JP2003530702A - 光起電性箔を作る方法 - Google Patents

光起電性箔を作る方法

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JP2003530702A JP2001574911A JP2001574911A JP2003530702A JP 2003530702 A JP2003530702 A JP 2003530702A JP 2001574911 A JP2001574911 A JP 2001574911A JP 2001574911 A JP2001574911 A JP 2001574911A JP 2003530702 A JP2003530702 A JP 2003530702A
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Akzo Nobel NV
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Abstract

(57)【要約】 【解決課題】 電着法によって速い速度で均一に施与でき、及び、光起電性層の種類とは独立にTCOの種類を選択することができる、光起電性箔の製造方法を提供する。 【解決手段】TCO（透明導電性酸化物）層、光起電性層、及び裏面電極を含む光起電性箔を作る方法であって、導電性の暫定的な基材を用意すること、暫定的な基材にTCO層を施与すること、電着のための電流が、少なくとも暫定的な基材を通して供給されながら、電着によってTCO層上に光起電性層を施与すること、裏面電極を施与すること、所望であれば、永久的な基材を施与すること、暫定的な基材を除去することを含む方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光起電性箔、より特には光起電性の層が電着により施与されている光
起電性箔を作る方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
薄膜太陽電池箔は、光電池として知られているが、一般に、担体（キャリア）
と、透明導電性酸化物（TCO）を含む表面電極（箔の表面）と裏面電極（箔の裏
面）の間に備えられた半導体物質を含む光起電性（PV）層とを含む。表面電極は
透明であり、半導体物質に入射光が到達するのを可能とし、半導体物質中で入射
輻射は電気エネルギーに転換される。このようにして、光を用いて電流を発生さ
せることができ、これは、例えば化石燃料又は原子力の興味深い代替となる。
【０００３】 光電池箔の製造には、一般に減圧蒸着法が使用される。これらの方法は、通常
、大気圧条件下で行われる同等の方法に比べてより高い。この理由から、活性層
を大気圧下でのより穏やかな方法で作ることが望ましい。これは、例えば、半導
体層の電気化学的付着により達成することができる。該方法は、なかんずく、米
国特許US 4,816,120及びG.C.Morris及びR.Vanderveen著、Sol.Energy Mater.S
ol.Cells、第27巻、第305頁（1992年）から公知である。ガルバニック（電気化
学的）付着、以降「電着」ともいう、は付着が、上で起こるところの層が導電性
であることを要する。
【０００４】 これを実現する一つの方法は、太陽電池箔の調製において金属基材を用いるこ
とである。そのような方法が、米国特許US 4,341,610及びドイツ国特許DE 196
34 580に記載されている。金属基材は、基材として及び裏面電極として同時に
作用する。この方法で調製された光起電性箔は、金属基材、電着により施与され
た光起電性層及び表面電極としての透明導電性酸化物（TCO）を含む。しかし、
最初にPV層を施与し、次いで透明導電層を施与するという順番は、使用する透明
導電性物質を厳しく限定する。例えば、非常に好ましい透明電極層はFドープさ
れた酸化錫である。しかし、これが所望の特性及びテクスチャを有するためには
、少なくとも400℃の温度で施与されることが好ましい。そのような高い温度は
、なかんずく結晶化、ドーパントが存在する場合にはその拡散、不純物の拡散、
クラックの形成及び／又は水素の損失等により、PV層にとって致命的である。
【０００５】 光起電性層を付着するために電着を用いる別の方法は、透明導電性酸化物（TC
O）層が付与されたガラス上への電着である。Raffaelleらは（R.P.Raffaelleら
