JP2004066071A - 水素還元水処理装置 - Google Patents

水素還元水処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2004066071A
JP2004066071A JP2002227095A JP2002227095A JP2004066071A JP 2004066071 A JP2004066071 A JP 2004066071A JP 2002227095 A JP2002227095 A JP 2002227095A JP 2002227095 A JP2002227095 A JP 2002227095A JP 2004066071 A JP2004066071 A JP 2004066071A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydrogen
water
gas
bathtub
water treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002227095A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Nakatsuka
中塚 祐次
Hidehiro Takano
高野 秀弘
Shinji Hiramoto
平本 紳二
Tomohiko Shirotani
城谷 友彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Noritz Corp
Original Assignee
Noritz Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Noritz Corp filed Critical Noritz Corp
Priority to JP2002227095A priority Critical patent/JP2004066071A/ja
Publication of JP2004066071A publication Critical patent/JP2004066071A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】還元性を有し雑菌繁殖防止効果があり、浴槽等のぬめり防止に効果的である水素還元水、及びSOD様活性を付与するために有効な活性水素を含む水を、家庭用向けに、簡単な構造で、短時間に大量に得ることを可能とする。
【解決手段】浴槽1から取り出して、ポンプ3で循環させる水に、気液混合タンク4内で水素を溶解させて溶解水素とし、これに紫外線照射筒18で紫外線を照射して活性水素を含む水とし、圧力開放部5から活性水素の微細な気泡24を含む活性水素水を浴槽1に戻す。
【選択図】   図2

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、浴槽等の水槽の水を循環させて水素ガスを溶解させて水素還元水に処理を行い、又活性水素水に処理し、SOD(活性酸素除去酵素)活性を高めるための水素還元水処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、浴槽等の水中に、空気の微細気泡を効果的に発生させるための気液混合装置は知られている(特開2001−170618号公報参照)。又、水槽の水を処理する手段として、水槽から導入された被処理水を電気化学反応によって滅菌処理する電解槽を備え、この電解槽で滅菌処理後に水槽に還流させる水処理経路を備えた水処理装置は知られている(特開2001−170640号公報参照。)。さらに、水の電気分解によって、原子状の水素(活性水素)得る技術は知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
従来の空気の微細気泡を発生させるための気液混合装置は、水中の浮遊物を微細気泡により浮上させる作用を行ったり、入浴者に入浴感及びリラクゼーション作用を高めるためには効果的であるが、あくまでも空気の微細気泡を浴槽内に混入させることによる効果にとどまる。
【0004】
ところで、発明者らは、水素還元水は雑菌繁殖防止効果があり、浴槽等のぬめり防止に効果的であり、又、SOD(活性酸素除去酵素)活性は、人の健康増進に寄与すると言う点に着目した。特に、活性水素を含む水は、還元性を示すとともに、SOD様活性を有するものであり、過酸化脂質等(人が紫外線を浴びることで生成される。)の皮膚の老化促進物質を無害化するものであり、又飲用しても万病に効く、という点に着目した。
