JP2004047456A

JP2004047456A - Transparent conductive material and touch panel

Info

Publication number: JP2004047456A
Application number: JP2003143831A
Authority: JP
Inventors: Shinji Hattori; 服部　真士; Kensuke Yoshioka; 吉岡　健介
Original assignee: NOF Corp
Current assignee: NOF Corp
Priority date: 2002-05-23
Filing date: 2003-05-21
Publication date: 2004-02-12
Anticipated expiration: 2023-05-21
Also published as: JP4572507B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductive material having simple configuration, low production cost, and less coloring of transmitted light, and to provide a touch panel using the transparent conductive material. <P>SOLUTION: This transparent conductive material is formed by laminating an intermediate refractive index layer (B) having a layer thickness in optical film thickness of 100-175 nm and a conductive layer (C) having a layer thickness in optical film thickness of 10-60 nm in order from a substrate side directly or through one or more layers on one surface or booth surfaces of a substrate (A). In the transparent conductive material, a refractive index of the intermediate refractive index layer is 1.7-1.85, and a refractive index of each layer satisfies the relation of the refractive index of the substrate (A) < the refractive index of the intermediate refractive index layer (B) < the refractive index of the conductive layer (C). The transparent conductive material has less coloring of transmitted light and high transmission factor, and therefore, is useful for the touch panel. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、構成が簡単で製造コストが低く、かつ着色の少ない透明導電材料およびそれを用いたタッチパネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、画面表示に直接触れることにより、情報を入力できるデバイスとしてタッチパネルが用いられている。これは光を透過する入力装置を液晶表示装置、ＣＲＴなどの各種ディスプレイ上に配置したものであり、代表的な形式のひとつとして、電極基板２枚を導電層が向かい合う様に配置した抵抗膜式タッチパネルがある。
【０００３】
抵抗膜式タッチパネル用の電極基板として、ガラス板や、樹脂板や、各種の熱可塑性高分子フィルムの基板上に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）や酸化亜鉛などの導電性を有する金属酸化物を積層したものが一般的に用いられている。
【０００４】
このようにして得られた電極基板は、金属酸化物層の反射および吸収に由来する可視光短波長域の透過率低下により全光線透過率が低下すると同時に、黄色もしくは茶色に呈色することが多い。そのためタッチパネルの下に配置される表示装置の発色を正確に表現することが難しいといった問題があった。
【０００５】
この問題を解決するために、導電層と基材との間に、導電層、基材のどちらよりも屈折率の高い高屈折率層を挿入したり、あるいは導電層、基材のどちらよりも屈折率の低い低屈折率層を挿入する方法が提案されている（例えば特許文献１を参照）。この方法によれば、図５に示すように、５５０ｎｍ付近の波長における反射率を抑えることができ、図６に示すように、５５０ｎｍ付近の波長における透過率を高くすることができる。しかし、これらはいずれも全光線透過率を向上させる効果は得られるが、黄色もしくは茶色に透過光が呈色する問題については未解決であった。
【０００６】
また、導電層と基材の間に多層光学膜を積層する方法も提案されている（例えば特許文献２を参照）。
【０００７】
【特許文献１】
特開平６−２１８８６４号公報（第２頁及び第３頁）
【特許文献２】
特開平１１−２８６０６６号公報（第２〜４頁）
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、これらは電極材料の透過率をコントロールして透過光の着色を抑える効果が得られるものの、中間層が多層膜となるため、構成が複雑で製造コストが高くなる問題があった。
【０００９】
本発明の目的は、構成が簡単で製造コストが低く、かつ透過光の着色の少ない透明導電材料およびそれを用いたタッチパネルを提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記問題点に鑑み鋭意検討した結果、基材表面に特定の中間屈折率層を形成した上に、導電層を形成することにより、着色を抑えた透明導電材料を形成できることを見い出し、本発明を完成した。
【００１１】
本発明は次の（１）〜（９）である。
（１）　基材（Ａ）の片面もしくは両面に、直接もしくは一層以上の層を介して基材側から順に、層厚が光学膜厚で１００〜１７５ｎｍの中間屈折率層（Ｂ）および層厚が光学膜厚で１０〜６０ｎｍの導電層（Ｃ）を積層した透明導電材料であって、かつ中間屈折率層（Ｂ）の屈折率が１．７〜１．８５で、各層の屈折率が基材（Ａ）の屈折率＜中間屈折率層（Ｂ）の屈折率＜導電層（Ｃ）の屈折率となる関係を満たす透明導電材料。
（２）　導電層（Ｃ）が金属もしくは金属酸化物からなる導電層である前記（１）の透明導電材料。
（３）　導電層（Ｃ）が酸化インジウム錫を蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着（ＣＶＤ）法およびスパッタリング法から選ばれるいずれか１種の方法により形成した層であることを特徴とする前記（１）又は（２）の透明導電材料。
（４）　基材（Ａ）が１０〜５００μｍの厚みを持つプラスチックフィルムである前記（１）〜（３）のいずれかの透明導電材料。
（５）　中間屈折率層（Ｂ）が原料をウェットコーティング法により形成した層である前記（１）〜（４）のいずれかの透明導電材料。
（６）　透明導電材料の導電層（Ｃ）側表面における反射率曲線の極小値が３８０〜５００ｎｍの波長範囲内にあることを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれかの透明導電材料。
（７）　透明導電材料の導電層（Ｃ）側表面における反射率曲線の極小値が４５０〜５００ｎｍの波長範囲内にあることを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれかの透明導電材料。
（８）　ＪＩＳ　Ｚ８７２９に定められるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色差が、−２＜ａ＊＜２、−２＜ｂ＊＜２の範囲であることを特徴とする前記（１）〜（７）のいずれかの透明導電材料。
（９）　前記（１）〜（８）のいずれかの透明導電材料を電極基板として用いたタッチパネル。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
本実施形態の透明導電材料は、基材（Ａ）の片面もしくは両面に、直接もしくは一層以上の層を介して基材側から順に、層厚が光学膜厚で１００〜１７５ｎｍの中間屈折率層（Ｂ）、層厚が光学膜厚で１０〜６０ｎｍの導電層（Ｃ）を積層したものである。かつ中間屈折率層（Ｂ）の屈折率が１．７〜１．８５で、各層の屈折率が基材（Ａ）の屈折率＜中間屈折率層（Ｂ）の屈折率＜導電層（Ｃ）の屈折率となる関係を満たすものである。ここでいう光学膜厚とは層の屈折率（ｎ）と層の厚み（ｄ）の積（ｎ×ｄ）を意味している。
【００１３】
本実施形態に用いられる基材（Ａ）は、透明導電材料のベース材となるもので、透明性の良好なものである。この基材（Ａ）としては特に限定されるものではなく、公知の全てのものが使用可能である。基材（Ａ）の材質としては、例えば、ガラスや、ポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略記）、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル共重合体、トリアセチルセルロース、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、非晶質ポリオレフィンなどの透明樹脂が好ましい。
【００１４】
また基材（Ａ）の形状としては、例えば板状もしくはフィルム状のものが挙げられる。生産性、運搬性の点からプラスチックフィルムが好ましく挙げられる。その際、その厚みとしては１０〜５００μｍのものが透明性、作業性の点より好ましく、５０〜２００μｍのものがさらに好ましい。
【００１５】
次に、中間屈折率層（Ｂ）について説明する。基材（Ａ）と導電層（Ｃ）の間に前述したような特定の中間屈折率層（Ｂ）を形成させた本実施形態の透明導電材料は、紫から青色の光の反射を低減できるため、透過光の着色を低減できる。
【００１６】
中間屈折率層（Ｂ）の屈折率は、基材（Ａ）と導電層（Ｃ）　の屈折率に対して、基材（Ａ）の屈折率＜中間屈折率層（Ｂ）の屈折率＜導電層（Ｃ）の屈折率の関係を満たし、かつ１．７〜１．８５の範囲である。中間屈折率層（Ｂ）の屈折率が１．７未満あるいは１．８５よりも大きい場合、得られる透明導電材料における着色度が大きくなる。
【００１７】
中間屈折率層（Ｂ）の層厚は、光学膜厚で１００〜１７５ｎｍの範囲が好ましい。中間屈折率層（Ｂ）の光学膜厚をこのような範囲に設定することにより、反射光の中で特に青色（波長４００ｎｍ）付近の反射率の小さい透明導電材料が得られる。光学膜厚が１００ｎｍ未満あるいは光学膜厚が１７５ｎｍより大きい場合には、得られる透明導電材料における着色度が大きくなる。中間屈折率層（Ｂ）を形成する材料としては、屈折率が特定の範囲を逸脱せず、本実施形態の目的を損なわない限りは特に限定されず、従来公知の材料を使用することができる。
【００１８】
具体的には、例えば、無機物、無機物と有機物との混合物を用いることができる。ここで、無機物としては例えば酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化シラン、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム錫、酸化アンチモン錫などの金属酸化物が材料として挙げられる。これらのうち、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウム錫、酸化アンチモン錫及び酸化セリウムが好ましく、酸化ジルコニウムが屈折率、電気絶縁性、耐光性などの観点から最も好ましい。
【００１９】
中間屈折率層（Ｂ）の形成方法は特に限定されず、例えば蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学蒸着（ＣＶＤ）法、めっき法などのドライコーティング法、ウェットコーティング法などを採用することができる。これらの中では、層の厚みの制御が容易であるという観点から蒸着法およびスパッタリング法が好ましい。
【００２０】
また、無機物と有機物との混合物の場合、例えば、無機物として前述の金属酸化物の微粒子と、有機物としての硬化性単量体の混合物が材料として挙げられる。この場合、中間屈折率層（Ｂ）の屈折率の設定を容易に行なうことができ、また該層（Ｂ）を容易に作製することができる。金属酸化物の微粒子の平均粒径は中間屈折率層の厚みを大きく超えないことが好ましい。具体的には０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがさらに好ましく、０．０１〜０．０５μｍであることが最も好ましい。平均粒径が大きくなると、散乱が生じるなど、中間屈折率層の透明性が低下する場合があるため好ましくない。
【００２１】
また、必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤などにより修飾することができる。各種カップリング剤としては例えば、珪素化合物、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモンなどを有機置換した金属アルコキシド、有機酸塩などが挙げられる。
【００２２】
硬化性単量体としては、特に限定されず、従来公知のものを使用できる。例えば単官能もしくは多官能の（メタ）アクリル酸エステルや、テトラエトキシシランなどの珪素化合物が挙げられる。さらに、硬化性単量体は、中間屈折率層（Ｂ）の生産性および層強度の観点より紫外線硬化性単量体であることが好ましく、層強度を向上させる観点から、多官能単量体を用いることが好ましい。そのため、紫外線硬化型でかつ多官能型のアクリレートや珪素化合物が、最も好ましく挙げられる。
【００２３】
紫外線硬化型でかつ多官能型のアクリレートとしては、具体的には、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサンなどの多官能アルコール誘導体やポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー等のウレタンアクリレートなどが挙げられる。硬化性単量体として、前述の単量体の１種または２種以上混合したもの、またはその他の成分をさらに添加したものを用いることができる。
【００２４】
金属酸化物の微粒子と硬化性単量体との混合比率（金属酸化物の微粒子／硬化性単量体、単位：重量比）は、５０／５０〜９０／１０であることが好ましく、６０／４０〜８５／１５であることがさらに好ましい。金属酸化物の微粒子の割合が５０重量部未満、すなわち硬化性単量体の割合が５０重量部を超える場合、屈折率を所望通り上げることができず、また金属酸化物の微粒子の割合が９０重量部を超え、すなわち硬化性単量体の割合が１０重量部未満の場合、層の成形性および強度が低くなる傾向にある。
【００２５】
また、中間屈折率層（Ｂ）の層中に本実施形態の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含ませても構わない。その他の成分とは特に限定されるものではなく、例えば、無機または有機顔料、重合体、重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸収剤、レベリング剤などの添加剤が挙げられる。
【００２６】
また、ウェットコーティング法において層を形成後乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することができる。無機物と有機物との混合物の場合、通常ウェットコーティング法で中間屈折率層（Ｂ）が形成される。ウェットコーティングの方法としては公知の方法で良く、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法などが代表的な方法として挙げられる。これらの中では、連続的に形成できるため生産性が高いという点でロールコート法またはディップコート法はより好ましい方法である。
【００２７】
次に、本実施形態における導電層（Ｃ）は、透明導電材料の導電回路を構成する通電部として機能するものである。この導電層（Ｃ）の材料としては特に限定されないが、金属もしくは金属酸化物を用いることが好ましい。例えば、金、銀、銅、白金、ニッケル、酸化錫、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化アンチモン錫などの透明導電層が好ましく挙げられる。これらの中では、導電性、透明性、安定性の観点より酸化インジウム錫（ＩＴＯ）が好ましく挙げられる。
【００２８】
また、導電層（Ｃ）の形成方法は特に限定されず、例えば蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、めっき法などのドライコーティング法を採用することができる。これらの中では、層の厚み制御の観点より蒸着法およびスパッタリング法が特に好ましい。
【００２９】
導電層（Ｃ）の層厚は、光学膜厚で１０〜６０ｎｍの範囲である。光学膜厚１０ｎｍ未満では表面抵抗値が高くなり、また光学膜厚が６０ｎｍより大きい場合、透明性が低下する。
【００３０】
さらに、基材（Ａ）と中間屈折率層（Ｂ）の間に、例えば硬度の向上を目的としたハードコート層や、他に、防眩、ニュートンリング防止、密着性の向上、特定波長に対する光の遮断などの機能の付与を目的とした一層以上の機能層を形成することができる。機能の付与方法は特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。この層は酸化珪素などの無機物、紫外線硬化型で、かつ多官能型のアクリレートなどの有機物、もしくはこれらの混合物を用いることができる。その厚みは０．００５〜２０μｍが好ましく、屈折率は１．４５〜１．６５の範囲内であることが好ましい。また、層の形成方法は特に限定されず、ドライコーティング法、ウェットコーティング法などを用いることができる。
【００３１】
また、前述の機能層に本実施形態の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含ませても構わない。その他の成分とは特に限定されるものではなく、例えば、無機充填剤、無機または有機顔料、重合体、重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸収剤、レベリング剤などの添加剤が挙げられる。また、ウェットコーティング法において、層を形成後、乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することができる。
【００３２】
本実施形態において、透明導電材料の導電層側表面における反射率曲線の極小値を３８０〜５００ｎｍの波長範囲内となるように、各層の屈折率や光学膜厚を調整すると、紫から青色の光の反射をより低減でき、透過光の着色をより低減できる。ここで、反射率曲線の極小値波長が３８０ｎｍ未満あるいは５００ｎｍより大きい場合には、紫から青色の光の反射を低減する効果が小さいか、逆に反射が大きくなることにより、透過光が着色する傾向にある。
【００３３】
本実施形態において、透明導電材料の導電層側表面における反射率曲線の極小値を３８０〜５００ｎｍの波長範囲内となるように各層の屈折率や光学膜厚を調整すると、透過光をＪＩＳ　Ｚ８７２９に定められるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色差として測定したとき、−２＜ａ＊＜２、−２＜ｂ＊＜２の範囲にできる。従って、着色が実用上問題とならない透明導電材料ができる。
【００３４】
さらに、反射率曲線の極小値波長を４５０〜５００ｎｍの範囲内となるように屈折率と光学膜厚を調整した場合、紫から青色の光の反射をより低減できるため、透過光の着色をより低減できるだけではなく、透明導電材料のＪＩＳ　Ｋ７３６１−１に定められる全光線透過率を８５％以上にできるのでさらに好ましい。
【００３５】
本実施形態の透明導電材料は、導電材料として高い光線透過率および優れた色調を必要とする用途に用いることができる。特に有機、無機エレクトロルミネッセンスディスプレイや液晶ディスプレイなどの電子画像表示装置や、抵抗膜式タッチパネルの電極基板などに用いることができる。
【００３６】
また、必要に応じて透明導電材料の導電層を形成していない面にあらかじめ接着層を設け、対象物に貼り合せて用いることができる。接着層に用いられる材料としては特に限定されるものではないが、例えば、シリコーン系粘着剤、アクリル系粘着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤などを挙げることができる。
【００３７】
また、抵抗膜式タッチパネルの上部電極基板として用いる場合には、透明導電材料の導電層を形成していない面に、表面強度向上のためのハードコート層を形成することが好ましい。このハードコート層には防眩、帯電防止、減反射などの機能を一種類以上付与させることができる。また透明導電材料の導電層を形成していない面を密着させるように接着層を介してハードコート層を有する基材の裏面に貼り合せて用いることもできる。
【００３８】
抵抗膜式タッチパネルの下部電極基板として用いる場合には透明導電性材料をそのまま、もしくはガラス、プラスチックなどの基材に貼り合せて用いることができる。また、その裏側に光線透過率を向上させるために直接もしくは１層以上の層を介して、少なくとも１層以上からなる減反射層を形成したり、減反射層を有する基材を貼り合せることができる。減反射層としては特に限定されず、従来公知のものを使用することができる。
【００３９】
さて、本実施形態の透明導電材料は、基材（Ａ）上に層厚が光学膜厚で１００〜１７５ｎｍの中間屈折率層（Ｂ）、さらにその上に層厚が光学膜厚で１０〜６０ｎｍの導電層（Ｃ）が積層されて構成されている。すなわち、この透明導電材料は、基材（Ａ）と導電層（Ｃ）との間に中間屈折率層（Ｂ）のみが形成されて構成されている。従って、多層構造の場合に比べて構成が簡単で、容易に製造することができる。
【００４０】
また、中間屈折率層（Ｂ）の屈折率が１．７〜１．８５で、各層の屈折率が基材（Ａ）の屈折率＜中間屈折率層（Ｂ）の屈折率＜導電層（Ｃ）の屈折率となる関係を有している。このため、透明導電材料に入射した光は、図３に示すように、４００〜７８０ｎｍの範囲の波長で反射率がほぼ一定となるように低下され、透過光が着色するのが抑制される。さらに、図４に示すように、透過率（全光線透過率）もほぼ８５％で一定となり、透過光の明るいものとなる。上記のように、中間屈折率層（Ｂ）の屈折率が基材（Ａ）の屈折率と導電層（Ｃ）の屈折率との中間の値に設定されていることから、透明導電材料の反射率を各波長に対して比較的フラット（極大値と極小値との差が比較的小さい）なものにすることができる。従って、透過光の着色を抑えることができる。さらに、透過率も波長にかかわらず高く、ほぼ一定した値が得られ、透過光を明るくすることができる。
【００４１】
以上の実施形態により発揮される効果を以下にまとめて説明する。
・　本実施形態の透明導電材料は、基材（Ａ）の片面もしくは両面に、基材側から順に層厚が光学膜厚で１００〜１７５ｎｍの中間屈折率層（Ｂ）、層厚が光学膜厚で１０〜６０ｎｍの導電層（Ｃ）が積層されている。かつ中間屈折率層（Ｂ）の屈折率が１．７〜１．８５で、各層の屈折率が基材（Ａ）の屈折率＜中間屈折率層（Ｂ）の屈折率＜導電層（Ｃ）の屈折率となる関係を有している。このため、透過光の着色を少なくすることができるとともに、積層する層数が少ないので構成を簡単にでき、製造を容易に、しかも製造コストを低くすることができる。従って、本実施形態の透明導電性材料はタッチパネルなどの電極基板として有用である。
【００４２】
・　導電層（Ｃ）は金属もしくは金属酸化物で形成されていることから、良好な表面抵抗値を得ることができる。
・　導電層（Ｃ）は酸化インジウム錫を蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法およびスパッタリング法から選ばれるいずれか１種の方法により容易に形成することができる。
【００４３】
・　基材（Ａ）が１０〜５００μｍの厚みを持つプラスチックフィルムであるため、透明導電材料は安定した透明性を発揮することができる。
・　中間屈折率層（Ｂ）が原料をウェットコーティング法により形成した層であることから、製膜を容易に行なうことができ、透明導電材料の製造コストを低減することができる。
【００４４】
・　透明導電材料の導電層（Ｃ）側表面における反射率曲線の極小値は３８０〜５００ｎｍの波長範囲内にある。このため、反射スペクトルの青色の反射光を低減させ、黄色の呈色を低減させることができる。
【００４５】
・　透明導電材料の導電層（Ｃ）側表面における反射率曲線の極小値が４５０〜５００ｎｍの波長範囲内にあることにより、全光線透過率を下げることなく、黄色の呈色を低減させることができる。
【００４６】
・　ＪＩＳ　Ｚ８７２９に定められるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色差が、−２＜ａ＊＜２、−２＜ｂ＊＜２の範囲で、ゼロに近いことにより、透明導電材料の呈色を抑制することができる。
【００４７】
【実施例】
以下に前記実施形態をさらに具体化した実施例を示すが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、導電層以外の層の屈折率は以下の手順に従って測定した。
（１）屈折率１．６３のＰＥＴフィルム（商品名：Ａ４１００、東洋紡績株式会社製）上に、ディップコーター（杉山元理化学機器株式会社製）により、乾燥後の層が光学膜厚（ｎ×ｄ）＝１１０ｎｍ程度になるように層の厚さを調整しながら各層用塗液を塗布する。
（２）塗布層を乾燥後、窒素雰囲気下で紫外線を照射（岩崎電気株式会社製紫外線照射装置、１２０Ｗ高圧水銀灯、４００ｍＪ）することにより硬化する。
（３）ＰＥＴフィルムの裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計（「Ｕ−ｂｅｓｔ　５０」、日本分光株式会社製）により、３８０〜７８０ｎｍの５°、−５°正反射スペクトルを測定する。
（４）反射スペクトルより読み取った反射率の極大値または極小値を用いて以下の式（１）より層の屈折率を計算する。
【００４８】
【数１】

