JP2004063879A - レーザ加工装置およびレーザ加工方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】レーザ光出力をリアルタイムで測定して、レーザ光出力の低下を検出することで、レーザ加工の安定化を図る。
【解決手段】レーザ発振器11と、これより発振されたレーザ光Lを加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldに分割するビームスプリッタ13と、分割されたレーザ光Lpが照射される基板31を載置しかつ所定の方向に移動可能なステージ15と、分割されたレーザ光Ldを受光する受光部21と、レーザ光Lp、Ldの出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、レーザ光Lpが基板31表面に照射されかつスキャンされる際のレーザ光Lの出力変化を、受光部21がレーザ光Ldを受光して得た信号に基づき、スキャン方向に対応させたレーザ光Ldの照射エネルギー値が所定値以上の場合には正常、所定値未満の場合には異常と判定する判定器22とを備えたものである。
【選択図】 図1
【解決手段】レーザ発振器11と、これより発振されたレーザ光Lを加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldに分割するビームスプリッタ13と、分割されたレーザ光Lpが照射される基板31を載置しかつ所定の方向に移動可能なステージ15と、分割されたレーザ光Ldを受光する受光部21と、レーザ光Lp、Ldの出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、レーザ光Lpが基板31表面に照射されかつスキャンされる際のレーザ光Lの出力変化を、受光部21がレーザ光Ldを受光して得た信号に基づき、スキャン方向に対応させたレーザ光Ldの照射エネルギー値が所定値以上の場合には正常、所定値未満の場合には異常と判定する判定器22とを備えたものである。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ加工装置およびレーザ加工方法に関し、詳しくはレーザ孔を照射して、液晶表示装置、半導体装置等の基板にレーザ光を照射し、その照射部に対して結晶化、アニーリング等の熱処理を施すレーザ加工装置およびレーザ加工方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ガラス基板上に形成されたアモルファスシリコン層にエキシマレーザ光を照射して、アモルファスシリコン層を結晶化するレーザ熱処理が行われている。その際、レーザ光出力の劣化を検出するには、例えば数十枚の基板の熱処理に対して1回の割合でダミー基板を用意し、そのダミー基板にレーザ光を照射して、出力状態を確認していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
エキシマレーザ発振器のようなガスを用いたレーザ発振器では、ガスの劣化によって出力が経時変化を起こす。そのため、レーザ光の総照射時間がある一定の時間になった時点で、レーザ発振器のガス交換を行っていた。しかしながら、レーザ発振器のガスの劣化が早まった場合には、製品に不良が発生することになる。一方、ガスの劣化が遅れた場合には、良好な状態のうちにガス交換を行うことになるため、ガスを無駄に消費することになる、効率のよいメンテナンスが行えない、等の問題があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するためになされたレーザ加工装置およびレーザ加工方法である。
【0005】
本発明のレーザ加工装置は、レーザ光を発振するレーザ発振器と、前記レーザ発振器より発振されたレーザ光を加工用のレーザ光と出力検出用のレーザ光とに分割するビームスプリッタと、前記加工用のレーザ光が照射される基板を載置するもので、所定の方向に移動可能なステージと、前記ビームスプリッタにより分割された出力検出用のレーザ光を受光する受光部と、前記加工用のレーザ光と前記出力検出用のレーザ光との出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、前記加工用のレーザ光が前記基板表面に照射されかつ照射位置が移動される際のレーザ光の出力変化を、前記受光部が分割された出力検出用のレーザ光を受光することで得た信号に基づいて、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光の照射エネルギーが所定値以上の場合には正常と判定し、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光の照射エネルギーが所定値未満の場合には異常と判定する判定器とを備えたものである。ここでいう所定値とは、例えば、レーザ加工が安定して為されるレーザ出力をいう。
【0006】
上記レーザ加工装置では、ビームスプリッタにより分割された出力検出用のレーザ光を受光する受光部を備えていることから、レーザ発振器の出力をリアルタイムで検出することができる。加えて、加工用のレーザ光と出力検出用のレーザ光との出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、加工用のレーザ光が基板表面に照射されかつ照射位置が移動される際のレーザ光の出力変化を、受光部が出力検出用のレーザ光を受光することで得た信号により、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光の照射エネルギーが所定値以上の場合には正常と判定し、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光の照射エネルギーが所定値未満の場合には異常と判定する判定器を備えていることから、レーザ発振器より発振されるレーザ光の出力が所定値以下になる直前を検出することができる。
【0007】
例えばレーザ発振器がガスレーザ発振器の場合、ガス交換が必要と判断される出力にまで出力低下が生じる直前で、ガス交換を行うことが可能になる。したがって、レーザ発振器のガスの劣化が早まった場合には、その時点でガス交換が行えるので、常に所定の出力以上で加工を行うことができ、加工の安定化が図れる。よって従来のように、製品に不良が発生することはなく、歩留りの向上が図れる。一方、ガスの劣化が遅れた場合には、従来のように、良好な状態のうちにガス交換を行う必要がないため、ガスを無駄に消費することがなく、効率のよいメンテナンスが行える。
【0008】
