JP2004013060A

JP2004013060A - 反射板、反射板の製造方法、液晶表示装置

Info

Publication number: JP2004013060A
Application number: JP2002169773A
Authority: JP
Inventors: Kimitaka Kamijo; 上條　公高
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2002-06-11
Filing date: 2002-06-11
Publication date: 2004-01-15

Abstract

【課題】反射光に指向性を具備させるとともに、その方向内で一層の明るい反射光を得ることが可能な反射板を提供する。
【解決手段】反射板５０は、基板５１上に、指向性を示す傾斜面６１を備えた樹脂層５２と、該樹脂層５２上に形成された反射層５３とを積層してなり、樹脂層５２が複数の凸部７５を備えている。傾斜面６１は、少なくとも一方向に規則性を有するパターン形状を備えてなり、反射層５３は樹脂層５２の傾斜面６１に倣って傾斜面７１を有している。
【選択図】　　　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射板、反射板の製造方法、及び液晶表示装置に関し、特に、反射方向に異方性を付与させる反射板とその製造方法、及びその反射板を備える液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射型の液晶表示装置は、バックライト等の光源を持たないために消費電力が小さく、従来から種々の携帯電子機器や装置の付属的な表示部等に多用されている。この種の液晶表示装置としては、基板間に反射膜と液晶層を挟持させた構成を具備するものが採用され、一方の基板側から入射した光は液晶層を通過した後に反射膜で反射され、再び反射光として液晶層を通過し表示に供される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
このような反射型の液晶表示装置は、太陽光や照明光等の外光を利用して表示を行うため、室内等、外光の光量が限られた場所では表示の視認性が低下する場合がある。そこで、反射膜に多数の凹凸部を形成し、反射光を拡散させることによって広い視野角で明るい表示を得る技術が提案されている。しかしながら、近年、更なる視認性の向上が望まれ、限られた光量の中でより有効に反射光を利用し、使用者の目にとって明るい表示を得るための技術が望まれている。
【０００４】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、反射光に指向性を具備させるとともに、その方向内で一層の明るい反射光を得ることが可能な反射板を提供することを目的とし、その製造方法、更にはその反射板を用いた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の反射板は、基板上に、指向性を示す傾斜面を備えた樹脂層と、該樹脂層上に形成された反射層とを備え、前記樹脂層が複数の凹凸部を備えてなることを特徴とする。この場合、指向性を示す傾斜面に倣って反射層の反射面が指向性を示すこととなり、所定方向に指向性を具備した反射光を得ることが可能となる一方、その樹脂層に凹凸部を設けたため、反射光を拡散させることも可能となり、所定方向に向いた明るい反射光を得ることが可能となる。すなわち、本発明の反射板においては、反射層が樹脂層の傾斜面に沿って積層され、凹凸部を備えた指向性反射面を具備する構成とされている。なお、本発明に言う凹凸部とは、凹部又は凸部のいずれか、若しくは双方にて構成されるものを意味しており、樹脂層に少なくとも凹部又は凸部のいずれかが形成されていれば良いものとする。
【０００６】
樹脂層の傾斜面は、少なくとも一方向に規則性を有するパターン形状にて形成することができる。このようなパターン形状の傾斜面を形成することにより、その一方向に指向性を備えた反射面を得ることができ、反射光の指向性を確実に得ることが可能となる。
【０００７】