但し、ｎ_ＭはＰＥＴフィルムの屈折率、ｎは層の屈折率を表す。
【００４９】
また、導電層の屈折率は、屈折率１．６３のＰＥＴフィルム（商品名：Ａ４１００、東洋紡績株式会社製）上に光学膜厚（ｎ×ｄ）＝１１０ｎｍ程度になるように導電層を形成した後、上記（３）、（４）の手順で屈折率を測定した。
【００５０】
製造例１（中間屈折率層用塗液（Ｈ―１）の調製）
酸化ジルコニウムの微粒子（平均粒径：０．０４μｍ）８０重量部、テトラメチロールメタントリアクリレート１５重量部、ブチルアルコール９００重量部、光重合開始剤（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　９０７、チバガイギー株式会社製）１重量部を混合することにより中間屈折率層用塗液（Ｈ―１）を調製した。その塗液の一部を用いた紫外線硬化後の硬化物の屈折率は１．７７であった。
【００５１】
製造例２（中間屈折率層用塗液（Ｈ―２）の調製）
酸化ジルコニウムの微粒子（平均粒径：０．０４μｍ）８０重量部に代えて酸化チタンの微粒子（平均粒径：０．０３μｍ）８０重量部を用いた以外は製造例１と同様にして、中間屈折率層用塗液（Ｈ―２）を調製した。その塗液の一部を用いた紫外線硬化後の硬化物の屈折率は１．８５であった。
【００５２】
製造例３（ハードコート層用塗液（ＨＣ−１）の調製）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７０重量部、１，６−ジアクリロイルオキシヘキサン３０重量部、光重合開始剤（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、チバガイギー株式会社製）４重量部、イソプロピルアルコール１００重量部を混合することによりハードコート層用塗液を調製した。その塗液の一部を用いた紫外線硬化後の硬化物の屈折率は１．５２であった。
【００５３】
製造例４（ハードコート処理ＰＥＴフィルムの作製）
厚みが１８８μｍのＰＥＴフィルム（商品名：Ａ４１００、東洋紡績株式会社製、屈折率１．６３）上に、製造例３で調製したハードコート用塗液をバーコーターを用いて乾燥後の層厚が５μｍ程度になるように塗布した。その後、紫外線を照射（岩崎電気株式会社製紫外線照射装置、１２０Ｗ高圧水銀灯、４００ｍＪ）し、硬化させることによりハードコート処理ＰＥＴフィルムを作製した。
【００５４】
製造例５（シリカ微粒子の分散液（Ｌ―１）の調製）
テトラメチロールメタントリアクリレート２５重量部、シリカ微粒子の分散液（商品名：ＸＢＡ−ＳＴ、日産化学株式会社製）２２０重量部、ブチルアルコール９００重量部、光重合開始剤（商品名：ＫＡＹＡＣＵＲＥ　ＢＭＳ、日本化薬株式会社製）５重量部を混合することによりシリカ微粒子の分散液（Ｌ―１）を調製した。その塗液の一部を用いた紫外線硬化後の硬化物の屈折率は１．５０であった。
【００５５】
実施例１
厚みが１８８μｍのＰＥＴフィルム（商品名：Ａ４１００、東洋紡績株式会社製、屈折率１．６３）上に、製造例１で作製した中間屈折率層用塗液（Ｈ―１）を用いて以下の方法で中間屈折率層（Ｂ）を形成した。
【００５６】
硬化後の光学膜厚が１６０ｎｍになるように層厚を調整しながらディップコーター（杉山元理化学機器株式会社製）により中間屈折率層用塗液（Ｈ―１）を塗布して乾燥後、窒素雰囲気下で紫外線を照射（岩崎電気株式会社製紫外線照射装置、１２０Ｗ高圧水銀灯、４００ｍＪ）することにより硬化した。
【００５７】
このフィルムを１００℃で１時間予備乾燥を行った後、ＩＴＯ（インジウム：錫＝９２：８、層形成後の屈折率２．００）ターゲットを用いるスパッタリングにより、光学膜厚＝４０ｎｍの導電層（Ｃ）を中間屈折率層（Ｂ）の上に形成し、透明導電材料を作製した。
【００５８】
得られた透明導電材料の模式的な断面図を図１に示す。すなわち、ＰＥＴフィルムよりなる基材Ａ上には中間屈折率層Ｂが設けられ、さらにその上には導電層Ｃが設けられている。
【００５９】
次に、これを用いて全光線透過率、反射率の極小値波長、透過色差（ａ＊、ｂ＊）、および表面抵抗値を以下の方法により測定した。その結果をそれぞれ表１に示す。
【００６０】
（１）全光線透過率；ヘイズメーター（商品名：ＮＤＨ２０００、日本電色工業株式会社製）により全光線透過率を測定した。
（２）反射率の極小値波長；分光光度計（商品名：ＵＶ１６００、株式会社島津製作所製）を用いて３８０〜７８０ｎｍの反射スペクトルを測定し、そのスペクトルより反射率の極小値を示す波長を確認した。
【００６１】
（３）透過色差；色差計（商品名：ＳＱ−２０００、日本電色工業株式会社製）を用いて透過色差ａ＊、ｂ＊を測定した。
（４）表面抵抗値；表面抵抗計（商品名：Ｌｏｒｅｓｔａ　ＭＰ　ＭＣＰ―Ｔ３５０、三菱化学株式会社製）により測定した。
【００６２】
実施例２
硬化後の光学膜厚が１２０ｎｍになるように層厚を調整しながら中間屈折率層用塗液（Ｈ―１）を塗布して乾燥すること以外は実施例１と同様にして透明導電材料を作製した。
【００６３】
次に全光線透過率、反射率の極小値波長、透過色差（ａ＊、ｂ＊）、および表面抵抗値を実施例１と同様に測定した。その結果をそれぞれ表１に示す。
実施例３
ＰＥＴフィルムに代えて、製造例４で作製したハードコート処理ＰＥＴフィルムを使用すること以外は実施例１と同様にして透明導電材料を作製した。
【００６４】
次に全光線透過率、反射率の極小値波長、透過色差（ａ＊、ｂ＊）、および表面抵抗値を実施例１と同様に測定した。その結果をそれぞれ表１に示す。
実施例４
中間層の屈折率を１．８５に変更すること以外、実施例３と同様にして透明導電性材料を作製した。
【００６５】
次に全光線透過率、反射率の極小値波長、透過色差（ａ＊、ｂ＊）、および表面抵抗値を実施例１と同様に測定した。その結果をそれぞれ表１に示す。
比較例１
厚みが１８８μｍのＰＥＴフィルム（商品名：Ａ４１００、東洋紡績株式会社製、屈折率１．６３）上に直接、実施例１と同様にして導電層（Ｃ）を形成した。
【００６６】
次に全光線透過率、透過色差（ａ＊、ｂ＊）、および表面抵抗値を実施例１と同様に測定した。その結果をそれぞれ表１に示す。
比較例２
硬化後の光学膜厚を９０ｎｍになるように層厚を調整しながら中間屈折率層用塗液（Ｈ―１）を塗布して乾燥すること以外は実施例１と同様にして透明導電材料を作製した。
【００６７】
次に全光線透過率、反射率の極小値波長、透過色差（ａ＊、ｂ＊）、および表面抵抗値を実施例１と同様に測定した。その結果をそれぞれ表１に示す。
比較例３
硬化後の光学膜厚を１９０ｎｍになるように層厚を調整しながら中間屈折率層用塗液（Ｈ―１）を塗布して乾燥すること以外は実施例１と同様にして透明導電材料を作製した。
【００６８】
次に全光線透過率、反射率の極小値波長、透過色差（ａ＊、ｂ＊）、および表面抵抗値を実施例１と同様に測定した。その結果をそれぞれ表１に示す。
比較例４
硬化後の光学膜厚を１６０ｎｍになるように層厚を調整しながら、中間屈折率層用塗液にシリカ微粒子の分散液（Ｌ―１、屈折率：１．５０）を塗布して乾燥すること以外は実施例１と同様に透明導電性材料を作製した。
【００６９】
次に全光線透過率、反射率の極小値波長、透過色差ａ＊、ｂ＊、および表面抵抗値を実施例１と同様に測定した。結果をそれぞれ表１に示した。
比較例５
厚みが１８８μｍのＰＥＴフィルム（商品名：Ａ４１００、東洋紡績株式会社製、屈折率１．６３）上に、中間屈折率層として酸化チタンターゲットを用いるスパッタリングにより、金属酸化物層（屈折率：２．３０、光学膜厚：１６０ｎｍ）を形成した。さらに、その上にＩＴＯ（インジウム：錫＝９２：８）ターゲットを用いるスパッタリングにより、導電層（光学膜厚：４０ｎｍ）を形成して透明導電材料を作製した。
【００７０】
比較例６
ＰＥＴフィルムの一方の面に酸化チタンを電子ビーム加熱法により、１．３３×１０^−２〜２．６６×１０^−２Ｐａの真空度で真空蒸着して、厚さが１００ｎｍ（屈折率：２．３５）からなる透明な誘電体膜を形成した。その後、実施例１と同様にして導電層（Ｃ）を形成して透明導電材料を作製した。
【００７１】
次に、全光線透過率、反射率の極小値波長、透過色差（ａ＊、ｂ＊）、および表面抵抗値を実施例１と同様に測定した。その結果をそれぞれ表１に示す。
【００７２】
【表１】