本発明のレーザ加工方法は、レーザ光を発振するレーザ発振器と、前記レーザ発振器より発振されたレーザ光を加工用のレーザ光と出力検出用のレーザ光とに分割するビームスプリッタと、前記ビームスプリッタにより分割された出力検出用のレーザ光を受光する受光部と、前記受光部で受光した出力検出用のレーザ光の出力より前記レーザ光の出力値を判定する判定器と、前記加工用のレーザ光が照射される基板を載置するもので、所定の方向に移動可能なステージとを備えたレーザ加工装置を用いてレーザ加工を行うレーザ加工方法であって、前記判定器では、前記加工用のレーザ光と前記出力検出用のレーザ光との出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、前記加工用のレーザ光が前記基板表面に照射されかつ照射位置が移動される際のレーザ光の出力変化を、前記受光部で出力検出用のレーザ光を受光して得た信号に基づいて、照射位置の移動方向に対するレーザ光の照射エネルギー(出力検出用のレーザ光のエネルギーからの換算値)が所定値以上の場合には正常と判定し、照射位置の移動方向に対するレーザ光の照射エネルギー(出力検出用のレーザ光のエネルギーからの換算値)が所定値未満の場合には異常と判定する。ここでいう所定値とは、例えば、レーザ加工が安定してなされるレーザ出力をいう。
【0009】
上記レーザ加工方法では、ビームスプリッタにより分割された出力検出用のレーザ光を受光する受光部を備えたレーザ加工装置を用いていることから、レーザ光の出力はリアルタイムで検出される。そして、レーザ加工装置に備えられた判定器によって、加工用のレーザ光と出力検出用のレーザ光との出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、加工用のレーザ光が基板表面に照射されかつスキャンされる際のレーザ光の出力変化を、分割された出力検出用のレーザ光を受光部で受光して得た信号に基づいて、照射位置の移動方向に対するレーザ光の照射エネルギーが所定値以上の場合には正常と判定し、照射位置の移動方向に対するレーザ光の照射エネルギーが所定値未満の場合には異常と判定することから、レーザ発振器より発振されるレーザ光の出力が所定値以下になる直前を検出することができる。
【0010】
そのため、例えばレーザ発振器がガスレーザ発振器の場合、ガス交換が必要と判断される出力にまで出力低下が生じる直前で、ガス交換を行うことが可能になる。したがって、レーザ発振器のガスの劣化が早まった場合には、その時点でガス交換が行えるので、常に所定の出力以上で加工を行うことができ、加工の安定化が図れる。よって従来のように、出力低下による製品の不良が発生することはなく、歩留りの向上が図れる。一方、ガスの劣化が遅れた場合には、従来のように、良好な状態のうちにガス交換を行う必要がないため、ガスを無駄に消費することがなく、効率のよいメンテナンスが行える。
【0011】
【発明の実施の形態】
本発明のレーザ加工装置に係る第1実施の形態を、図1の概略構成図によって説明する。
【0012】
図1に示すように、レーザ加工装置1は、以下のような構成を有する。レーザ光Lを発振するレーザ発振器11を備えている。このレーザ発振器11は、例えばエキシマレーザ光を発振するガスレーザ発振器からなる。このレーザ発振器11のレーザ光Lの射出方向には、レーザ光Lを整形するビーム整形器12が備えられている。このビーム整形器12は、例えばレーザ発振器11より発振されたレーザ光Lを、所望の幅を持った線条ビームに整形するものである。さらに、ビーム整形器12のレーザ光Lの射出方向には、レーザ光Lを加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとに分割するビームスプリッタ13が設置されている。
【0013】
上記ビームスプリッタ13は、プリズム、ダイクロイックミラー等の光線を二つの方向(例えば90度異なる方向)に分割することができるものであればよい。本装置の場合、出力検出用のレーザ光Ldは、受光部21により検出できる程度の出力値(例えば0.8W〜1W程度)を有していればよく、加工用のレーザ光Lpは、入射光の例えば98%以上を占めていることが好ましい。
【0014】
上記ビームスプリッタ13により分割された出力検出用のレーザ光Ldの射出方向には、その出力検出用のレーザ光Ldを受光する受光部21が備えられている。上記受光部21は、例えばPSD(Position sensitive detector:位置検出センサーまたは2次元フォトダイオード)もしくはCCD(電荷結合デバイス)ラインセンサで構成されている。ここでは、線条ビームの長手方向に3個の受光部21a、21b、21cが設けられている。この受光部21の個数は、線条ビームの長手方向の長さによって適宜選択される。受光部21は、例えば、30cm〜40cm間隔に設ける。
【0015】
さらに、この受光部21で受光した光の出力よりレーザ光Lの出力値を判定する判定器22が備えられている。この判定器22は、具体的には、加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとの出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、加工用のレーザ光Lpが基板31表面に照射されかつ照射位置が移動(例えばスキャン)される際のレーザ光Lの出力変化を、分割された出力検出用のレーザ光Ldを受光部21で受光して得た信号に基づいて、照射位置の移動(例えばスキャン)方向に対応させた出力検出用のレーザ光Ldの照射エネルギーが所定値以上の場合には正常と判定して次のレーザ加工を続行する指示を出し、照射位置の移動(例えばスキャン)方向に対応させた出力検出用のレーザ光Ldの照射エネルギーが所定値未満の場合には異常と判定して装置メンテナンスを行う指示を出すものである。
【0016】
上記検出する照射エネルギー値は、加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとの出力比が時間変化に対して一定であることから、出力検出用のレーザ光Ldの照射エネルギーから、加工用のレーザ光Lpの照射エネルギー、レーザ光Lの照射エネルギーを換算することが可能である。その際、ビーム調整器12、ビームスプリッタ13等での反射、吸収による損失を考慮すれば、さらに正確な照射エネルギー値を求めることができる。
【0017】
なお、線条ビームは、スキャン方向と平行(X方向)な軸を短軸、スキャン方向と直角な方向(Y方向)を長軸とする長方形状をなしている。そしてここでは、線条ビームのY方向は均一な照射分布となるよう光学的に調整が済んでいるとし、線条ビームをX方向にスキャンした際の出力分布ばらつきについて調べている。
【0018】
さらに、上記加工用のレーザ光Lpの射出方向には、加工される基板31が載置されるステージ15が設置されている。このステージ15は、例えばX・Y方向に移動可能なもので、さらにZ方向にも移動可能であってもよい。ステージ15のX方向への移動手段は、照射されるレーザーパルスに同期して所定の送り量を実現できるよう、例えば送りねじ(例えばボールねじ)を用いた送り機構にパルスモーターを連結して構成される直動機構が備わっているものとする。また、Y方向、Z方向にも、上記直動機構と同様の機構が設けられていてもよい。上記直動機構は、上記構成に限定はされない。一般のステッパ露光装置等に搭載されている可動ステージを用いることができる。このようなステージ15では、載置された基板31表面に、線条の加工用のレーザ光Lpが図面の斜線領域で示すように線条に照射され、ステージ15がX方向に移動されることによって矢印ア方向に照射位置が移動(スキャン)される。
