JP2004042433A

JP2004042433A - ノズルプレートの製造方法およびインクジェットヘッド

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Publication number: JP2004042433A
Application number: JP2002202778A
Authority: JP
Inventors: Haruhiko Deguchi; 出口　治彦; Hisashi Ogaki; 大垣　久志
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2002-07-11
Filing date: 2002-07-11
Publication date: 2004-02-12

Abstract

【課題】本発明はノズルプレートの製造において、基材および撥水膜の加工形状精度の向上を図ることを目的とする。
【解決手段】基材１上に少なくとも１層以上からなる撥水膜２を有するノズルプレート構成部材を、基材１側から加工するとともに、主に基材１をエッチングする第１の加工工程と、第１の加工工程終了後、主に上記撥水膜２を酸素を有するプラズマを用いてエッチングする第２の加工工程を備える。
【選択図】　　　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はインクジェットプリンタにおけるノズルプレートの製造方法およびインクジェットヘッドに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
インクジェットプリンターのノズルプレートにおいて、吐出されるインクの吐出特性を向上させる目的から、吐出口形成部材の吐出口が形成される面、少なくとも吐出口近傍は撥水性を持つ材料を塗布、熱処理することで形成し、撥水性を持たせている。吐出口形成部材（基材）としてはポリイミド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォンなどが好ましく用いられる。その中でも特に好ましいのはポリイミド樹脂でＤｕｐｏｎｔ社製；カプトン（登録商標）や、宇部興産（株）製；ユーピレックス（登録商標）などが寸法安定性、耐インク性、耐熱性などに優れているので好ましく用いられる。
【０００３】
また、撥水膜は、溶剤可溶性のフッ素ポリマやシリコン樹脂などの素材を適当な溶剤に溶解して、ノズル板上にディップコート、スピンコートなどで１μｍ前後の厚さにコーティング、熱処理して形成する。撥水膜素材としては、パーフルオロポリマの結晶性を低下させて可溶性とし、さらに架橋性基を導入した、フルオロビニレンとビニルエーテルの交互共重合体（旭硝子（株）製；ルミフロン（登録商標）、大日本インキ（株）製；フルオネート（登録商標）、セントラル硝子（株）製；セフラルコート（登録商標）、ダイキン（株）製；Ｃ−１（登録商標）等）、非晶質で溶剤可溶性のパーフルオロシクロポリマ（旭硝子（株）製；サイトップ（登録商標）、Ｄｕｐｏｎｔ社製；テフロン（登録商標）ＡＦ等）、パーフルオロ基を側鎖に有するポリマ（旭硝子（株）製；旭ガード（登録商標）ＡＧシリーズ等）を挙げることができる。
【０００４】
ノズルプレートの製造方法は、たとえば、特開平１０−１４６９８１号公報（以下、先行文献１と称する）、特開平１０−１５７１４０号公報（以下、先行文献２と称する）などで示されている。まず図４（Ａ）で示されるように、上記吐出口形成部材としての基材１上の吐出口１０が形成される面に撥水性を持つ材料２を形成し、図４（Ｂ）で示されるように基材１側から吐出口形成部材にレーザービーム３を照射することによって吐出口１０を形成する。
【０００５】
また、他のノズルプレートの製造方法は、たとえば特開平６−２３８９０３号公報（以下、先行文献３と称する）に示されている。この先行文献３には、ノズルプレートへの吐出口の形成をドライエッチングで行なう技術が開示されている。すなわち、図５（Ａ）に示すように基材１に所定の形状のマスキング５を行なった上で、Ｏ_２、ＣＯ_２、ＣＣｌ_４などのガスを用いたプラズマによって等方的にエッチングすることで、吐出口１０を形成している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記の先行文献１あるいは先行文献２では、レーザ加工時に吐出口形成部材としての基材１には撥水膜２が形成されている。したがって、基材１と撥水膜２との両方を上記レーザで同時に加工することになる。上記レーザとしては紫外光レーザ、特にエキシマレーザがよく用いられる。基材１として用いられるポリイミドのフィルムは、上記紫外光レーザで用いられる発振周波数付近（２００〜４００ｎｍ）の光の吸収率が良く、それに伴って上記紫外光レーザによる加工性は良い。
