JP2004027360A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2004027360A5
JP2004027360A5 JP2003058697A JP2003058697A JP2004027360A5 JP 2004027360 A5 JP2004027360 A5 JP 2004027360A5 JP 2003058697 A JP2003058697 A JP 2003058697A JP 2003058697 A JP2003058697 A JP 2003058697A JP 2004027360 A5 JP2004027360 A5 JP 2004027360A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
structure according
layer
manufacturing
convex portion
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003058697A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4136723B2 (ja
JP2004027360A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2003058697A priority Critical patent/JP4136723B2/ja
Priority claimed from JP2003058697A external-priority patent/JP4136723B2/ja
Publication of JP2004027360A publication Critical patent/JP2004027360A/ja
Publication of JP2004027360A5 publication Critical patent/JP2004027360A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4136723B2 publication Critical patent/JP4136723B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2003058697A 2002-03-27 2003-03-05 構造体及び構造体の製造方法 Expired - Fee Related JP4136723B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003058697A JP4136723B2 (ja) 2002-03-27 2003-03-05 構造体及び構造体の製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002088206 2002-03-27
JP2002128465 2002-04-30
JP2003058697A JP4136723B2 (ja) 2002-03-27 2003-03-05 構造体及び構造体の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2004027360A JP2004027360A (ja) 2004-01-29
JP2004027360A5 true JP2004027360A5 (enExample) 2006-04-20
JP4136723B2 JP4136723B2 (ja) 2008-08-20

Family

ID=31191844

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003058697A Expired - Fee Related JP4136723B2 (ja) 2002-03-27 2003-03-05 構造体及び構造体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4136723B2 (enExample)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4621058B2 (ja) * 2005-03-31 2011-01-26 キヤノン株式会社 ナノ構造体の製造方法
JP5094208B2 (ja) * 2006-08-24 2012-12-12 キヤノン株式会社 構造体の製造方法
WO2010124301A2 (en) * 2009-04-24 2010-10-28 Wolf Oetting Methods and devices for an electrically non-resistive layer formed from an electrically insulating material
JP5626636B2 (ja) * 2009-09-28 2014-11-19 公益財団法人神奈川科学技術アカデミー 陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法、装置、その方法により製造された陽極酸化ポーラスアルミナ、陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として製造された成形体、反射防止物品および撥水性物品
WO2025041470A1 (ja) * 2023-08-23 2025-02-27 富士フイルム株式会社 構造体の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000254900A5 (enExample)
EP1604052B1 (en) Process to make nano-structurated components
JP2000223681A5 (ja) 基板の製造方法
JP2009098689A5 (enExample)
JP2024036486A5 (enExample)
JP2004027360A5 (enExample)
TW201115688A (en) Process using SiN supporter for manufacturing a bottom capacity electrode of a semiconductor memory
JP2008300833A (ja) 基板上または基板内に構造物を形成する方法、サブリソグラフィック構造物を生成するためのイメージング層、サブリソグラフィックパターンを反転させる方法、構造物を製造することによって得られるデバイス
CN110892497B (zh) 用于制造电容元件及其他装置的采用表面面积放大的基底
JP5094208B2 (ja) 構造体の製造方法
JP2008075175A5 (enExample)
EP1429323A3 (en) Optical recording medium with phase transition layer and method of manufacturing the optical recording medium
JP5363926B2 (ja) 多色化粧料および多色化粧料の製造方法
JP2005307340A5 (enExample)
JP4588902B2 (ja) ガルバノミラーの製造方法
TW202320097A (zh) 用於整合的奈米線陣列結構,包含該結構的產品,及其製造方法
JP4136723B2 (ja) 構造体及び構造体の製造方法
DE59914876D1 (de) Verfahren zur herstellung einer integrierten schaltungsanordnung umfassend einen hohlraum in einer materialschicht, sowie eine durch das verfahren erzeugte integrierte schaltungsanordnung
JP2004292904A (ja) 陽極酸化アルミナ膜の製造方法
KR100842850B1 (ko) 프리텍스쳐에서 유래되는 자기 조립 나노세공 형성 방법 및그에 의해 제조되는 피막 부재
JP2006018097A (ja) 微細格子作製方法
US20230187143A1 (en) Method for manufacturing an electrical device with an anodic porous oxide region delimited by planarizing a stack of materials
JP2006108366A (ja) 三次元多孔質構造体及びその製造方法
JP2012033707A (ja) 2次元フォトニック結晶レーザの製造方法
JP2023144488A5 (enExample)