、Electrodeposited CdS on CIS pn junctions、Solar Energy Material & Sola
r Cells、 第57巻、第167〜178頁（1999年））、インジウム錫酸化物で被覆され
たガラス上に順次CIS及びCdSを電着することを記載する。
【０００６】 Dasらは（S.K.Das及びG.C.Morris、Preparation and charaterization of ele
ctrodeposited n-CdS/p-CdTe thin film solar cells、Solar Energy Material
& Solar Cells、第28巻、第305〜316頁（1993年））、インジウム錫酸化物で被
覆されたガラス上に順次CｄS及びCdTeを電着することを記載する。テルル化カド
ミウムの電着において、CdSバッファ層が上に備えられたTCOが電極として使用さ
れている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、これらのプロセスの主な欠点は、光起電性層の成長速度が遅いことで
ある。成長速度は、TCOの低い導電性により制約される。何故なら、必要な電子
がこの層を通過して輸送されなければならないからである。この層の厚み、典型
的には＜１ミクロン、のために、電気抵抗が大きい。この事は、成長速度は与え
られた電気コンタクト間の距離に依存することを意味する。成長速度の違いは、
光起電性層の最終的な層厚みのばらつきとなり、好ましくない。
【０００８】 低抵抗の導電体、例えば金属をTOC上もしくは下にストライプの形状で付与す
ることによって、低い電着速度の問題を解決することが試みられている。この方
法は、多かれ少なかれ受容可能な成長速度を維持しつつ、より大きなパネルを用
いるのを可能にする。しかし、この方法の欠点は、導電体が活性層に影を落とし
、モジュールの単位面積当りの電流比を低下することである。さらに、この場合
、電着速度は導電体からの距離に依存するので、光起電性層の厚みが不均一とな
る。
【０００９】 さらに他の方法によれば、最初に導電性金属の薄い層がTCO上に施与される。
これは導電性をある程度向上するが、導電性金属の層が入射光を遮るので、電池
内への光量を減じ及びそれによって発生される電流量を減じる。
【００１０】 そこで、光起電性層を電着法によって速い速度で均一に施与でき、及び、光起
電性層の種類とは独立にTCOの種類を選択することができる、光起電性箔の製造
方法が必要である。
【００１１】
【課題を解決する手段】
この問題は、TCOを電気伝導性の暫定的な基材に施与し及び少なくとも該暫定的
な基材を通して電着のための電流を供給することによって解決できることが見出
された。そうすることによって、暫定的な基材とTCOとの組がPV層の電着の間、
電極として作用する。明らかに、TCOと暫定的な基材は十分にオーミックコンタ
クトしていなければならない。基材はTCOよりずっと厚く及びずっと良い導電性
を有するので、基材とTCOのシステムに供給する電流量は、先行技術と比べて増
大することができる。このことは、均一な光起電性層を得るために採用し得る最
高電着速度を増大する。基材の高い導電性の結果、TCOの電位は前表面に亘り本
質的に同じである。その結果、均一な厚みのPV層が電着される。TCOは暫定基材
の上に付着されており、光起電性層の上ではないので、TCOは光起電性層の種類
とは独立に選択することができる。
【００１２】 従って、本発明は下記のステップを含む方法である： 導電性の暫定的な基材を用意すること、 暫定的な基材にTCOと暫定的な基材とが良好なオーミックコンタクトをしてい
るような条件下でTCO層を施与すること、 電着のための電流が少なくとも暫定的な基材を通して供給されながら、TCO層
上に電着によって光起電性層を施与すること、 裏面電極を施与すること、 所望であれば、永久的な基材を施与すること、 暫定的な基材を除去すること。
【００１３】 導電性の暫定的な基材は、好ましくは可撓性であり、ロールからロールへのプ
ロセス（roll-to-roll process）による実施を可能とする。永久的な基材は、用
途に依存して剛性又は可撓性であることができる。ほとんどの用途について、永
久的な基材も好ましくは可撓性である。本発明に従う方法は、好ましくは、連続
プロセスで実施される。より好ましくは、該連続プロセスはロールからロールへ
のプロセスである。
【００１４】 本発明のさらなる利点は以下である：光起電性箔の抵抗損失、並びに、しばし