【０００７】
しかし、撥水膜２の多くは前記紫外光レーザの発振周波数付近の光の吸収が悪く、それに伴って前記紫外光レーザによる加工性は良くない。したがって、図４（Ｃ）に示すように、加工後に撥水膜２の剥離４１が起こったり、図４（Ｄ）に示すように、不要な部分が完全に除去できないことがある（抜け残り４２）。これによってインク吐出時に飛翔液滴の方向が安定しなくなり、印字品位の低下を招くことが問題となる。
【０００８】
一方、先行文献３では、等方的なドライエッチングによって吐出口を形成している。通常、ドライエッチング装置のチャンバーは有限の大きさをもつため、チャンバー内に発生させるプラズマの密度には分布が生じる。このプラズマ密度に分布が生じるとそのままエッチングレートのばらつきになる。
【０００９】
このばらつきを図で説明すると図５（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ）のようになる。すなわち、図５（Ｂ）に示すように、エッチレートの早い部位の吐出口１０は先に貫通穴が形成されるが、図５（Ｃ）エッチレートの遅い部位の吐出口１０は途中までしか穴は形成されていない。このため、エッチレートの遅い部位が完全にエッチングされるまで加工を行なう必要があるが、このときエッチレートの早い部位は過剰に等方エッチングされるため、図５（Ｄ）に示すように、吐出口１０の径が大きくなる。つまり、吐出口１０のばらつきが大きくなる。
【００１０】
吐出口１０の大きさは、吐出するインク液滴の速度に大きく影響するため、吐出口径のばらつきが大きくなると、インク吐出速度がばらつき、これによってインクの紙面上への着弾精度が劣化し、印字品位の低下を招くことが問題となる。
【００１１】
したがって、本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、第１の課題は、ノズルプレートの製造において、基材および撥水膜の加工形状精度の向上を図ることを目的とする。
【００１２】
また、この発明の第２の課題は、ノズルプレートの製造において、吐出口径のばらつきを抑え、吐出口径の均一化を図ることを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上述した問題点を解決するためになされたものであり、本発明に基づいたノズルプレートの製造方法のある局面においては、液滴を吐出することによって媒体上に描画する描画装置に用いられるノズルプレートの製造方法であって、基材上に少なくとも１層以上からなる撥水膜を有するノズルプレート構成部材を、基材側から加工するとともに、主に基材をエッチングする第１の加工工程と、第１の加工工程終了後、主に上記撥水膜をエッチングする第２の加工工程を備えることを特徴としている。
【００１４】
この製造方法によれば、ノズルプレートとなる基材の加工と撥水膜との加工をそれぞれの材質に応じた最適な手法を用いているため、それぞれの加工を形状精度良く行なうことが可能となる。
【００１５】
また、本発明のノズルプレートの他の好ましい製造方法では、第１の加工工程がエキシマレーザによる加工工程を有していることを特徴としている。この製造方法によれば、ノズルプレートの基材の加工をエキシマレーザによって行なうため、プラズマを用いたドライエッチングにくらべ、ノズル穴形状のばらつきを低減させることが可能となる。
【００１６】
また、本発明のノズルプレートの他の好ましい製造方法では、第２の加工工程が、プラズマを用いた加工工程を有していることを特徴としている。この製造方法によれば、ノズルプレートの撥水膜の加工を、プラズマを用いたドライエッチングで行なうため、レーザ光の吸収率が低い材料であっても、加工に際して大きな歪を印加することがないため、撥水膜の剥離や抜け残りが生じることがない。
【００１７】