表１に示したように、実施例１〜４で作製した透明導電性材料は表面抵抗値が小さく高導電性であり、また透過色差の値が小さいことから着色の少ないことが明らかとなった。
【００７３】
一方、中間屈折率層（Ｂ）がない比較例１および比較例６や、中間屈折率層の光学膜厚が適切でない比較例２、３や、中間屈折率層の屈折率が小さい比較例４では、いずれも透過色差のｂ＊が大きくなって、着色が見られることが明らかとなった。
【００７４】
また中間屈折率層の屈折率を導電層の屈折率より高くした比較例５は、透過色差ｂ＊が非常に小さくなって、着色することが明らかとなった。
実施例５、６
実施例３、４で作製した透明導電材料の裏面にアクリル系粘着剤シート（商品名：ノンキャリア、リンテック株式会社製）をハンドローラーにより貼り、製造例４で作製したハードコート処理ＰＥＴフィルムの裏面に均一に貼り合わせた。また厚さ２ｍｍのガラス板（商品名：ＦＬ２．０、日本板硝子株式会社製）に実施例１と同様にしてスパッタリング法によりＩＴＯ（インジウム：錫＝９２：８）の導電層を形成した。次に、これらを導電層同士が向かい合うように配置し、四辺を両面粘着テープにより貼り合せ、抵抗膜式タッチパネルのモデルを作製した。
【００７５】
得られたタッチパネルモデルの模式的な断面図を図２に示す。すなわち、透明導電材料は、第１ハードコート層１が設けられた基材Ａ上に中間屈折率層Ｂを介して導電層Ｃが設けられて構成されている。この透明導電材料は、第２ハードコート層２が設けられたＰＥＴフィルム３が粘着剤層４により接合されている。一方、ガラス基板５上には導体層６が設けられ、該導体層６と透明導電材料の導電層Ｃとが対向するように両面テープ７で接合され、タッチパネルが構成されている。
【００７６】
次に全光線透過率、透過色差（ａ＊、ｂ＊）を実施例１と同様の方法により測定した。その結果を表２に示す。
比較例７〜９
透明導電性材料として、比較例７は比較例１で作製したフィルム、比較例８は比較例２で作製したフィルム、そして比較例９は比較例３で作製したフィルムをそれぞれ使用すること以外は実施例５と同様にして抵抗膜式タッチパネルのモデルを作製した。
【００７７】
次に全光線透過率、透過色差（ａ＊、ｂ＊）を実施例１と同様の方法により測定した。その結果を表２に示す。
【００７８】
【表２】