また、樹脂層は、第１の方向に面する第１傾斜面と、第２の方向に面する第２傾斜面とを少なくとも備え、第１傾斜面の面積が第２傾斜面の面積よりも大きく形成されているものとすることができる。この場合、第１傾斜面が指向性を示す主体をなし、該第１傾斜面に倣う反射面が指向性反射面の主体をなすこととなり、第１傾斜面が面する方向により指向性を更に確実に付与することが可能となるとともに、当該反射板を扱う者にとっては、その指向性のある方向を確実に把握することが可能となる。
【０００８】
また、上記第１傾斜面の基板面に対する傾斜角が、第２傾斜面の基板面に対する傾斜角よりも小さく形成されているものとすることができる。すなわち、上記指向性付与の主体をなす第１傾斜面について、基板面に対する傾斜角を相対的に小さいものとすることで、より広い傾斜面を得ることができ、指向性を更に確実に付与することが可能となる。
【０００９】
上記樹脂層は感光性樹脂にて構成されているものとすることができる。樹脂層は加工性に優れることから容易に傾斜面を付与することが可能である一方、これを感光性樹脂にて構成することで、傾斜面を備えた樹脂層に対し露光に基づいて凹凸部を容易に形成することが可能となる。なお、凹凸部は樹脂層表面にランダムな配置にて形成することができ、この場合、反射光が一層拡散することとなり、指向性を備え且つその指向性方向内で全体が明るい反射光を得ることが可能となる。
【００１０】
次に、上記課題を解決するために、本発明の反射板の製造方法は、表面に指向性を示す傾斜面を備えた透光性型を、該傾斜面を感光性樹脂層に押し当てながら該感光性樹脂層を基板上に形成する工程と、前記感光性樹脂層及び透光性型を積層した基板に対し、遮光領域を備えたフォトマスクを用いて露光を行う工程と、前記露光の後に前記透光性型を離脱させる工程と、前記樹脂層の表面に反射膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。なお、前記露光後の樹脂層に対して現像を行う工程を含んでいても構わない。このときには、前記露光によって設けた凹凸部をより形成しやすくなる。
【００１１】
このような製造方法によると、透光性型の傾斜面と基板面とにより感光性樹脂層を挟圧しながら該樹脂層及び透光性型を基板上に積層することで、透光性型の傾斜形状を感光性樹脂層に転写させることが可能となるとともに、その積層体に対して遮光領域を備えたフォトマスクを用いて露光を行うことで、該遮光領域の配列に応じた配列の凹凸部を樹脂層に形成することができ、この樹脂層表面に反射膜を形成して傾斜面及び凹凸部を備える反射層を得ることができるようになる。すなわち、このような製造方法により上述した本発明の反射板を得ることが可能となり、しかも透光性型の形状に応じて所望の傾斜形状を樹脂層に形成することが可能となるとともに、フォトマスクの遮光領域の形状ないし遮光領域の配列に応じて所望の凹凸部形状ないし凹凸部配列を樹脂層に形成することが可能となる。したがって、透光性型に例えばフォトリソグラフィ法等にて指向性を備える傾斜面を形成することで、指向性の傾斜面を樹脂層に転写することができ、一方、フォトマスクの遮光領域の配列を例えばランダムに形成することで、樹脂層に対してランダムな凹凸部を形成することができる。
【００１２】
また、本発明の反射板の製造方法として、その異なる態様は、基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、表面に指向性を示す傾斜面を備える透光性型を、該傾斜面を前記感光性樹脂層に対向させて積層する工程と、前記感光性樹脂層及び透光性型を積層した基板に対し、遮光領域を備えたフォトマスクを用いて露光を行う工程と、前記露光の後に前記透光性型を離脱させる工程と、前記露光後の樹脂層に対し現像を行う工程と、前記現像した樹脂層の表面に反射膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。
【００１３】
