ビームスプリッタ24、集光レンズ26、受光手段であるフォトダイオード28等から構成されている。フォトダイオード28の受光出力信号は、増幅回路30で増幅されてデーター処理手段32に送られる。
【0016】
レーザーダイオード12から出射されたレーザービームは、コリメートレンズ14によって平行にされ、コリメートレンズ16の中心を通過し傾斜ミラー18に照射される。傾斜ミラー18の中心がコリメートレンズ16の焦点に配置されているので、傾斜ミラー18で反射されコリメートレンズ16に戻ったレーザービームは、コリメートレンズ16の光軸と平行に出射されてビームスプリッタ24を通りコーナーキューブ22に照射される。
【0017】
傾斜ミラー18と傾斜ミラー18を回転する回転駆動手段20とで、コーナーキューブ22に照射されるレーザービームを円形に走査する走査手段を構成しており、照射ビームは円形に回転される。この回転駆動手段20にはステッピングモータ等、回転ムラの少ない高精度モータが使用されている。
【0018】
コーナーキューブ22から反射されたレーザービームは、再びビームスプリッタ24に入り、直角の反射成分が集光レンズ26からフォトダイオード28に入射される。フォトダイオード28での受光出力は、増幅回路30で増幅されてデーター処理手段32に送られ、データが解析されて走査円の中心とコーナーキューブ22の中心とのズレ量が算出される。
【0019】
検出ヘッド11は工作機械の刃物台側に取付けられ、コーナーキューブ22は刃物台側に取付けられているので、検出ヘッド11の走査手段により走査される円の中心とコーナーキューブ22の中心とのズレが、求めるワーク台に対する刃物台のズレに相当する。
【0020】
次に、レーザービームで走査される円の中心とコーナーキューブ22の中心とのズレを求める方法について説明する。コーナーキューブ22は、図2に示すように互いに直角に交わる3つの反射面22B、22B、22Bを有しており、各反射面22Bの接続部は3本の稜線部22A、22A、22Aになっている。尚、説明の都合上、コーナーキューブ22がコーナーキューブプリズムでなくコーナーキューブミラーの場合も、各反射面22Bの接続部を稜線部22A、22A、22Aと称することにする。
【0021】
コーナーキューブ22上で円形に走査されたレーザービームは、コーナーキューブ22の中心に対し入射した位置と点対称の位置から入射角度と平行に反射される。その際、コーナーキューブ22の稜線の影響で円形走査60°毎にビームに筋状の影が入り、反射光量が低下する。即ち、稜線部22Aに直接入射した時、及び反射面22Bから稜線部22Aに反射した時の合計6個のポイントで反射光量低下がみられる。
【0022】
図2、及び図3はこの状態を表わしている。図2において、外側の円はコーナーキューブ22の外形を表わし、内側の円は走査される円19を表わしている。走査される円19上で反射光量低下ポイントは夫々S1、S2、…、S6で表わされている。また、反射面22Bの内の1つに光の反射を遮る目印22Dが形成されている。ここでは反射光量出力は零となる。
【0023】
図3に示すように、この目印信号から走査出力信号の反射光量低下ポイントS1が判断される。また、各反射光量低下ポイントS1、S2、…、S6のタイミングは微分回路等で決定される。更に、極短パルス信号により各反射光量低下ポイント間の時間t1、t2、…、t6、及び周期Tが算出される。
【0024】
コーナーキューブ22が微小距離移動すると、コーナーキューブ22に入射する円形走査ビームの位置がずれ、稜線を通過するタイミングがずれるため、周期Tは変化しないが、各反射光量低下ポイント間の時間t1、t2、…、t6は移動方向と移動量に応じて変化する。これをデーター処理手段32で解析することにより、移動量を2次元的に求めることができる。
【0025】
図2はこの状態を表わしており、図2の左上部の図は走査される円19の中心とコーナーキューブの中心22Cとが一致している状態を示し、右上の図は、左右方向にずれた場合を表わし、右下の図は上下方向にずれた場合を表わしている。
【0026】
図4は、前述の解析の手法を説明するためのものである。先ず最初に図4(a)に示すように、周期Tのサークルを想定し、そのサークルを走査される円19とみなす。次にサークル上のスタート点を反射光量低下ポイントS1に振り当て、各反射光量低下ポイント間の時間t1、t2、…、t6により反射光量低下ポイントS2、…、S6をサークル上に割り振る。