【0019】
上記レーザ加工装置1では、ビームスプリッタ13により分割された出力検出用のレーザ光Ldを受光する受光部21を備えていることから、レーザ発振器11の出力をリアルタイムで検出することができる。加えて、加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとの出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、加工用のレーザ光Lpが基板31表面に照射されかつ照射位置が移動される際のレーザ光Lの出力変化を、受光部21が出力検出用のレーザ光Ldを受光することで得た信号に基づいて、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光Ldの照射エネルギーが所定値以上の場合には正常と判定し、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光Ldの照射エネルギーが所定値未満の場合には異常と判定する判定器を備えていることから、レーザ発振器11より発振されるレーザ光Lの出力が所定値以下になる直前を検出することができる。
【0020】
例えばレーザ発振器11がガスレーザ発振器の場合、ガス交換が必要と判断される出力にまで出力低下が生じる直前で、ガス交換を行うことが可能になる。したがって、レーザ発振器のガスの劣化が早まった場合には、その時点でガス交換が行えるので、常に所定の出力以上で加工を行うことができ、加工の安定化が図れる。よって従来のように、製品に不良が発生することはなく、歩留りの向上が図れる。一方、ガスの劣化が遅れた場合には、従来のように、良好な状態のうちにガス交換を行う必要がないため、ガスを無駄に消費することがなく、効率のよいメンテナンスが行える。
【0021】
次に、本発明のレーザ加工方法に係る第1実施の形態を、前記図1の概略構成図によって説明する。
【0022】
本発明のレーザ加工方法は、前記図1によって説明したレーザ加工装置1を用いる。例えば、液晶表示基板、半導体装置基板等に用いられるガラス基板上に形成されたアモルファスシリコン層を結晶化する熱処理を行う場合について、以下に説明する。
【0023】
ステージ15上に被加工物の基板31を載置する。この基板31は、例えばガラス基板からなり、その表面にはアモルファスシリコン層(図示せず)が形成されている。レーザ発振器11より所望の出力に調整されたレーザ光Lを発振し、ビーム調整器2によってレーザ光Lを線条ビームに整形する。このビーム調整器2は、例えばシリンドリカルレンズを主体としたレンズ光学系もしくは凹面反射鏡を主体とした反射光学系からなる。上記線条ビームはさらにビームスプリッタ13に入射され、加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとに分割する。このビームスプリッタ13は、プリズム、半透過反射ミラー等の光線を二つの方向(例えば90度異なる方向)に分割することができるものを用いる。
【0024】
出力検出用のレーザ光Ldは、受光部21により検出できる程度の出力値(例えば0.8W〜1W程度)を有し、加工用のレーザ光Lpは、入射光の例えば98%以上を占めるように分割される。
【0025】
そして、一方の加工用のレーザ光Lpは、例えばX方向に移動するステージ15上の基板31表面に照射され、アモルファスシリコン層を結晶化する。
【0026】
他方の上記ビームスプリッタ13により分割された出力検出用のレーザ光Ldは、受光部21によって受光され、判定器22によってその出力が判定される。具体的には、この判定器22では、加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとの出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、加工用のレーザ光Lpが基板31表面に照射されかつスキャンされる際のレーザ光Lの出力変化を、分割された出力検出用のレーザ光Ldを受光部21で受光して得た信号に基づいて、スキャン方向に対するレーザ光Lの照射エネルギー(出力検出用のレーザ光のエネルギーからの換算値)が所定値以上の場合には正常と判定して次のレーザ加工を続行し、スキャン方向に対するレーザ光Lの照射エネルギー(出力検出用のレーザ光のエネルギーからの換算値)が所定値未満の場合には異常と判定して装置メンテナンスを行う。
【0027】
ここで、判定方法の一例を、図2の照射エネルギー値とスキャン位置との関係図によって説明する。
【0028】
図2では、縦軸に照射エネルギー値を示し、横軸にスキャン位置を示す。図2に示すように、レーザ発振器から発振されるレーザ光出力が正常な場合には、実線で示すように急峻な立ち上がりの照射エネルギー分布を示すが、例えばレーザ発振器から発振されるレーザ光の出力が低下した場合には、破線で示すように立ち上がりが鈍くなる。
【0029】
例えば、アモルファスシリコン層の結晶化のような熱処理を行うレーザ加工の場合を説明する。
【0030】
いま、必要な照射エネルギーレベルをEとする。正常なレーザ光出力が得られている場合(実線で示す)には照射エネルギーレベルをEよりも高い照射エネルギー値を示す。しかも、照射エネルギーレベルEに達するまでの時間が短く、その立ち上がりが急峻になっている。一方、レーザ光出力の低下が生じた場合には、破線で示すように、照射エネルギー分布の立ち上がりが鈍くなる。図示はしていないが、さらにレーザ光の出力が低下すると照射エネルギー値が照射エネルギーレベルEよりも低下する。
【0031】
すなわち、照射エネルギーの立ち上がりが鈍くなって照射エネルギーレベルEに達しない領域Δ1、Δ2では、照射エネルギーが足りないために十分な熱処理ができないので、結晶化が不十分になる。このΔ1、Δ2はスキャン速度が一定であれば通常は同等の量であることから、例えばΔ1がレーザ光を照射すべき領域のx%(xは任意に設定、例えばx=10)以上になったらレーザ出力に異常(例えば出力低下)があると判定する。
【0032】
本発明のレーザ加工装置およびレーザ加工方法では、リアルタイムでレーザ出力の状態をみることができるため、レーザ出力が正常であるか否かの判定は、照射エネルギーレベルEをレーザ光の劣化による製品不良が発生する直前に設定しておくことによって、効率的に行うことができる。そして異常があると判定された場合にはレーザ加工装置のメンテナンスを行う。例えば、エキシマレーザ加工装置の場合には、レーザ発振器内のガスの劣化であればガスを交換する。一方、正常と判定されている場合にはレーザ加工を続行して、次の製品のレーザ加工を行う。
【0033】
このように、レーザ光Lの出力は、出力検出用のレーザ光Ldの照射エネルギーを測定することによって判断することができる。
【0034】
次に、本発明のレーザ加工装置に係る第2実施の形態を、図3の概略構成図によって説明する。
【0035】
第2実施の形態は、本発明の構成を固体レーザ装置に適用した事例である。固体レーザ装置としては、Nd−YAGレーザ装置、Nd−アレキサンドライトレーザ装置等がある。
