JP2004054031A5 - - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 7
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims 7
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 3
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 claims 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 claims 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims 2
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Claims (14)
- 所定基材上に偏光層が形成された偏光層形成基板であって、
前記偏光層の面内において、水溶性且つ偏光性を示す水溶性偏光成分を含んで構成される水溶性領域と、前記水溶性偏光成分を不溶化した不溶性偏光成分を含んで構成される非水溶性領域とが、所定のパターンで前記基材上に形成されていることを特徴とする偏光層形成基板。 - 前記非水溶性領域が個々に平面視矩形状に形成され、前記水溶性領域は前記各非水溶性領域の間に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の偏光層形成基板。
- 前記水溶性偏光成分が解離基を備えてなり、前記非水溶性領域において、前記解離基が対イオン成分との間で水に対して不溶若しくは難溶の結合を形成してなることを特徴とする請求項１又は２に記載の偏光層形成基板。
- 前記水溶性偏光成分が解離基を有する二色性染料であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の偏光層形成基板。
- 基材上に、水溶性且つ偏光性を示す水溶性偏光成分を含む層を形成する工程と、形成した水溶性偏光成分を含む層に対して、所定の領域毎に不溶化処理剤を反応させる工程と、を含むことを特徴とする偏光層の製造方法。
- 基材上に、水溶性且つ偏光性を示す水溶性偏光成分を含む層を形成する工程と、
前記水溶性偏光成分を含む層に対して、所定の領域毎に不溶化処理剤を反応させる工程と、
前記不溶化処理剤を反応させた後に、少なくとも形成された層を水に浸す若しくは水洗浄する工程と、
を含むことを特徴とする偏光層の製造方法。 - 前記不溶化処理剤を反応させる工程は、前記水溶性偏光成分を水に不溶化若しくは難溶化する不溶化処理剤を、該水溶性偏光成分を含む層に反応させることにより、その不溶化処理剤の構成成分と前記水溶性偏光成分との間で、水に対して不溶若しくは難溶の結合を形成する処理であることを特徴とする請求項５又は６に記載の偏光層の製造方法。
- 請求項１ないし４のいずれか１項に記載の偏光層形成基板を用いたことを特徴とする液晶表示装置。
- 互いに対向する第１基板と第２基板との間に液晶層が挟持され、透過表示領域と反射表示領域とを含む液晶表示装置であって、
前記第１基板の外面側に第１偏光層が設けられるとともに、前記第２基板の外面側に第２偏光層が設けられ、該第２基板の外面側から前記透過表示領域に光を入射する光源が配置され、前記第２基板と前記液晶層との間に、反射層と、内面偏光層とが前記第２基板側からこの順で設けられ、前記内面偏光層は、水溶性且つ偏光性を示す水溶性偏光成分を含む層を所定の領域毎に不溶化してパターン形成したものであることを特徴とする液晶表示装置。 - 互いに対向する一対の基板間に液晶層が挟持され、透過表示領域と反射表示領域とを含む液晶表示装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上に、水溶性且つ偏光性を示す水溶性偏光成分を含む層を形成する工程と、前記水溶性偏光成分を含む層に対して、所定の領域毎に不溶化処理剤を反応させる工程とを含む内面偏光層の形成工程を具備することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 互いに対向する一対の基板間に液晶層が挟持され、透過表示領域と反射表示領域とを含む液晶表示装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板上に、水溶性且つ偏光性を示す水溶性偏光成分を含む層を形成する工程と、前記水溶性偏光成分を含む層に対して、所定の領域毎に不溶化処理剤を反応させる工程と、前記不溶化処理剤を反応させた後に、少なくとも形成された層を水に浸す若しくは水洗浄する工程とを含む内面偏光層の形成工程とを具備することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記不溶化処理剤を反応させる工程は、前記水溶性偏光成分を水に不溶化若しくは難溶化する不溶化処理剤を、該水溶性偏光成分を含む層に反応させることにより、その不溶化処理剤の構成成分と前記水溶性偏光成分との間で、水に対して不溶若しくは難溶の結合を形成する処理であることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記一方の基板上に反射層を形成した後に、該反射層上に前記内面偏光層を形成する工程を具備するとともに、該一方の基板の前記内面偏光層が形成された側と異なる側に第２偏光層を形成する工程と、前記一対の基板のうち他方の基板上に第１偏光層を形成する工程と、前記第１偏光層及び第２偏光層をそれぞれ外面側として前記一対の基板間に液晶を封入する工程とを含むことを特徴とする請求項１０ないし１２のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 請求項８又は９に記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002212760A JP2004054031A (ja) | 2002-07-22 | 2002-07-22 | 偏光層形成基板、偏光層の製造方法、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2002212760A JP2004054031A (ja) | 2002-07-22 | 2002-07-22 | 偏光層形成基板、偏光層の製造方法、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、電子機器 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004054031A JP2004054031A (ja) | 2004-02-19 |
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ID=31935597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002212760A Withdrawn JP2004054031A (ja) | 2002-07-22 | 2002-07-22 | 偏光層形成基板、偏光層の製造方法、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、電子機器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004054031A (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4154940B2 (ja) * | 2002-07-22 | 2008-09-24 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
| JP5422875B2 (ja) * | 2006-02-13 | 2014-02-19 | 三菱化学株式会社 | 異方性光学膜の製造方法 |
| CN105339817B (zh) | 2013-06-27 | 2018-07-20 | 三菱化学株式会社 | 偏光元件以及偏光元件的制造方法 |
| JP6215864B2 (ja) | 2014-04-25 | 2017-10-18 | 日東電工株式会社 | 偏光子、偏光板および画像表示装置 |
| JP6214594B2 (ja) | 2014-04-25 | 2017-10-18 | 日東電工株式会社 | 偏光子、偏光板および画像表示装置 |
| JP6215865B2 (ja) * | 2014-04-25 | 2017-10-18 | 日東電工株式会社 | 偏光子の製造方法 |
| JP6215261B2 (ja) | 2014-06-27 | 2017-10-18 | 日東電工株式会社 | 長尺状の偏光子、長尺状の偏光板および画像表示装置 |
| JP6713189B2 (ja) | 2014-06-27 | 2020-06-24 | 日東電工株式会社 | 長尺状の偏光フィルム積層体 |
| JP7163000B2 (ja) | 2015-06-25 | 2022-10-31 | 日東電工株式会社 | 非偏光部を有する偏光子 |
| JP6422415B2 (ja) | 2015-09-28 | 2018-11-14 | 日東電工株式会社 | 偏光子、偏光板および画像表示装置 |
| WO2018003425A1 (ja) * | 2016-06-30 | 2018-01-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 光学膜形成方法、コンピュータ記憶媒体及び光学膜形成装置 |
-
2002
- 2002-07-22 JP JP2002212760A patent/JP2004054031A/ja not_active Withdrawn
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