また、本発明のノズルプレートの他の好ましい製造方法では、上記第２の加工工程におけるプラズマを用いた加工が、基材側からなされることを特徴としている。この製造方法によれば、第１の加工工程で加工された基材の形状をマスクとして撥水膜を加工することができるので、撥水膜を加工するためのマスクを新たに作成する必要がなく、製造プロセスを簡略化することができる。
【００１８】
また、本製造方法では、ノズルプレートのインク流入側（撥水膜側が吐出側）全面とノズル穴の内側が、プラズマエッチングにさらされるため、上記部位のインクに対する濡性が向上し、これに伴なって気泡のかみこみなどの危険性が少なくなるため、飛翔液滴の方向安定性に対して良い方向で作用する。
【００１９】
また、本発明のノズルプレートの他の好ましい製造方法では、上記第２の加工工程が、酸素ガスを有する雰囲気で行われることを特徴としている。この製造方法によれば、プラズマによって生成された、酸素原子のイオンや活性種が撥水膜中の炭素原子や水素原子と反応するため、大きな熱の影響を与えることなく撥水膜をエッチングすることができるため、ノズルプレート基材と撥水膜の剥離の危険性を大幅に低減することができ、飛翔液滴の方向安定性を向上することが可能となる。
【００２０】
また、本発明のノズルプレートの他の好ましい製造方法では、上記第２の加工工程におけるプラズマを用いた加工工程が、平行な平板電極を用いたエッチングを備えていることを特徴としている。この製造方法によれば、ガス圧などのエッチング条件を制御することで、エッチングの異方性を簡便に制御できるため、ノズルプレート撥水膜面への活性種のまわりこみを防止することができ、撥水膜の撥水性劣化を防止することができるとともに、第２の加工工程においてエッチングの横への広がりを抑制することができるので、ノズル吐出口径が安定して加工することが可能になる。
【００２１】
また、本発明のノズルプレートの他の好ましい製造方法では、上記基材のレーザ光吸収率が、上記撥水膜のレーザ光吸収率の１０倍以上であることを特徴としている。この製造方法によれば、第１の加工工程を撥水膜と基材との界面で精度良くとめることができるため、第２の加工工程における撥水膜の加工量が安定するため、吐出口径のばらつきを低減することが可能となる。
【００２２】
また、本発明のインクジェットヘッドは、上記一連の製造方法にかかるノズルプレートを用いて作成することを特徴としている。このインクジェットヘッドでは、上記一連の製造方法にかかるノズルプレートを使用するため、ノズル穴のばらつきや形状が安定し、さらにノズルプレートのインク流入側とノズル穴の内側の親水性が高い。このため、インクジェットヘッドの吐出特性のばらつきが低減され、これによってインクの媒体上への着弾精度を向上することが可能となる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に基づいた各実施の形態について図参照して詳細に説明する。
【００２４】
（実施の形態１）
図１（Ａ）から（Ｄ）は実施の形態１に基づいたノズルプレートの製造方法のフローを示す図である。図１（Ａ）から（Ｄ）を参照して、本実施の形態にかかるノズルプレートの製造方法を説明すると以下の通りである。
【００２５】
まず、図１（Ａ）を参照して、Ｄｕｐｏｎｔ社製；カプトン（登録商標）や宇部興産（株）製；ユーピレックス（登録商標）などの、ポリイミド樹脂からなる厚さ５０μｍのシートを吐出穴形成部材としての基材１として準備する。次に、図１（Ｂ）を参照して、この基材１の片方の表面に、非晶質で溶剤可溶性のパーフルオロシクロポリマ（旭ガラス（株）製；サイトップ（登録商標））を撥水膜２として０．３μｍの厚さに形成する。撥水膜２は上記ポリマを溶解した溶液を、スピンコート法によって塗布した後、２２０℃の雰囲気で焼成した。これによって、撥水膜２を形成した面が吐出側、撥水膜２を塗布していない面がインク流入側となる。
【００２６】
ここで、非晶質で溶剤可溶性のパーフルオロシクロポリマ以外に、撥水膜２として、フルオロビニレンとビニルエーテルの交互共重合体、パーフルオロ基を側鎖に有するポリマ、あるいはシロキサン結合を有するポリマなどを用いることが可能である。
【００２７】