このような製造方法によると、感光性樹脂層上に透光性型の傾斜面が該樹脂層と対向するように該型を積層することで、その傾斜形状を感光性樹脂層に転写させることが可能となるとともに、その積層体に対して遮光領域を備えたフォトマスクを用いて露光を行うことで、該遮光領域の配列に応じた配列の凹凸部を樹脂層に形成することができ、この樹脂層表面に反射膜を形成して傾斜面及び凹凸部を備える反射層を得ることができるようになる。すなわち、このような製造方法によっても上述した本発明の反射板を得ることが可能となり、しかも透光性型の形状に応じて所望の傾斜形状を樹脂層に形成することが可能となるとともに、フォトマスクの遮光領域の形状ないし遮光領域の配列に応じて所望の凹凸部形状ないし凹凸部配列を樹脂層に形成することが可能となる。したがって、透光性型に例えばフォトリソグラフィ法等にて指向性を備える傾斜面を形成することで、指向性の傾斜面を樹脂層に転写することができ、一方、フォトマスクの遮光領域の配列を例えばランダムに形成することで、樹脂層に対してランダムな凹凸部を形成することができる。
【００１４】
なお、上記製造方法においては、傾斜面の形状を感光性樹脂層に反映させる工程を含むものとすることもできる。すなわち、単に傾斜面を樹脂層に対向させて透光性型を積層するだけでなく、傾斜面の形状を感光性樹脂層に反映させる、例えば転写させる工程を別途行うことで、感光性樹脂層において傾斜形状が一層確実に形成されることとなる。このような工程としては、例えばスタンパ法、或いはラミネート法等を用いて行うものとすることができる。
【００１５】
具体的には、透光性型に対し少なくとも一方向に規則性を有するパターン形状の傾斜面を形成することができ、この場合、樹脂層に対して指向性を備える傾斜面が形成されることとなる。また、フォトマスクの遮光領域は、傾斜面のパターン形状とは異なるランダムな配置にて形成されているものとすることができる。この場合、傾斜面のパターンと異なって指向性を伴わない拡散を反射光に付与することが可能な反射板を製造することが可能となる。
【００１６】
なお、フォトマスクの遮光領域の面積は、フォトマスク全体の６０％〜９０％とすることができる。６０％未満の場合、樹脂感光性樹脂を硬化させることができない場合があり、９０％を超えると、凹凸部の形成割合が減少し、十分な散乱が得られなくなる場合がある。
【００１７】
また、透光性型の厚さを５μｍ〜１００μｍとすることができる。１００μｍを超えると、フォトマスクと樹脂層の間の距離が大きくなるため、遮光領域の配列が樹脂層に正確に反映され難くなる一方、５μｍ未満の場合、傾斜面ないし凹凸部を形成するのに十分な厚さでなくなる場合がある。
【００１８】
なお、上述の反射板を液晶表示装置に具備させることにより、少なくとも反射表示を行う液晶表示装置を提供することが可能となる。この場合、反射表示において指向性を付与することが可能で、且つその方向内で光を拡散させることができるため、使用者にとって明るく視認性に優れた表示を得ることが可能となる。具体的に本発明の液晶表示装置は、上記樹脂層及び反射層を備える基板と、これとは異なる基板により液晶層を挟持する形にて構成することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
［反射板］
以下、本発明における反射板の一実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。図１は本実施の形態の反射板を拡大して示す斜視図、図２は図１の反射板の断面を拡大して示す断面模式図である。なお、なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
【００２０】
図１及び図２に示した反射板５０は、ガラス又はプラスチック等からなる基板５１上に、指向性を示す樹脂側傾斜面６１，６２を備える樹脂層５２と、樹脂層５２上に形成された反射層５３とを備え、樹脂層５２には複数の樹脂側凸部６５が形成されている。反射層５３は、樹脂層５２の表層に沿って積層され、樹脂層５２の樹脂側凸部６５及び樹脂側傾斜面６１，６２の形状に倣って反射層側凸部７５及び反射層側傾斜面７１，７２を備えており、反射層５３の表面形状は樹脂層５２の表面形状により定まるものとされ、したがって反射側傾斜面７１，７２は指向性反射面として構成されている。樹脂側傾斜面６１，６２及び反射層側傾斜面７１，７２は、少なくとも一方向に規則性を有するパターン形状にて形成されてなり、本実施の形態では、図１に示すように複数の傾斜面がストライプ状に配列して構成されている。
【００２１】