【0027】
次に図4(b)に示すように、反射光量低下ポイントS1とS4を結ぶ直線を引き、これをY軸方向とする。尚この直線を以下直線S1−S4と称する。同じく反射光量低下ポイントS2とS5を結ぶ直線(直線S2−S5)及び反射光量低下ポイントS3とS6を結ぶ直線(直線S3−S6)を引く。
【0028】
直線S1−S4、直線S2−S5、及び直線S3−S6の3本の直線の交点がコーナーキューブの中心22Cであるが、実際は測定誤差があるため、3本の直線の交点は1点に収束しない。図4(C)はこの様子を表わしている。即ち走査される円19の中心Оを原点とするXY座標上にサークルが描かれ、サークル上に反射光量低下ポイントS1、S2、…、S6が配置されており、直線S1−S4、直線S2−S5、及び直線S3−S6が描かれている。
【0029】
3本の直線は夫々他の2本の直線と交わり、交点CP1、CP2、及びCP3を有している。交点CP1の座標は、走査される円19の中心Оを原点とするXY座標上の直線S1−S4を表わす方程式と、直線S3−S6を表わす方程式との連立方程式を解くことによって求められる。また、交点CP2の座標は、直線S2−S5を表わす方程式と、直線S3−S6を表わす方程式との連立方程式を解くことによって求められ、交点CP3の座標は、直線S1−S4を表わす方程式と、直線S2−S5を表わす方程式との連立方程式を解くことによって求められる。
【0030】
この交点CP1、CP2、及びCP3の3点の平均位置Pの座標(a、b)を算出し、この3点の平均位置Pをコーナーキューブの中心22Cとする。これにより、走査される円19の中心Оに対するコーナーキューブの中心22Cの位置が求められる。このようにして、走査される円19の中心Оに対するコーナーキューブの中心22Cの位置の時間的変化を求めることによって、対象物である工作機械の刃物台の熱変形等に起因するズレ量を求めることができる。
【0031】
また、交点CP1、CP2、及びCP3の3点で形成される三角形の大きさが測定誤差を表わしているので、この三角形の面積を算出し、この面積が予め設定された閾値を超える場合には再度データを取り直すようにすることによって、コーナーキューブの中心22Cの位置を正確に求めることができる。
【0032】
更に、フォトダイオード28で受光するレーザービームの強度に閾値を設けておき、レーザービームの強度が閾値以下の場合には再度データを取り直すようにすることによって、レーザービームの通過する空気の揺らぎや擾乱による測定誤差を低減することができる。
【0033】
図5は、本発明に係る位置検出装置10の実施形態の変形例を表わす概念構成図である。この変形例では検出ヘッド11がツールホルダ2内に組込まれ、ツールスピンドルによって回転される。また、ワーク台側にはコーナーキューブ22が取付けられている。
【0034】
検出ヘッド11は、光源としてのレーザーダイオード12、ビームスプリッタ24、ウエッジプリズム17、コリメートレンズ16、集光レンズ26、増幅回路30、及びトランスミッタ40等から構成されている。
【0035】
レーザーダイオード12から出射されたレーザービームは、ビームスプリッタ24に入り、直角の反射成分がウエッジプリズム17によって曲げられてコリメートレンズ16に入る。ウエッジプリズム17の出射面の中心がコリメートレンズ16の焦点位置になるように配置されているので、コリメートレンズ16に入ったレーザービームは光軸と平行に進み、ツールホルダ2の回転によりワーク台側に取付けられているコーナーキューブ22に入射し円形に走査される。
【0036】
コーナーキューブ22に入射したレーザービームは、入射角と平行に反射されて、コリメートレンズ16、ウエッジプリズム17、ビームスプリッタ24を通り、集光レンズ26で集光されて受光手段であるフォトダイオード28に入射する。フォトダイオード28で受光した光量データは増幅回路30で増幅され、この信号がトランスミッタ40から外部に設けられたデーター処理手段32へ無線電送される。データー処理手段32で行われる走査される円の中心Оとコーナーキューブ22の中心とのズレ量の算出方法は、前述と同じであるのでここでは説明を省略する。