表２に示したように、実施例５、６のタッチパネルは透過色差が低く、着色の目立たないことが明らかとなった。
【００７９】
一方、中間屈折率層（Ｂ）のないフィルムを使用したタッチパネル（比較例７）や、中間屈折率層の光学膜厚が適切でないフィルムを使用したタッチパネル（比較例８、９）では、透過色差ｂ＊が非常に大きくなっており、黄色に着色することが明らかとなった。
【００８０】
得られたタッチパネルをＣＲＴディスプレイ上に装着し、その機能を確認した。実施例５、６のタッチパネルを装着したとき、ＣＲＴディスプレイの発色をすべて正確に表示できた。一方、比較例７〜９のタッチパネルを装着したときは、ＣＲＴディスプレイの白表示が黄色味がかっていた。
【００８１】
なお、前記実施形態を次のように変更して実施することも可能である。
・　中間屈折率層（Ｂ）を２層で構成し、屈折率１．７〜１．８５の範囲内で基材（Ａ）側の層の屈折率を小さく、導電層（Ｃ）側の層の屈折率を大きくするように構成することもできる。この場合、反射率をより小さくでき、透過率をより高くすることができる。
【００８２】
・　例えば、基材（Ａ）の表面の反射光と中間屈折率層（Ｂ）の表面の反射光との干渉によって反射光を打ち消し合うようにするために、波長λの反射光について、２×（中間屈折率層（Ｂ）の光学膜厚）／λ＝１／２なる関係を利用して中間屈折率層（Ｂ）の光学膜厚及び屈折率を決定するようにしてもよい。
【００８３】
・　中間屈折率層（Ｂ）を、金属酸化物と硬化性単量体の混合物をウェットコーティング法により硬化させて形成する場合、電子線を照射して速やかに硬化させることもできる。
【００８４】
・　中間屈折率層（Ｂ）を形成するための金属酸化物と硬化性単量体との混合液中に粘度調整剤（増粘剤）を加え、所望とする光学膜厚が得られるように粘度調整を行なうようにしてもよい。
【００８５】
さらに、実施形態より把握される技術的思想について以下に記載する。
（１）　　前記中間屈折率層（Ｂ）は、無機物と有機物との混合物から形成されるものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明導電材料。このように構成した場合、中間屈折率層（Ｂ）の屈折率の設定を容易に行なうことができるとともに、中間屈折率層（Ｂ）を容易に作製することができる。
【００８６】
（２）　　前記無機物は金属酸化物であり、有機物は硬化性単量体である上記（１）に記載の透明導電材料。このように構成した場合、中間屈折率層（Ｂ）の屈折率、電気絶縁性、耐光性などを向上させることができる。
【００８７】
（３）　　前記硬化性単量体は紫外線硬化性単量体である上記（２）に記載の透明導電材料。このように構成した場合、中間屈折率層（Ｂ）の生産性および強度を向上させることができる。
【００８８】
【発明の効果】
本発明の透明導電材料は、積層する層数が少ないので構成が簡単で製造コストが低く、かつ透過光の着色が少ない。そのため、本発明の透明導電材料はタッチパネルなどの電極基板として有用である。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で作製した透明導電材料を模式的に示す断面図。
【図２】実施例５で作製したタッチパネルのモデルを模式的に示す断面図。
【図３】実施形態の透明導電材料について、光の波長と反射率との関係を示すグラフ。
【図４】実施形態の透明導電材料について、光の波長と透過率との関係を示すグラフ。
【図５】従来の透明導電材料について、光の波長と反射率との関係を示すグラフ。
【図６】従来の透明導電材料について、光の波長と透過率との関係を示すグラフ。
【符号の説明】
Ａ…基材、Ｂ…中間屈折率層、Ｃ…導電層。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a transparent conductive material having a simple structure, low manufacturing cost, and little coloring, and a touch panel using the same.
[0002]
[Prior art]
Currently, a touch panel is used as a device capable of inputting information by directly touching a screen display. This is a device in which an input device that transmits light is arranged on various displays such as a liquid crystal display device and a CRT. One of the typical types is a resistive film type in which two electrode substrates are arranged so that conductive layers face each other. There is a touch panel.
[0003]
Conductive metal oxides such as indium tin oxide (ITO) and zinc oxide are laminated on glass plates, resin plates, and various thermoplastic polymer film substrates as electrode substrates for resistive touch panels. Those that have been used are generally used.
[0004]
The electrode substrate obtained in this manner, the total light transmittance is reduced due to a decrease in the transmittance in the visible light short wavelength region derived from the reflection and absorption of the metal oxide layer, and at the same time, it can be colored yellow or brown. Many. For this reason, there is a problem that it is difficult to accurately represent the coloring of the display device arranged below the touch panel.
[0005]
To solve this problem, between the conductive layer and the base material, a conductive layer, insert a high refractive index layer with a higher refractive index than either the base material, or conductive layer, more than either base material A method of inserting a low refractive index layer having a low refractive index has been proposed (for example, see Patent Document 1). According to this method, as shown in FIG. 5, the reflectance at a wavelength near 550 nm can be suppressed, and as shown in FIG. 6, the transmittance at a wavelength near 550 nm can be increased. However, all of these have the effect of improving the total light transmittance, but have not solved the problem that transmitted light is colored in yellow or brown.
[0006]
Also, a method of laminating a multilayer optical film between a conductive layer and a substrate has been proposed (for example, see Patent Document 2).
[0007]
[Patent Document 1]
JP-A-6-218864 (pages 2 and 3)
[Patent Document 2]
JP-A-11-286066 (pages 2 to 4)
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
However, these have the effect of controlling the transmittance of the electrode material and suppressing the coloring of transmitted light, but have the problem that the intermediate layer is a multilayer film, so that the configuration is complicated and the manufacturing cost is increased.
[0009]
An object of the present invention is to provide a transparent conductive material having a simple structure, low manufacturing cost, and little coloring of transmitted light, and a touch panel using the same.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The present inventors have conducted intensive studies in view of the above problems, and found that a transparent conductive material with reduced coloring can be formed by forming a conductive layer on a specific intermediate refractive index layer formed on a substrate surface. And completed the present invention.
[0011]
The present invention is the following (1) to (9).
(1) An intermediate refractive index layer (B) having an optical film thickness of 100 to 175 nm and a layer thickness on one or both surfaces of the substrate (A) directly or in order from the substrate side via one or more layers. Is a transparent conductive material obtained by laminating a conductive layer (C) having an optical film thickness of 10 to 60 nm, the refractive index of the intermediate refractive index layer (B) is 1.7 to 1.85, and the refractive index of each layer is A transparent conductive material that satisfies the relationship that the refractive index of the base material (A) <the refractive index of the intermediate refractive index layer (B) <the refractive index of the conductive layer (C).
(2) The transparent conductive material according to (1), wherein the conductive layer (C) is a conductive layer made of a metal or a metal oxide.
(3) The conductive layer (C) is a layer formed by using indium tin oxide by any one method selected from a vapor deposition method, an ion plating method, a chemical vapor deposition (CVD) method, and a sputtering method. The transparent conductive material according to (1) or (2).
(4) The transparent conductive material according to any one of (1) to (3), wherein the base material (A) is a plastic film having a thickness of 10 to 500 μm.
(5) The transparent conductive material according to any one of (1) to (4), wherein the intermediate refractive index layer (B) is a layer formed by forming a raw material by a wet coating method.
(6) The transparent conductive material according to any of (1) to (5), wherein the minimum value of the reflectance curve on the conductive layer (C) side surface of the transparent conductive material is in a wavelength range of 380 to 500 nm. material.
(7) The transparent conductive material according to any one of (1) to (5), wherein the minimum value of the reflectance curve on the surface of the transparent conductive material on the conductive layer (C) side is within a wavelength range of 450 to 500 nm. material.
(8) The transmission color difference in the L * a * b * color system defined in JIS Z8729 is in the range of -2 <a * <2 and -2 <b * <2. The transparent conductive material according to any one of (1) to (7).
(9) A touch panel using the transparent conductive material according to any one of (1) to (8) as an electrode substrate.
[0012]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
The transparent conductive material of the present embodiment is an intermediate refractive index layer having an optical thickness of 100 to 175 nm on one or both surfaces of the substrate (A), directly or in order from the substrate side via one or more layers. (B), a conductive layer (C) having an optical thickness of 10 to 60 nm is laminated. The refractive index of the intermediate refractive index layer (B) is 1.7 to 1.85, and the refractive index of each layer is such that the refractive index of the base material (A) <the refractive index of the intermediate refractive index layer (B) <the conductive layer (C). ). The optical thickness here means the product (n × d) of the refractive index (n) of the layer and the thickness (d) of the layer.
[0013]
The base material (A) used in the present embodiment is a base material of a transparent conductive material and has good transparency. The substrate (A) is not particularly limited, and all known substrates can be used. Examples of the material of the base material (A) include glass, polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET), polybutylene terephthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate copolymer, triacetyl cellulose, polyolefin, polyamide, polyvinyl chloride, Transparent resins such as amorphous polyolefins are preferred.
[0014]
Examples of the shape of the substrate (A) include a plate shape and a film shape. Plastic films are preferred from the viewpoint of productivity and transportability. At that time, the thickness is preferably from 10 to 500 μm from the viewpoint of transparency and workability, and more preferably from 50 to 200 μm.
[0015]
Next, the intermediate refractive index layer (B) will be described. The transparent conductive material of the present embodiment in which the specific intermediate refractive index layer (B) as described above is formed between the base material (A) and the conductive layer (C) can reduce the reflection of violet to blue light. Therefore, coloring of transmitted light can be reduced.
[0016]
The refractive index of the intermediate refractive index layer (B) is smaller than the refractive index of the base material (A) and the refractive index of the conductive layer (C) by the refractive index of the base material (A) <the refractive index of the intermediate refractive index layer (B) < It satisfies the relationship of the refractive index of the conductive layer (C) and is in the range of 1.7 to 1.85. When the refractive index of the intermediate refractive index layer (B) is less than 1.7 or greater than 1.85, the degree of coloring in the obtained transparent conductive material increases.
[0017]
The thickness of the intermediate refractive index layer (B) is preferably in the range of 100 to 175 nm in optical thickness. By setting the optical film thickness of the intermediate refractive index layer (B) in such a range, a transparent conductive material having a small reflectance particularly in the vicinity of blue (wavelength: 400 nm) in reflected light can be obtained. When the optical film thickness is less than 100 nm or larger than 175 nm, the degree of coloring in the obtained transparent conductive material increases. The material for forming the intermediate refractive index layer (B) is not particularly limited as long as the refractive index does not deviate from a specific range and does not impair the purpose of the present embodiment, and conventionally known materials can be used. .
[0018]
Specifically, for example, an inorganic substance or a mixture of an inorganic substance and an organic substance can be used. Here, examples of the inorganic substance include metal oxides such as zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, aluminum oxide, silane oxide, tantalum oxide, yttrium oxide, ytterbium oxide, zirconium oxide, indium tin oxide, and antimony tin oxide. Can be Among these, zirconium oxide, titanium oxide, indium tin oxide, antimony tin oxide and cerium oxide are preferred, and zirconium oxide is most preferred from the viewpoints of refractive index, electrical insulation, light resistance and the like.
[0019]
The method for forming the intermediate refractive index layer (B) is not particularly limited, and for example, a dry coating method such as an evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition (CVD) method, a plating method, a wet coating method, or the like is employed. be able to. Among them, the vapor deposition method and the sputtering method are preferred from the viewpoint that the thickness of the layer can be easily controlled.
[0020]
In addition, in the case of a mixture of an inorganic substance and an organic substance, for example, a mixture of the above-described metal oxide fine particles as an inorganic substance and a curable monomer as an organic substance is exemplified. In this case, the refractive index of the intermediate refractive index layer (B) can be easily set, and the layer (B) can be easily manufactured. It is preferable that the average particle diameter of the metal oxide fine particles does not greatly exceed the thickness of the intermediate refractive index layer. Specifically, it is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and most preferably 0.01 to 0.05 μm. If the average particle size is large, the transparency of the intermediate refractive index layer may be lowered, for example, due to scattering, which is not preferable.
[0021]
Further, if necessary, the surface of the fine particles can be modified with various coupling agents or the like. Examples of various coupling agents include metal alkoxides obtained by organic substitution of silicon compounds, aluminum, titanium, zirconium, antimony, and the like, and organic acid salts.
[0022]
The curable monomer is not particularly limited, and a conventionally known one can be used. For example, monofunctional or polyfunctional (meth) acrylic acid esters and silicon compounds such as tetraethoxysilane may be mentioned. Further, the curable monomer is preferably an ultraviolet curable monomer from the viewpoint of productivity and layer strength of the intermediate refractive index layer (B), and from the viewpoint of improving layer strength, a polyfunctional monomer It is preferable to use Therefore, UV-curable and multifunctional acrylates and silicon compounds are most preferred.
[0023]
Examples of the UV-curable and multifunctional acrylate include, for example, dipentaerythritol hexaacrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, tetramethylol methane triacrylate, pentaerythritol pentaacrylate, trimethylolpropane triacrylate, 1 Polyfunctional alcohol derivatives such as 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy) hexane, polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, etc. Urethane acrylate and the like can be mentioned. As the curable monomer, one or a mixture of two or more of the above-mentioned monomers, or a monomer to which other components are further added can be used.
