JP2004042643A - シール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルム及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】シール性、操作特性、加工特性、特に真空中での加工特性に優れるシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】ベース層Bとシール性外層Aと非シール性外層Cとから成るシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムであって、最低シール温度が110℃以下であり、シールシーム強度が1.3N/15mm以上であり、外層Aが、d50=2.5〜10μmで、SPAN98=1.8以下である合成シリカ粒子を500〜5000ppm含有し、60nm<Raで、摩擦係数が0.8未満の特性を有し、外層Cが、d50=1.5〜6μmで、SPAN98=2.0以下である合成シリカ粒子を1000〜5000ppm含有し、30≦Ra≦150nmであり、摩擦係数が0.6未満の特性を有することを特徴とするフィルム。
【選択図】 なし
【解決手段】ベース層Bとシール性外層Aと非シール性外層Cとから成るシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムであって、最低シール温度が110℃以下であり、シールシーム強度が1.3N/15mm以上であり、外層Aが、d50=2.5〜10μmで、SPAN98=1.8以下である合成シリカ粒子を500〜5000ppm含有し、60nm<Raで、摩擦係数が0.8未満の特性を有し、外層Cが、d50=1.5〜6μmで、SPAN98=2.0以下である合成シリカ粒子を1000〜5000ppm含有し、30≦Ra≦150nmであり、摩擦係数が0.6未満の特性を有することを特徴とするフィルム。
【選択図】 なし
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムに関し、詳しくは、本発明は、真空中での加工に於て、巻取り特性や加工特性に優れたシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムに関する。本発明は、更に、上記フィルムの製造方法およびそれから成る包装材にも関する。
【0002】
【従来の技術】
さらに、シール性二軸延伸ポリエステルフィルムはよく知られており、公知のフィルムにおいて、製造が容易なもの、光学的特性の優れたもの、加工性の優れたものがそれぞれ知られている。
【0003】
例えば、イソフタル酸とテレフフタル酸から成る共重合ポリエステル層と、ポリエチレンテレフタレートから成る層の2層から成る共押出ポリエステルフィルムが知られている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、この種のフィルムはシール性に関して知られていない。さらに、粒子を添加することに関することについても知られていない。そのため、フィルム製造プロセスは安定性を欠き(巻取りができない)、更なるフィルムの加工性も制限され、また、真空装置内でのフィルムの加工(メタル化、セラミック材料によるコーティング等)に使用されていない。
【0004】
また、粒子を有するシール層を有し、シール層の厚さを超える粒径を有する粒子を使用することにより、フィルムの巻取り特性や加工特性が向上した共押出ポリエステルフィルムも知られている(例えば、特許文献2参照)。粒子は表面に突起を形成し、フィルムがロールやガイドに対してブロッキングや固着するのを防ぐ。しかしながら、この種のフィルムのに於て、非シール性層の耐ブロッキング剤に関しては知られていない。そのため、更なるフィルムの加工性も制限され、特に、真空装置内でのフィルムの加工(メタル化、セラミック材料によるコーティング等)について極めて制限される。2峰性の粒径分布を有する粒子を含有させることも出来るが、粒径分布が広くなり、粒子濃度と粒径分布を組合せた粒子系を適用することもできるが、シール性が悪化する。また。シール性についても、シール可能温度領域、特に最低シール温度が知られていない。140℃におけるシールシーム強度は85〜120N/m(1.275〜1.8N/15mm(フィルム幅))である。さらに、この種のフィルムは光学特性が好ましくなく、ヘーズが5〜15%と高いために、フィルムの応用範囲が制限される。
【0005】
また、シール層を有し、シールエネルギーが400g・cm/15mmを超える共重合ポリエステルフィルムも知られている(例えば、特許文献3参照)。シール層は、0.01〜5重量%の無機または有機粒子を含有する。これらの粒子の粒径はシール層の厚さより小さいが、好ましい粒径範囲について知られていない。具体的には2〜3.5μmの粒径の粒子を使用しており、単分散でほぼ球状の粒子が好ましいとされており、ベース層にもこの様な粒子を添加してもよい。
しかしながら、真空加工を良好に行なえる様な粒子の添加方法については知られていない。
【0006】
さらに、第1の表面がシール層で、第2の表面がアクリレート層を有する共押出し多層ポリエステルフィルムが知られている(例えば、特許文献4参照)。シール性の外層はイソフタル酸とテレフフタル酸から成る共重合ポリエステル層から成る。シール層と反対側には塗布層が形成され、加工特性が改良されている。
しかしながら、この公開公報にはシール温度に関する記載が無い。140℃におけるシール強度は、シール層の厚さが11μmの場合761.5N/m(11.4N/15mm)である。反対側の塗布層はアクリレートから成り、シール性は無く、このフィルムの利用は制限される。
【0007】
また、粒子を含有し、特殊な表面形状(表面の突起の高さおよび数が規定されている)を有するシール層を有するシール性多層ポリエステルフィルムが知られれている(例えば、特許文献5参照)。粒子は無機粒子であり、フィルム製造工程中に水性塗布液のコーティングを行って粒子を導入してもよく、また、シール層の原料中に含有させておいてもよい。この種のフィルムはシール性も加工特性も良好である。シール層と反対側の表面の粒子の含有量は非常に少ない。このフィルムの140℃におけるシールシーム強度は200N/m(3N/15mm)より大きく、シール層の厚さが3μmの場合275N/m(4.125N/15mm)である。しかしながら、この種のフィルムは、真空中での後加工(メタル化やセラミック被覆等の物理的蒸着プロセス)について制限を受ける。なぜならば、シール層は、表面突起の高さが低く、また、非シール層は粒子含有量が少ないからである。さらに、この種のフィルムは光学的特性が悪く、ヘーズが3%を超えるため、このフィルムの利用は制限される。
【0008】
さらに、シール層と非シール層の外層を有する共押出し多層ポリエステルフィルムが知られている(例えば、特許文献6参照)。ベース層は1層以上から成り、内層はシール層と接しており、他の層は非シール層を形成している。シール層はイソフタル酸とテレフタル酸から成る共重合ポリエステル層から成るが、耐ブロッキング剤を含有していない。フィルムはさらに、ベース層中に少なくとも1種の紫外線安定剤を0.1〜10重量%含有する。ベース層には公知の耐ブロッキング剤が含有されている。このフィルムのシール性は良好であるが、メタル化特性が良好ではなく、また、グロスやヘーズ等の光学的特性も良好ではない。
【0009】
さらに、少なくとも1層のベース層B、シール性外層A及び他の外層Cから成るシール性共押出二軸延伸ポリエステルフィルムが知られている(例えば、特許文献7参照)。このフィルムの最低シール温度は110℃以下であり、シールシーム強度は1.3N/15mm以上で、外層A及びCは特殊な表面形状を有する。シール層は比較的平坦であり、比較的耐ブロッキング剤の含有量が少ない。フィルムのシール特性は非常に優れており、製造も容易で、加工特性(印刷性、切断性、積層性等)も優れている。しかしながら、真空中での後加工については不可能または制限を受ける。
【0010】
【特許文献1】
英国特許出願公開第1465973号明細書
【特許文献2】
欧州特許出願公開第0035835号明細書
【特許文献3】
欧州特許出願公開第0379190号明細書
【特許文献4】
欧州特許出願公開第0432886号明細書
【特許文献5】
欧州特許出願公開第0515096号明細書
【特許文献6】
国際公開第98/06575号パンフレット
【特許文献7】
欧州特許出願公開第1138480号明細書
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の第1の目的は、上記の従来フィルムに於ける欠点を改良し、メタル化およびセラミック被覆等の真空中での加工(物理的蒸着)および化学的蒸着加工特性に優れているシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムを提供することである。すなわち、SiOxやAl2O3等の真空中でのセラミック材料の被覆に於てブロッキングを起こさず、巻取り特性や加工特性に優れたシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムを提供することである。なお、上記の巻取り特性は、被覆前および被覆後の巻取り特性の両方を含む。
【0012】
被覆処理後のブロッキングは、シール性層と被覆層(非シール性)との間で生じ、問題となる。このようなフィルムを再巻取りすると(ブロッキング箇所はランダムに存在する)フィルム表面が剥離し、別のフィルム表面、特にシール性層表面に移り取られてしまう。また、このようなブロッキングがフィルムの連続製造過程で生じると、フィルムウェブの破断を引起す。
【0013】
本発明の他の目的は、2つの表面の少なくとも一方に被覆後に摩擦が大きくなるような被覆を施す様な加工に於けるフィルムの加工特性を改良することである。すなわち、アクリレートやエポキシ樹脂等による耐擦過被覆の様に、被覆面の摩擦係数は増加し、フィルムがブロッキングしやすい被覆を施した場合でも良好な加工特性を有するフィルムを提供することである。
【0014】
本発明の更に他の目的は、シール性層とシール性層間とのシール能を有する(フィンシーリング)だけでなく、シール性層と非シール性層との間のシール能も有する(ラップシーリング)様な優れたシール能を有するフィルムを提供することである。
【0015】