【0005】
そして、本発明者らは、上記従来例のように、単に水に空気の微細気泡を混入する水処理、或いは単に水の電気分解で滅菌する水処理ではなく、水素還元水や活性水素を含む水の処理及びその利用について鋭意研究した。
【0006】
具体的には、還元性を示す水素還元処理水や、さらにSOD様活性を付与するために有効な、活性水素を含む水を、家庭用向けに、簡単な構造の装置で、短時間に大量に得ることのできる水素還元水処理装置を実現することを、課題として鋭意研究開発を進めて本発明を想到するに至ったものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために、水槽の水を循環させて水素還元水に処理する水素還元水処理装置であって、水槽から取り出した水に、気液混合タンクにより水素を溶解させて溶解水素とし、これを微細な気泡状水素にして水槽に戻すことで水素還元水に処理することを特徴とする水素還元水処理装置を提供する。
【0008】
上記水素還元水処理装置では、循環させる水に紫外線を照射する構成としてもよい。また、水に溶解させる前の水素に紫外線を照射する構成としてもよい。
【0009】
上記水素還元水処理装置では、水素還元水処理装置であって、pHコントロール機能を備えた構成としてもよい。
【0010】
また、紫外線の波長が260nm以下である構成としてもよい。
【0011】
【発明の実施の形態】
本発明に係る水素還元水処理装置の実施の形態を実施例に基づいて図面を参照して、以下に説明する。この発明は、水槽の水を循環させて水素還元水、又は活性水素水に処理する水素還元水処理装置であるが、以下、水槽の水として浴槽の水を処理する実施例を説明する。
【0012】
(実施例1)
図1は、本発明に係る水素還元水処理装置の実施例1を示す図である。この実施例1は、浴槽1の水が循環されて水素還元水処理装置2により水素還元水に処理されるものである。図1(a)は、実施例1の全体構成を示す図であり、この水素還元水処理装置2は、処理する水を循環させるポンプ3、気液混合タンク4及び浴槽1に取り付けられた圧力開放部5とを備えている。
【0013】
ポンプ3は、浴槽1の水を水素還元水処理装置2に吸い込み、この水素還元水処理装置2で水素ガスを溶解した水を浴槽1内に戻すように、水を循環させる働きをするものである。具体的には、ポンプ3は、水素還元水に処理すべき浴槽1内の水を、浴槽1の取出栓6から吸込管7を通してこの水素還元水処理装置2内に吸い込み、さらに供給管8から気液混合タンク4内に送り、さらに排出管9及び圧力開放部5を通して浴槽1内に戻すように、循環して送流させるものである。
【0014】
気液混合タンク4は、浴槽1から取り出した水に水素ガスを溶解するためのタンクであり、高圧水素ボンベ10にガス管11及び開閉弁12を介して接続されている。この気液混合タンク4内で、浴槽1から取り出した水に、高圧水素ボンベ10から導入される水素ガスが溶解される(実際は微細な水素ガスの気泡が混入される)。気液混合タンク4内で水素ガスが溶解された水は排出管9で浴槽1に取り付けられた圧力開放部5に送られる。
【0015】
圧力開放部5は、図1(b)に示すように、筒体13を有し、この筒体13内にその基端側からノズル14(細管又はオリフィス等)が突出するように設けられている。このノズル14に、気液混合タンク4からの排出管9が管継手14’で接続される。そして、筒体13内においてノズル14の先端に対向するようにセラミック等の材料で形成された多孔体15が装入されている。
【0016】
以上の構成から成る実施例1の作用について説明する。浴槽1の水は、取出栓6から吸込管7を通り、ポンプ3により気液混合タンク4に送られる。気液混合タンク4において、浴槽1から取り出した水に、高圧水素ガスボンベ10から供給される高圧の水素ガスが溶解されて溶解水素を含む水に処理される。
【0017】
このように浴槽1から取り出した水に水素ガスが溶解された水は、気液混合タンク4から、排出管9を通して圧力開放部5のノズル14から筒体13内に噴出し、さらに多孔体15を通して水素ガスの微細な気泡16(気泡状水素)が形成され、この水素ガスの微細な気泡16を伴いながら浴槽1内に噴出され、水素還元水に処理される。即ち、気液混合タンク4において溶解水素を含む水は高圧状態であるが、この圧力開放部5で開放され、多孔体15から水素ガスの微細な気泡16を伴って浴槽1内に噴出して戻すことで水素還元水に処理される。