[0024]
The mixing ratio between the metal oxide fine particles and the curable monomer (metal oxide fine particles / curable monomer, unit: weight ratio) is preferably 50/50 to 90/10, and 60/50. More preferably, it is 40 to 85/15. When the ratio of the metal oxide fine particles is less than 50 parts by weight, that is, when the ratio of the curable monomer exceeds 50 parts by weight, the refractive index cannot be increased as desired, and the ratio of the metal oxide fine particles is 90%. If the amount is more than 10 parts by weight, that is, if the proportion of the curable monomer is less than 10 parts by weight, the moldability and strength of the layer tend to be low.
[0025]
Further, other components may be contained in the intermediate refractive index layer (B) as long as the effects of the present embodiment are not impaired. Other components are not particularly limited, for example, inorganic or organic pigments, polymers, polymerization initiators, polymerization inhibitors, antioxidants, dispersants, surfactants, light stabilizers, light absorbers, Additives such as a leveling agent are included.
[0026]
In addition, any amount of solvent can be added as long as the layer is formed and dried in the wet coating method. In the case of a mixture of an inorganic substance and an organic substance, the intermediate refractive index layer (B) is usually formed by a wet coating method. The wet coating method may be a known method, and examples thereof include a roll coating method, a spin coating method, and a dip coating method. Among these, the roll coating method or the dip coating method is more preferable in that the productivity is high because the film can be formed continuously.
[0027]
Next, the conductive layer (C) in the present embodiment functions as a current-carrying part constituting a conductive circuit made of a transparent conductive material. The material of the conductive layer (C) is not particularly limited, but it is preferable to use a metal or a metal oxide. For example, a transparent conductive layer such as gold, silver, copper, platinum, nickel, tin oxide, indium tin oxide (ITO), and antimony tin oxide is preferably used. Among them, indium tin oxide (ITO) is preferably mentioned from the viewpoint of conductivity, transparency and stability.
[0028]
The method for forming the conductive layer (C) is not particularly limited, and for example, a dry coating method such as an evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, a CVD method, and a plating method can be employed. Among them, the vapor deposition method and the sputtering method are particularly preferable from the viewpoint of controlling the thickness of the layer.
[0029]
The layer thickness of the conductive layer (C) is in the range of 10 to 60 nm in optical film thickness. When the optical film thickness is less than 10 nm, the surface resistance increases, and when the optical film thickness is more than 60 nm, the transparency decreases.
[0030]
Further, between the base material (A) and the intermediate refractive index layer (B), for example, a hard coat layer for the purpose of improving hardness, and also, other than the above, anti-glare, prevention of Newton's ring, improvement of adhesion, One or more functional layers can be formed for the purpose of imparting a function such as light blocking. The method for imparting the function is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. This layer can be made of an inorganic material such as silicon oxide, an organic material such as a UV-curable and multifunctional acrylate, or a mixture thereof. The thickness is preferably 0.005 to 20 μm, and the refractive index is preferably in the range of 1.45 to 1.65. The method for forming the layer is not particularly limited, and a dry coating method, a wet coating method, or the like can be used.
[0031]
Further, other components may be included in the above-described functional layer as long as the effects of the present embodiment are not impaired. Other components are not particularly limited, for example, inorganic fillers, inorganic or organic pigments, polymers, polymerization initiators, polymerization inhibitors, antioxidants, dispersants, surfactants, light stabilizers, Additives such as a light absorbing agent and a leveling agent are included. In the wet coating method, any amount of solvent can be added as long as the layer is formed and then dried.
[0032]
In the present embodiment, when the refractive index and the optical film thickness of each layer are adjusted so that the minimum value of the reflectance curve on the conductive layer side surface of the transparent conductive material falls within the wavelength range of 380 to 500 nm, the violet to blue light Can be further reduced, and coloring of transmitted light can be further reduced. Here, when the minimum wavelength of the reflectance curve is less than 380 nm or greater than 500 nm, the transmitted light is colored because the effect of reducing the reflection of violet to blue light is small or conversely, the reflection is increased. There is a tendency.
[0033]
In this embodiment, when the refractive index and the optical film thickness of each layer are adjusted so that the minimum value of the reflectance curve on the conductive layer side surface of the transparent conductive material falls within the wavelength range of 380 to 500 nm, the transmitted light is transmitted to JIS Z8729. When measured as a transmission color difference in a defined L * a * b * color system, the range can be in the range of -2 <a * <2, -2 <b * <2. Therefore, a transparent conductive material whose coloring does not pose a practical problem can be obtained.
[0034]
Further, when the refractive index and the optical film thickness are adjusted so that the minimum wavelength of the reflectance curve falls within the range of 450 to 500 nm, the reflection of violet to blue light can be further reduced, so that the coloring of the transmitted light can be further improved. Not only can it be reduced, but the total light transmittance defined in JIS K7361-1 of the transparent conductive material can be 85% or more, which is more preferable.
[0035]
The transparent conductive material of this embodiment can be used for applications that require high light transmittance and excellent color tone as the conductive material. In particular, it can be used for an electronic image display device such as an organic or inorganic electroluminescence display or a liquid crystal display, or an electrode substrate of a resistive touch panel.
[0036]
Further, if necessary, an adhesive layer may be provided in advance on a surface on which the conductive layer of the transparent conductive material is not formed, and may be used by being attached to an object. The material used for the adhesive layer is not particularly limited, and examples thereof include a silicone-based adhesive, an acrylic-based adhesive, an ultraviolet-curable adhesive, and a thermosetting adhesive.
[0037]
When used as an upper electrode substrate of a resistive touch panel, it is preferable to form a hard coat layer for improving surface strength on a surface where a conductive layer of a transparent conductive material is not formed. One or more functions such as antiglare, antistatic, and antireflection can be imparted to the hard coat layer. In addition, the transparent conductive material may be bonded to a back surface of a base material having a hard coat layer via an adhesive layer so that a surface of the transparent conductive material where the conductive layer is not formed may be used.
[0038]
When used as a lower electrode substrate of a resistive touch panel, a transparent conductive material can be used as it is or by being bonded to a base material such as glass or plastic. On the back side, it is possible to form at least one or more anti-reflection layers directly or through one or more layers in order to improve the light transmittance, or to bond a substrate having a anti-reflection layer to the back side. it can. The anti-reflection layer is not particularly limited, and a conventionally known one can be used.
[0039]
Now, the transparent conductive material of this embodiment has an intermediate refractive index layer (B) having an optical thickness of 100 to 175 nm on the base material (A), and further has an optical thickness of 10 to 175 nm on the base material (A). A conductive layer (C) of 60 nm is laminated. That is, this transparent conductive material is configured such that only the intermediate refractive index layer (B) is formed between the base material (A) and the conductive layer (C). Therefore, the structure is simpler than in the case of the multi-layer structure, and it can be easily manufactured.
[0040]
The refractive index of the intermediate refractive index layer (B) is 1.7 to 1.85, and the refractive index of each layer is such that the refractive index of the base material (A) <the refractive index of the intermediate refractive index layer (B) <the conductive layer ( C). Therefore, as shown in FIG. 3, the light incident on the transparent conductive material is reduced so that the reflectance is substantially constant at a wavelength in the range of 400 to 780 nm, and the transmitted light is suppressed from being colored. Further, as shown in FIG. 4, the transmittance (total light transmittance) is constant at approximately 85%, and the transmitted light is bright. As described above, since the refractive index of the intermediate refractive index layer (B) is set to an intermediate value between the refractive index of the base material (A) and the refractive index of the conductive layer (C), The reflectance can be made relatively flat (the difference between the local maximum value and the local minimum value is relatively small) for each wavelength. Therefore, coloring of transmitted light can be suppressed. Further, the transmittance is also high irrespective of the wavelength, a substantially constant value is obtained, and the transmitted light can be brightened.
[0041]
The effects exerted by the above embodiments will be summarized and described below.
-The transparent conductive material of the present embodiment has an intermediate refractive index layer (B) having an optical thickness of 100 to 175 nm in order from the substrate side on one or both surfaces of the substrate (A), and an optical film A conductive layer (C) having a thickness of 10 to 60 nm is laminated. The refractive index of the intermediate refractive index layer (B) is 1.7 to 1.85, and the refractive index of each layer is such that the refractive index of the base material (A) <the refractive index of the intermediate refractive index layer (B) <the conductive layer (C). ). For this reason, the coloring of the transmitted light can be reduced, and the number of layers to be laminated is small, so that the configuration can be simplified, the production can be facilitated, and the production cost can be reduced. Therefore, the transparent conductive material of the present embodiment is useful as an electrode substrate for a touch panel or the like.
[0042]
-Since the conductive layer (C) is formed of a metal or a metal oxide, a good surface resistance value can be obtained.
-The conductive layer (C) can be formed easily by using indium tin oxide by any one method selected from a vapor deposition method, an ion plating method, a CVD method, and a sputtering method.
[0043]
-Since the base material (A) is a plastic film having a thickness of 10 to 500 m, the transparent conductive material can exhibit stable transparency.
-Since the intermediate refractive index layer (B) is a layer in which the raw material is formed by the wet coating method, the film can be easily formed, and the production cost of the transparent conductive material can be reduced.
[0044]
The minimum value of the reflectance curve on the conductive layer (C) side surface of the transparent conductive material is in the wavelength range of 380 to 500 nm. For this reason, it is possible to reduce the blue reflected light in the reflection spectrum and reduce the yellow coloration.
[0045]
When the minimum value of the reflectance curve on the conductive layer (C) side surface of the transparent conductive material is within the wavelength range of 450 to 500 nm, the coloration of yellow can be reduced without lowering the total light transmittance. it can.
[0046]
-Since the transmitted color difference in the L * a * b * color system defined in JIS Z8729 is close to zero in the range of -2 <a * <2 and -2 <b * <2, the transparent conductive material is presented. Color can be suppressed.
[0047]
【Example】
Examples that further embody the above-described embodiment will be shown below, but the present invention is not limited to the following examples. The refractive index of the layers other than the conductive layer was measured according to the following procedure.
(1) After drying on a PET film (trade name: A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a refractive index of 1.63, the layer after drying was formed into an optical film thickness (nx) d) The coating liquid for each layer is applied while adjusting the thickness of the layer so as to be about 110 nm.
(2) After drying the coating layer, the coating layer is cured by irradiating it with ultraviolet rays in a nitrogen atmosphere (Ultraviolet irradiation apparatus manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., 120 W high pressure mercury lamp, 400 mJ).
(3) The back surface of the PET film was roughened with sandpaper, and the surface painted with a black paint was measured with a spectrophotometer (“U-best 50”, manufactured by JASCO Corporation) at 380 to 780 nm at 5 ° and -5 ° positive. Measure the reflection spectrum.
(4) The refractive index of the layer is calculated from the following equation (1) using the maximum value or the minimum value of the reflectance read from the reflection spectrum.
[0048]
(Equation 1)