本発明の更に他の目的は、フィルムの総量の60重量%以下の割合で、フィルムの機械的および光学的物性に悪影響を及ぼすことなくフィルム製造中に生じた再生品を使用できるフィルムを提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意検討した結果、シール性外層A、ベース層B、非シール性外層Cの少なくとも3層から成り、外層A及び外層Cに特定の粒子を含有させ、それぞれの表面の表面粗度および摩擦係数を規定することにより上記目的が達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明のフィルムは、(1)真空中での加工に於て必要な特性に優れ、(2)真空中での巻取りに於て必要な特性に優れ、(3)フィルムの両表面の耐ブロッキング性に優れ、(4)ヘーズやグロス等の光学的特性に優れる。
【0017】
すなわち本発明の第1の要旨は、少なくとも1層のベース層Bと、シール性外層Aと、ベース層Bを基準にして外層Aの反対側に位置する他の非シール性外層Cとから成るシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムであって、最低シール温度が110℃以下であり、シールシーム強度が1.3N/15mm以上であり、シール性外層Aが、a)メジアン粒径d50が2.5〜10μmで、SPAN98法で表される粒径分布が1.8以下である合成シリカ粒子を500〜5000ppm含有し、b)表面粗度Ra値が60nmを超え、c)A側表面/A側表面の摩擦係数が0.8未満の特性を有し、非シール性外層Cが、d)メジアン粒径d50が1.5〜6μmで、SPAN98法で表される粒径分布が2.0以下である合成シリカ粒子を1000〜5000ppm含有し、b)表面粗度Ra値が30nm以上150nm以下であり、c)C側表面/C側表面の摩擦係数が0.6未満の特性を有することを特徴とするシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムに存する。
【0018】
本発明の第2の要旨は、第1の要旨に記載のシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムの製造方法であって、当該製造方法は、1)ベース層B、外層A及び外層C用の原料ポリマーをそれぞれ別々の押出機に供給する工程、2)押出前に不純物をろ過により除去する工程、3)各層を共押出ダイを介して共押出することにより溶融シートを得る工程、4)冷却ロール及び必要であれば他のロールを使用して溶融シートを引取り、固化して積層シートを得る工程と、5)得られた積層シートを長手方向および横方向に二軸延伸して二軸延伸フィルムを得る工程と、5)得られた二軸延伸フィルムを熱固定する工程とから成り、上記二軸延伸工程に於て、長手方向の延伸温度が80〜130℃及び横方向の延伸温度が90〜150℃であり、長手方向の延伸比が2.5〜6及び横方向の延伸比が3.0〜5.0であることを特徴とするシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムの製造方法に存する。
【0019】
本発明の第3の要旨は、第1の要旨に記載のシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムから成る包装材に存する。
。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。本発明のフィルムは、ベース層B、シール性外層A及び非シール性外層Cの少なくとも3層から成る。ベース層Bは80重量%以上の熱可塑性ポリエステルから成る。
【0021】
ベース層Bを構成する熱可塑性ポリエステルとしては、エチレングリコールとテレフタル酸から製造されるポリエチレンテレフタレート(PET)、エチレングリコールとナフタレン−2,6−ジカルボン酸から製造されるポリエチレン−2,6−ナフタレート(PEN)、1,4−ビスヒドロキシメチルシクロヘキサンとテレフタル酸から製造されるポリ(1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート)(PCDT)、エチレングリコールとナフタレン−2,6−ジカルボン酸とビフェニル−4,4’−ジカルボン酸から製造されるポリ(エチレン2,6−ナフタレートビベンゾエート)(PENBB)が好ましい。特にエチレングリコールとテレフタル酸から成る単位またはエチレングリコールとナフタレン−2,6−ジカルボン酸から成る単位が90%以上、好ましくは95%以上のポリエステルが好ましい。
【0022】
上記のモノマー以外の残余のモノマー単位は、他のジオール及び/又はジカルボン酸から誘導されたモノマーである。
【0023】
共重合ジオールとしては、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、HO−(CH2)n−OHの式で示される脂肪族グリコール(nは3〜6の整数を表す、具体的には、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオールが挙げられる)、炭素数6までの分岐型脂肪族グリコール、HO−C6H4−X−C6H4−OHで示される芳香族ジオール(式中Xは−CH2−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−O−、−S−、−SO2−を表す)、式:HO−C6H4−C6H4−OHで表されるビスフェノールが好ましい。
【0024】
共重合ジカルボン酸としては、芳香族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸が好ましい。
【0025】
脂肪族ジカルボン酸の好ましい例としては、ベンゼンジカルボン酸、ナフタレン−1,4−又は−1,6−ジカルボン酸などのナフタレンジカルボン酸、ビフェニル−4,4’−ジカルボン酸などのビフェニル−x,x’−ジカルボン酸、ジフェニルアセチレン−4,4’−ジカルボン酸などのジフェニルアセチレン−x,x−ジカルボン酸、スチルベン−x,x−ジカルボン酸などが挙げられる。
【0026】
脂環式ジカルボン酸の好ましい例としては、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸などのシクロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。脂肪族ジカルボン酸の好ましい例としては、C3−C19のアルカンジカルボン酸が挙げられ、当該アルカンは直鎖状であっても分岐状であってもよい。
【0027】
シール性外層Aは共押出し法によりベース層B上に積層される。外層Aはエチレンテレフタレート単位、エチレンイソフタレート単位及びエチレングリコールから由来する単位を含有する共重合ポリエステルから成る。上記のモノマー以外の残余のモノマー単位は、ベース層の項でも説明した脂肪族、脂環式、芳香族のジオール及びジカルボン酸である。良好なシール性を付与する共重合ポリエステルはエチレンテレフタレート単位、エチレンイソフタレート単位およびエチレングリコール単位から成る。各単位の割合は、通常40〜95モル%のエチレンテレフタレート単位および60〜5モル%のエチレンイソフタレート単位、好ましくは50〜85モル%のエチレンテレフタレート単位および50〜15モル%のエチレンイソフタレート単位、特に好ましくは60〜80モル%のエチレンテレフタレート単位および40〜20モル%のエチレンイソフタレート単位である。
【0028】
外層C(中間層も含む)は、基本的にはベース層Bに使用されるポリマーと同じものから成る。
【0029】
上記のポリエステルは、エステル交換反応により製造される。その出発原料は、ジカルボン酸エステルとジオール及び亜鉛塩、カルシウム塩、リチウム塩、マグネシウム、マンガン塩などの公知のエステル交換反応用触媒である。生成した中間体は、更に、三酸化アンチモンやチタニウム塩などの重縮合触媒の存在下で重縮合に供される。また、ポリエステルの製造は、出発原料のジカルボン酸とジオールに重縮合触媒を存在させて直接または連続的にエステル化反応を行う方法であってもよい。
【0030】
本発明のフィルムのベース層Bには、安定剤や充填剤等の公知の添加剤を添加してもよい。例えば、ポリマー又はポリマーの混合物に、溶融に先立ってリン酸やリン酸エステル等のリン化合物の安定剤を添加してもよい。
【0031】
本発明に於て、シール性外層Aは以下の様な特性を有する。
【0032】
メジアン粒径d50が2.5〜10μm、好ましくは2.8〜8μm、特に好ましくは3.1〜6μmで、SPAN98法で表される粒径分布が1.8以下、好ましくは1.7以下、特に好ましくは1.6以下である合成シリカ粒子を500〜5000ppm、好ましくは800〜4000ppm、特に好ましくは1000〜3000ppm含有する。メジアン粒径d50が2.5μm未満の粒子を使用すると、ヘーズが増加し、フィルムのブロッキングが生じやすくなる。一方、粒径d50が10μmを超える粒子を使用すると、ろ過に於ける問題が生じる。SPAN98法で表される粒径分布が1.8を超える粒子を使用すると、光学的特性およびシール性が悪化する。粒子の含有量が500ppm未満の場合、真空中での加工特性が劣る。一方、粒子の含有量が5000ppmを超える場合、ヘーズが非常に大きくなる。
【0033】
シール性外層Aの表面粗度Raは、60nmを超え、好ましくは80nmを超え、特に好ましくは100nmを超える。シール性外層Aの表面粗度Raが60nm以下の場合は、真空中での加工特性が劣る。
【0034】
シール性外層Aの摩擦係数(A側表面/A側表面)は、0.8未満、好ましくは0.75未満、特に好ましくは0.7未満である。シール性外層Aの摩擦係数が0.8以上の場合は、真空中での加工特性が劣る。
【0035】
上記のようにシール性外層Aは耐ブロッキング剤として合成シリカ粒子を含有する。耐ブロッキング剤として、上記合成シリカ粒子以外にも、無機および/または有機粒子を含有させてもよく、具体的には、炭酸カルシウム、非晶シリカ、タルク、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、アルミナ、LiF、ジカルボン酸のカルシウム、バリウム、亜鉛またはマンガン塩、カーボンブラック、二酸化チタン、カオリン、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリレート粒子などが例示される。これらの粒子を上記合成シリカ粒子と併用する場合は、粒子の合計量が上記範囲を満足することが好ましい。なお、上記粒子は、重縮合中のグリコール分散系または押出中マスターバッチを介して個々の層に添加する粒子を適量添加する。
【0036】
しかしながら、上記に例示した合成シリカ及び非晶シリカ粒子以外の粒子に於て、球状の粒子はフィルム製造工程に於て脱落(チョーキング)しやすいため、フィルムに大きな機械的応力を付加する必要があり、あまり好ましくない。