【0018】
このようにして得られた微細な水素の気泡を含む水素還元水は、水と水素ガスの接触面積が大きくなっているので、浴槽1内の雑菌の繁殖を防止し、しかも浴槽1内のぬめりの発生を防止する。なお、本実施例1では、高圧水素を気液混合タンク4内に供給する手段として、高圧水素ガスボンベ10を設けたが、後述する実施例3で詳細に説明するが、図3(a)、(b)に示すような専用の水素発生電解槽と高圧水素貯留タンクを設けた構成としてもよい。
【0019】
次の表1は、実施例1に示す水素還元水処理装置2の実験例を示すものである。この実験例では、同じ水道水について酸化還元電位を3回測定するとともに、同じ水道水について、20リットル/分に、水素ガス0.2リットル/分を、気液混合タンクで溶解し、この溶解水素を含む水道水についても酸化還元電位を3回測定した。この測定結果を表1に示す。
【0020】
【表1】
Figure 2004066071
【0021】
そして、夫々3回の測定について酸化還元電位の平均を得た。この実験の結果、単なる水道水より、水素溶解水の方が酸化還元電位が下がるという結果を得た。要するに、この実験例で、水に水素を溶解させると、水素還元水が生成されるということが実証された。
【0022】
(実施例2)
図2は、本発明に係る水素還元水処理装置の実施例2を示す図である。この実施例2は、浴槽1の水が循環されて水素還元水処理装置17により活性水素水に処理されるものである。この水素還元水処理装置17は、処理する水を循環させるポンプ3、気液混合タンク4、紫外線照射処理筒18及び浴槽1に取り付けられた圧力開放部5とを備えている。
【0023】
ポンプ3は、浴槽1の水を水素還元水処理装置17に吸い込み、処理後、浴槽1内に戻すように水を循環する働きをするものである。具体的には、ポンプ3は、活性水素水に処理すべき浴槽1の水を、浴槽1の取出栓6から吸込管7を通してこの水素還元水処理装置17内に取り込み、供給管8から気液混合タンク4内に送り、さらに紫外線照射処理筒18から排出管9及び圧力開放部5を通して浴槽1内に戻すように循環して送流させるものである。
【0024】
気液混合タンク4は、処理すべき水に水素ガスを溶解させるためのタンクであり、高圧水素ボンベ10にガス管11及び開閉弁12を介して接続されており、この気液混合タンク4内で、浴槽1から取り出した水に、高圧水素ボンベ10から導入される水素ガスが溶解される(実際は水素ガスの気泡が混入される)。
【0025】
紫外線照射処理筒18は、その下部に形成された導入口19が導入管20を介して気液混合タンク4に接続されており、その上部に形成された排出口21が排出管9を介して浴槽1の圧力開放部5に接続されている。紫外線照射処理筒18の軸心には紫外線ランプ22が配置されている。この紫外線ランプ22は、電源制御部23から電力が供給されて点灯し、紫外線を放射する。
【0026】
気液混合タンク4内で水素ガスが溶解された水が、導入管20から導入口19を通して紫外線照射処理筒18内に導入され、紫外線ランプ22で紫外線が照射される。この紫外線照射により、水中の水素分子(H)は原子状の水素(活性水素)に分解される。
【0027】
ところで、水素分子の結合エネルギーは4.75eVであり、波長(λ)が260nmの紫外線エネルギーが4.75eVであるから、光のエネルギーの式である E=h・c/λ(h=プランク定数、c=光速)によれば、それより短い波長であれば、水素分子を解離できる。実用的には、波長が254nm及び185nmの紫外線ランプが市販されており、水中でのエネルギー減衰を考慮すると、波長が185nmの紫外線ランプを用いるのが効果的である。
【0028】
浴槽1に取り付けられた圧力開放部5は、図2(b)に示すように、筒体13を有し、この筒体13内にその基端側からノズル14(細管又はオリフィス等)が突出するように設けられている。このノズル14に紫外線照射処理筒18から延びる排出管9が管継手14’で接続される。そして、筒体13内において、ノズル14の先端に対向するようにセラミック等の材料で形成された多孔体15が充填されている。
【0029】
以上の構成から成る実施例2の作用について説明する。浴槽1の水は、取出栓6から吸込管7を通り、ポンプ3により供給管8を通り気液混合タンク4に送られる。気液混合タンク4において、浴槽1から取り出した水には、高圧水素ガスボンベ10から供給される水素ガスが溶解される。
【0030】