また、撥水膜２の厚さは、インクジェットヘッドの使用用途に応じて、０．１μｍから５μｍ程度の厚さで任意に設定することができる。また、ノズルプレートの基材１としては、上記ポリイミド樹脂以外に、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリサルフォンからなる樹脂材料を使用することができる。
【００２８】
次に、図１（Ｃ）を参照して、撥水膜２を形成した基材１にエキシマレーザ３を用いて、吐出穴（ノズル穴）形状の穴１０ａをあける第１のエッチングを行なう。
【００２９】
ここで、図２は、本実施の形態で用いるエキシマレーザ加工システムの一例を示す図である。このエキシマレーザ加工システムは、ＫｒＦエキシマレーザ５から発振された波長２４８ｎｍのレーザービーム３が光学系６を通過する。光学系６の所定領域には、所定の開口パターンを有するインクジェットノズルのすべて、または一部のパターンを持った投影マスク７が配置される。光学系６を通過したレーザービーム３は、被エッチング物８に照射される。
【００３０】
エキシマレーザ５から発振されたレーザービーム３は、光学系６を通り、投影マスク７を照射する。この光学系６は投影マスク７のパターンを１／４倍の縮尺率で被エッチング物８上に投影し、被エッチング物８に加工を行なう。
【００３１】
本実施の形態において、ノズルプレート基材の加工は基材１上のエネルギー密度を１５０ｍＪ／ｃｍ^２に制御し、撥水膜２が形成されていない流入側からエッチングを行なった（図１（Ｃ）参照）。
【００３２】
ここで、エキシマレーザの透過率を、ポリイミド樹脂とパーフルオロシクロポリマにおいて比較すると、２００μｍ厚のポリイミド樹脂の透過率は０％、パーフルオロシクロポリマ２００μｍの透過率は９０％である。
【００３３】
一方、ポリイミドとパーフルオロシクロポリマの屈折率はそれぞれ、１．７８、１．３４であるので、反射率はそれぞれ８％、２％と推定される。
【００３４】
このため、上記材料における吸収率は、（吸収率＝１００−反射率−透過率）より、それぞれ、９２％（Ａ＝１００−０−８）、８％（Ａ＝１００−９０−２）となり、ポリイミドとパーフルシクロポリマとの吸収率の違いは、おおむね１０倍以上である。
【００３５】
レーザ加工の加工速度、すなわちエッチレートはレーザ光の吸収率に依存するため、上記結果からポリイミドに比べてパーフルシクロポリマはエキシマ加工において加工され難いことが定性的に理解される。
【００３６】
従来のプロセスでは、このエッチングされ難いパーフルシクロポリマをレーザのパワーで吹き飛ばして加工していたが、上述したように、撥水膜２の抜け残りや、はがれの問題があるため、本実施の形態では、レーザによる加工は基材１のみにとどめ、撥水膜２と基材１との界面でエキシマレーザによるエッチングを終了する。
【００３７】
上記基材１の厚さムラなどを考慮して若干のオーバーエッチを行なう必要があるが、レーザの吸収率が１０倍以上異なるため、図１（Ｃ）に示される第１のエッチングは良好に撥水膜２と基材１との界面近傍で停止させることができる。また、このオーバーエッチによって撥水膜２が少しエッチングされても良い。
【００３８】
次に、図１（Ｄ）に示すように、ドライエッチング装置２０（図３参照）を用いて撥水膜２をエッチングし、吐出穴（ノズル穴）１０を完成させる。ここで、図３（Ａ）は、本実施の形態にかかる、第２のエッチングに用いる、平行平板型反応性ドライエッチング装置（以下ＲＩＥ：Ｒｅａｃｔｉｖｅ　Ｉｏｎ　　Ｅｔｃｈｉｎｇ）２０の概念図であり、図３（Ｂ）は、電極２３の部分拡大図である。
【００３９】
ＲＩＥは真空排気が可能なチャンバ２１を有し、このチャンバ２１内に、相対する平行な電極２２，２３を装備している。この電極２２，２３の一方である下部電極２３には、１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源２４が接続され、高周波電圧が印加される。もう一方の上部電極２２は、チャンバ２１とともにグランドに接続されている。
【００４０】
エッチングの際には、チャンバ２１内にＯ_２、Ａｒ、ＣＦ_４などの反応ガスが導入され、相対する電極２２，２３間でプラズマ２５発生させることで、プラズマ２５中にガスのイオン化したガス分子（以下イオン）２６や活性種を生成する。被エッチング物８は下部電極２３上に配置され、プラズマ２５中で生成されたイオン２６や活性種は、自己バイアス電界によって下部電極２３に向かって加速され、下部電極２３上の被エッチング物８と反応する。このため、反応ガスのイオンや活性種と反応し蒸気圧の低い分子を形成する材料であれば、レーザの吸収に関係なく良好に加工することができる。