また、樹脂層５２及び反射層７３においては、傾斜面を第１傾斜面６１，７１と第２傾斜面６２，７２とに分けることができ、第１傾斜面６１，７１の面積が第２傾斜面６２，７２の面積よりも大きく形成され、第１傾斜面６１，７１が指向性を示す主体をなしている。なお、第１傾斜面６１，７１の基板５１の板面に対する傾斜角αは、第２傾斜面６２，７２の基板５１の板面に対する傾斜角βよりも小さく形成されており、指向性の主体をなす第１傾斜面６１，７１がより広い面積で光を反射する構成とされている。
【００２２】
樹脂層５２は感光性樹脂にて構成されている。具体的にはネガ型の感光性樹脂からなり、樹脂側凸部６５は露光ないし現像処理に基づいて形成されたものである。本実施の形態の場合、樹脂側凸部６５は樹脂層５２の表面にランダムな配置にて形成され、指向性傾斜面６１，６２とは異なるパターン（配列）にて形成されている。なお、反射層５３はＡｌ等の反射性金属膜にて構成され、例えば厚さ０．１μｍ〜３．０μｍ程度の膜厚とされている。
【００２３】
以上のような本実施の形態の反射板５０は、指向性を示す樹脂側傾斜面６１に倣って反射層５３の反射面（反射側傾斜面７１）が指向性を示すこととなり、所定方向に指向性を具備した反射光を得ることが可能となるとともに、樹脂層５２に凸部６５を設け、それに倣う凸部７５が反射層５３にも形成されてなるため、反射光を拡散させることも可能となり、したがって所定方向に向いた明るい反射光を得ることが可能となる。なお、本実施の形態では、樹脂層５２に凸部を設ける例を示したが、凸部を凹部とし、若しくは凹部及び凸部の双方を樹脂層５２の表層に設けた場合にも上記と同様の効果が得られることとなる。
【００２４】
［反射板の製造方法］
以下、本実施形態の反射板の製造方法について、その一実施例を図面を参照しつつ説明する。図３はその製造工程の一例を示す説明図であって、その概略は図３（ａ）〜図３（ｄ）にかけて、感光性樹脂層形成工程（ａ）、露光工程（ｂ）、型剥離工程（ｃ）、反射層形成工程（ｄ）を含んでなるものである。
【００２５】
本実施例の製造方法においては、まず、図３（ａ）に示すように、基板５１上にネガ型の感光性樹脂層５２を形成する。この際、図６に示したような断面が略鋸歯状に形成され、該鋸歯状の傾斜面８１が平面視ストライプ状に配列された透光性型８０を用い、その鋸歯状の傾斜面８１を感光性樹脂層５２に押し当てながら感光性樹脂層５２及び透光性型８０を基板５１上に形成する。その押し当ては、押圧部材（回転ロール）８５により透光性型８０を感光性樹脂層５２に対してラミネートすることにより行うものとしており、基板５１の基板面と傾斜面８１との間で感光性樹脂層５２を狭圧させながら基板５１上に積層する。このような押し当てにより、傾斜面８１の形状を感光性樹脂層５２に転写させることが可能となる。
【００２６】
続いて、図３（ｂ）に示すように、所定のフォトマスク９０を用いて露光を行う。この場合、フォトマスク９０は図５に示すようにランダムに形成された遮光領域としての開口部９１を複数備え、該開口部９１が透光部として機能し、開口部９１のパターンに対応した露光が行われる。ここで、開口部９１の開口率は、６０％〜９０％とされ、また、透光性型８０の層厚も５μｍ〜１００μｍとされており、感光性樹脂層５２に対して十分な露光を行うことが可能とされている。
【００２７】
次に図３（ｃ）に示すように、透光性型８０を剥離する。したがって、本実施例では基板５１と樹脂層５２との接着力が、樹脂層５２と透光性型８０との接着力よりも強く構成されている。透光性型８０を剥離した後、現像、ポストベークを行い、傾斜面６１を備える樹脂層５２を基板５１上に形成する。本実施例では、図５に示したようなランダムなパターンの開口部９１を備えたフォトマスク９０によりネガ型感光性樹脂を露光したため、樹脂層５２にランダムなパターンの凸部６５（図１参照）が形成されることとなる。
【００２８】
さらに図３（ｄ）に示すように、樹脂層５２上に反射層５３を形成する。反射層５３はＡｌ等の反射性金属材料からなり、例えばスパッタリング等にて全面ベタ状に成膜する。この反射層５３には、樹脂層５２に形成された凸部６５（図１参照）に対応した凸部７５（図１参照）が形成され、樹脂層５２の傾斜面６１に対応した傾斜面７１が形成される。以上のような図３（ａ）〜図３（ｄ）に示す工程により、図１に示した本実施形態の反射板５０を得ることができる。
【００２９】