ば必要であるインバーターにおける損失を減じるために、光起電性箔は、大抵、
個々のセルに分割され、次いで、それらが直列に接続される。この方法は、なか
んずく、TCO層に溝（グルーヴ）が備えられていることを必要とする。TCOが非導
電性の担体上、例えばガラス担体上、に施与されているシステムでは、光起電性
層の電気化学的付着はTCO上でのみ起こり、TCOに付与されている溝には全く又は
ほとんど付着しない。この事は、容易な直列接続を不可能にする。これに対して
、本発明に従う方法では、導電性基材が使用されるが、光起電性層はTCOの溝中
にも付着され、その結果、直列接続を容易に作れる。
【００１５】 本発明に従う方法は、以下のようにして実施することができる：溝を有するTC
Oにより被覆された暫定的な基材が用意される。電着によってTCO層及びそれに備
えられた溝上に光起電性層が施与される。光起電性層中にTCO中の溝の隣に溝も
しくは穴（の列）が備えられる。次いで、裏面電極に、光起電性層中に備えられ
た溝もしくは孔（の列）の隣に溝が与えられる。所望により、永久的な基材を施
与し、その後、暫定的な基材が除去される。
【００１６】 本発明に従う方法において直列接続を与える他の方法では、第１の溝もしく
は孔（の列）が光導電性層に設けられる。次いで、裏面電極が設けられ、電着の
間又は後、例えばマスクを用いて、その中に溝が作られる。次いで、PV箔が裏面
電極と共に永久基材上に積層され、及び、暫定的な基材が除去される。次いで、
暫定的な基材の除去によってアクセスできるようになったTCO、及び所望によりP
V層に溝が備えられる。溝は、自体公知の方法により備えられる。これらの方法
には、電気−腐食剤メタル除去法、ウェットエッチング、ドライエッチング、レ
ーザーアブレージョン、腐食性粉体もしくは凍結液体粒子によるブラスティング
、及び、硬いスクライビングポイントによる機械的スクライビングが包含される
。
【００１７】 上述のように、本発明の重要な点は、導電性の暫定的な基材及びTCOの組が電
着の間電極として作用することである。暫定的な基材の伝導度は、TCOのそれに
比べて高いので、TCO中の電流の方向は、本質的に基材層方向に垂直である。そ
の結果、TCOの電位は本質的に均一であり、付着された１または２以上の光導電
性層の厚みは本質的に均一になり、平均値からのずれが通常10％未満、好ましく
は5％未満、より好ましくは2％未満である。
【００１８】 本発明の方法の好ましい実施態様では、上にTCOが付与されているところの暫
定的な基材がローラー上に導かれ、前記ローラーを通して電着のための電流が供
給される。このローラーはPV層の付着に必要な電解質中を回転する。これは、非
常に均一なTCOへの電流の供給をもたらす。さらに、該システムはロールからロ
ールへのプロセスに統合するのに適しているので技術的に興味深い。
【００１９】 本発明の方法の他の実施態様において、TCOが上に付与された暫定的な基材は、
１又は２以上のガイドロールを経由して電解槽へと導かれ、該ガイドロールは、
箔への電気コンタクトとしても作用する。該セットアップは、高い電流密度で、
従って速いスピードで付着が行われるのを可能とする。付着の間、高電流が流れ
、及び、コンタクトロール間に広い空間がある場合、箔の機械方向に電位勾配（
電圧低下または電圧上昇）ができ、それが成長速度を減じ得る。その場合、連続
プロセスを実施することは、追加の利点がある。該電位勾配はプロセス方向のみ
に存在し、且つ、該箔もその方向に動くので、電位の違いにも拘わらず、未だ均
一な厚みの光起電性層が形成される。この方法を行う装置を図１に示す。同図に
おいて、TCO（１）が付与された暫定的な基材はアースされたガイドローラーの
セット（２）を経由して、必要な電解質（４）が入れられた電解槽（３）中へと
導かれる。電極（５）は、必要な電流を供給する。
【００２０】 本発明に従う方法において、PV層は電流が電気伝導性の暫定的な基材を通して供
給されて電着によって施与される。所望であれば、１または２以上の他の層、例
えばTCO、裏面電極及び任意的に存在する任意的なバッファ層も、電流が電気伝
導性の暫定的な基材を通して供給されて、電着によって施与されてよい。本発明
に従う方法の特に好ましい態様において、TCO、何らかの任意的に存在するバッ
ファ層、光起電性層及び裏面電極は各々、連続プロセス中で、電気伝導性の暫定
的な基材を通して電流が供給されて、順次電着される。