【0037】
合成シリカ粒子の中でも、コロイド状非晶シリカ粒子が好ましい。コロイド状非晶シリカ粒子はポリマーマトリックス中に良好に分散し、気泡が出来にくい利点がある。気泡は通常二軸延伸の際に生じ、ヘーズを高くするため本発明に於ては気泡が出来にくい粒子を選択することが好ましい。
【0038】
合成シリカ粒子(シリカゲルを含む)は、通常、反応条件を制御しながら、硫酸とナトリウムシリケートを混合することによってハイドロゾルの形態で得ることができる。最終的に、透明な塊状のハイドロゲルとなる。複生成物の硫酸ナトリウムを水洗にて除去し、乾燥した後加工する。得られたシリカゲルの重要な物性値としては、孔体積、孔径および表面積であり、これらは水洗に於けるpHや乾燥条件によって調製される。本発明で規定されるメジアン粒径d50及びSPAN98法で表される粒径分布を有する合成シリカ粒子を得るためには、シリカゲルを機械的または流体力学的に粉砕して調製することが好ましい。なお、合成シリカ粒子は、Grace社、Fuji社、Degussa社およびCrosfield社より入手することが出来る。
【0039】
本発明に於て、非シール性外層Cは以下の様な特性を有する。
【0040】
メジアン粒径d50が1.5〜6μm、好ましくは2.0〜5μm、特に好ましくは2.5〜4μmで、SPAN98法で表される粒径分布が2.0以下、好ましくは1.9以下、特に好ましくは1.8以下である合成シリカ粒子(好ましくは合成非晶シリカ粒子)を1000〜5000ppm、好ましくは1200〜4000ppm、特に好ましくは1500〜3000ppm含有する。SPAN98法で表される粒径分布が2.0を超える粒子を使用すると、光学的特性が悪化する。粒子の含有量が1000ppm未満の場合、真空中での加工特性が劣る。一方、粒子の含有量が5000ppmを超える場合、ヘーズが非常に大きくなる。
【0041】
本発明に於て、非シール性外層Cの表面粗度Raは、30nm以上150nm以下、好ましくは35nm以上130nm以下、特に好ましくは40nm以上110nm以下である。非シール性外層Cの表面粗度Raが上記範囲外の場合は、真空中での加工特性が劣る。
【0042】
非シール性外層Cの摩擦係数(C側表面/C側表面)は、0.6未満、好ましくは0.55未満、特に好ましくは0.5未満である。非シール性外層Cの摩擦係数が0.6以上の場合は、真空中での加工特性が劣る。
【0043】
非シール性外層Cで使用する合成シリカ粒子はシール性外層Aで説明したものと同様のものが使用できるが、非シール性外層Cで規定されるメジアン粒径d50及びSPAN98法で表される粒径分布を満足する必要がある。
【0044】
本発明のフィルムの最低シール温度(フィンシーリング)は110℃以下であり、シールシーム強度(フィンシーリング)は1.3N/15mmであり、上記の共重合ポリエステルを使用することにより達成できる。通常、シール性外層Aを構成する共重合ポリエステルに無機また有機粒子を含有しない方が、シール特性を良好にすることができる。しかしながら、粒子を添加しないと、シール性外層Aがブロッキングを起し、操作取扱い性が悪化し、フィルムの高速巻取りが不可能となる。真空中に於いては一層ブロッキングが発生しやすいことから、この種のフィルムの真空中での加工特性は不良となる。真空下(10−2Torr未満)では、フィルム同士が互いに密着し合い、充分な耐ブロッキング剤を添加しておかないと、すぐにフィルムが固着する。
【0045】
真空中でのフィルムの取扱い性および加工性を改良するために、シール性外層Aに上記の様に粒径を限定した耐ブロッキング剤を特定量含有させる。これにより、ブロッキングの発生を最小にしながら、シール性が悪化するのを防ぐことができる。
【0046】
本発明のフィルムにおいて、優れたシール特性を達成するために、ベース層Bの粒子濃度は、2つの外層A及びCの粒子濃度より低いことが好ましく、通常0〜0.15重量%、好ましくは0〜0.12重量%、特に好ましくは0〜0.10重量%である。ベース層への粒子の添加に於ては、ベース層と同じ材料から成るフィルム等の再生品を添加することにより粒子を混入させることが、光学的特性、特にヘーズを向上(ヘーズを下げる)できるため好ましい。
【0047】
本発明のフィルムはシール性外層A及び非シール性外層Cの2つの外層を有するが、シール性外層Aは、シール性外層A自身とシール能を有する(フィンシーリング)だけでなく、非シール性外層Cともシール能を有する(ラップシーリング)性質を有していてもよい。ラップシーリングはフィンシーリングと比較してシール能が幾分弱い。本発明に於てラップシーリングの最低シール温度は120℃以下で、シールシーム強度は1.0N/15mm以上である。
【0048】
ベース層Bと外層との間には、必要であれば中間層を好ましくは1層設ける。
中間層はベース層の説明において記載したポリマーから成り、ベース層と同じポリマーからなることが好ましい。中間層も、上記の添加剤を含有してもよい。中間層の厚さは、通常0.3μを越え、好ましくは0.5〜15μm、より好ましくは1.0〜10μm、特に好ましくは1.0〜5μmである。
【0049】
外層A及びCの厚さは、通常0.5μmを超え、好ましくは0.55〜6.0μm、より好ましくは0.6〜5μm、更に好ましくは0.65〜4μm、特に好ましくは0.7〜3μmである。外層A及びCの厚さは同一でも異なっていてもよい。
【0050】
本発明のポリエステルフィルムの厚さは、広い範囲をとることができ、通常3〜100μm、好ましくは4〜80μm、より好ましくは5〜60μmである。
ベース層Bの厚さがフィルム全体の厚さの45〜90%を占めることが好ましい。
【0051】
次いで本発明のフィルムの製造方法について説明する。本発明のフィルムは公知の共押出法によって製造できる。具体的には、1)ベース層B、外層A及び外層C用の原料ポリマーをそれぞれ別々の押出機に供給する工程、2)押出前に不純物をろ過により除去する工程、3)各層を共押出ダイを介して共押出することにより溶融シートを得る工程、4)冷却ロール及び必要であれば他のロールを使用して溶融シートを引取り、固化して積層シートを得る工程と、5)得られた積層シートを長手方向および横方向に二軸延伸して二軸延伸フィルムを得る工程と、5)得られた二軸延伸フィルムを熱固定する工程とから成る。必要であれば、コロナ処理または火炎処理を施してもよい。
【0052】
具体的には、先ず、個々の層の溶融ポリマー又はポリマー混合物を共押出ダイに供給し、共押出する。なお粒子はすでにポリマー又はポリマー混合物中に混入してある。押出を行う前に、溶融ポリマーから不純物などを濾過することが好ましい。次いで、フラット−フィルム共押出ダイ(スロットダイ)を介して溶融ポリマーを共押出し、1つ又は複数の冷却ロール及び引取りロールを使用して押出成形物を引取り、積層アモルファスシートを得る。
【0053】
通常、二軸延伸は連続的に行われる。このため、初めに長手方向(機械方向)に延伸し、次いで横方向(機械方向に対して垂直方向)に延伸するのが好ましい。これにより分子鎖が配向する。通常、長手方向の延伸は、延伸比に対応する異なる回転速度を有する2つ以上のロールを使用して行われ、横手方向の延伸はテンターフレームを使用し、フィルムの端部を挟み、より高い温度にて応力をかけて行われる。
【0054】
次いでフィルムの熱固定を行う。熱固定は150〜250℃の温度において0.1〜10秒間行われる。フィルムは通常の方法で巻取られる。
【0055】
熱固定した2軸延伸ポリエステルフィルムの片面または両面にコロナまたは火炎処理を施してもよい。これらの処理は、フィルムの表面張力によって異なるが、通常、50mN/mの強度で行われる。
【0056】
シール性外層Aに使用される共重合ポリエステル及びシール性外層A及び非シール性外層Cの表面形状を上記の様に選択することにより、本発明の目的である優れたシール性と優れた加工特性、特に真空中での加工特性を同時に達成することができる。
【0057】
フィルムに他の所望の物性を付与するため、片面または両面に塗布処理を施してもよい。塗布によって形成される層によって接着力を強めたり、帯電防止性や滑り性の改良したり、離型性を持たせることが出来る。この様な付加的な層は、横延伸を行う前に水分散剤を使用したインラインコーティングによって好適に形成される。
【0058】
本発明のフィルムは、優れたシール性、操作性および加工特性、特に真空中での加工特性を有する。さらに、本発明のフィルムは、シール性外層A同士のシール(フィンシーリング)だけでなく、シール性外層Aと非シール性外層Cとの間のシール(ラップシーリング)も可能である。
【0059】
本発明のフィルムは、ヘーズが改良されており(優れた透明性)、ヘーズ値は、通常3.0%未満、好ましくは2.7%未満、特に好ましくは2.5%未満である。本発明のフィルムは、その製造工程において発生するフィルムの端部等の再生品をフィルムの重量に対して好ましくは10〜60重量%含有させることができる。再生原料の添加によって、本発明のフィルムの物性、特に外観が大きく変化することはない。
【0060】
本発明のフィルムは、上記の様に優れた光学特性および優れた加工特性を有するため、包装材、特に可撓性包装材に好適に利用できる。また、真空中での加工に優れ、高速包装機械でも使用可能である。
【0061】
本発明のフィルムの特性を下記表1及び表2に纏めて示す。
【0062】
【表1】
【0063】
【表2】
【0064】
【実施例】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。以下の実施例に於て使用した測定方法を以下に記す。
【0065】
(1)メジアン粒径d50:
メジアン粒径d50はMalvern Master Sizerを使用したレーザーによる一般的な方法で測定した(Horiba LA 500又はSympathecHelos装置でも基本的に同一の測定である)。水を入れたセルにサンプルを入れ、試験装置にセットする。試験は自動的に行われ、粒径d50の数学的な計算も一緒に行われる。
【0066】
粒径d50の値は、累積粒径分布曲線から決定する。図2に累積粒径分布曲線を示す。50%におけるd50の値を求めた。
【0067】
(2)SPAN98の測定:
粒径分布を示すSPAN98は、上記のメジアン粒径d50の測定で使用した装置を使用して測定した。SPAN98は以下の式で表される。
【0068】
【数1】
SPAN98=(d98−d10)/d50
【0069】
d98及びd10は、それぞれ、図1に示した累積粒径分布曲線の98%および10%における粒径である。図3にd98及びd10の該当箇所を示す。
【0070】
(3)標準粘度および固有粘度:
ポリエステルの標準粘度SV(DCA)はジクロロ酢酸中でDIN 53726に従って測定した。
【0071】
(4)シールシーム強度:
図3に示す様な方法で測定した。100×100mmの2つのフィルム(1)を重ね合わせてシール温度130℃、シール時間0.5秒、シール圧2barでシールした(使用装置:ブラガーNDS、シールジョーは片側加熱で行った)。
シール部分(2)の大きさは10×100mmである。シールしたサンプルを15mm幅に切断し、T−剥離法によってシールシーム強度を求めた。図3に示す様に、フィルムのシールされていない端部を応力測定器(例えばZwick)の治具(4)に固定し、矢印方向(3)に200mm/分の速度で、シール部分に対して直角方向に応力をかけ、シール部分が剥離する際の応力を測定する。標記は、応力(N)/フィルムの幅(15mm)で表す。
【0072】
(5)最低シール温度の決定:
Brugger HSG/ETシール装置を使用して熱シールした試料(シール合わせ目=10mm×100mm)を作成した。シールは、異なる温度で、2つの加熱したシール挟みを使用し、2barのシール圧で、シール時間0.5秒で行った。シールした試料から幅15mmの試験切片を切り取り、T−シール力を測定し、シール力とした。シール力が0.5N/15mmに達した際の温度を最低シール温度とした。
【0073】
(6)表面粗度Ra:
フィルムの表面粗度RaはDIN 4768に準じて測定した。カットオフ値は0.25mmであった。この測定法は、ガラス板の上で行なうのではかく、リングの中で行なう。このリング法では、2つの表面が第3の表面(例えばガラス)に接する様にサンプルを固定する。
【0074】
(7)摩擦係数:
摩擦係数は、製造後14日後に、DIN53375に準じて測定した。
【0075】
(8)表面張力:
表面張力は、“インク法”によりDIN53364に準じて測定した。
【0076】
(9)ヘーズ:
フィルムのヘーズは、ASTM−D 1003−52に準じて測定した。ヘルツヘーズは、ASTM−D 1003−52を基にして決定した。しかしながら、もっとも効果的な測定範囲を使用するために、4枚のフィルムを重ね、1°の隔壁スリットを4°のピンホールの代りに使用して測定を行った。
【0077】
(10)グロス値:
グロス値はDIN 67530に準じて測定した。反射率を、フィルム表面の光学的特性として測定した。ASTM−D 523−78及びISO 2813を基準とし、入射角を20°とした。所定の入射角で試料の平坦な表面に光線を照射すると、反射および/または散乱が起こる。光電検知器に当った光が電気的な比率変数として表示される。得られた無次元値は入射角と共に表示される。
【0078】
(11)巻取り特性、取扱い特性、加工特性の評価:
フィルムの巻取り特性、取扱い特性、加工特性は以下の基準で評価した。
【0079】
【表3】
A:ローラーや装置にフィルムの固着が起らず、巻取り工程や包装装置に於ける加工工程中にブロッキングが発生しない。そのため製造コストが低い。
B:製造コストがランクAとCとの中間の場合。
C:ローラーや装置にフィルムが頻繁に固着し、巻取り工程や包装装置に於ける加工工程中にブロッキングがしばしば発生する。そのため、操作が複雑で手間がかかり、製造コストが高い。
【0080】
(12)真空中での加工特性の評価:
フィルムを市販の真空被覆装置(Top Beam、Applied/Hanau社製)を使用して、通常の被覆条件でSiOxを被覆した。SiOx被覆層の厚さは200nmで、被覆速度は300m/秒であった。評価基準は以下の通りである。
【0081】
【表4】
A:ローラーや装置にフィルムの固着が起らず、巻取り工程や包装装置に於ける加工工程中にブロッキングが発生しない。そのため製造コストが低い。
B:製造コストがランクAとCとの中間の場合。
C:ローラーや装置にフィルムが頻繁に固着し、巻取り工程や包装装置に於ける加工工程中にブロッキングがしばしば発生する。そのため、操作が複雑で手間がかかり、製造コストが高い。
【0082】
実施例1:
ポリエチレンテレフタレートチップ(マンガンをエステル交換反応の触媒として使用し、エステル交換反応にて得た。マンガン濃度:100ppm)を150℃で乾燥し、含有水分量を100ppm未満にした後、ベース層B用の押出機に供給した。同様に、非シール性外層C用の押出機にポリエチレンテレフタレート及び耐ブロッキング剤粒子を供給した。
【0083】
これとは別に、エチレンテレフタレート単位78モル%及びエチレンイソフタレート単位22モル%から成る直鎖状共重合ポリエステル(マンガンをエステル交換反応の触媒として使用し、エステル交換反応にて得た。マンガン濃度:100ppm)のチップを製造した。共重合ポリエステルを100℃で乾燥し、含有水分量を200ppm未満にした後、シール性外層A用の押出し機に供給した。
【0084】
共押出した後、長手方向、横方向の延伸を行い、厚さ12μmのABC型3層透明積層フィルムを得た。各層の構成を以下の表5に示す。
【0085】
【表5】
シール性外層A:
・ポリエチレンテレフタレート(SV=800) 96重量%
・ポリエチレンテレフタレート(SV=800)95 4重量%
重量%と合成シリカ粒子(Sylysia 430(登録商標、Fuji社製、日本、SPAN98=1.7)5重量%とから成るマスターバッチ
ベース層B:
・ポリエチレンテレフタレート(SV=800) 100重量%
外層C:
・ポリエチレンテレフタレート(SV=800) 85重量%
・ポリエチレンテレフタレート(SV=800)99 15重量%
重量%と合成シリカ粒子(Sylobloc 44H
(Grace社製、SPAN98=1.9)1重量%とから成るマスターバッチ
【0086】
フィルムの製造条件を以下の表6に示す。
【0087】
【表6】
【0088】
得られたフィルムは、シール性、操作特性、加工特性、特に真空中での加工特性に優れていた。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0089】
実施例2:
シール性外層Aの厚さを1.5μmから2.5μmに、ベース層の厚さを9から8μmに変更した以外は実施例1と同様の操作でフィルムを作成した。得られたフィルムは、シール性、操作特性、加工特性、特に真空中での加工特性に優れていた。特にシール性が向上しており、シールシーム強度が向上していた。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0090】
実施例3:
シール性外層Aの厚さを3.0μmに、非シール性外層Cの厚さを2.0μmに変更し、フィルムの総厚さを20μmに変更した以外は実施例1と同様の操作でフィルムを作成した。得られたフィルムは、シール性、操作特性、加工特性、特に真空中での加工特性に優れていた。特にシール性が向上しており、シールシーム強度が向上していた。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0091】
実施例4:
シール性外層Aを構成する共重合ポリエステルをエチレンテレフタレート単位70モル%及びエチレンイソフタレート単位30モル%から成る共重合ポリエステルに変更し、シール性外層Aの厚さを3.0μmに、非シール性外層Cの厚さを2.0μmに、フィルムの総厚さを20μmに変更し、添加粒子の含有量を変更した以外は実施例1と同様の操作でフィルムを作成した。得られたフィルムは、シール性、操作特性、加工特性、特に真空中での加工特性に優れていた。本実施例のフィルは更にシール性が向上しており、シールシーム強度が向上していた。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0092】
比較例1:
実施例1において、シール性外層Aに粒子を添加しなかった以外は実施例1と同様の操作でフィルムを作成した。このフィルムはシール性が向上したものの、フィルムの操作特性および加工特性は悪化した。また、真空中での加工特性では、被覆面である非シール性外層C側とシール性外層Aとの間でブロッキングが発生し、非シール性外層C面上の被覆がシール性外層A面上に移り取られてしまい、これ以上のフィルムの加工は不可能であった。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0093】
比較例2:
欧州特許公開第0035835号の実施例1を追試した。得られたフィルムは、シール性、取扱い性および加工特性に於て本発明の実施例と比較して劣っていた。また、フィルムのヘーズが高かった。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0094】
比較例3:
欧州特許公開第0515096号の実施例1を追試した。得られたフィルムは、取扱い性および加工特性に於て本発明の実施例と比較して劣っていた。また、フィルムのヘーズが高かった。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0095】
比較例4:
欧州特許公開第0379190号の実施例21を追試した。得られたフィルムの真空中での加工特性が極めて劣っていた。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0096】
【表7】
【0097】
【表8】
【0098】
【発明の効果】
本発明のシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムは、シール性、操作特性、加工特性に優れており、特にメタル化およびセラミック被覆等の真空中での加工(物理的蒸着)および化学的蒸着加工特性に優れている。
【図面の簡単な説明】
【図1】粒子の累積粒径分布曲線のd50を示した図
【図2】粒子の累積粒径分布曲線のd98及びd10を示した図
【図3】T−剥離法によるシールシーム強度の測定を示す模式図
【符号の説明】
1:フィルム
2:シール部分
3:応力方向
4:治具
【発明の属する技術分野】
本発明はシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムに関し、詳しくは、本発明は、真空中での加工に於て、巻取り特性や加工特性に優れたシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムに関する。本発明は、更に、上記フィルムの製造方法およびそれから成る包装材にも関する。
【0002】
【従来の技術】
さらに、シール性二軸延伸ポリエステルフィルムはよく知られており、公知のフィルムにおいて、製造が容易なもの、光学的特性の優れたもの、加工性の優れたものがそれぞれ知られている。
【0003】