Where n _M Represents the refractive index of the PET film, and n represents the refractive index of the layer.
[0049]
The conductive layer is formed on a PET film having a refractive index of 1.63 (trade name: A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) so that the optical film thickness (nxd) is about 110 nm. After that, the refractive index was measured according to the above procedures (3) and (4).
[0050]
Production Example 1 (Preparation of coating liquid (H-1) for intermediate refractive index layer)
80 parts by weight of zirconium oxide fine particles (average particle size: 0.04 μm), 15 parts by weight of tetramethylolmethane triacrylate, 900 parts by weight of butyl alcohol, 1 part by weight of a photopolymerization initiator (trade name: IRGACURE 907, manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) By mixing the parts, a coating liquid (H-1) for an intermediate refractive index layer was prepared. The refractive index of the cured product after ultraviolet curing using a part of the coating liquid was 1.77.
[0051]
Production Example 2 (Preparation of coating liquid for intermediate refractive index layer (H-2))
Intermediate refraction in the same manner as in Production Example 1, except that 80 parts by weight of titanium oxide fine particles (average particle size: 0.03 μm) were used instead of 80 parts by weight of zirconium oxide fine particles (average particle size: 0.04 μm). A coating solution for a rate layer (H-2) was prepared. The refractive index of the cured product after ultraviolet curing using a part of the coating liquid was 1.85.
[0052]
Production Example 3 (Preparation of coating liquid (HC-1) for hard coat layer)
By mixing 70 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 30 parts by weight of 1,6-diacryloyloxyhexane, 4 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: IRGACURE 184, manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.), and 100 parts by weight of isopropyl alcohol A coating solution for a hard coat layer was prepared. The refractive index of the cured product after ultraviolet curing using a part of the coating liquid was 1.52.
[0053]
Production Example 4 (Preparation of hard-coated PET film)
On a 188 μm-thick PET film (trade name: A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., refractive index 1.63), the layer thickness after drying the coating liquid for hard coat prepared in Production Example 3 using a bar coater was obtained. It was applied so as to have a thickness of about 5 μm. Thereafter, ultraviolet irradiation (Iwasaki Electric Co., Ltd., ultraviolet irradiation device, 120 W high-pressure mercury lamp, 400 mJ) was performed and cured to produce a hard-coated PET film.
[0054]
Production Example 5 (Preparation of dispersion liquid (L-1) of fine silica particles)
25 parts by weight of tetramethylol methane triacrylate, 220 parts by weight of a dispersion of silica fine particles (trade name: XBA-ST, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), 900 parts by weight of butyl alcohol, photopolymerization initiator (trade name: KAYACURE BMS, Japan) A dispersion liquid (L-1) of silica fine particles was prepared by mixing 5 parts by weight of Kayaku Co., Ltd.). The refractive index of the cured product after ultraviolet curing using a part of the coating liquid was 1.50.
[0055]
Example 1
On a PET film having a thickness of 188 μm (trade name: A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., refractive index: 1.63), the following coating liquid (H-1) for the intermediate refractive index layer prepared in Production Example 1 was used. The intermediate refractive index layer (B) was formed by the method.
[0056]
While adjusting the layer thickness so that the optical film thickness after curing becomes 160 nm, a coating liquid (H-1) for an intermediate refractive index layer is applied using a dip coater (manufactured by Sugiyama Genri-Kagaku Kiki Co., Ltd.), dried, and nitrogen The composition was cured by irradiating it with ultraviolet rays in an atmosphere (ultraviolet irradiation apparatus manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., 120 W high pressure mercury lamp, 400 mJ).
[0057]
After pre-drying this film at 100 ° C. for 1 hour, a conductive layer having an optical film thickness of 40 nm was formed by sputtering using an ITO (indium: tin = 92: 8, refractive index 2.00 after layer formation) target. C) was formed on the intermediate refractive index layer (B) to produce a transparent conductive material.
[0058]
FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of the obtained transparent conductive material. That is, an intermediate refractive index layer B is provided on a substrate A made of a PET film, and a conductive layer C is further provided thereon.
[0059]
Next, using this, the total light transmittance, the minimum wavelength of the reflectance, the transmitted color difference (a *, b *), and the surface resistance were measured by the following methods. Table 1 shows the results.
[0060]
(1) Total light transmittance: Total light transmittance was measured by a haze meter (trade name: NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
(2) Minimum wavelength of reflectance: a reflection spectrum of 380 to 780 nm is measured using a spectrophotometer (trade name: UV1600, manufactured by Shimadzu Corporation), and a wavelength indicating a minimum value of reflectance is determined from the spectrum. confirmed.
[0061]
(3) Transmission color difference: Transmission color differences a * and b * were measured using a color difference meter (trade name: SQ-2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
(4) Surface resistance value: measured by a surface resistance meter (trade name: Loresta MP MCP-T350, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
[0062]
Example 2
A transparent conductive material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for intermediate refractive index layer (H-1) was applied and dried while adjusting the layer thickness so that the optical film thickness after curing became 120 nm. Produced.
[0063]
Next, the total light transmittance, the minimum wavelength of the reflectance, the transmitted color difference (a *, b *), and the surface resistance were measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
Example 3
A transparent conductive material was produced in the same manner as in Example 1 except that the PET film was replaced with the hard-coated PET film produced in Production Example 4.
[0064]
Next, the total light transmittance, the minimum wavelength of the reflectance, the transmitted color difference (a *, b *), and the surface resistance were measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
Example 4
A transparent conductive material was produced in the same manner as in Example 3, except that the refractive index of the intermediate layer was changed to 1.85.
[0065]
Next, the total light transmittance, the minimum wavelength of the reflectance, the transmitted color difference (a *, b *), and the surface resistance were measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
Comparative Example 1
The conductive layer (C) was formed directly on a PET film having a thickness of 188 μm (trade name: A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., refractive index: 1.63) in the same manner as in Example 1.
[0066]
Next, the total light transmittance, the transmitted color difference (a *, b *), and the surface resistance were measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
Comparative Example 2
A transparent conductive material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for intermediate refractive index layer (H-1) was applied and dried while adjusting the layer thickness so that the optical film thickness after curing became 90 nm. Produced.
[0067]
Next, the total light transmittance, the minimum wavelength of the reflectance, the transmitted color difference (a *, b *), and the surface resistance were measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
Comparative Example 3
A transparent conductive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for intermediate refractive index layer (H-1) was applied and dried while adjusting the layer thickness so that the optical film thickness after curing became 190 nm. Produced.
[0068]
Next, the total light transmittance, the minimum wavelength of the reflectance, the transmitted color difference (a *, b *), and the surface resistance were measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
Comparative Example 4
The dispersion liquid of silica fine particles (L-1, refractive index: 1.50) is applied to the coating liquid for the intermediate refractive index layer and dried while adjusting the layer thickness so that the optical film thickness after curing becomes 160 nm. Except for this, a transparent conductive material was produced in the same manner as in Example 1.
[0069]
Next, the total light transmittance, the minimum wavelength of the reflectance, the transmitted color differences a * and b *, and the surface resistance were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 5
On a PET film (trade name: A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., refractive index: 1.63) having a thickness of 188 μm, a metal oxide layer (refractive index: 2.0) is formed by sputtering using a titanium oxide target as an intermediate refractive index layer. 30, optical thickness: 160 nm). Further, a conductive layer (optical film thickness: 40 nm) was formed thereon by sputtering using an ITO (indium: tin = 92: 8) target to produce a transparent conductive material.
[0070]
Comparative Example 6
1.33 × 10 3 titanium oxide was applied to one surface of the PET film by electron beam heating. ^-2 ~ 2.66 × 10 ^-2 Vacuum evaporation was performed at a degree of vacuum of Pa to form a transparent dielectric film having a thickness of 100 nm (refractive index: 2.35). Thereafter, a conductive layer (C) was formed in the same manner as in Example 1 to produce a transparent conductive material.
[0071]
Next, the total light transmittance, the minimum wavelength of the reflectance, the transmitted color difference (a *, b *), and the surface resistance were measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
[0072]
[Table 1]