【0036】
図3に示すように、レーザ加工装置2は、以下のような構成を有する。レーザ光Lを発振するレーザ発振器11を備えている。このレーザ発振器11は、例えば固体レーザ発振器からなる。このレーザ発振器11のレーザ光Lの射出方向には、レーザ光Lを整形するビーム整形器12が備えられている。このビーム整形器12は、例えばレーザ発振器11より発振されたレーザ光Lを、所望の形状、例えば線条に整形するものである。さらに、ビーム整形器12のレーザ光Lの射出方向には、レーザ光Lを加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとに分割するビームスプリッタ13が設置されている。
【0037】
上記ビームスプリッタ13は、前記図1によって説明したものと同様な形態のものを用いる。ビームスプリッタ13により分割された出力検出用のレーザ光Ldの射出方向には、その出力検出用のレーザ光Ldを受光する受光部21が備えられている。こお受光部21は、前記図1によって説明したものと同様な形態のものを用いることができるが、受光波長が発振波長に合ったものを用いる。
【0038】
さらに、この受光部21で受光した光の出力よりレーザ光Lの出力値を判定する判定器22が備えられている。この判定器22は、前記図1によって説明したものと同様な形態のものを用いることができる。
【0039】
さらに、上記加工用のレーザ光Lpの射出方向には、加工される基板31が載置されるステージ15が設置されている。このステージ15は、前記図1によって説明したものと同様な形態のものを用いることができる。
【0040】
この固体レーザ装置では、判定器22とレーザ発振器11との間に出力制御指令部23が設けられている。この構成では、レーザ光Lの出力が低下し、所定レベルまで低下した場合には、判定器22より出力制御指令部23に出力低下の情報が伝達され、出力制御指令部23によってレーザ発振器11に出力上昇の指令が伝達される。その指令に基づいてレーザ出力を高める措置がとられる。
【0041】
さらにレーザ出力が低下した場合には、レーザ加工装置1の稼動を停止して出力低下の原因を排除するメンテナンスを行う。例えば、レーザロッドを冷却する高抵抗冷却水(例えば超純水)の交換、冷却水の抵抗を一定に保つイオン交換樹脂の交換、レーザロッドを励起させるためのフラッシュランプの交換、等の作業を行う。
【0042】
なお、本発明は、レーザ発振器からの発振波長を加工波長に適合するように、発振波長のn次高調波を用いる場合にも、同様に適用することができる。
【0043】
【発明の効果】
以上、説明したように本発明のレーザ加工装置によれば、レーザ発振器の出力をリアルタイムで検出することができ、加えて、レーザ発振器より発振されるレーザ光の出力が所定値以下になる直前を検出することができる。このため、製品の不良が発生する前に装置メンテナンスを行うことができるので、また、常に必要最低限以上の出力で加工を行うことができるので、加工の安定化が図れる。よって従来のように、製品に不良が発生することはなく、歩留りの向上が図れる。さらに、従来のように、良好な装置状態を十分に維持することができるうちにメンテナンスを行うことがないため、効率よくメンテナンスを行うことができる。
【0044】
本発明のレーザ加工方法によれば、レーザ光の出力をリアルタイムで検出することができる。そして、レーザ光の出力が所定値以下になる直前を検出することができる。このため、製品の不良が発生する前に装置メンテナンスを行うことができるので、また、常に必要最低限以上の出力で加工を行うことができるので、加工の安定化が図れる。よって従来のように、製品に不良が発生することはなく、歩留りの向上が図れる。さらに、従来のように、良好な装置状態を十分に維持することができるうちにメンテナンスを行うことがないため、効率よくメンテナンスを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のレーザ加工装置に係る第1実施の形態を示す概略構成図である。
【図2】測定したレーザ出力を換算して求めた照射エネルギー値とレーザ出力を測定した時点のレーザビームのスキャン位置との関係図である。
【図3】本発明のレーザ加工装置に係る第1実施の形態を示す概略構成図である。
【符号の説明】
1…レーザ加工装置、11…レーザ発振器、13…ビームスプリッタ、21…受光部、22…判定器、L…レーザ光、Lp…加工用のレーザ光、Ld…出力検出用のレーザ光
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ加工装置およびレーザ加工方法に関し、詳しくはレーザ孔を照射して、液晶表示装置、半導体装置等の基板にレーザ光を照射し、その照射部に対して結晶化、アニーリング等の熱処理を施すレーザ加工装置およびレーザ加工方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ガラス基板上に形成されたアモルファスシリコン層にエキシマレーザ光を照射して、アモルファスシリコン層を結晶化するレーザ熱処理が行われている。その際、レーザ光出力の劣化を検出するには、例えば数十枚の基板の熱処理に対して1回の割合でダミー基板を用意し、そのダミー基板にレーザ光を照射して、出力状態を確認していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
エキシマレーザ発振器のようなガスを用いたレーザ発振器では、ガスの劣化によって出力が経時変化を起こす。そのため、レーザ光の総照射時間がある一定の時間になった時点で、レーザ発振器のガス交換を行っていた。しかしながら、レーザ発振器のガスの劣化が早まった場合には、製品に不良が発生することになる。一方、ガスの劣化が遅れた場合には、良好な状態のうちにガス交換を行うことになるため、ガスを無駄に消費することになる、効率のよいメンテナンスが行えない、等の問題があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するためになされたレーザ加工装置およびレーザ加工方法である。
【0005】
本発明のレーザ加工装置は、レーザ光を発振するレーザ発振器と、前記レーザ発振器より発振されたレーザ光を加工用のレーザ光と出力検出用のレーザ光とに分割するビームスプリッタと、前記加工用のレーザ光が照射される基板を載置するもので、所定の方向に移動可能なステージと、前記ビームスプリッタにより分割された出力検出用のレーザ光を受光する受光部と、前記加工用のレーザ光と前記出力検出用のレーザ光との出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、前記加工用のレーザ光が前記基板表面に照射されかつ照射位置が移動される際のレーザ光の出力変化を、前記受光部が分割された出力検出用のレーザ光を受光することで得た信号に基づいて、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光の照射エネルギーが所定値以上の場合には正常と判定し、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光の照射エネルギーが所定値未満の場合には異常と判定する判定器とを備えたものである。ここでいう所定値とは、例えば、レーザ加工が安定して為されるレーザ出力をいう。