【００２１】 第一ステップのさらなる変形において、暫定的な基材は担体（キャリア）、例え
ばドラム又は連続ベルト、上に電着によって調製され、その後、TCO、何らかの
任意的に存在するバッファ層、光起電性層、及び裏面電極が、連続プロセス中で
、順次、暫定的な基材上に電着により施与される。次いで、暫定的基材、TCO、
何らかの任意的に存在するバッファ層、光起電性層、及び裏面電極を含む構造が
担体から取り外され、さらに加工される。この態様を実施する装置を図２に示す
。同図は、パーティション（２）により種々のセグメントに分割された電着槽（
１）を示す。各セグメントは、特定の電着に必要な、電極（３）及び電解質（４
）を含む。例えば酸化クロムのアースされたドラム（５）が槽中で回転する。該
槽の各部分で、暫定的な基材に始まり、TCO、任意的なバッファ層、光起電性槽
及び裏面電極と続く、光起電性箔の層が電着される。暫定的基材、TCO、光バッ
ファ層及び裏面電極を含むシステム（６）が、次いで、槽から取り除かれ、後工
程へと付される。
【００２２】 先に述べたように、ロールからロールへのプロセスは本発明の好ましい態様であ
る。暫定的な基材を用いた薄膜太陽電池シートの製造は、公知である。特に好適
なロールからロールへのプロセスは国際公開WO98/13882に記載されている。
【００２３】暫定的な基材 暫定的な基材は、多くの条件を満たさなければならない。それは、光起電性層の
電着の間に充分な電流を伝えるために充分に導電性でなければならない。それは
、薄膜太陽電池シートの製造中、より特にはTCO及びPV層の付着の間における条
件に耐えるのに十分に耐熱性でなければならない。それは、その製造の間、薄膜
太陽電池箔を担持するために充分に強くなければならない。それは、残りの部分
を傷めずにCO層から取り外すのが容易でなければならない。当業者はこれらのガ
イドラインに沿って、好適な暫定的な基材を選択できよう。
【００２４】 本発明の方法で使用される暫定的な基材は、好ましくは金属または合金の箔（fo
il）である。この主な理由は、そのような箔が良い導電性を示し、高いプロセス
温度に耐え、蒸発するのが遅く、及び、公知のエッチング技術を用いて除去する
のが比較的容易であることである。金属箔、より特にはアルミニウムもしくは銅
、を選ぶ他の理由は、薄膜太陽電池シートは最後にエッジ電極が付与されなけれ
ばならないが、それは薄膜太陽電池シートを装置または電気グリッドに接触させ
なければならない。暫定的な基材片で除去されずに残ったものを、この目的のた
めに使用でき、その結果別個のエッジ電極の付与が不要になる。
【００２５】 好適な金属には、鋼、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、銀、亜鉛、モルブデン
、クロム、及びこれらの合金もしくは多層が包含される。何よりも経済的な理由
からFe、Al、Cu、又はこれらの合金を用いることが好ましい。特性から（及びコ
ストを考慮して）、所望により例えば図２の統合されたプロセスで電着により作
られアルミニウム、鉄、及び所望により、例えば図２の統合されたプロセスで電
着により作られた銅が最も好ましい。
【００２６】 金属を除くための好適なエッチング剤及び技術は知られており、及び、それらは
金属ごとに異なるが、当業者は適切なものを選ぶことができよう。好ましいエッ
チング剤は、酸（ルイス酸及びブレンステッド酸の双方）を包含する。従って銅
の場合は、FeCl3、硝酸又は硫酸の使用が好ましい。アルミニウムの好適なエッ
チング剤は、例えばNaOH、KOH及びリン酸と硝酸の混合物である。
【００２７】 銅が、所望により電着により調製され、暫定的な基材として使用された場合に
は、該所望により電着により調製された銅に、非還元性の拡散防止層、例えば耐
腐食性層、より特には酸化亜鉛の層を付与することが好ましい。その理由は、銅
はTCO層を通過してPV層中に拡散する傾向があるからである。そのような拡散を
防止することができるTCO、例えばSnO2またはZnO、を選択することも可能である
。抗拡散層は例えば電着、物理蒸着（PVD）、又は化学蒸着（CVD）によって施与
することができる。拡散防止層は、一般に暫定的な基材と共に、TCOから取り除
かれる。
【００２８】 容易に除去できるように、暫定的な基材は可能な限り薄いことが好ましい。勿
論、その厚みは、他の層をその上に設けることができ、且つ、これらを共に維持
することができるようでなければならないが、一般に、500μm（0.5mm）より厚