このようにして溶解水素ガスを含む水は、気液混合タンク4から導入管20及び導入口19を通して紫外線照射処理筒18内に導入され、紫外線ランプ22で紫外線が照射される。この紫外線照射により、水中の水素分子(H)は、活性水素に分解され、活性水素を含む水が生成される。
【0031】
このようにして紫外線を照射することにより生成された活性水素を含む水は、紫外線照射処理筒18の排出口21から排出管9を通して、圧力開放部5に送られる。圧力開放部5では、活性水素を含む水は、ノズル14から筒体13に内に噴出し、多孔体15を通して、活性水素の微細な気泡24を形成し、この活性水素の微細な気泡24を伴いながら浴槽1内に噴出される。
【0032】
即ち、気液混合タンク4で溶解水素が形成され、さらに紫外線照射筒18において紫外線照射で活性化された活性水素は、高圧状態であるが、この圧力開放部5で開放され、多孔体15を通して、微細な気泡24となって浴槽1内に供給される。このようにして得られた活性水素の微細な気泡24を含む水は、SOD様活性を有し、過酸化脂質等の皮膚の老化促進物質を無害化することができる。
【0033】
(実施例3)
図3は、本発明に係る水素還元水処理装置の実施例3を説明する図である。この実施例3は、実施例2と略同じであるが、高圧水素を気液混合タンク4に供給する手段として、図3(a)に示すように、専用の水素発生電解槽25と高圧水素貯留タンク26を設けた構成を特徴とする。以下、実施例3について、実施例2と共通な構成には同じ符号を付けるが特にその説明は省略し、実施例3の特有な構成を中心に説明する。
【0034】
図3(b)は、この実施例3に係る水素還元水処理装置27に設けられた水素発生電解槽25の構成を説明する図である。水素発生電解槽25は、水を電気分解して水素を得る電解槽であり、水素発生槽29及び酸素発生槽30が隔膜28(イオン分離膜)で仕切られて設けられている。水素発生槽29には陰極31が、酸素発生槽30には陽極32が設けられ、この陰極31と陽極32は、電源制御部23によって直流電源の陰極と陽極に接続される構成となっている。
【0035】
又、水素発生電解槽25で必要とする水は、ポンプ3で浴槽1から水素還元水処理装置27に取り入れられた水の一部を、供給管8を通し、さらに供給管8から分岐した供給管33を通して、水素発生槽29及び酸素発生槽30に夫々供給する構成としている。水素発生槽29及び酸素発生槽30の夫々には、気体分離弁34が設けられている。
【0036】
水素発生槽29は、気体分離弁34及びガス管11を介して高圧水素貯留タンク26の入口側に接続されている。さらに、高圧水素貯留タンク26の出口側は、ガス管11及び開閉弁12を介して気液混合タンク4に接続されている。
【0037】
以上の構成から成る実施例3の作用は、実施例2と略同じであるが、水素発生電解槽25の陰極31と陽極32が、電源制御部23により直流電源の陰極と陽極に接続されると、電気分解により水素発生槽29内では水素ガスが発生し、酸素発生槽では酸素、塩素ガスが生じる。発生した水素ガスは、気体分離弁34からガス管11を通って、高圧水素貯留タンク26に一旦、貯留される。
【0038】
そして、必要に応じて開閉弁12を開いて、高圧水素貯留タンク26から高圧水素を気液混合タンク4内に導入し、実施例2において説明したように水素ガスを浴槽1から取り出した水の中に溶解させる。その他の作用は、実施例2と同様である。なお、この実施例3の水素発生電解槽25と高圧水素貯留タンク26を設けた構成は、実施例1の水素ガス供給源としても適用可能である。
【0039】
(実施例4)
図4は、本発明に係る水素還元水処理装置の実施例4を説明する図である。この実施例4は、実施例2と基本的には同じ構成であるが、異なる構成は、実施例4の水素還元水処理装置35は、気液混合タンク4の次に圧力開放部5を設け、圧力開放部5の次に紫外線照射処理筒18を設けた構成である。この構成により、溶解水素の圧力を圧力開放部5において開放してから、水素の微細な気泡が混入した水に紫外線を照射して活性水素水に処理する構成を特徴とするものである。
【0040】
以下、実施例4について実施例2と共通な構成には同じ符号を付けるが特にその説明は省略し、実施例4に特有な構成を中心に説明する。この実施例4では、図4(a)に示すように、浴槽1の外壁又はその近くに紫外線照射処理筒18が取り付けられており、さらに紫外線照射処理筒18に圧力開放部5が取り付けられている。
【0041】
そして、気液混合タンク4から延びる導入管20は、図4(b)(図4(a)の要部拡大図)に示すように、圧力開放部5のノズル14に管継手14’で接続され、この圧力開放部5は、紫外線照射処理筒18に接続されている。そして、紫外線照射処理筒18は、浴槽1に付設された供給栓36を通して浴槽1に連通している。
