JP2003528474A - 化学剤を均一に送出するためのドリップマニホルド - Google Patents
化学剤を均一に送出するためのドリップマニホルドInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】
【解決手段】 制御された液滴を形成するように構成された複数のドリップノズルを有するドリップマニホルドが、ウエハ洗浄システムで使用するために準備される。ドリップマニホルドは、ドリップマニホルドに固定された複数のドリップノズルを含む。複数のドリップノズルのそれぞれは、第１端と第２端との間に規定された通路を有している。サファイアオリフィスは、その通路内に規定されており、ドリップノズルの第１端に設けられている。サファイアオリフィスは、流体ストリームを生成するために傾斜しており、流体ストリームは、ブラシの上方に１以上の均一な液滴を形成するように通路内で反射され、第２端に向かう。
Description
【０００１】
本発明は、半導体ウエハの洗浄に関し、特に、洗浄ブラシに流体を供給し、ウ
エハ洗浄のスループットおよび効率を向上させるための技術に関する。
エハ洗浄のスループットおよび効率を向上させるための技術に関する。
【０００２】
半導体チップの製造プロセスでは、周知のように、ウエハの表面に不要な残留
物が残るような製造工程の後に、ウエハを洗浄する必要がある。このような製造
工程の例として、プラズマエッチング（例えば、タングステンエッチバック（Ｗ
ＥＢ））や化学機械研磨（ＣＭＰ）が挙げられる。不要な残留物や微粒子がウエ
ハの表面上に在ると、後続の製造工程を行う際に、ウエハの表面上にスクラッチ
などの欠陥が生じ、金属化された特徴部分間で不適切な相互作用を起こす可能性
がある。場合によっては、このような欠陥が原因で、ウエハ上のデバイスが動作
不能になることもある。動作不能なデバイスを有するウエハを廃棄するための過
度なコストを削減するためには、不要な残留物をウエハの表面に残す製造工程の
後に、適切にかつ効率良くウエハを洗浄する必要がある。
物が残るような製造工程の後に、ウエハを洗浄する必要がある。このような製造
工程の例として、プラズマエッチング（例えば、タングステンエッチバック（Ｗ
ＥＢ））や化学機械研磨（ＣＭＰ）が挙げられる。不要な残留物や微粒子がウエ
ハの表面上に在ると、後続の製造工程を行う際に、ウエハの表面上にスクラッチ
などの欠陥が生じ、金属化された特徴部分間で不適切な相互作用を起こす可能性
がある。場合によっては、このような欠陥が原因で、ウエハ上のデバイスが動作
不能になることもある。動作不能なデバイスを有するウエハを廃棄するための過
度なコストを削減するためには、不要な残留物をウエハの表面に残す製造工程の
後に、適切にかつ効率良くウエハを洗浄する必要がある。
【０００３】
図１Ａは、ウエハ洗浄システム５０の上位の概略図である。洗浄システム５０
は、通常、ロードステーション１０を備える。ロードステーション１０には、カ
セット１４に装填された複数のウエハが、システムを通り抜ける洗浄のために挿
入される。複数のウエハがロードステーション１０に挿入されると、カセット１
４から１つのウエハ１２が取り出され、第１のブラシステーション１６ａに搬送
される。ここでは、ウエハは、選択された化学剤および水（例えば、脱イオン（
ＤＩ）水）でスクラブ洗浄される。そして、ウエハ１２は、第２のブラシステー
ション１６ｂに搬送される。ブラシステーション１６内でスクラブ洗浄された後
、ウエハは、スピン・リンス・ドライ（ＳＲＤ）ステーション２０に搬送される
。ここでは、ウエハの表面に脱イオン水が噴射され、回転乾燥される。ＳＲＤス
テーション内のリンス工程では、ウエハは、毎分約１００回転以上の速度で回転
する。ＳＲＤステーション２０を経たウエハは、アンロードステーション２２に
搬送される。
は、通常、ロードステーション１０を備える。ロードステーション１０には、カ
セット１４に装填された複数のウエハが、システムを通り抜ける洗浄のために挿
入される。複数のウエハがロードステーション１０に挿入されると、カセット１
４から１つのウエハ１２が取り出され、第１のブラシステーション１６ａに搬送
される。ここでは、ウエハは、選択された化学剤および水（例えば、脱イオン（
ＤＩ）水）でスクラブ洗浄される。そして、ウエハ１２は、第２のブラシステー
ション１６ｂに搬送される。ブラシステーション１６内でスクラブ洗浄された後
、ウエハは、スピン・リンス・ドライ（ＳＲＤ）ステーション２０に搬送される
。ここでは、ウエハの表面に脱イオン水が噴射され、回転乾燥される。ＳＲＤス
テーション内のリンス工程では、ウエハは、毎分約１００回転以上の速度で回転