例えば、イソフタル酸とテレフフタル酸から成る共重合ポリエステル層と、ポリエチレンテレフタレートから成る層の2層から成る共押出ポリエステルフィルムが知られている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、この種のフィルムはシール性に関して知られていない。さらに、粒子を添加することに関することについても知られていない。そのため、フィルム製造プロセスは安定性を欠き(巻取りができない)、更なるフィルムの加工性も制限され、また、真空装置内でのフィルムの加工(メタル化、セラミック材料によるコーティング等)に使用されていない。
【0004】
また、粒子を有するシール層を有し、シール層の厚さを超える粒径を有する粒子を使用することにより、フィルムの巻取り特性や加工特性が向上した共押出ポリエステルフィルムも知られている(例えば、特許文献2参照)。粒子は表面に突起を形成し、フィルムがロールやガイドに対してブロッキングや固着するのを防ぐ。しかしながら、この種のフィルムのに於て、非シール性層の耐ブロッキング剤に関しては知られていない。そのため、更なるフィルムの加工性も制限され、特に、真空装置内でのフィルムの加工(メタル化、セラミック材料によるコーティング等)について極めて制限される。2峰性の粒径分布を有する粒子を含有させることも出来るが、粒径分布が広くなり、粒子濃度と粒径分布を組合せた粒子系を適用することもできるが、シール性が悪化する。また。シール性についても、シール可能温度領域、特に最低シール温度が知られていない。140℃におけるシールシーム強度は85〜120N/m(1.275〜1.8N/15mm(フィルム幅))である。さらに、この種のフィルムは光学特性が好ましくなく、ヘーズが5〜15%と高いために、フィルムの応用範囲が制限される。
【0005】
また、シール層を有し、シールエネルギーが400g・cm/15mmを超える共重合ポリエステルフィルムも知られている(例えば、特許文献3参照)。シール層は、0.01〜5重量%の無機または有機粒子を含有する。これらの粒子の粒径はシール層の厚さより小さいが、好ましい粒径範囲について知られていない。具体的には2〜3.5μmの粒径の粒子を使用しており、単分散でほぼ球状の粒子が好ましいとされており、ベース層にもこの様な粒子を添加してもよい。
しかしながら、真空加工を良好に行なえる様な粒子の添加方法については知られていない。
【0006】
さらに、第1の表面がシール層で、第2の表面がアクリレート層を有する共押出し多層ポリエステルフィルムが知られている(例えば、特許文献4参照)。シール性の外層はイソフタル酸とテレフフタル酸から成る共重合ポリエステル層から成る。シール層と反対側には塗布層が形成され、加工特性が改良されている。
しかしながら、この公開公報にはシール温度に関する記載が無い。140℃におけるシール強度は、シール層の厚さが11μmの場合761.5N/m(11.4N/15mm)である。反対側の塗布層はアクリレートから成り、シール性は無く、このフィルムの利用は制限される。
【0007】
また、粒子を含有し、特殊な表面形状(表面の突起の高さおよび数が規定されている)を有するシール層を有するシール性多層ポリエステルフィルムが知られれている(例えば、特許文献5参照)。粒子は無機粒子であり、フィルム製造工程中に水性塗布液のコーティングを行って粒子を導入してもよく、また、シール層の原料中に含有させておいてもよい。この種のフィルムはシール性も加工特性も良好である。シール層と反対側の表面の粒子の含有量は非常に少ない。このフィルムの140℃におけるシールシーム強度は200N/m(3N/15mm)より大きく、シール層の厚さが3μmの場合275N/m(4.125N/15mm)である。しかしながら、この種のフィルムは、真空中での後加工(メタル化やセラミック被覆等の物理的蒸着プロセス)について制限を受ける。なぜならば、シール層は、表面突起の高さが低く、また、非シール層は粒子含有量が少ないからである。さらに、この種のフィルムは光学的特性が悪く、ヘーズが3%を超えるため、このフィルムの利用は制限される。
【0008】
さらに、シール層と非シール層の外層を有する共押出し多層ポリエステルフィルムが知られている(例えば、特許文献6参照)。ベース層は1層以上から成り、内層はシール層と接しており、他の層は非シール層を形成している。シール層はイソフタル酸とテレフタル酸から成る共重合ポリエステル層から成るが、耐ブロッキング剤を含有していない。フィルムはさらに、ベース層中に少なくとも1種の紫外線安定剤を0.1〜10重量%含有する。ベース層には公知の耐ブロッキング剤が含有されている。このフィルムのシール性は良好であるが、メタル化特性が良好ではなく、また、グロスやヘーズ等の光学的特性も良好ではない。
【0009】
さらに、少なくとも1層のベース層B、シール性外層A及び他の外層Cから成るシール性共押出二軸延伸ポリエステルフィルムが知られている(例えば、特許文献7参照)。このフィルムの最低シール温度は110℃以下であり、シールシーム強度は1.3N/15mm以上で、外層A及びCは特殊な表面形状を有する。シール層は比較的平坦であり、比較的耐ブロッキング剤の含有量が少ない。フィルムのシール特性は非常に優れており、製造も容易で、加工特性(印刷性、切断性、積層性等)も優れている。しかしながら、真空中での後加工については不可能または制限を受ける。
【0010】
【特許文献1】
英国特許出願公開第1465973号明細書
【特許文献2】
欧州特許出願公開第0035835号明細書
【特許文献3】
欧州特許出願公開第0379190号明細書
【特許文献4】
欧州特許出願公開第0432886号明細書
【特許文献5】
欧州特許出願公開第0515096号明細書
【特許文献6】
国際公開第98/06575号パンフレット
【特許文献7】
欧州特許出願公開第1138480号明細書
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の第1の目的は、上記の従来フィルムに於ける欠点を改良し、メタル化およびセラミック被覆等の真空中での加工(物理的蒸着)および化学的蒸着加工特性に優れているシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムを提供することである。すなわち、SiOxやAl2O3等の真空中でのセラミック材料の被覆に於てブロッキングを起こさず、巻取り特性や加工特性に優れたシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムを提供することである。なお、上記の巻取り特性は、被覆前および被覆後の巻取り特性の両方を含む。
【0012】
被覆処理後のブロッキングは、シール性層と被覆層(非シール性)との間で生じ、問題となる。このようなフィルムを再巻取りすると(ブロッキング箇所はランダムに存在する)フィルム表面が剥離し、別のフィルム表面、特にシール性層表面に移り取られてしまう。また、このようなブロッキングがフィルムの連続製造過程で生じると、フィルムウェブの破断を引起す。
【0013】
本発明の他の目的は、2つの表面の少なくとも一方に被覆後に摩擦が大きくなるような被覆を施す様な加工に於けるフィルムの加工特性を改良することである。すなわち、アクリレートやエポキシ樹脂等による耐擦過被覆の様に、被覆面の摩擦係数は増加し、フィルムがブロッキングしやすい被覆を施した場合でも良好な加工特性を有するフィルムを提供することである。
【0014】
本発明の更に他の目的は、シール性層とシール性層間とのシール能を有する(フィンシーリング)だけでなく、シール性層と非シール性層との間のシール能も有する(ラップシーリング)様な優れたシール能を有するフィルムを提供することである。
【0015】
本発明の更に他の目的は、フィルムの総量の60重量%以下の割合で、フィルムの機械的および光学的物性に悪影響を及ぼすことなくフィルム製造中に生じた再生品を使用できるフィルムを提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意検討した結果、シール性外層A、ベース層B、非シール性外層Cの少なくとも3層から成り、外層A及び外層Cに特定の粒子を含有させ、それぞれの表面の表面粗度および摩擦係数を規定することにより上記目的が達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明のフィルムは、(1)真空中での加工に於て必要な特性に優れ、(2)真空中での巻取りに於て必要な特性に優れ、(3)フィルムの両表面の耐ブロッキング性に優れ、(4)ヘーズやグロス等の光学的特性に優れる。
【0017】
すなわち本発明の第1の要旨は、少なくとも1層のベース層Bと、シール性外層Aと、ベース層Bを基準にして外層Aの反対側に位置する他の非シール性外層Cとから成るシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムであって、最低シール温度が110℃以下であり、シールシーム強度が1.3N/15mm以上であり、シール性外層Aが、a)メジアン粒径d50が2.5〜10μmで、SPAN98法で表される粒径分布が1.8以下である合成シリカ粒子を500〜5000ppm含有し、b)表面粗度Ra値が60nmを超え、c)A側表面/A側表面の摩擦係数が0.8未満の特性を有し、非シール性外層Cが、d)メジアン粒径d50が1.5〜6μmで、SPAN98法で表される粒径分布が2.0以下である合成シリカ粒子を1000〜5000ppm含有し、b)表面粗度Ra値が30nm以上150nm以下であり、c)C側表面/C側表面の摩擦係数が0.6未満の特性を有することを特徴とするシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムに存する。
【0018】
本発明の第2の要旨は、第1の要旨に記載のシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムの製造方法であって、当該製造方法は、1)ベース層B、外層A及び外層C用の原料ポリマーをそれぞれ別々の押出機に供給する工程、2)押出前に不純物をろ過により除去する工程、3)各層を共押出ダイを介して共押出することにより溶融シートを得る工程、4)冷却ロール及び必要であれば他のロールを使用して溶融シートを引取り、固化して積層シートを得る工程と、5)得られた積層シートを長手方向および横方向に二軸延伸して二軸延伸フィルムを得る工程と、5)得られた二軸延伸フィルムを熱固定する工程とから成り、上記二軸延伸工程に於て、長手方向の延伸温度が80〜130℃及び横方向の延伸温度が90〜150℃であり、長手方向の延伸比が2.5〜6及び横方向の延伸比が3.0〜5.0であることを特徴とするシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムの製造方法に存する。