【0042】
以上の構成から成る実施例4の作用は、基本的には実施例2と略同じであるが、この実施例4では、気液混合タンク4で水素が溶解された水は、圧力開放部5でその溶解水素の圧力が開放されて、微細な水素ガスの気泡24が生じる。そして、圧力開放部5から微細な水素ガスの気泡とともに水が紫外線照射処理筒18内に流入し、紫外線ランプ22により紫外線の照射を受けて水素は活性水素に転換され、その結果、活性水素の微細な気泡を含む活性水素水に処理される。
【0043】
このようにして得られた活性水素の微細な気泡24を含む水が、紫外線照射処理筒18の出口から供給栓36を通して浴槽1内に供給される。なお、実施例4の紫外線照射処理筒18を圧力開放部5の次に設けるという構成は、実施例3にも適用可能である。
【0044】
(実験例5)
図5は、本発明に係る水素還元水処理装置の実施例5を説明する図である。この実施例5は、実施例2と基本的には同じ構成であるが、異なる構成は、高圧状態の水素ガスを、気液混合タンク4に供給される前に、紫外線を照射し活性水素に転換してから、気液混合タンク4に供給してこの活性水素を浴槽1から取り出した水に溶解させるものである。
【0045】
以下、実施例5について実施例2と共通な構成には同じ符号を付けるが特にその説明は省略し、実施例5に特有な構成を中心に説明する。この実施例5の水素還元水処理装置37は、水素ガスボンベ10と気液混合タンク4の間のガス管11の途中に、紫外線照射処理筒18を設け、ここで、水素ガスボンベ10からの水素ガスを直接、紫外線ランプ22で紫外線照射して、活性水素に転換する構成を特徴とする。
【0046】
なお、この実施例5に示す気液混合タンク4に供給される水素ガスに紫外線を照射し、気液混合タンク4に送る前に水素ガスを活性水素に転換するという構成は、実施例3又は4にも適用可能である。
【0047】
(実施例6)
図6は、本発明に係る水素還元水処理装置の実施例6を説明する図である。この実施例6は、実施例2と基本的には同じ構成であるが、異なる構成は、紫外線照射による水の溶解水素の活性水素への転換効率を高めるために、pHコントロール装置を設けた構成である。
【0048】
以下、実施例6について実施例2と共通な構成には同じ符号を付けるが特にその説明は省略し、実施例6に特有な構成を中心に説明する。この実施例6の水素還元水処理装置38は、供給管8にアルカリ剤供給部39(又はpH緩衝剤の供給部)を設ける。
【0049】
そして、アルカリ剤供給部39を設けた場合は、排出管9にpHセンサー部40を設け、pHを計測し、その計測結果でアルカリ剤供給部39の供給弁41の開度を制御し、その供給量をフィードバック制御する構成である。なお、この実施例6に示すpHコントロール装置を設けた構成は、実施例3、4又は5にも適用可能である。
【0050】
以上、本発明に係る水素還元水処理装置の実施形態を実施例に基づいて説明したが、本発明は特にこのような実施例に限定されることなく、特許請求の範囲記載の技術的事項の範囲内でいろいろな実施例があることはいうまでもない。
【0051】
【発明の効果】
本発明は以上の構成であるので、次のような効果が生じる。
(1)還元性を有し、雑菌繁殖防止効果があり、浴槽等の水槽のぬめり防止に効果的である水素還元水、及びSOD様活性を付与するために有効な活性水素を含む水を、家庭用向けに、簡単な構造で、短時間に大量に得ることができる。
【0052】
(2)この結果、家庭においても、本装置を利用すれば、例えば浴槽の水を活性水素水に処理することで、還元性を高めるとともに、SOD様活性を付与することができ、過酸化脂質等(人が紫外線を浴びることで生成される。)の皮膚の老化促進物質を無害化する等の健康増進効果を得ることができる。又、本装置を、飲用水を活性水素水に処理する技術に適用すれば、これにより得られた活性水素を含む水を飲用することにより健康増進にもなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1を説明する図である。
【図2】本発明の実施例2を説明する図である。
【図3】本発明の実施例3の要部を説明する図である。
【図4】本発明の実施例4を説明する図である。
【図5】本発明の実施例5を説明する図である。
【図6】本発明の実施例6を説明する図である。
【符号の説明】
1  浴槽
2  実施例1の水素還元水処理装置
3  ポンプ