一方、図４は本実施形態の反射板の製造方法について、その変形例を示す説明図で、具体的にはスタンパ法にて感光性樹脂層に傾斜面を付与する方法の一例である。この場合、透光性型８０を感光性樹脂層５２上に積層させた後、図４（ａ）に示すように所定の押圧部材により全面押圧を行い、その後、図４（ｂ）〜図４（ｄ）に示した図３と同様の露光工程（ｂ）、型剥離工程（ｃ）、反射層形成工程（ｄ）を行うものとしている。なお、露光前に押圧部材を透光性型から取り除いて露光を行う方法、或いは押圧部材を透光性材料にて構成し、該押圧部材を透光性型に押し当てたまま露光を行う方法のいずれをも採用することが可能である。
【００３０】
以下、図３及び図４に示した製造工程において用いる透光性型及びフォトマスクの変形例について説明する。図７〜図９は透光性型の変形例を示す斜視図で、図７に示した透光性型８００は、傾斜面８０１が四角形状に区画化された構成をなし、該傾斜面８０１が指向性を示している。図８に示した透光性型８１０は、傾斜面８１１が曲面状に形成された構成をなし、該傾斜面８１１が指向性を示している。図９に示した透光性型８２０は、曲面状に形成された傾斜面８２１が四角形状に区画化された構成をなし、該傾斜面８２１が指向性を示している。
【００３１】
一方、図１０〜図１３はフォトマスクの変形例を示す平面図で、図１０に示したフォトマスク９００は、開口部９０１の開口形状が正六角形とされたもので、図１１に示したフォトマスク９１０は、開口部９１１の開口形状が長方形とされたもの、図１２に示したフォトマスク９２０は、開口部９２１の開口形状が三角形とされたもの、図１３に示したフォトマスク９３０は、開口部９３１がストライプ状に形成され、その開口幅が個々の短冊状開口部においてランダムに形成されたものである。いずれの場合も、ランダムな開口部を備えたフォトマスクとして本実施例の製造方法に適用することが可能である。そして、各透光性型とフォトマスクは、いずれの組合せを採用することも可能である。
【００３２】
［液晶表示装置］
次に、上記実施例の製造方法により製造された液晶表示装置の構成について図面を参照しつつ説明する。
図１４は本実施における形態の液晶表示装置の全体構成を示す平面図、図１５は同、液晶表示装置の表示領域を示す図であって、図１４のＢ−Ｂ’線に沿う断面図（横方向に切断した状態を示す断面図）である。本実施の形態は、パッシブマトリクス方式の反射型カラー液晶表示装置の例であり、下基板の内面側に上記指向性反射板を形成した内蔵反射板を備えた例である。なお、各図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。
【００３３】
本実施の形態の液晶表示装置１は、図１４に示すように、平面視矩形状の下基板２（図１に示した基材５１と同様のもの）と上基板３（他方の基板）とがシール材４を介して対向配置されている。シール材４の一部は各基板２，３の一辺（図１４における上辺）側で開口して液晶注入口５となっており、双方の基板２，３とシール材４とに囲まれた空間内に液晶が封入され、液晶注入口５が封止材６によって封止されている。本実施の形態では、上基板３よりも下基板２の外形寸法の方が大きく、上基板３と下基板２の１辺（図１４における上辺）では縁が揃っているが、上基板３の残りの３辺（図１４における下辺、右辺、左辺）からは下基板２の周縁部がはみ出すように配置されている。そして、下基板２の下辺側の端部に上基板３、下基板２双方の電極を駆動するための駆動用半導体素子７が実装されている。なお、符号８は表示領域の周囲を遮光するための遮光層（周辺見切り）である。
【００３４】
本実施の形態の場合、図１４に示すように、下基板２上に、図中縦方向に延在する複数のセグメント電極１０がストライプ状に形成されている。一方、上基板３上には、セグメント電極１０と直交するように図中横方向に延在する複数のコモン電極１１がストライプ状に形成されている。カラー表示を行うべく、カラーフィルターのＲ、Ｇ、Ｂの各色素層は各セグメント電極１０の方向に対応して配置（縦ストライプ／ＲＧＢのそれぞれがストライプ状に縦に同色で形成配置）されており、横方向に並んだＲ、Ｇ、Ｂの３個の画素で画面上の１個のドットが構成されている。なお、本実施の形態における「画素」とは、セグメント電極１０とコモン電極１１とが平面的に見て重なり合った各領域のことである。また、「表示領域」とは、遮光層８の内側の多数の画素がマトリクス状に配列された領域であって、実際に表示に寄与する領域のことを言う。