【0019】
本発明の第3の要旨は、第1の要旨に記載のシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムから成る包装材に存する。
。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。本発明のフィルムは、ベース層B、シール性外層A及び非シール性外層Cの少なくとも3層から成る。ベース層Bは80重量%以上の熱可塑性ポリエステルから成る。
【0021】
ベース層Bを構成する熱可塑性ポリエステルとしては、エチレングリコールとテレフタル酸から製造されるポリエチレンテレフタレート(PET)、エチレングリコールとナフタレン−2,6−ジカルボン酸から製造されるポリエチレン−2,6−ナフタレート(PEN)、1,4−ビスヒドロキシメチルシクロヘキサンとテレフタル酸から製造されるポリ(1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート)(PCDT)、エチレングリコールとナフタレン−2,6−ジカルボン酸とビフェニル−4,4’−ジカルボン酸から製造されるポリ(エチレン2,6−ナフタレートビベンゾエート)(PENBB)が好ましい。特にエチレングリコールとテレフタル酸から成る単位またはエチレングリコールとナフタレン−2,6−ジカルボン酸から成る単位が90%以上、好ましくは95%以上のポリエステルが好ましい。
【0022】
上記のモノマー以外の残余のモノマー単位は、他のジオール及び/又はジカルボン酸から誘導されたモノマーである。
【0023】
共重合ジオールとしては、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、HO−(CH2)n−OHの式で示される脂肪族グリコール(nは3〜6の整数を表す、具体的には、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオールが挙げられる)、炭素数6までの分岐型脂肪族グリコール、HO−C6H4−X−C6H4−OHで示される芳香族ジオール(式中Xは−CH2−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−O−、−S−、−SO2−を表す)、式:HO−C6H4−C6H4−OHで表されるビスフェノールが好ましい。
【0024】
共重合ジカルボン酸としては、芳香族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸が好ましい。
【0025】
脂肪族ジカルボン酸の好ましい例としては、ベンゼンジカルボン酸、ナフタレン−1,4−又は−1,6−ジカルボン酸などのナフタレンジカルボン酸、ビフェニル−4,4’−ジカルボン酸などのビフェニル−x,x’−ジカルボン酸、ジフェニルアセチレン−4,4’−ジカルボン酸などのジフェニルアセチレン−x,x−ジカルボン酸、スチルベン−x,x−ジカルボン酸などが挙げられる。
【0026】
脂環式ジカルボン酸の好ましい例としては、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸などのシクロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。脂肪族ジカルボン酸の好ましい例としては、C3−C19のアルカンジカルボン酸が挙げられ、当該アルカンは直鎖状であっても分岐状であってもよい。
【0027】
シール性外層Aは共押出し法によりベース層B上に積層される。外層Aはエチレンテレフタレート単位、エチレンイソフタレート単位及びエチレングリコールから由来する単位を含有する共重合ポリエステルから成る。上記のモノマー以外の残余のモノマー単位は、ベース層の項でも説明した脂肪族、脂環式、芳香族のジオール及びジカルボン酸である。良好なシール性を付与する共重合ポリエステルはエチレンテレフタレート単位、エチレンイソフタレート単位およびエチレングリコール単位から成る。各単位の割合は、通常40〜95モル%のエチレンテレフタレート単位および60〜5モル%のエチレンイソフタレート単位、好ましくは50〜85モル%のエチレンテレフタレート単位および50〜15モル%のエチレンイソフタレート単位、特に好ましくは60〜80モル%のエチレンテレフタレート単位および40〜20モル%のエチレンイソフタレート単位である。
【0028】
外層C(中間層も含む)は、基本的にはベース層Bに使用されるポリマーと同じものから成る。
【0029】
上記のポリエステルは、エステル交換反応により製造される。その出発原料は、ジカルボン酸エステルとジオール及び亜鉛塩、カルシウム塩、リチウム塩、マグネシウム、マンガン塩などの公知のエステル交換反応用触媒である。生成した中間体は、更に、三酸化アンチモンやチタニウム塩などの重縮合触媒の存在下で重縮合に供される。また、ポリエステルの製造は、出発原料のジカルボン酸とジオールに重縮合触媒を存在させて直接または連続的にエステル化反応を行う方法であってもよい。
【0030】
本発明のフィルムのベース層Bには、安定剤や充填剤等の公知の添加剤を添加してもよい。例えば、ポリマー又はポリマーの混合物に、溶融に先立ってリン酸やリン酸エステル等のリン化合物の安定剤を添加してもよい。
【0031】
本発明に於て、シール性外層Aは以下の様な特性を有する。
【0032】
メジアン粒径d50が2.5〜10μm、好ましくは2.8〜8μm、特に好ましくは3.1〜6μmで、SPAN98法で表される粒径分布が1.8以下、好ましくは1.7以下、特に好ましくは1.6以下である合成シリカ粒子を500〜5000ppm、好ましくは800〜4000ppm、特に好ましくは1000〜3000ppm含有する。メジアン粒径d50が2.5μm未満の粒子を使用すると、ヘーズが増加し、フィルムのブロッキングが生じやすくなる。一方、粒径d50が10μmを超える粒子を使用すると、ろ過に於ける問題が生じる。SPAN98法で表される粒径分布が1.8を超える粒子を使用すると、光学的特性およびシール性が悪化する。粒子の含有量が500ppm未満の場合、真空中での加工特性が劣る。一方、粒子の含有量が5000ppmを超える場合、ヘーズが非常に大きくなる。
【0033】
シール性外層Aの表面粗度Raは、60nmを超え、好ましくは80nmを超え、特に好ましくは100nmを超える。シール性外層Aの表面粗度Raが60nm以下の場合は、真空中での加工特性が劣る。
【0034】
シール性外層Aの摩擦係数(A側表面/A側表面)は、0.8未満、好ましくは0.75未満、特に好ましくは0.7未満である。シール性外層Aの摩擦係数が0.8以上の場合は、真空中での加工特性が劣る。
【0035】
上記のようにシール性外層Aは耐ブロッキング剤として合成シリカ粒子を含有する。耐ブロッキング剤として、上記合成シリカ粒子以外にも、無機および/または有機粒子を含有させてもよく、具体的には、炭酸カルシウム、非晶シリカ、タルク、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、アルミナ、LiF、ジカルボン酸のカルシウム、バリウム、亜鉛またはマンガン塩、カーボンブラック、二酸化チタン、カオリン、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリレート粒子などが例示される。これらの粒子を上記合成シリカ粒子と併用する場合は、粒子の合計量が上記範囲を満足することが好ましい。なお、上記粒子は、重縮合中のグリコール分散系または押出中マスターバッチを介して個々の層に添加する粒子を適量添加する。
【0036】
しかしながら、上記に例示した合成シリカ及び非晶シリカ粒子以外の粒子に於て、球状の粒子はフィルム製造工程に於て脱落(チョーキング)しやすいため、フィルムに大きな機械的応力を付加する必要があり、あまり好ましくない。
【0037】
合成シリカ粒子の中でも、コロイド状非晶シリカ粒子が好ましい。コロイド状非晶シリカ粒子はポリマーマトリックス中に良好に分散し、気泡が出来にくい利点がある。気泡は通常二軸延伸の際に生じ、ヘーズを高くするため本発明に於ては気泡が出来にくい粒子を選択することが好ましい。
【0038】
合成シリカ粒子(シリカゲルを含む)は、通常、反応条件を制御しながら、硫酸とナトリウムシリケートを混合することによってハイドロゾルの形態で得ることができる。最終的に、透明な塊状のハイドロゲルとなる。複生成物の硫酸ナトリウムを水洗にて除去し、乾燥した後加工する。得られたシリカゲルの重要な物性値としては、孔体積、孔径および表面積であり、これらは水洗に於けるpHや乾燥条件によって調製される。本発明で規定されるメジアン粒径d50及びSPAN98法で表される粒径分布を有する合成シリカ粒子を得るためには、シリカゲルを機械的または流体力学的に粉砕して調製することが好ましい。なお、合成シリカ粒子は、Grace社、Fuji社、Degussa社およびCrosfield社より入手することが出来る。
【0039】
本発明に於て、非シール性外層Cは以下の様な特性を有する。
【0040】
メジアン粒径d50が1.5〜6μm、好ましくは2.0〜5μm、特に好ましくは2.5〜4μmで、SPAN98法で表される粒径分布が2.0以下、好ましくは1.9以下、特に好ましくは1.8以下である合成シリカ粒子(好ましくは合成非晶シリカ粒子)を1000〜5000ppm、好ましくは1200〜4000ppm、特に好ましくは1500〜3000ppm含有する。SPAN98法で表される粒径分布が2.0を超える粒子を使用すると、光学的特性が悪化する。粒子の含有量が1000ppm未満の場合、真空中での加工特性が劣る。一方、粒子の含有量が5000ppmを超える場合、ヘーズが非常に大きくなる。
【0041】
本発明に於て、非シール性外層Cの表面粗度Raは、30nm以上150nm以下、好ましくは35nm以上130nm以下、特に好ましくは40nm以上110nm以下である。非シール性外層Cの表面粗度Raが上記範囲外の場合は、真空中での加工特性が劣る。
【0042】
非シール性外層Cの摩擦係数(C側表面/C側表面)は、0.6未満、好ましくは0.55未満、特に好ましくは0.5未満である。非シール性外層Cの摩擦係数が0.6以上の場合は、真空中での加工特性が劣る。
【0043】
非シール性外層Cで使用する合成シリカ粒子はシール性外層Aで説明したものと同様のものが使用できるが、非シール性外層Cで規定されるメジアン粒径d50及びSPAN98法で表される粒径分布を満足する必要がある。
【0044】