4  気液混合タンク
5  圧力開放部
6  取出栓
7  吸込管
8、33  供給管
9  排出管
10  高圧水素ボンベ
11  ガス管
12  開閉弁
13  筒体
14  ノズル
14’ 管継手
15  多孔体
16  水素ガスの微細な気泡
17  実施例2の水素還元水処理装置
18  紫外線照射処理筒
19  導入口
20  導入管
21  排出口
22  紫外線ランプ
23  電源制御部
24  活性水素の微細な気泡
25  水素発生電解槽
26  高圧水素貯留タンク
27  実施例3の水素還元水処理装置
28  隔膜
29  水素発生槽
30  酸素発生槽
31  陰極
32  陽極
34  気体分離弁
35  実施例4の水素還元水処理装置
36  供給栓
37  実施例5の水素還元水処理装置
38  実施例6の水素還元水処理装置
39  アルカリ剤供給部
40  pHセンサー部
41  アルカリ剤供給部の供給弁

Claims (5)

  1. 水槽の水を循環させて水素還元水に処理する水素還元水処理装置であって、水槽から取り出した水に、気液混合タンクにより水素を溶解させて溶解水素とし、これを微細な気泡状水素にして水槽に戻すことで水素還元水に処理することを特徴とする水素還元水処理装置。
  2. 請求項1記載の水素還元水処理装置であって、循環させる水に紫外線を照射すること特徴とする水素還元水処理装置。
  3. 請求項1記載の水素還元水処理装置であって、水に溶解させる前の水素に紫外線を照射することを特徴とする水素還元水処理装置。
  4. 請求項1〜3のいずれかに記載の水素還元水処理装置であって、pHコントロール機能を備えたことを特徴とする水素還元水処理装置。
  5. 請求項1〜4のいずれかに記載の水素還元水処理装置であって、紫外線の波長が260nm以下であることを特徴とする水素還元水処理装置。
JP2002227095A 2002-08-05 2002-08-05 水素還元水処理装置 Pending JP2004066071A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002227095A JP2004066071A (ja) 2002-08-05 2002-08-05 水素還元水処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002227095A JP2004066071A (ja) 2002-08-05 2002-08-05 水素還元水処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004066071A true JP2004066071A (ja) 2004-03-04

Family

ID=32014216

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002227095A Pending JP2004066071A (ja) 2002-08-05 2002-08-05 水素還元水処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004066071A (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007268446A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Sumitomo Heavy Industries Environment Co Ltd 機能水の製造方法、機能水の使用方法及び機能水の製造装置
JP2008036331A (ja) * 2006-08-10 2008-02-21 Blue Mercurry Water Service:Kk 水素ガス気泡浴槽装置
JP2009195882A (ja) * 2008-02-25 2009-09-03 Nakata Coating Co Ltd 水素還元水の製造方法
JP2009208051A (ja) * 2008-03-06 2009-09-17 Shoei Butsuryu Kk 水素水及び水素水生成装置
WO2010103673A1 (ja) * 2009-03-09 2010-09-16 株式会社アーガコーポレーション 電解式浄水装置
JP2011206689A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Mie Univ 微細気泡形成装置。