As shown in Table 1, the transparent conductive materials prepared in Examples 1 to 4 had a small surface resistance and high conductivity, and the small value of the transmitted color difference revealed that there was little coloring. .
[0073]
On the other hand, Comparative Examples 1 and 6 without the intermediate refractive index layer (B), Comparative Examples 2 and 3 where the optical thickness of the intermediate refractive index layer is not appropriate, and Comparative Example 4 where the refractive index of the intermediate refractive index layer is small In each case, it was clear that the transmission color difference b * was large and coloring was observed.
[0074]
In Comparative Example 5 in which the refractive index of the intermediate refractive index layer was higher than the refractive index of the conductive layer, the transmission color difference b * was extremely small, and it was clear that the color was colored.
Examples 5 and 6
An acrylic pressure-sensitive adhesive sheet (trade name: non-carrier, manufactured by Lintec Corporation) was attached to the back surface of the transparent conductive material prepared in Examples 3 and 4 with a hand roller, and the back surface of the hard-coated PET film prepared in Production Example 4 Were uniformly bonded. A conductive layer of ITO (indium: tin = 92: 8) was formed on a 2 mm-thick glass plate (trade name: FL2.0, manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd.) by a sputtering method in the same manner as in Example 1. Next, these were arranged so that the conductive layers faced each other, and four sides were adhered to each other with a double-sided adhesive tape to produce a model of a resistive touch panel.
[0075]
FIG. 2 shows a schematic sectional view of the obtained touch panel model. That is, the transparent conductive material is configured by providing the conductive layer C via the intermediate refractive index layer B on the base material A on which the first hard coat layer 1 is provided. In this transparent conductive material, a PET film 3 provided with a second hard coat layer 2 is joined by an adhesive layer 4. On the other hand, a conductor layer 6 is provided on a glass substrate 5, and the conductor layer 6 and a conductive layer C of a transparent conductive material are joined to each other with a double-sided tape 7 so as to face each other, thereby forming a touch panel.
[0076]
Next, the total light transmittance and the transmitted color difference (a *, b *) were measured in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.
Comparative Examples 7 to 9
Comparative Example 7 was implemented as a transparent conductive material except that the film produced in Comparative Example 1 was used, Comparative Example 8 was a film produced in Comparative Example 2, and Comparative Example 9 was a film produced in Comparative Example 3. In the same manner as in Example 5, a model of a resistive touch panel was produced.
[0077]
Next, the total light transmittance and the transmitted color difference (a *, b *) were measured in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.
[0078]
[Table 2]