本発明のフィルムの最低シール温度(フィンシーリング)は110℃以下であり、シールシーム強度(フィンシーリング)は1.3N/15mmであり、上記の共重合ポリエステルを使用することにより達成できる。通常、シール性外層Aを構成する共重合ポリエステルに無機また有機粒子を含有しない方が、シール特性を良好にすることができる。しかしながら、粒子を添加しないと、シール性外層Aがブロッキングを起し、操作取扱い性が悪化し、フィルムの高速巻取りが不可能となる。真空中に於いては一層ブロッキングが発生しやすいことから、この種のフィルムの真空中での加工特性は不良となる。真空下(10−2Torr未満)では、フィルム同士が互いに密着し合い、充分な耐ブロッキング剤を添加しておかないと、すぐにフィルムが固着する。
【0045】
真空中でのフィルムの取扱い性および加工性を改良するために、シール性外層Aに上記の様に粒径を限定した耐ブロッキング剤を特定量含有させる。これにより、ブロッキングの発生を最小にしながら、シール性が悪化するのを防ぐことができる。
【0046】
本発明のフィルムにおいて、優れたシール特性を達成するために、ベース層Bの粒子濃度は、2つの外層A及びCの粒子濃度より低いことが好ましく、通常0〜0.15重量%、好ましくは0〜0.12重量%、特に好ましくは0〜0.10重量%である。ベース層への粒子の添加に於ては、ベース層と同じ材料から成るフィルム等の再生品を添加することにより粒子を混入させることが、光学的特性、特にヘーズを向上(ヘーズを下げる)できるため好ましい。
【0047】
本発明のフィルムはシール性外層A及び非シール性外層Cの2つの外層を有するが、シール性外層Aは、シール性外層A自身とシール能を有する(フィンシーリング)だけでなく、非シール性外層Cともシール能を有する(ラップシーリング)性質を有していてもよい。ラップシーリングはフィンシーリングと比較してシール能が幾分弱い。本発明に於てラップシーリングの最低シール温度は120℃以下で、シールシーム強度は1.0N/15mm以上である。
【0048】
ベース層Bと外層との間には、必要であれば中間層を好ましくは1層設ける。
中間層はベース層の説明において記載したポリマーから成り、ベース層と同じポリマーからなることが好ましい。中間層も、上記の添加剤を含有してもよい。中間層の厚さは、通常0.3μを越え、好ましくは0.5〜15μm、より好ましくは1.0〜10μm、特に好ましくは1.0〜5μmである。
【0049】
外層A及びCの厚さは、通常0.5μmを超え、好ましくは0.55〜6.0μm、より好ましくは0.6〜5μm、更に好ましくは0.65〜4μm、特に好ましくは0.7〜3μmである。外層A及びCの厚さは同一でも異なっていてもよい。
【0050】
本発明のポリエステルフィルムの厚さは、広い範囲をとることができ、通常3〜100μm、好ましくは4〜80μm、より好ましくは5〜60μmである。
ベース層Bの厚さがフィルム全体の厚さの45〜90%を占めることが好ましい。
【0051】
次いで本発明のフィルムの製造方法について説明する。本発明のフィルムは公知の共押出法によって製造できる。具体的には、1)ベース層B、外層A及び外層C用の原料ポリマーをそれぞれ別々の押出機に供給する工程、2)押出前に不純物をろ過により除去する工程、3)各層を共押出ダイを介して共押出することにより溶融シートを得る工程、4)冷却ロール及び必要であれば他のロールを使用して溶融シートを引取り、固化して積層シートを得る工程と、5)得られた積層シートを長手方向および横方向に二軸延伸して二軸延伸フィルムを得る工程と、5)得られた二軸延伸フィルムを熱固定する工程とから成る。必要であれば、コロナ処理または火炎処理を施してもよい。
【0052】
具体的には、先ず、個々の層の溶融ポリマー又はポリマー混合物を共押出ダイに供給し、共押出する。なお粒子はすでにポリマー又はポリマー混合物中に混入してある。押出を行う前に、溶融ポリマーから不純物などを濾過することが好ましい。次いで、フラット−フィルム共押出ダイ(スロットダイ)を介して溶融ポリマーを共押出し、1つ又は複数の冷却ロール及び引取りロールを使用して押出成形物を引取り、積層アモルファスシートを得る。
【0053】
通常、二軸延伸は連続的に行われる。このため、初めに長手方向(機械方向)に延伸し、次いで横方向(機械方向に対して垂直方向)に延伸するのが好ましい。これにより分子鎖が配向する。通常、長手方向の延伸は、延伸比に対応する異なる回転速度を有する2つ以上のロールを使用して行われ、横手方向の延伸はテンターフレームを使用し、フィルムの端部を挟み、より高い温度にて応力をかけて行われる。
【0054】
次いでフィルムの熱固定を行う。熱固定は150〜250℃の温度において0.1〜10秒間行われる。フィルムは通常の方法で巻取られる。
【0055】
熱固定した2軸延伸ポリエステルフィルムの片面または両面にコロナまたは火炎処理を施してもよい。これらの処理は、フィルムの表面張力によって異なるが、通常、50mN/mの強度で行われる。
【0056】
シール性外層Aに使用される共重合ポリエステル及びシール性外層A及び非シール性外層Cの表面形状を上記の様に選択することにより、本発明の目的である優れたシール性と優れた加工特性、特に真空中での加工特性を同時に達成することができる。
【0057】
フィルムに他の所望の物性を付与するため、片面または両面に塗布処理を施してもよい。塗布によって形成される層によって接着力を強めたり、帯電防止性や滑り性の改良したり、離型性を持たせることが出来る。この様な付加的な層は、横延伸を行う前に水分散剤を使用したインラインコーティングによって好適に形成される。
【0058】
本発明のフィルムは、優れたシール性、操作性および加工特性、特に真空中での加工特性を有する。さらに、本発明のフィルムは、シール性外層A同士のシール(フィンシーリング)だけでなく、シール性外層Aと非シール性外層Cとの間のシール(ラップシーリング)も可能である。
【0059】
本発明のフィルムは、ヘーズが改良されており(優れた透明性)、ヘーズ値は、通常3.0%未満、好ましくは2.7%未満、特に好ましくは2.5%未満である。本発明のフィルムは、その製造工程において発生するフィルムの端部等の再生品をフィルムの重量に対して好ましくは10〜60重量%含有させることができる。再生原料の添加によって、本発明のフィルムの物性、特に外観が大きく変化することはない。
【0060】
本発明のフィルムは、上記の様に優れた光学特性および優れた加工特性を有するため、包装材、特に可撓性包装材に好適に利用できる。また、真空中での加工に優れ、高速包装機械でも使用可能である。
【0061】
本発明のフィルムの特性を下記表1及び表2に纏めて示す。
【0062】
【表1】
【0063】
【表2】
【0064】
【実施例】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。以下の実施例に於て使用した測定方法を以下に記す。
【0065】
(1)メジアン粒径d50:
メジアン粒径d50はMalvern Master Sizerを使用したレーザーによる一般的な方法で測定した(Horiba LA 500又はSympathecHelos装置でも基本的に同一の測定である)。水を入れたセルにサンプルを入れ、試験装置にセットする。試験は自動的に行われ、粒径d50の数学的な計算も一緒に行われる。
【0066】
粒径d50の値は、累積粒径分布曲線から決定する。図2に累積粒径分布曲線を示す。50%におけるd50の値を求めた。
【0067】
(2)SPAN98の測定:
粒径分布を示すSPAN98は、上記のメジアン粒径d50の測定で使用した装置を使用して測定した。SPAN98は以下の式で表される。
【0068】
【数1】
SPAN98=(d98−d10)/d50
【0069】
d98及びd10は、それぞれ、図1に示した累積粒径分布曲線の98%および10%における粒径である。図3にd98及びd10の該当箇所を示す。
【0070】
(3)標準粘度および固有粘度:
ポリエステルの標準粘度SV(DCA)はジクロロ酢酸中でDIN 53726に従って測定した。
【0071】
(4)シールシーム強度:
図3に示す様な方法で測定した。100×100mmの2つのフィルム(1)を重ね合わせてシール温度130℃、シール時間0.5秒、シール圧2barでシールした(使用装置:ブラガーNDS、シールジョーは片側加熱で行った)。
シール部分(2)の大きさは10×100mmである。シールしたサンプルを15mm幅に切断し、T−剥離法によってシールシーム強度を求めた。図3に示す様に、フィルムのシールされていない端部を応力測定器(例えばZwick)の治具(4)に固定し、矢印方向(3)に200mm/分の速度で、シール部分に対して直角方向に応力をかけ、シール部分が剥離する際の応力を測定する。標記は、応力(N)/フィルムの幅(15mm)で表す。
【0072】
(5)最低シール温度の決定:
Brugger HSG/ETシール装置を使用して熱シールした試料(シール合わせ目=10mm×100mm)を作成した。シールは、異なる温度で、2つの加熱したシール挟みを使用し、2barのシール圧で、シール時間0.5秒で行った。シールした試料から幅15mmの試験切片を切り取り、T−シール力を測定し、シール力とした。シール力が0.5N/15mmに達した際の温度を最低シール温度とした。
【0073】
(6)表面粗度Ra:
フィルムの表面粗度RaはDIN 4768に準じて測定した。カットオフ値は0.25mmであった。この測定法は、ガラス板の上で行なうのではかく、リングの中で行なう。このリング法では、2つの表面が第3の表面(例えばガラス)に接する様にサンプルを固定する。
【0074】
(7)摩擦係数:
摩擦係数は、製造後14日後に、DIN53375に準じて測定した。
【0075】
(8)表面張力:
表面張力は、“インク法”によりDIN53364に準じて測定した。
【0076】
(9)ヘーズ:
フィルムのヘーズは、ASTM−D 1003−52に準じて測定した。ヘルツヘーズは、ASTM−D 1003−52を基にして決定した。しかしながら、もっとも効果的な測定範囲を使用するために、4枚のフィルムを重ね、1°の隔壁スリットを4°のピンホールの代りに使用して測定を行った。
【0077】
(10)グロス値:
グロス値はDIN 67530に準じて測定した。反射率を、フィルム表面の光学的特性として測定した。ASTM−D 523−78及びISO 2813を基準とし、入射角を20°とした。所定の入射角で試料の平坦な表面に光線を照射すると、反射および/または散乱が起こる。光電検知器に当った光が電気的な比率変数として表示される。得られた無次元値は入射角と共に表示される。
【0078】