JP2017113086A (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 株式会社リス 水素水生成システム、及び水素風呂システム
JP6278574B1 (ja) * 2016-11-09 2018-02-14 株式会社オーゾラ 微細水素水バブル生成器
CN114405300A (zh) * 2021-02-03 2022-04-29 谢志钦 超微细气泡产生装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007268446A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Sumitomo Heavy Industries Environment Co Ltd 機能水の製造方法、機能水の使用方法及び機能水の製造装置
JP2008036331A (ja) * 2006-08-10 2008-02-21 Blue Mercurry Water Service:Kk 水素ガス気泡浴槽装置
JP2009195882A (ja) * 2008-02-25 2009-09-03 Nakata Coating Co Ltd 水素還元水の製造方法
JP2009208051A (ja) * 2008-03-06 2009-09-17 Shoei Butsuryu Kk 水素水及び水素水生成装置
WO2010103673A1 (ja) * 2009-03-09 2010-09-16 株式会社アーガコーポレーション 電解式浄水装置
JP2011206689A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Mie Univ 微細気泡形成装置。
JP2017113086A (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 株式会社リス 水素水生成システム、及び水素風呂システム
JP6278574B1 (ja) * 2016-11-09 2018-02-14 株式会社オーゾラ 微細水素水バブル生成器
JP2018075528A (ja) * 2016-11-09 2018-05-17 株式会社オーゾラ 微細水素水バブル生成器
CN114405300A (zh) * 2021-02-03 2022-04-29 谢志钦 超微细气泡产生装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015213569A (ja) 多目的入浴兼治療装置
JP2004066071A (ja) 水素還元水処理装置
JP2008183502A (ja) ナノバブルによる水処理装置及びナノバブルによる水処理方法
JP2002210340A (ja) オゾン水製造装置
JP6273625B2 (ja) 表面処理装置および表面処理方法
JP5327264B2 (ja) 活性酸素生成装置及び給湯装置
JP2006198499A (ja) 水の殺菌方法および殺菌装置
CN201019857Y (zh) 一种口腔科专用臭氧水消毒杀菌器
JP2006249661A (ja) 便器洗浄装置
KR200192932Y1 (ko) 오존 용해 및 산화 정수장치
JP4229363B2 (ja) 水処理装置
JP2009066467A (ja) 溶存オゾンおよび飽和濃度の3倍以上過飽和溶存酸素の水溶液製造方法および利用方法
JP2004358437A (ja) 水素還元水処理装置
KR20160124316A (ko) 수분분사 방식의 플라즈마 피부처리장치
JP3736057B2 (ja) 活性電解水生成装置
CN219230678U (zh) 一种臭氧水妇洗器
KR20140103414A (ko) 고농도 차아염소산수 생성 장치 및 이를 이용한 석션 소독 장치
JP2001162273A (ja) 水の浄化装置
JP2004188288A (ja) 水処理方法及び水処理装置
JP3574677B2 (ja) 浴槽湯の清浄化装置
JPH0910781A (ja) 電解式オゾン水洗浄機
CN108996658A (zh) 一种用于去除泳池中尿素的装置及使用方法
JP6846192B2 (ja) 湯に水素酸素混合ガスのマイクロバブルを溶解させる浴槽設備
JP2008029832A (ja) オゾン含有ガスを用いる治療装置
JP2005118642A (ja) 水処理方法及び装置並びに水処理用エジェクタ