【0006】
上記レーザ加工装置では、ビームスプリッタにより分割された出力検出用のレーザ光を受光する受光部を備えていることから、レーザ発振器の出力をリアルタイムで検出することができる。加えて、加工用のレーザ光と出力検出用のレーザ光との出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、加工用のレーザ光が基板表面に照射されかつ照射位置が移動される際のレーザ光の出力変化を、受光部が出力検出用のレーザ光を受光することで得た信号により、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光の照射エネルギーが所定値以上の場合には正常と判定し、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光の照射エネルギーが所定値未満の場合には異常と判定する判定器を備えていることから、レーザ発振器より発振されるレーザ光の出力が所定値以下になる直前を検出することができる。
【0007】
例えばレーザ発振器がガスレーザ発振器の場合、ガス交換が必要と判断される出力にまで出力低下が生じる直前で、ガス交換を行うことが可能になる。したがって、レーザ発振器のガスの劣化が早まった場合には、その時点でガス交換が行えるので、常に所定の出力以上で加工を行うことができ、加工の安定化が図れる。よって従来のように、製品に不良が発生することはなく、歩留りの向上が図れる。一方、ガスの劣化が遅れた場合には、従来のように、良好な状態のうちにガス交換を行う必要がないため、ガスを無駄に消費することがなく、効率のよいメンテナンスが行える。
【0008】
本発明のレーザ加工方法は、レーザ光を発振するレーザ発振器と、前記レーザ発振器より発振されたレーザ光を加工用のレーザ光と出力検出用のレーザ光とに分割するビームスプリッタと、前記ビームスプリッタにより分割された出力検出用のレーザ光を受光する受光部と、前記受光部で受光した出力検出用のレーザ光の出力より前記レーザ光の出力値を判定する判定器と、前記加工用のレーザ光が照射される基板を載置するもので、所定の方向に移動可能なステージとを備えたレーザ加工装置を用いてレーザ加工を行うレーザ加工方法であって、前記判定器では、前記加工用のレーザ光と前記出力検出用のレーザ光との出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、前記加工用のレーザ光が前記基板表面に照射されかつ照射位置が移動される際のレーザ光の出力変化を、前記受光部で出力検出用のレーザ光を受光して得た信号に基づいて、照射位置の移動方向に対するレーザ光の照射エネルギー(出力検出用のレーザ光のエネルギーからの換算値)が所定値以上の場合には正常と判定し、照射位置の移動方向に対するレーザ光の照射エネルギー(出力検出用のレーザ光のエネルギーからの換算値)が所定値未満の場合には異常と判定する。ここでいう所定値とは、例えば、レーザ加工が安定してなされるレーザ出力をいう。
【0009】
上記レーザ加工方法では、ビームスプリッタにより分割された出力検出用のレーザ光を受光する受光部を備えたレーザ加工装置を用いていることから、レーザ光の出力はリアルタイムで検出される。そして、レーザ加工装置に備えられた判定器によって、加工用のレーザ光と出力検出用のレーザ光との出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、加工用のレーザ光が基板表面に照射されかつスキャンされる際のレーザ光の出力変化を、分割された出力検出用のレーザ光を受光部で受光して得た信号に基づいて、照射位置の移動方向に対するレーザ光の照射エネルギーが所定値以上の場合には正常と判定し、照射位置の移動方向に対するレーザ光の照射エネルギーが所定値未満の場合には異常と判定することから、レーザ発振器より発振されるレーザ光の出力が所定値以下になる直前を検出することができる。
【0010】
そのため、例えばレーザ発振器がガスレーザ発振器の場合、ガス交換が必要と判断される出力にまで出力低下が生じる直前で、ガス交換を行うことが可能になる。したがって、レーザ発振器のガスの劣化が早まった場合には、その時点でガス交換が行えるので、常に所定の出力以上で加工を行うことができ、加工の安定化が図れる。よって従来のように、出力低下による製品の不良が発生することはなく、歩留りの向上が図れる。一方、ガスの劣化が遅れた場合には、従来のように、良好な状態のうちにガス交換を行う必要がないため、ガスを無駄に消費することがなく、効率のよいメンテナンスが行える。
【0011】
【発明の実施の形態】
本発明のレーザ加工装置に係る第1実施の形態を、図1の概略構成図によって説明する。
【0012】
図1に示すように、レーザ加工装置1は、以下のような構成を有する。レーザ光Lを発振するレーザ発振器11を備えている。このレーザ発振器11は、例えばエキシマレーザ光を発振するガスレーザ発振器からなる。このレーザ発振器11のレーザ光Lの射出方向には、レーザ光Lを整形するビーム整形器12が備えられている。このビーム整形器12は、例えばレーザ発振器11より発振されたレーザ光Lを、所望の幅を持った線条ビームに整形するものである。さらに、ビーム整形器12のレーザ光Lの射出方向には、レーザ光Lを加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとに分割するビームスプリッタ13が設置されている。
【0013】
上記ビームスプリッタ13は、プリズム、ダイクロイックミラー等の光線を二つの方向(例えば90度異なる方向)に分割することができるものであればよい。本装置の場合、出力検出用のレーザ光Ldは、受光部21により検出できる程度の出力値(例えば0.8W〜1W程度)を有していればよく、加工用のレーザ光Lpは、入射光の例えば98%以上を占めていることが好ましい。
【0014】
上記ビームスプリッタ13により分割された出力検出用のレーザ光Ldの射出方向には、その出力検出用のレーザ光Ldを受光する受光部21が備えられている。上記受光部21は、例えばPSD(Position sensitive detector:位置検出センサーまたは2次元フォトダイオード)もしくはCCD(電荷結合デバイス)ラインセンサで構成されている。ここでは、線条ビームの長手方向に3個の受光部21a、21b、21cが設けられている。この受光部21の個数は、線条ビームの長手方向の長さによって適宜選択される。受光部21は、例えば、30cm〜40cm間隔に設ける。
【0015】