い必要はない。厚みは、好ましくは1〜200μm（0.2mm）である。弾性率に依存し
て、多くの材料についての最小厚みは5μmであろう。従って、5〜150μm、より
特には10〜100μmが好ましい。
【００２９】 TCO層 好適な透明導電性酸化物（TCO）の例は、インジウム錫酸化物、酸化亜鉛、アル
ミニウム、フッ素、ガリウム、もしくはホウ素がドープされた酸化亜鉛、硫化カ
ドミウム、酸化カドミウム、酸化錫、及び最も好ましくはフッ素がドープされた
SnO2である。前記最後に述べた透明電極物質は、400℃より高い温度、好ましく
は500〜600℃の温度で施与され、もしくは、前記温度で後処理されると、円柱状
の光散乱テクスチャを有する所望の結晶表面を形成することができるので好まし
い。このような高い温度に耐える暫定的基盤の使用が非常に魅力的であるのは、
まさにこのTCO物質の場合である。さらに、該物質はほとんどのエッチング剤に
耐性であり、ずっと多く用いられているインジウム錫酸化よりも耐化学薬品性が
良い。さらに、ずっと安価でもある。
【００３０】 TCOは当業界で公知の方法、例えば金属有機化学蒸着（MOCVD：Metal Organic C
hemical Vapour Deposition）、スパッタリング、常圧化学蒸着（APCVD）、PECV
D、スプレイ熱分解、蒸発（物理蒸着）、電着により、所望によりPV層の電着、
無電解めっき、スクリーン印刷、ゾル−ゲル法等と統合されたプロセスで、施与
することができる。250℃より高い、好ましくは400℃より高い、より好ましくは
500〜600℃の温度でTCO層を施与及び後処理して、所望の組成、特性及び／又は
テクスチャを得ることが好ましい。
【００３１】 バッファ層 所望であれば、TCO層と光起電性層の間にバッファ層が存在してもよい。該バッ
ファ層は、TCO層をPV層の付着の間の条件から守ることが目的である。バッファ
層の種類は、PV層の種類に依存する。種々のPV層に適するバッファ層は、当業界
で公知である。テルル化カドミウムにはCdS、In（OH、S）及びZn（OH、S）が挙
げられる。本明細書においてTCO上にPV層を付着することが言及される場合には
いつも、前記TCO上にはバッファ層が存在していてもよい。
【００３２】 光起電性層 TCO層を施与した後に、光起電性（PV）層が電着によって施与される。本明細書
において用語「PV層」又は「光起電性層」は光を吸収し及びそれを電気に転換す
るために必要な層の系総てを含むものであることが注意されるべきである。電着
によって施与されるべき好適な層構造は公知であり、それらを施与する方法につ
いても同様である。当分野における共通の一般知識としてYukinoro Kuwano著、
「Photovoltaic Cells」、Ullmann’s Encyclopedia、第A20巻、第161頁（1992
年）及び「Solar Technology」、Ullmann’s Encyclopedia、第A24巻、第369頁
（1993年）が言及されねばならないだろう。光起電性層を電着する方法は、例え
ば米国特許第4,816,120号、米国特許第5,472,910号、米国特許第4,440,244号、
米国特許第4,456,630号及び米国特許第4,388,483号並びに例えばG.C.Morris及び
R.J.Vanderveen著、Applied Surface Science 第92巻、第630〜634頁（1996年）
に記載されている。
【００３３】 光起電性層の総ての下位の層（サブレイヤー）は電着により施与される必要は
ないことが注意されるべきである。例えば硫化カドミウムを、例えばCVD、浸漬
、無電解めっき、スパッタリング、又は減圧蒸着によって施与し、次いで、電着
によりテルル化カドミウムを施与することができる。
【００３４】 電着によるPV層の調製において、種々の薄膜半導体を使用することができる。そ
の例はCIS（銅インジウムジセレナイド、CuInSe2）、CuInS2、テルル化カドミウ
ム（CdTe）、CIGGS（Cu（In,Ga）（Se,S））、Cu（In,Ga）Se2、ZnSe/ClS、ZnO/
ClS、及び／又はMo/ClS/CdS/ZnO及び色素増感太陽電池である。
【００３５】 PV層の総厚みは、一般に100〜10000nm、より特には約200〜6000 nm、好ましく
は約250〜5000 nm、より好ましくは約300〜1000 nmである。
【００３６】 裏面電極 本発明に従う薄膜太陽電池シートの裏面電極は、好ましくはリフレクターとし