【００４１】
本実施の形態では、図３（Ｂ）に示すように、エキシマレーザによって基材１をエッチングしたノズルプレートをＲＩＥの下部電極２３上に撥水膜２面を上部電極２２側に向けて配置し、流入側から第２のエッチングを行なった。
【００４２】
図１（Ｄ）を参照して、上述のように、流入側から第２のエッチングを行なうことによって、第１のエッチングで加工した基材１の穴１０ａをマスクとすることができるので、新たに撥水膜２を加工するためのマスキングを行なう必要がなく、プロセスが簡便である。また、マスクアライメントの誤差がないため、高精度の加工が可能となる。
【００４３】
反応ガスとしてはＯ_２ガスを用い、３０ｍＴｏｒｒの圧力中で、下部電極２３に０．２５Ｗ／ｃｍ^２のパワー密度のＲＦパワーを印加した。この条件では、プラズマ中で生成されたイオンや活性種がほぼ垂直にノズルプレートに照射されるため（異方性エッチング）、第１の加工工程で形成されたノズルプレート基材の穴の形状が転写される形で、撥水膜２がエッチングされる。
【００４４】
また、第１の加工工程による基材１の穴は、９°から１２°程度のテーパーを有しているため、第２の加工工程のオーバーエッチングが過剰であると吐出面に形成される穴が大きくなるが、撥水膜２の厚さが０．３μｍと非常に薄いことと、上記テーパー角が小さいことから、２倍のオーバーエッチを行なった場合でも、最大で直径が０．１２μｍ程度拡がるだけで、インクジェットヘッドに応用する際にはまったく影響がない。
【００４５】
また、従来の技術の欄で説明したように、上記ＲＩＥではプラズマ密度によってエッチレートに分布が生じるが、上記のように、たとえば２倍のエッチレートの差があったとしても、実用上まったく問題がなく、非常に余裕度の広い、安定した加工方法であると言える。
【００４６】
さらに、ＲＩＥは被エッチング物を冷却しながら化学的に加工できるため、被エッチング物の温度上昇がほとんどなく、さらにレーザ加工と異なりノズルプレート全面が均一にエッチングされるので、撥水膜加工部に熱的な歪がほとんど残らず、撥水膜２が剥離することなくエッチングすることができる。
【００４７】
本実施の形態で加工したノズルの吐出口径のばらつきは、１４０チャンネルで標準偏差が０．２０μｍと非常に良好であった。さらに、上述したように、ノズルプレートの流入側が均一にドライエッチされるため、ノズル穴の内側を含め基材表面の親水性が向上し、インクジェットヘッドに組み込んだ際、気泡が残留しにくく、飛翔液滴の方向安定性がさらに向上するという効果もある。
【００４８】
また、本実施の形態では第２のエッチングに際して、撥水膜２面になんの処理も施さずに行なったが、撥水膜２面保護のために、保護部材を当接してエッチングを行なっても良い。
【００４９】
比較のために、本実施の形態にかかる製造方法で加工したノズルプレートと、基材１と撥水膜２とをエキシマレーザのみで加工したノズルプレート（比較例）を用いて、インクジェットヘッドを作成し、吐出特性を比較した。
【００５０】
上記２つのインクジェットヘッドを、インクジェットプリンタに搭載し、１ｍｍ離れた紙面上に印字し、印字位置のばらつき（着弾精度）を調べた。上記２つのヘッドは同様のパターンの吐出口１０を有しており、チャンネル数は１４０である。
【００５１】
これら２つの着弾精度を比較したところ、比較例のインクジェットヘッドは着弾精度のばらつきが５０μｍと大きかったのに対して、本実施の形態にかかる製造方法で作成したノズルプレートを用いたインクジェットヘッドでは、着弾精度のばらつきは１０μｍと非常に良好であった。
【００５２】
（実施の形態２）
次に、実施の形態２に基づいたノズルプレートの製造方法について説明する。本実施の形態において実施の形態１と重複する内容については、簡略化のため省略する。
【００５３】
本実施の形態では、ポリイミド樹脂からなる厚さ５０μｍのシートを基材１として用い、この基材１の片方の表面に、撥水膜２としてオルガノシロキサン３次元重合を有するポリマを、０．５μｍの厚さで形成した（図１（Ａ），（Ｂ）参照）。
