JP2004039500A5 - - Google Patents

Claims (21)

1. 基板と、前記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置において、
   前記基板から見て、前記有機エレクトロルミネッセンス素子とは反対側に設けられたマイクロレンズアレイと、
   前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を画素領域として仕切る隔壁と、
   前記隔壁の下部に設けられ、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子をアクティブに駆動するトランジスタと、
   を具備することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
2. 前記マイクロレンズアレイの各レンズは、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各々に配置されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
3. 前記マイクロレンズアレイにおける２つ以上のレンズ毎に、１つの前記有機エレクトロルミネッセンス素子が対応するように、前記マイクロレンズアレイが配置されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
4. 前記マイクロレンズアレイにおける１つのレンズ毎に、２つ以上の前記有機エレクトロルミネッセンス素子が対応するように、前記マイクロレンズアレイが配置されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
5. 前記マイクロレンズアレイは、光硬化性を有する透明な樹脂で形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
6. 前記マイクロレンズアレイは、屈折率が１．５４以上ある部材からなることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
7. 前記マイクロレンズアレイは、前記基板の内部に形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
8. 前記発光層から出射された光であって、該発光層から見て前記基板側に出射された光が、少なくとも前記マイクロレンズアレイと該基板を透過してから前記有機エレクトロルミネッセンス装置の外部へ出射するように、該発光層及びマイクロレンズアレイが配置されていることを特徴とする請求項７に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
9. 前記マイクロレンズアレイは、複数のフレネルレンズからなることを特徴とする請求項７又は８記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
10. 前記基板は、複数の前記フレネルレンズを形成した後に、該フレネルレンズの上に層間絶縁膜を設けて平坦化したものであることを特徴とする請求項９記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
11. 前記層間絶縁膜の上面に少なくとも前記有機エレクトロルミネッセンス素子が設けられていることを特徴とする請求項１０記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
12. 基板と、前記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置において、
    前記有機エレクトロルミネッセンス素子の発光面側に設けられたマイクロレンズアレイと、
    前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を画素領域として仕切る隔壁と、
    前記隔壁の下部に設けられ、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子をアクティブに駆動するトランジスタと、
    を具備することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
13. 基板と、前記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
    前記基板上に前記有機エレクトロルミネッセンス素子を形成した後に、該有機エレクトロルミネッセンス素子の表面に酸化窒化シリコン膜を形成し、
    該酸化窒化シリコン膜の表面に光硬化性を有する透明な樹脂を塗布し、
    該樹脂に前記マイクロレンズアレイの型を密着させて、該樹脂に光を照射することで該樹脂を硬化させ、
    前記マイクロレンズの型を前記樹脂から離すことにより、前記マイクロレンズを形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
14. 基板と、前記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
    前記基板の内部にマイクロレンズアレイを形成した後に、該基板の上に前記有機エレクトロルミネッセンス素子を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
15. 前記マイクロレンズアレイを形成した後に、該マイクロレンズアレイの部位について層間絶縁膜によって平坦化し、該層間絶縁膜の上に少なくとも前記有機エレクトロルミネッセンス素子を形成することを特徴とする請求項１４記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
16. 前記基板に酸化窒化シリコン膜を形成し、
    前記酸化窒化シリコン膜にフォトリソグラフィ及び反応性イオンエッチングによって前記フレネルレンズを形成することを特徴とする請求項１４又は１５記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
17. 前記酸化窒化シリコン膜は、酸素と窒素の組成比が原子濃度比で酸素が４０パーセントから８０パーセントであることを特徴とする請求項１６記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
18. 基板と、前記基板上に形成され、２つの電極間に発光層を有してなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
    前記有機エレクトロルミネッセンス素子を形成した後に、
    該有機エレクトロルミネッセンス素子を封止し、
    前記基板を所望の厚さまで研削又は研磨し、
    前記有機エレクトロルミネッセンス素子の位置に合わせてレンズを形成したマイクロレンズアレイ基板を、前記研削又は研磨した基板に貼り合わせることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
19. 前記マイクロレンズアレイと前記研削又は研磨した基板との貼り合わせは、光硬化性を有する透明な樹脂を用いて行うことを特徴とする請求項１８記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
20. 前記樹脂は、屈折率が１．５４以上であることを特徴とする請求項１９記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
21. 請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えたことを特徴とする電子機器。