【００３５】
断面構造を見ると、図１５に示すように、下基板２上には図１に示した反射板５０と同様の構成の樹脂層５２及び反射層５３が形成されている。すなわち、樹脂層５２は、図１に示した実施形態の場合と同様、表面に複数の凸部（図示略）を有する傾斜面６１，６２を備えており、この場合、傾斜面６１，６２は一つの画素内に多数配置されている。そして、これら傾斜面を備える樹脂層５２の表面に沿ってアルミニウム、銀等の光反射率の高い金属膜からなる反射層（指向性反射層）５３が形成され、樹脂層５２の傾斜面に沿って反射面が構成されている。この反射層５３は表示領域の縦方向において反射光の指向性があり、例えば縦方向上方から斜めに入射する光を、基板５１と垂直方向に指向させることが可能である。
【００３６】
また、反射層５３上にはアクリル、ポリイミド等の樹脂膜、シリコン酸化膜等の絶縁膜等からなる平坦化膜２７が形成され、平坦化膜２７上にインジウム錫酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ，　以下、ＩＴＯと略記する）からなるセグメント電極１０が紙面を貫通する方向にストライプ状に形成されており、その上に例えば表面にラビング処理が施されたポリイミド等からなる配向膜２０が形成されている。
【００３７】
一方、ガラス、プラスチック等の透明基板からなる上基板３上に、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色素層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂからなるカラーフィルター１３が形成され、カラーフィルター１３上には各色素層間の段差を平坦化すると同時に各色素層の表面を保護するための樹脂製のオーバーコート膜２１が形成されている。さらに、オーバーコート膜２１上にＩＴＯ膜からなるコモン電極１１が紙面に平行な方向にストライプ状に形成されており、その上に例えば表面にラビング処理が施されたポリイミド等からなる配向膜２２が形成されている。
【００３８】
上基板３と下基板２との間にはＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）液晶等からなる液晶２３が挟持されている。また、例えば樹脂ブラックや比較的反射率の低いクロム等の金属などからなるブラックストライプ３３が、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色素層１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの間（境界）を区画するように設けられている。
【００３９】
本実施の形態の液晶表示装置１は、所定の傾斜角度の反射面を有する反射膜５３を具備しているため、反射光を所定方向に指向させることが可能となり、その結果、照明環境に依存することなく、明るい反射表示が得られるようになる。また、反射膜５３の表面にはランダムなパターンの複数の凸部が形成されているため、所定方向に向いた明るい反射光を得ることが可能となる。
【００４０】
以上、本発明の反射板及びその製造方法、液晶表示装置について実施の形態を示したが、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば液晶表示装置の製造方法の実施例では、一括露光を行う例を示したが、ステッパー等により所定ステップ毎に露光を行うものとしてもよい。さらに、本実施の形態では、形成した樹脂層５２上に直接反射膜５３を成膜するものとしているが、樹脂層５２の上層に更に薄膜樹脂層を形成し、その上に反射膜５３を形成してなるものとすることもでき、この場合、反射膜５３の表面を一層滑らかにすることが可能となる。
【００４１】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明の反射板は、指向性を示す樹脂側傾斜面に倣って反射層の反射面が指向性を示すこととなり、所定方向に指向性を具備した反射光を得ることが可能となるとともに、樹脂層に凹凸部を設け、それに倣う凹凸部が反射層にも形成されてなるため、反射光を拡散させることも可能となり、したがって所定方向に向いた明るい反射光を得ることが可能となる。そして、この反射板の構成を採用した液晶表示装置は、視認性に優れた表示を提供可能となるとともに、所定方向に表示を指向させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射板の第１実施形態について概略構成を示す斜視図である。