【００５４】
次に、この撥水膜２を形成した基材１にエキシマレーザを用いて、吐出口形状の穴１０ａをあける第１のエッチングを行なう（図１（Ｃ）参照）。第１の加工工程は実施の形態１と同様の条件で、撥水膜２を形成していない側から加工した。
【００５５】
次に、第２のエッチングは、実施の形態１と同様の装置を用いて行ない、吐出口１０を完成させた。ただし、本実施の形態ではＲＩＥに導入するガスをＣＦ_４とＯ_２との混合ガスとした。これは、本実施の形態に用いたシロキサン結合を有するポリマ中に含まれるＳｉが酸素ガスだけでは、完全にエッチングされずＳｉが残さとして残留し、エッチングムラなどの不具合を防止するためである。すなわちフッ素を含有するガスを導入することによって、プラズマで励起されたＦと撥水膜２中のＳｉが反応しＳｉＦ_４となって昇華し、残さの発生を防止することができる。
【００５６】
本実施の形態にかかるノズルプレートを用いてインクジェットヘッドを作成し、着弾精度を評価したところ、実施の形態１と同様に着弾精度のばらつきは１０μｍと良好であった。
【００５７】
また、上記各実施の形態においては、撥水膜２を単層膜としているが、同様の機能を有するように、複数の膜からなる構成とすることも可能である。
【００５８】
以上、今回開示した各実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【００５９】
【発明の効果】
以上、本発明に基づいたノズルプレートの製造方法ある局面によれば、ノズルプレートとなる基材の加工と撥水膜の加工を異なる手法を用いて行なうため、それぞれの加工を形状精度良く行なうことができるという効果を奏する。また、本発明に基づいたノズルプレートを用いたインクジェットヘッドは、従来に比べ着弾精度が大幅に向上するとういう効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ）から（Ｄ）は、実施の形態１におけるノズルプレートの製造プロセスを示す図である。
【図２】レーザ加工装置の構成を示す模式図である。
【図３】ドライエッチング装置の構成を示す模式図である。
【図４】従来の技術におけるレーザによるノズル加工を説明する図である。
【図５】従来の技術におけるドライエッチングによるノズル加工を説明する図である。
【符号の説明】
１　基材、２　撥水膜、３　エキシマレーザ、５　ＫｒＦエキシマレーザ、６光学系、７　投影マスク、８　被エッチング物、１０　吐出口、２０　ドライエッチング装置、２１　チャンバ、２２，２３　電極、２４　ＲＦ電源、２５　プラズマ、２６　イオン化したガス分子（以下イオン）、３１，３２　レーザ加工。

Claims

液滴を吐出することによって媒体上に描画する描画装置に用いられるノズルプレートの製造方法であって、
基材上に少なくとも１層以上からなる撥水膜を有するノズルプレート構成部材を、前記基材側から加工するとともに、主に前記基材をエッチングする第１の加工工程と、
前記第１の加工工程終了後、主に前記撥水膜をエッチングする第２の加工工程と、
を備えることを特徴とするノズルプレートの製造方法。
前記第１の加工工程は、エキシマレーザによる加工工程を有することを特徴とする、請求項１に記載のノズルプレートの製造方法。
前記第２の加工工程は、プラズマを用いた加工工程を有することを特徴とする、請求項１または２に記載のノズルプレートの製造方法。
前記プラズマを用いた加工が、前記基材側から行なわれることを特徴とする、請求項３に記載のノズルプレートの製造方法。
前記第２の加工工程は、酸素ガスを有する雰囲気で行なわれることを特徴とする、請求項４に記載のノズルプレートの製造方法。
前記プラズマを用いた加工工程は、平行な平板電極を用いた加工装置を使用する工程を有することを特徴とする、請求項４または５に記載のノズルプレートの製造方法。
前記基材のレーザ光吸収率が、前記撥水膜のレーザ光吸収率の１０倍以上であることを特徴とする、請求項１から６のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法。
請求項１から７のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法を用いて製造したノズルプレートを用いて作成した、インクジェットヘッド。