JP2003530204A5 - - Google Patents
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Claims (18)
- アンチスケーレント組成物の導入を含む、都市または産業廃水処理施設におけるスケール形成の低減/防止またはスケール除去方法であって、アンチスケーレント組成物が、
(A)分子量が20,000未満であり、かつ陰イオン基を含有する水溶性ポリマーと、
(B)ホスホネート基及びその塩の少なくとも1種を含有する金属イオン封鎖化合物と、
を含み、該成分(A)が、モノマー、あるいは一つまたはそれ以上のエチレン性不飽和カルボン酸モノマーと、任意に水溶性非イオンモノマーとからなるモノマーブレンドから形成されることを特徴とする方法。 - スケールがスツルバイトである、請求項1記載の方法。
- 廃水処理施設が下水処理プラントである、請求項1または2記載の方法。
- アンチスケーレント組成物が、25〜75重量%の成分Aと、25〜75重量%の成分Bとを含む、請求項1〜3のいずれか1項記載の方法。
- 成分Aが、アクリル酸(または塩)のホモポリマー、あるいはアクリル酸(または塩)と、マレイン酸(または塩もしくは無水物)またはイタコン酸(または塩もしくは無水物)のいずれかとのコポリマーである、請求項1〜4のいずれか1項記載の方法。
- ポリマーが、1,500〜10,000、好ましくは2,000〜5,000の範囲の分子量を有する、請求項1〜5のいずれか1項記載の方法。
- アンチスケーレント組成物が、塩酸または硫酸から選択される鉱酸を含有しない、請求項1〜8のいずれか1項記載の方法。
- アンチスケーレント組成物が、本質的に成分(A)と成分(B)とからなる、請求項1〜9のいずれか1項記載の方法。
- スツルバイトを含む水性系の処理のための、
(A)分子量が20,000未満であり、かつ陰イオン基を含有する水溶性ポリマーと、
(B)ホスホネート基及びその塩の少なくとも1種を含有する金属イオン封鎖化合物と、を含む組成物の使用であり、
成分(A)が、モノマー、あるいは一つまたはそれ以上のエチレン性不飽和カルボン酸モノマーと、任意に水溶性非イオンモノマーとからなるモノマーブレンドから形成されることを特徴とする組成物の使用。 - アンチスケーレント組成物が、25〜75重量%の成分Aと、25〜75重量%の成分Bとを含む、請求項11記載の使用。
- 成分Aが、アクリル酸(または塩)のホモポリマー、あるいはアクリル酸(または塩)と、マレイン酸(または塩もしくは無水物)またはイタコン酸(または塩もしくは無水物)のいずれかとのコポリマーである、請求項11または12記載の使用。
- ポリマーが、1,500〜10,000、好ましくは2,000〜5,000の範囲の分子量を有する、請求項11〜13のいずれか1項記載の使用。
- アンチスケーレント組成物が、塩酸または硫酸から選択される鉱酸を含有しない、請求項11〜16のいずれか1項記載の使用。
- アンチスケーレント組成物が、本質的に成分(A)と成分(B)とからなる、請求項11〜17のいずれか1項記載の使用。
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