さらに、この受光部21で受光した光の出力よりレーザ光Lの出力値を判定する判定器22が備えられている。この判定器22は、具体的には、加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとの出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、加工用のレーザ光Lpが基板31表面に照射されかつ照射位置が移動(例えばスキャン)される際のレーザ光Lの出力変化を、分割された出力検出用のレーザ光Ldを受光部21で受光して得た信号に基づいて、照射位置の移動(例えばスキャン)方向に対応させた出力検出用のレーザ光Ldの照射エネルギーが所定値以上の場合には正常と判定して次のレーザ加工を続行する指示を出し、照射位置の移動(例えばスキャン)方向に対応させた出力検出用のレーザ光Ldの照射エネルギーが所定値未満の場合には異常と判定して装置メンテナンスを行う指示を出すものである。
【0016】
上記検出する照射エネルギー値は、加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとの出力比が時間変化に対して一定であることから、出力検出用のレーザ光Ldの照射エネルギーから、加工用のレーザ光Lpの照射エネルギー、レーザ光Lの照射エネルギーを換算することが可能である。その際、ビーム調整器12、ビームスプリッタ13等での反射、吸収による損失を考慮すれば、さらに正確な照射エネルギー値を求めることができる。
【0017】
なお、線条ビームは、スキャン方向と平行(X方向)な軸を短軸、スキャン方向と直角な方向(Y方向)を長軸とする長方形状をなしている。そしてここでは、線条ビームのY方向は均一な照射分布となるよう光学的に調整が済んでいるとし、線条ビームをX方向にスキャンした際の出力分布ばらつきについて調べている。
【0018】
さらに、上記加工用のレーザ光Lpの射出方向には、加工される基板31が載置されるステージ15が設置されている。このステージ15は、例えばX・Y方向に移動可能なもので、さらにZ方向にも移動可能であってもよい。ステージ15のX方向への移動手段は、照射されるレーザーパルスに同期して所定の送り量を実現できるよう、例えば送りねじ(例えばボールねじ)を用いた送り機構にパルスモーターを連結して構成される直動機構が備わっているものとする。また、Y方向、Z方向にも、上記直動機構と同様の機構が設けられていてもよい。上記直動機構は、上記構成に限定はされない。一般のステッパ露光装置等に搭載されている可動ステージを用いることができる。このようなステージ15では、載置された基板31表面に、線条の加工用のレーザ光Lpが図面の斜線領域で示すように線条に照射され、ステージ15がX方向に移動されることによって矢印ア方向に照射位置が移動(スキャン)される。
【0019】
上記レーザ加工装置1では、ビームスプリッタ13により分割された出力検出用のレーザ光Ldを受光する受光部21を備えていることから、レーザ発振器11の出力をリアルタイムで検出することができる。加えて、加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとの出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、加工用のレーザ光Lpが基板31表面に照射されかつ照射位置が移動される際のレーザ光Lの出力変化を、受光部21が出力検出用のレーザ光Ldを受光することで得た信号に基づいて、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光Ldの照射エネルギーが所定値以上の場合には正常と判定し、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光Ldの照射エネルギーが所定値未満の場合には異常と判定する判定器を備えていることから、レーザ発振器11より発振されるレーザ光Lの出力が所定値以下になる直前を検出することができる。
【0020】
例えばレーザ発振器11がガスレーザ発振器の場合、ガス交換が必要と判断される出力にまで出力低下が生じる直前で、ガス交換を行うことが可能になる。したがって、レーザ発振器のガスの劣化が早まった場合には、その時点でガス交換が行えるので、常に所定の出力以上で加工を行うことができ、加工の安定化が図れる。よって従来のように、製品に不良が発生することはなく、歩留りの向上が図れる。一方、ガスの劣化が遅れた場合には、従来のように、良好な状態のうちにガス交換を行う必要がないため、ガスを無駄に消費することがなく、効率のよいメンテナンスが行える。
【0021】
次に、本発明のレーザ加工方法に係る第1実施の形態を、前記図1の概略構成図によって説明する。
【0022】
本発明のレーザ加工方法は、前記図1によって説明したレーザ加工装置1を用いる。例えば、液晶表示基板、半導体装置基板等に用いられるガラス基板上に形成されたアモルファスシリコン層を結晶化する熱処理を行う場合について、以下に説明する。
【0023】
ステージ15上に被加工物の基板31を載置する。この基板31は、例えばガラス基板からなり、その表面にはアモルファスシリコン層(図示せず)が形成されている。レーザ発振器11より所望の出力に調整されたレーザ光Lを発振し、ビーム調整器2によってレーザ光Lを線条ビームに整形する。このビーム調整器2は、例えばシリンドリカルレンズを主体としたレンズ光学系もしくは凹面反射鏡を主体とした反射光学系からなる。上記線条ビームはさらにビームスプリッタ13に入射され、加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとに分割する。このビームスプリッタ13は、プリズム、半透過反射ミラー等の光線を二つの方向(例えば90度異なる方向)に分割することができるものを用いる。
【0024】
出力検出用のレーザ光Ldは、受光部21により検出できる程度の出力値(例えば0.8W〜1W程度)を有し、加工用のレーザ光Lpは、入射光の例えば98%以上を占めるように分割される。
【0025】
そして、一方の加工用のレーザ光Lpは、例えばX方向に移動するステージ15上の基板31表面に照射され、アモルファスシリコン層を結晶化する。
【0026】
他方の上記ビームスプリッタ13により分割された出力検出用のレーザ光Ldは、受光部21によって受光され、判定器22によってその出力が判定される。具体的には、この判定器22では、加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとの出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、加工用のレーザ光Lpが基板31表面に照射されかつスキャンされる際のレーザ光Lの出力変化を、分割された出力検出用のレーザ光Ldを受光部21で受光して得た信号に基づいて、スキャン方向に対するレーザ光Lの照射エネルギー(出力検出用のレーザ光のエネルギーからの換算値)が所定値以上の場合には正常と判定して次のレーザ加工を続行し、スキャン方向に対するレーザ光Lの照射エネルギー(出力検出用のレーザ光のエネルギーからの換算値)が所定値未満の場合には異常と判定して装置メンテナンスを行う。
【0027】
ここで、判定方法の一例を、図2の照射エネルギー値とスキャン位置との関係図によって説明する。