【0037】
以上説明した実施の形態では、工作機械のワーク台に対する刃物台の位置ズレを求める例で説明したが、本発明はこれに限るものではなく、半導体製造装置等精密位置決めがなされる装置における2点間の位置ズレ検出に広く適用することができる。
【0038】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の位置検出装置によれば、光源から照射された光がコーナーキューブに向けて円形に走査され、コーナーキューブの稜線部における反射光量の低下ポイントが受光手段で検出され、データー処理手段によって走査円の中心とコーナーキューブの中心とのズレ量が算出されて対象物の位置ズレが求められるので、空気の揺らぎや擾乱による測定誤差が低減され、対象物の位置ズレを高精度で検出することができる。
【0039】
また、コーナーキューブの稜線部における複数の反射光量低下ポイント間の走査1周期内の時間比率を求め、これを解析して走査される円の中心とコーナーキューブの中心とのズレ量を算出しているので、対象物の位置ズレを高精度で検出することができる。
【0040】
更に、コーナーキューブの1つの反射面に形成された目印によって、その位置において光が遮られるので、走査1周期の開始ポイントが判別でき、求めるズレの方向を検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る位置検出装置を表わす構成図
【図2】コーナーキューブの位置ズレ状態を示す概念図
【図3】コーナーキューブの稜線部における反射光量低下を示すグラフ
【図4】データ解析方法を説明する概念図
【図5】本発明の実施形態の変形例を表わす構成図
【符号の説明】
10…位置検出装置、11…検出ヘッド、12…レーザーダイオード(光源)、14、16…コリメートレンズ、18…傾斜ミラー、20…回転駆動手段、22…コーナーキューブ、22A…稜線部、22B…反射面、22C…コーナーキューブの中心、22D…目印、24…ビームスプリッタ、26…集光レンズ、28…フォトダイオード(受光手段)、30…増幅回路、32…データー処理手段

Claims (3)

  1. 対象物の基準位置からのズレ量を検出する位置検出装置において、
    光源と、
    前記基準位置側又は対象物側に設けられ、前記光源から発光された光を円形に走査する走査手段と、
    前記対象物側又は基準位置側に設けられ、前記走査手段によって円形に走査された光を反射するコーナーキューブと、
    該コーナーキューブで反射された光を受光する受光手段と、
    該受光手段で受光された受光データを解析するデーター処理手段と、
    を有し、
    前記データー処理手段では、円形に走査された光が前記コーナーキューブの稜線部又はコーナーキューブ前面に形成された遮光線において反射光量が低下することを利用して、前記走査される円の中心と前記コーナーキューブの中心とのズレ量を求めることによって、対象物の位置のズレ量を検出することを特徴とする位置検出装置。
  2. 前記データー処理手段では、前記コーナーキューブの稜線部又はコーナーキューブ前面に形成された遮光線において反射光量が低下する複数のポイント間の走査1周期内の時間比率を求め、この時間比率を基に前記走査される円の中心と前記コーナーキューブの中心とのズレ量を求めることを特徴とする、請求項1に記載の位置検出装置。
  3. 前記コーナーキューブの1つの反射面には、前記円形に走査された光の反射を遮る目印が形成されていることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の位置検出装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010190633A (ja) * 2009-02-17 2010-09-02 Mitsutoyo Corp 測定システムおよび干渉計
JP2017129767A (ja) * 2016-01-21 2017-07-27 セイコーエプソン株式会社 反射体、光出射装置の調整方法、及び検出システム

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