(11)巻取り特性、取扱い特性、加工特性の評価:
フィルムの巻取り特性、取扱い特性、加工特性は以下の基準で評価した。
【0079】
【表3】
A:ローラーや装置にフィルムの固着が起らず、巻取り工程や包装装置に於ける加工工程中にブロッキングが発生しない。そのため製造コストが低い。
B:製造コストがランクAとCとの中間の場合。
C:ローラーや装置にフィルムが頻繁に固着し、巻取り工程や包装装置に於ける加工工程中にブロッキングがしばしば発生する。そのため、操作が複雑で手間がかかり、製造コストが高い。
【0080】
(12)真空中での加工特性の評価:
フィルムを市販の真空被覆装置(Top Beam、Applied/Hanau社製)を使用して、通常の被覆条件でSiOxを被覆した。SiOx被覆層の厚さは200nmで、被覆速度は300m/秒であった。評価基準は以下の通りである。
【0081】
【表4】
A:ローラーや装置にフィルムの固着が起らず、巻取り工程や包装装置に於ける加工工程中にブロッキングが発生しない。そのため製造コストが低い。
B:製造コストがランクAとCとの中間の場合。
C:ローラーや装置にフィルムが頻繁に固着し、巻取り工程や包装装置に於ける加工工程中にブロッキングがしばしば発生する。そのため、操作が複雑で手間がかかり、製造コストが高い。
【0082】
実施例1:
ポリエチレンテレフタレートチップ(マンガンをエステル交換反応の触媒として使用し、エステル交換反応にて得た。マンガン濃度:100ppm)を150℃で乾燥し、含有水分量を100ppm未満にした後、ベース層B用の押出機に供給した。同様に、非シール性外層C用の押出機にポリエチレンテレフタレート及び耐ブロッキング剤粒子を供給した。
【0083】
これとは別に、エチレンテレフタレート単位78モル%及びエチレンイソフタレート単位22モル%から成る直鎖状共重合ポリエステル(マンガンをエステル交換反応の触媒として使用し、エステル交換反応にて得た。マンガン濃度:100ppm)のチップを製造した。共重合ポリエステルを100℃で乾燥し、含有水分量を200ppm未満にした後、シール性外層A用の押出し機に供給した。
【0084】
共押出した後、長手方向、横方向の延伸を行い、厚さ12μmのABC型3層透明積層フィルムを得た。各層の構成を以下の表5に示す。
【0085】
【表5】
シール性外層A:
・ポリエチレンテレフタレート(SV=800) 96重量%
・ポリエチレンテレフタレート(SV=800)95 4重量%
重量%と合成シリカ粒子(Sylysia 430(登録商標、Fuji社製、日本、SPAN98=1.7)5重量%とから成るマスターバッチ
ベース層B:
・ポリエチレンテレフタレート(SV=800) 100重量%
外層C:
・ポリエチレンテレフタレート(SV=800) 85重量%
・ポリエチレンテレフタレート(SV=800)99 15重量%
重量%と合成シリカ粒子(Sylobloc 44H
(Grace社製、SPAN98=1.9)1重量%とから成るマスターバッチ
【0086】
フィルムの製造条件を以下の表6に示す。
【0087】
【表6】
【0088】
得られたフィルムは、シール性、操作特性、加工特性、特に真空中での加工特性に優れていた。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0089】
実施例2:
シール性外層Aの厚さを1.5μmから2.5μmに、ベース層の厚さを9から8μmに変更した以外は実施例1と同様の操作でフィルムを作成した。得られたフィルムは、シール性、操作特性、加工特性、特に真空中での加工特性に優れていた。特にシール性が向上しており、シールシーム強度が向上していた。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0090】
実施例3:
シール性外層Aの厚さを3.0μmに、非シール性外層Cの厚さを2.0μmに変更し、フィルムの総厚さを20μmに変更した以外は実施例1と同様の操作でフィルムを作成した。得られたフィルムは、シール性、操作特性、加工特性、特に真空中での加工特性に優れていた。特にシール性が向上しており、シールシーム強度が向上していた。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0091】
実施例4:
シール性外層Aを構成する共重合ポリエステルをエチレンテレフタレート単位70モル%及びエチレンイソフタレート単位30モル%から成る共重合ポリエステルに変更し、シール性外層Aの厚さを3.0μmに、非シール性外層Cの厚さを2.0μmに、フィルムの総厚さを20μmに変更し、添加粒子の含有量を変更した以外は実施例1と同様の操作でフィルムを作成した。得られたフィルムは、シール性、操作特性、加工特性、特に真空中での加工特性に優れていた。本実施例のフィルは更にシール性が向上しており、シールシーム強度が向上していた。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0092】
比較例1:
実施例1において、シール性外層Aに粒子を添加しなかった以外は実施例1と同様の操作でフィルムを作成した。このフィルムはシール性が向上したものの、フィルムの操作特性および加工特性は悪化した。また、真空中での加工特性では、被覆面である非シール性外層C側とシール性外層Aとの間でブロッキングが発生し、非シール性外層C面上の被覆がシール性外層A面上に移り取られてしまい、これ以上のフィルムの加工は不可能であった。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0093】
比較例2:
欧州特許公開第0035835号の実施例1を追試した。得られたフィルムは、シール性、取扱い性および加工特性に於て本発明の実施例と比較して劣っていた。また、フィルムのヘーズが高かった。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0094】
比較例3:
欧州特許公開第0515096号の実施例1を追試した。得られたフィルムは、取扱い性および加工特性に於て本発明の実施例と比較して劣っていた。また、フィルムのヘーズが高かった。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0095】
比較例4:
欧州特許公開第0379190号の実施例21を追試した。得られたフィルムの真空中での加工特性が極めて劣っていた。フィルムの特性および評価結果を表7及び8に示す。
【0096】
【表7】
【0097】
【表8】
【0098】
【発明の効果】
本発明のシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムは、シール性、操作特性、加工特性に優れており、特にメタル化およびセラミック被覆等の真空中での加工(物理的蒸着)および化学的蒸着加工特性に優れている。
【図面の簡単な説明】
【図1】粒子の累積粒径分布曲線のd50を示した図
【図2】粒子の累積粒径分布曲線のd98及びd10を示した図
【図3】T−剥離法によるシールシーム強度の測定を示す模式図
【符号の説明】
1:フィルム
2:シール部分
3:応力方向
4:治具
Claims (11)
- 少なくとも1層のベース層Bと、シール性外層Aと、ベース層Bを基準にして外層Aの反対側に位置する他の非シール性外層Cとから成るシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムであって、最低シール温度が110℃以下であり、シールシーム強度が1.3N/15mm以上であり、シール性外層Aが、a)メジアン粒径d50が2.5〜10μmで、SPAN98法で表される粒径分布が1.8以下である合成シリカ粒子を500〜5000ppm含有し、b)表面粗度Ra値が60nmを超え、c)A側表面/A側表面の摩擦係数が0.8未満の特性を有し、非シール性外層Cが、d)メジアン粒径d50が1.5〜6μmで、SPAN98法で表される粒径分布が2.0以下である合成シリカ粒子を1000〜5000ppm含有し、b)表面粗度Ra値が30nm以上150nm以下であり、c)C側表面/C側表面の摩擦係数が0.6未満の特性を有することを特徴とするシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルム。
- シール性外層Aが、エチレンテレフタレート単位、エチレンイソフタレート単位及びエチレングリコールから由来する単位を有する請求項1に記載のポリエステルフィルム。
- シール性外層Aが、40〜95モル%のエチレンテレフタレート単位および60〜5モル%のエチレンイソフタレート単位から成る請求項1又は2に記載のポリエステルフィルム。
- シール性外層Aの厚さが0.5μmを超える請求項1〜3の何れかに記載のポリエステルフィルム。
- ヘーズが3.0未満である請求項1〜4の何れかに記載のポリエステルフィルム。
- ベース層Bの粒子含有量が外層A及びCの含有量よりも少ない請求項1〜5の何れかに記載のポリエステルフィルム。
- 高速包装機械で使用可能である請求項1〜6の何れかに記載のポリエステルフィルム。
- 真空中で加工を行なうことができる請求項1〜6の何れかに記載のポリエステルフィルム。
- 請求項1〜6の何れかに記載のシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムの製造方法であって、当該製造方法は、1)ベース層B、外層A及び外層C用の原料ポリマーをそれぞれ別々の押出機に供給する工程、2)押出前に不純物をろ過により除去する工程、3)各層を共押出ダイを介して共押出することにより溶融シートを得る工程、4)冷却ロール及び必要であれば他のロールを使用して溶融シートを引取り、固化して積層シートを得る工程と、5)得られた積層シートを長手方向および横方向に二軸延伸して二軸延伸フィルムを得る工程と、5)得られた二軸延伸フィルムを熱固定する工程とから成り、上記二軸延伸工程に於て、長手方向の延伸温度が80〜130℃及び横方向の延伸温度が90〜150℃であり、長手方向の延伸比が2.5〜6及び横方向の延伸比が3.0〜5.0であることを特徴とするシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムの製造方法。
- 長手方向の延伸後で横方向の延伸前に、フィルムの片面または両面にインラインコーティング法により塗布を行なう請求項7に記載のフィルムの製造方法。
- 請求項1〜8の何れかに記載のシール性透明二軸延伸共押出積層ポリエステルフィルムから成る包装材。
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