て及び電極として、両方の働きをする。一般に、裏面電極は約50〜500 nmの厚み
を有し、光を反射する性質を有する任意の好適な物質、好ましくはアルミニウム
、銀、又は両層の組合わせを含んでよく、その下に隣接する半導体層との間に良
好なオーミックコンタクトを形成する。金属層を比較的低温、例えば250℃未満
で、例えば電着により、（減圧）物理蒸着により、又はスパッタリングにより施
与することが可能であることが好ましい。銀の場合、最初に接着促進層を施与す
ることが好ましい。TiO2、TiN、ZnO及び酸化クロムが接着促進層として適する物
質の例であり、及び、適切な厚み、例えば50〜100nmで施与された場合、反射特
性を有する利点がある。必要な裏面電極は、透明又は不透明であってよい。好ま
しくは、裏面電極は電着により、所望によりPV層の電着と統合されたプロセスで
、施与される。
【００３７】 永久的な基材 本発明の方法において必須ではないが、概して薄膜太陽電池シートに永久的な
基材を付設することが好ましい。さもなくば、薄膜がかなり薄いので、その脆さ
がハンドリングを困難にするからである。採用される場合には、永久的な基材は
裏面電極上に施与される。好適な基材層の物質には、市販のポリマー、例えばポ
リエチレンテレフタレート、ポリ（エチレン 2,6‐ナフタレン ジカルボキシ
レート）、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、PVDF、PVDCの薄膜、又は大変良
い特性を有するポリマーの薄膜、例えばアラミド又はポリイミド薄膜が包含され
るが、例えばその上に絶縁性（誘電体）表面が施与されていてよい金属箔、又は
プラスチックと強化ファイバー及びフィラーの組成物も包含される。基材自体の
軟化点より低い軟化点を有する熱可塑性接着性層が付与されたポリマー状の「共
押出しされた」薄膜が好ましい。所望であれば、共押出しされた薄膜は、耐拡散
層、例えばポリエステル（PET)、コポリエステルまたはアルミニウム、が付与さ
れてよい。基材の厚みは、好ましくは50μm〜10mmである。好ましい範囲は、75
μm〜3mm及び100μm〜300μmである。基材の曲げ剛性は、本明細書において弾性
率E（N/mm2）と厚みt（mm）の３乗との積（E×t3）として定義され、好ましくは
、16×10-2Nmmより大きく及び一般に15×106Nmmより小さい。
【００３８】 基材は、その最終用途で必要とされる構造を有する。従って、基材はタイル、
屋根シート及び素子（エレメント）、建物の正面素子、自動車及びキャラバンの
屋根等を含んでよい。一般に、しかし、基材が可撓性であることが好ましい。そ
の場合、すぐに使用できる薄膜太陽電池シートの巻物（ロール）が得られ、所望
の電力及び電圧のシートをロールから切り出せる。次いで、これらを（ハイブリ
ッド）屋根素子中に組み込み、又は、タイル、屋根シート、自動車及びキャラバ
ンの屋根の上に所望に従い施与することができる。
【００３９】 所望であれば、TCOを外からの影響から守るために、太陽電池のTCO側の上にト
ップコート又は表面層を付与してもよい。一般に、表面層はポリマーシート（所
望であれば、孔（キャビティ）を有する）またはポリマーフィルムである。表面
層は、高い透明性を有することが必要であり、例えば以下の物質を含む：不定形
（パー）フロロポリマー、ポリカーボネート、ポリ（メチルメタクリレート）、
PET、PEN又は入手可能な任意の透明コーティング、例えば自動車工業で使用され
ているもの。所望であれば、追加の耐反射性又は対汚れ層を付与してよい。又は
、所望であれば、太陽電池全体が封止剤中に入れられてよい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ， ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ， ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ， ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＯ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ ，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ， ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，Ｉ Ｓ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ， ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，Ｐ Ｔ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ， ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ Ｆターム(参考） 5F051 AA09 AA10 BA03 BA05 CB27 EA02 EA18 FA02 FA03 FA04 FA19 GA03

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】TCO（透明導電性酸化物）層、光起電性層、及び裏面電極を含む光
    起電性箔を作る方法であって、 導電性の暫定的な基材を用意すること、 暫定的な基材にTCO層を施与すること、 電着のための電流が、少なくとも暫定的な基材を通して供給されながら、電着に
    よってTCO層上に光起電性層を施与すること、 裏面電極を施与すること、 所望であれば、永久的な基材を施与すること、 暫定的な基材を除去すること を含む方法。
  2. 【請求項２】電着のための電流がローラーを通して供給されながら、上にTCOが
    付与されているところの暫定的な基板が前記ローラー上に導かれることを特徴と
    する請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】TCOが付与されている暫定的な基板が、少なくとも１つのガイドロ
    ーラーを経由して、電極を含む電解質槽中へと導かれ、１又は複数の該ガイドロ
    ールが箔のための電気コンタクトとしても働くことを特徴とする請求項１記載の
    方法。
  4. 【請求項４】TCO層、任意的な導電性バッファ層及び裏面電極から選ばれる１又
    は複数の層も、暫定的な基材を通して電流が供給されながら、電着により施与さ
    れることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
  5. 【請求項５】TCO層、任意的な導電性バッファ層、光起電性層及び裏面電極が、
    順次、連続工程中で電着により施与されることを特徴とする請求項４記載の方法
    。
  6. 【請求項６】第１のステップで暫定的な基材が担体上に電着により調製され、そ
    の後、TCO層、任意的な導電性バッファ層、光起電性層及び裏面電極が、順次、
    連続工程中で電着により施与されることを特徴とする請求項５記載の方法。
  7. 【請求項７】暫定的な基材が金属箔であることを特徴とする請求項１〜５のいず
    れか１項記載の方法。
  8. 【請求項８】TCO層と光起電性層の間にバッファ層が備えられる請求項１〜７の
    いずれか１項記載の方法。
  9. 【請求項９】 暫定的な基材を用意すること、 その中に溝が備えられているところのTCO層を施与すること、 TCO及びその中に備えられた溝の上に電着により光起電性層を施与すること、 光起電性層中のTCO中の溝の隣に溝もしくは穴（の列）を備えること、 光起電性層中の溝もしくは穴（の列）の隣に溝が備えられた裏面電極を施与す
    ること、 所望であれば、永久的な基材を施与すること、 暫定的な基材を除去すること、 を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
  10. 【請求項１０】 暫定的な基材を用意すること、 TCO層を施与すること、 電着により光起電性層を施与すること、 光起電性層中に溝もしくは穴（の列）を備えること、 溝が備えられた裏面電極を施与すること、 所望であれば、永久的な基材を施与すること、 暫定的な基材を除去すること、 TCO中に溝を備えること、 を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
  11. 【請求項１１】連続工程、好ましくはロールからロールへのプロセス、で行われ
    ることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項記載の方法。
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