【0028】
図2では、縦軸に照射エネルギー値を示し、横軸にスキャン位置を示す。図2に示すように、レーザ発振器から発振されるレーザ光出力が正常な場合には、実線で示すように急峻な立ち上がりの照射エネルギー分布を示すが、例えばレーザ発振器から発振されるレーザ光の出力が低下した場合には、破線で示すように立ち上がりが鈍くなる。
【0029】
例えば、アモルファスシリコン層の結晶化のような熱処理を行うレーザ加工の場合を説明する。
【0030】
いま、必要な照射エネルギーレベルをEとする。正常なレーザ光出力が得られている場合(実線で示す)には照射エネルギーレベルをEよりも高い照射エネルギー値を示す。しかも、照射エネルギーレベルEに達するまでの時間が短く、その立ち上がりが急峻になっている。一方、レーザ光出力の低下が生じた場合には、破線で示すように、照射エネルギー分布の立ち上がりが鈍くなる。図示はしていないが、さらにレーザ光の出力が低下すると照射エネルギー値が照射エネルギーレベルEよりも低下する。
【0031】
すなわち、照射エネルギーの立ち上がりが鈍くなって照射エネルギーレベルEに達しない領域Δ1、Δ2では、照射エネルギーが足りないために十分な熱処理ができないので、結晶化が不十分になる。このΔ1、Δ2はスキャン速度が一定であれば通常は同等の量であることから、例えばΔ1がレーザ光を照射すべき領域のx%(xは任意に設定、例えばx=10)以上になったらレーザ出力に異常(例えば出力低下)があると判定する。
【0032】
本発明のレーザ加工装置およびレーザ加工方法では、リアルタイムでレーザ出力の状態をみることができるため、レーザ出力が正常であるか否かの判定は、照射エネルギーレベルEをレーザ光の劣化による製品不良が発生する直前に設定しておくことによって、効率的に行うことができる。そして異常があると判定された場合にはレーザ加工装置のメンテナンスを行う。例えば、エキシマレーザ加工装置の場合には、レーザ発振器内のガスの劣化であればガスを交換する。一方、正常と判定されている場合にはレーザ加工を続行して、次の製品のレーザ加工を行う。
【0033】
このように、レーザ光Lの出力は、出力検出用のレーザ光Ldの照射エネルギーを測定することによって判断することができる。
【0034】
次に、本発明のレーザ加工装置に係る第2実施の形態を、図3の概略構成図によって説明する。
【0035】
第2実施の形態は、本発明の構成を固体レーザ装置に適用した事例である。固体レーザ装置としては、Nd−YAGレーザ装置、Nd−アレキサンドライトレーザ装置等がある。
【0036】
図3に示すように、レーザ加工装置2は、以下のような構成を有する。レーザ光Lを発振するレーザ発振器11を備えている。このレーザ発振器11は、例えば固体レーザ発振器からなる。このレーザ発振器11のレーザ光Lの射出方向には、レーザ光Lを整形するビーム整形器12が備えられている。このビーム整形器12は、例えばレーザ発振器11より発振されたレーザ光Lを、所望の形状、例えば線条に整形するものである。さらに、ビーム整形器12のレーザ光Lの射出方向には、レーザ光Lを加工用のレーザ光Lpと出力検出用のレーザ光Ldとに分割するビームスプリッタ13が設置されている。
【0037】
上記ビームスプリッタ13は、前記図1によって説明したものと同様な形態のものを用いる。ビームスプリッタ13により分割された出力検出用のレーザ光Ldの射出方向には、その出力検出用のレーザ光Ldを受光する受光部21が備えられている。こお受光部21は、前記図1によって説明したものと同様な形態のものを用いることができるが、受光波長が発振波長に合ったものを用いる。
【0038】
さらに、この受光部21で受光した光の出力よりレーザ光Lの出力値を判定する判定器22が備えられている。この判定器22は、前記図1によって説明したものと同様な形態のものを用いることができる。
【0039】
さらに、上記加工用のレーザ光Lpの射出方向には、加工される基板31が載置されるステージ15が設置されている。このステージ15は、前記図1によって説明したものと同様な形態のものを用いることができる。
【0040】
この固体レーザ装置では、判定器22とレーザ発振器11との間に出力制御指令部23が設けられている。この構成では、レーザ光Lの出力が低下し、所定レベルまで低下した場合には、判定器22より出力制御指令部23に出力低下の情報が伝達され、出力制御指令部23によってレーザ発振器11に出力上昇の指令が伝達される。その指令に基づいてレーザ出力を高める措置がとられる。
【0041】
さらにレーザ出力が低下した場合には、レーザ加工装置1の稼動を停止して出力低下の原因を排除するメンテナンスを行う。例えば、レーザロッドを冷却する高抵抗冷却水(例えば超純水)の交換、冷却水の抵抗を一定に保つイオン交換樹脂の交換、レーザロッドを励起させるためのフラッシュランプの交換、等の作業を行う。
【0042】
なお、本発明は、レーザ発振器からの発振波長を加工波長に適合するように、発振波長のn次高調波を用いる場合にも、同様に適用することができる。
【0043】
【発明の効果】
以上、説明したように本発明のレーザ加工装置によれば、レーザ発振器の出力をリアルタイムで検出することができ、加えて、レーザ発振器より発振されるレーザ光の出力が所定値以下になる直前を検出することができる。このため、製品の不良が発生する前に装置メンテナンスを行うことができるので、また、常に必要最低限以上の出力で加工を行うことができるので、加工の安定化が図れる。よって従来のように、製品に不良が発生することはなく、歩留りの向上が図れる。さらに、従来のように、良好な装置状態を十分に維持することができるうちにメンテナンスを行うことがないため、効率よくメンテナンスを行うことができる。
【0044】
本発明のレーザ加工方法によれば、レーザ光の出力をリアルタイムで検出することができる。そして、レーザ光の出力が所定値以下になる直前を検出することができる。このため、製品の不良が発生する前に装置メンテナンスを行うことができるので、また、常に必要最低限以上の出力で加工を行うことができるので、加工の安定化が図れる。よって従来のように、製品に不良が発生することはなく、歩留りの向上が図れる。さらに、従来のように、良好な装置状態を十分に維持することができるうちにメンテナンスを行うことがないため、効率よくメンテナンスを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のレーザ加工装置に係る第1実施の形態を示す概略構成図である。
【図2】測定したレーザ出力を換算して求めた照射エネルギー値とレーザ出力を測定した時点のレーザビームのスキャン位置との関係図である。
【図3】本発明のレーザ加工装置に係る第1実施の形態を示す概略構成図である。
【符号の説明】
1…レーザ加工装置、11…レーザ発振器、13…ビームスプリッタ、21…受光部、22…判定器、L…レーザ光、Lp…加工用のレーザ光、Ld…出力検出用のレーザ光
Claims (4)
- レーザ光を発振するレーザ発振器と、
前記レーザ発振器より発振されたレーザ光を加工用のレーザ光と出力検出用のレーザ光とに分割するビームスプリッタと、