【図２】図１の反射板の断面構造を示す断面模式図である。
【図３】図１の反射板を製造する工程を示す説明図である。
【図４】図１の反射板を製造する工程について変形例を示す説明図である。
【図５】反射板の製造工程において用いるフォトマスクの一実施形態を示す斜視図。
【図６】反射板の製造工程において用いる透光性型の一実施形態を示す斜視図である。
【図７】透光性型の変形例を示す斜視図である。
【図８】同じく、透光性型の変形例を示す斜視図である。
【図９】同じく、透光性型の変形例を示す斜視図である。
【図１０】フォトマスクの変形例を示す斜視図である。
【図１１】同じく、フォトマスクの変形例を示す斜視図である。
【図１２】同じく、フォトマスクの変形例を示す斜視図である。
【図１３】同じく、フォトマスクの変形例を示す斜視図である。
【図１４】図１の反射板を用いた液晶表示装置の全体構成を示す平面図である。
【図１５】同、液晶表示装置の表示領域を示す図であって、図１４のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。
【符号の説明】
１　液晶表示装置
２　下基板
５０　反射板
５１　基板
５２　感光性樹脂層（樹脂層）
５３　反射層
６１　樹脂側傾斜面（傾斜面）
７５　凸部

Claims

基板上に、指向性を示す傾斜面を備えた樹脂層と、該樹脂層上に形成された反射層とを備え、前記樹脂層が複数の凹凸部を備えてなることを特徴とする反射板。
前記傾斜面が、少なくとも一方向に規則性を有するパターン形状を備えてなることを特徴とする請求項１に記載の反射板。
前記樹脂層は、第１の方向に面する第１傾斜面と、第２の方向に面する第２傾斜面とを少なくとも備え、前記第１傾斜面の面積が第２傾斜面の面積よりも大きく形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射板。
前記凹凸部が前記樹脂層表面にランダムな配置にて形成されてなることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の反射板。
表面に指向性を示す傾斜面を備えた透光性型を、該傾斜面を感光性樹脂層に押し当てながら該感光性樹脂層を基板上に形成する工程と、
前記感光性樹脂層及び透光性型を積層した基板に対し、遮光領域を備えたフォトマスクを用いて露光を行う工程と、
前記露光の後に前記透光性型を離脱させる工程と、
前記樹脂層の表面に反射膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする反射板の製造方法。
基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、
表面に指向性を示す傾斜面を備える透光性型を、該傾斜面を前記感光性樹脂層に対向させて積層する工程と、
前記感光性樹脂層及び透光性型を積層した基板に対し、遮光領域を備えたフォトマスクを用いて露光を行う工程と、
前記露光の後に前記透光性型を離脱させる工程と、
前記樹脂層の表面に反射膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする反射板の製造方法。
前記傾斜面が、少なくとも一方向に規則性を有するパターン形状を備えてなることを特徴とする請求項５又は６に記載の反射板の製造方法。
前記フォトマスクの遮光領域が、前記傾斜面のパターン形状とは異なるランダムな配置にて形成されていることを特徴とする請求項５ないし７のいずれか１項に記載の反射板の製造方法。
前記フォトマスクの遮光領域の面積は、該フォトマスク全体の６０％〜９０％とされていることを特徴とする請求項５ないし８のいずれか１項に記載の反射板の製造方法。
前記透光性型の厚さが５μｍ〜１００μｍであることを特徴とする請求項５ないし９のいずれか１項に記載の反射板の製造方法。
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の反射板を備えることを特徴とする液晶表示装置。