As shown in Table 2, it was clarified that the touch panels of Examples 5 and 6 had low transmission color differences and were inconspicuous in coloring.
[0079]
On the other hand, in a touch panel using a film without the intermediate refractive index layer (B) (Comparative Example 7) and a touch panel using a film with an inappropriate optical thickness of the intermediate refractive index layer (Comparative Examples 8 and 9), the transmission color difference b * became very large, and it became clear that it was colored yellow.
[0080]
The obtained touch panel was mounted on a CRT display, and its function was confirmed. When the touch panels of Examples 5 and 6 were attached, all the colors of the CRT display could be displayed accurately. On the other hand, when the touch panels of Comparative Examples 7 to 9 were mounted, the white display on the CRT display was yellowish.
[0081]
In addition, it is also possible to change the said embodiment as follows and to implement it.
The intermediate refractive index layer (B) is composed of two layers, the refractive index of the layer on the substrate (A) side is small within the range of 1.7 to 1.85, and the layer on the conductive layer (C) side. Can be configured so as to increase the refractive index. In this case, the reflectance can be made smaller and the transmittance can be made higher.
[0082]
For example, in order to cancel the reflected light by interference between the reflected light on the surface of the base material (A) and the reflected light on the surface of the intermediate refractive index layer (B), the reflected light having the wavelength λ is 2 × The optical thickness and the refractive index of the intermediate refractive index layer (B) may be determined using the relationship of (optical thickness of the intermediate refractive index layer (B)) / λ = 1/2.
[0083]
In the case where the intermediate refractive index layer (B) is formed by curing a mixture of a metal oxide and a curable monomer by a wet coating method, the intermediate refractive index layer (B) can be cured quickly by irradiation with an electron beam.
[0084]
A viscosity modifier (thickener) is added to a mixture of a metal oxide and a curable monomer for forming the intermediate refractive index layer (B) so that a desired optical film thickness is obtained. The viscosity may be adjusted.
[0085]
Further, technical ideas grasped from the embodiments will be described below.
(1) The transparent conductive material according to any one of claims 1 to 5, wherein the intermediate refractive index layer (B) is formed from a mixture of an inorganic substance and an organic substance. With such a configuration, the refractive index of the intermediate refractive index layer (B) can be easily set, and the intermediate refractive index layer (B) can be easily manufactured.
[0086]
(2) The transparent conductive material according to (1), wherein the inorganic substance is a metal oxide, and the organic substance is a curable monomer. With such a configuration, it is possible to improve the refractive index, electrical insulation, light resistance, and the like of the intermediate refractive index layer (B).
[0087]
(3) The transparent conductive material according to (2), wherein the curable monomer is an ultraviolet curable monomer. With this configuration, the productivity and strength of the intermediate refractive index layer (B) can be improved.
[0088]
【The invention's effect】
Since the transparent conductive material of the present invention has a small number of layers to be laminated, the structure is simple, the production cost is low, and the coloring of transmitted light is small. Therefore, the transparent conductive material of the present invention is useful as an electrode substrate for a touch panel or the like.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a transparent conductive material manufactured in Example 1.
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating a model of a touch panel manufactured in Example 5.
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the wavelength of light and the reflectance of the transparent conductive material of the embodiment.
FIG. 4 is a graph showing the relationship between the wavelength of light and the transmittance of the transparent conductive material of the embodiment.
FIG. 5 is a graph showing the relationship between the wavelength of light and the reflectance of a conventional transparent conductive material.
FIG. 6 is a graph showing the relationship between light wavelength and transmittance for a conventional transparent conductive material.
[Explanation of symbols]
A: base material, B: intermediate refractive index layer, C: conductive layer.

Claims

An intermediate refractive index layer (B) having an optical thickness of 100 to 175 nm and an optical film having an optical thickness of 100 to 175 nm on one or both surfaces of the substrate (A) directly or in order from the substrate side via one or more layers. A transparent conductive material in which a conductive layer (C) having a thickness of 10 to 60 nm is laminated, the refractive index of the intermediate refractive index layer (B) is 1.7 to 1.85, and the refractive index of each layer is a base material ( A transparent conductive material that satisfies the relationship of (A) <refractive index of intermediate refractive index layer (B) <refractive index of conductive layer (C).

The transparent conductive material according to claim 1, wherein the conductive layer (C) is a conductive layer made of a metal or a metal oxide.

3. The method according to claim 1, wherein the conductive layer (C) is a layer formed by depositing indium tin oxide by any one method selected from a vapor deposition method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, and a sputtering method. The transparent conductive material according to the above.

The transparent conductive material according to any one of claims 1 to 3, wherein the substrate (A) is a plastic film having a thickness of 10 to 500 µm.

The transparent conductive material according to any one of claims 1 to 4, wherein the intermediate refractive index layer (B) is a layer obtained by forming a raw material by a wet coating method.

The transparent conductive material according to any one of claims 1 to 5, wherein a minimum value of a reflectance curve on a surface of the transparent conductive material on the conductive layer (C) side is within a wavelength range of 380 to 500 nm.

The transparent conductive material according to any one of claims 1 to 5, wherein a minimum value of a reflectance curve of the surface of the transparent conductive material on the conductive layer (C) side is in a wavelength range of 450 to 500 nm.

The transmission color difference in the L * a * b * color system defined in JIS Z8729 is in a range of -2 <a * <2 and -2 <b * <2. 2. The transparent conductive material according to claim 1.

A touch panel using the transparent conductive material according to claim 1 as an electrode substrate.