前記加工用のレーザ光が照射される基板を載置するもので所定の方向に移動可能なステージと、
前記ビームスプリッタにより分割された出力検出用のレーザ光を受光する受光部と、
前記加工用のレーザ光と前記出力検出用のレーザ光との出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、前記加工用のレーザ光が前記基板表面に照射されかつ照射位置が移動される際のレーザ光の出力変化を、前記受光部が出力検出用のレーザ光を受光することで得た信号に基づいて、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光の照射エネルギーが所定値以上の場合には正常と判定し、照射位置の移動方向に対応させた出力検出用のレーザ光の照射エネルギーが所定値未満の場合には異常と判定する判定器と
を備えたことを特徴とするレーザ加工装置。 - 前記判定結果に基づいてレーザ発振器のレーザ光出力を調整する出力調整器
を備えたしたことを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。 - レーザ光を発振するレーザ発振器と、
前記レーザ発振器より発振されたレーザ光を加工用のレーザ光と出力検出用のレーザ光とに分割するビームスプリッタと、
前記加工用のレーザ光が照射される基板を載置するもので所定の方向に移動可能なステージと、
前記ビームスプリッタにより分割された出力検出用のレーザ光を受光する受光部と、
前記受光部で受光した出力検出用のレーザ光の出力より前記レーザ光の出力値を判定する判定器とを備えたレーザ加工装置を用いてレーザ加工を行うレーザ加工方法であって、
前記判定器では、前記加工用のレーザ光と前記出力検出用のレーザ光との出力比が時間変化に対して一定であることを利用して、前記加工用のレーザ光が前記基板表面に照射されかつ照射位置が移動される際のレーザ光の出力変化を、前記受光部が出力検出用のレーザ光を受光することで得た信号に基づいて、照射位置の移動方向に対するレーザ光の照射エネルギーが所定値以上の場合には正常と判定し、照射位置の移動方向に対するレーザ光の照射エネルギーが所定値未満の場合には異常と判定する
ことを特徴とするレーザ加工方法。 - 前記判定結果に基づいてレーザ発振器より発振されるレーザ光出力を調整する
ことを特徴とする請求項3記載のレーザ加工方法。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007114031A1 (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Hitachi Computer Peripherals Co., Ltd. | レーザ照射装置及びレーザ照射方法及び改質された被対象物の製造方法 |
JP2008520095A (ja) * | 2004-11-12 | 2008-06-12 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 基板のレーザ熱処理における差し迫った不具合の急速検出 |
JP2008246540A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Sunx Ltd | レーザ加工装置及び加工システム |
WO2011142154A1 (ja) * | 2010-05-11 | 2011-11-17 | 株式会社日本製鋼所 | レーザアニール処理装置、レーザアニール処理体の製造方法およびレーザアニール処理プログラム |
US8644665B2 (en) | 2008-09-29 | 2014-02-04 | Hitachi Information & Telecommunication Engineering, Ltd. | Semiconductor manufacturing apparatus |
US8915481B2 (en) | 2005-07-30 | 2014-12-23 | Deutsches Zentrum fur Luft—und Raumfahrt e.V. | Magnetically actuable valve |
-
2002
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008520095A (ja) * | 2004-11-12 | 2008-06-12 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 基板のレーザ熱処理における差し迫った不具合の急速検出 |
US8915481B2 (en) | 2005-07-30 | 2014-12-23 | Deutsches Zentrum fur Luft—und Raumfahrt e.V. | Magnetically actuable valve |
WO2007114031A1 (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Hitachi Computer Peripherals Co., Ltd. | レーザ照射装置及びレーザ照射方法及び改質された被対象物の製造方法 |
JPWO2007114031A1 (ja) * | 2006-03-30 | 2009-08-13 | 日立コンピュータ機器株式会社 | レーザ照射装置及びレーザ照射方法及び改質された被対象物の製造方法 |
JP2008246540A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Sunx Ltd | レーザ加工装置及び加工システム |
US8644665B2 (en) | 2008-09-29 | 2014-02-04 | Hitachi Information & Telecommunication Engineering, Ltd. | Semiconductor manufacturing apparatus |
WO2011142154A1 (ja) * | 2010-05-11 | 2011-11-17 | 株式会社日本製鋼所 | レーザアニール処理装置、レーザアニール処理体の製造方法およびレーザアニール処理プログラム |
JP2011238804A (ja) * | 2010-05-11 | 2011-11-24 | Japan Steel Works Ltd:The | レーザアニール処理装置、レーザアニール処理体の製造方法およびレーザアニール処理プログラム |
CN102473615A (zh) * | 2010-05-11 | 2012-05-23 | 株式会社日本制钢所 | 激光退火处理装置、激光退火处理体的制造方法及激光退火处理程序 |
CN102473615B (zh) * | 2010-05-11 | 2015-04-01 | 株式会社日本制钢所 | 激光退火处理装置、激光退火处理体的制造方法及激光退火处理方法 |
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