する。ＳＲＤステーション２０を経たウエハは、アンロードステーション２２に
搬送される。
【０００４】
図１Ｂは、ブラシステーション１６内で実行される洗浄プロセスの概略図であ
る。ブラシステーション１６では、ウエハ１２は、その上面１２ａが上を向いた
状態で、トップブラシ３０ａとボトムブラシ３０ｂとの間に挿入される。ウエハ
１２は、ローラ（図示せず）と共に回転可能であり、回転ブラシ３０ａ，３０ｂ
は、ウエハ１２の上面および下面の全体を適切に洗浄することができる。下面の
汚染純物が上面１２ａに移動する可能性があるため、特定の環境では、ウエハの
下面も洗浄される。ウエハ１２の上面１２ａおよび裏面の双方を２つのブラシ３
０でスクラブ洗浄する場合であっても、集積回路デバイスが製造されるのは上面
１２ａであるため、トップブラシ３０ａでスクラブされる上面１２ａが主な洗浄
対象面である。より効率良くウエハ１２を洗浄するために、洗浄溶液は、ドリッ
プマニホルド１３ａを用いてトップブラシ３０ａ上に供給される。この例では、
ドリップマニホルド１３ａがドリップ制御部１３に取り付けられ、ドリップ制御
部１３は、さらに流体ソース２４に接続されている。流体ソース２４は、ドリッ
プマニホルド１３ａに入る流体量を制御する流体制御部１３を介して、流体（例
えば、任意の洗浄化学剤またはＤＩ水）をポンプで供給する。ドリップマニホル
ド１３ａは、流体制御部１３から流体を受け取った後、トップブラシ３０ａ上に
不均一な液滴３２を吐出する。以下で説明するように、不均一な液滴３２は、洗
浄工程に問題を引き起こすことが知られている。
る。ブラシステーション１６では、ウエハ１２は、その上面１２ａが上を向いた
状態で、トップブラシ３０ａとボトムブラシ３０ｂとの間に挿入される。ウエハ
１２は、ローラ（図示せず）と共に回転可能であり、回転ブラシ３０ａ，３０ｂ
は、ウエハ１２の上面および下面の全体を適切に洗浄することができる。下面の
汚染純物が上面１２ａに移動する可能性があるため、特定の環境では、ウエハの
下面も洗浄される。ウエハ１２の上面１２ａおよび裏面の双方を２つのブラシ３
０でスクラブ洗浄する場合であっても、集積回路デバイスが製造されるのは上面
１２ａであるため、トップブラシ３０ａでスクラブされる上面１２ａが主な洗浄
対象面である。より効率良くウエハ１２を洗浄するために、洗浄溶液は、ドリッ
プマニホルド１３ａを用いてトップブラシ３０ａ上に供給される。この例では、
ドリップマニホルド１３ａがドリップ制御部１３に取り付けられ、ドリップ制御
部１３は、さらに流体ソース２４に接続されている。流体ソース２４は、ドリッ
プマニホルド１３ａに入る流体量を制御する流体制御部１３を介して、流体（例
えば、任意の洗浄化学剤またはＤＩ水）をポンプで供給する。ドリップマニホル
ド１３ａは、流体制御部１３から流体を受け取った後、トップブラシ３０ａ上に
不均一な液滴３２を吐出する。以下で説明するように、不均一な液滴３２は、洗
浄工程に問題を引き起こすことが知られている。
【０００５】
図１Ｃは、図１Ｂに示す複数の要素の断面図である。ウエハ１２がボトムブラ
シ３０ｂ上に配置されると、ウエハ１２の上までトップブラシ３０ａが下げられ
る。ウエハ１２の上にトップブラシ３０ａが下げられると、ドリップ制御部１３
は、トップブラシ３０ａ上に不均一な液滴を吐出するドリップマニホルド１３ａ
へ、流体を流し始める。このとき、ブラシ３０ａ，３０ｂの双方が回転して機械
的なスクラブ動作が実現される。
シ３０ｂ上に配置されると、ウエハ１２の上までトップブラシ３０ａが下げられ
る。ウエハ１２の上にトップブラシ３０ａが下げられると、ドリップ制御部１３
は、トップブラシ３０ａ上に不均一な液滴を吐出するドリップマニホルド１３ａ
へ、流体を流し始める。このとき、ブラシ３０ａ，３０ｂの双方が回転して機械
的なスクラブ動作が実現される。
【０００６】
図１Ｄは、図１Ｂに示すウエハ洗浄構造をより詳細に示す側面図である。一般
に、ドリップマニホルド１３ａに供給された流体は、流体の「液滴」を、ブラシ
３２ａの長さ全体に渡って均一に吐出することを理想とする。このため、流体は
、通常、流速および圧力を減少させた状態で、ドリップマニホルド１３ａに導入
される。これを実現するために、流体ソース２４は、ドリップ制御部１３を介し
て、洗浄液を供給する。ドリップ制御部１３は、ドリップマニホルド１３ａの近
端３１ａに注入される流体量を調整する。ところが、近端３１ａに流入した流体
は、遠端３１ｂでの速度よりも高い速度でドリップマニホルドから流出する傾向
がある。流体の吐出に差が生じるのは、流体の大部分が、遠端３１ｂのドリップ
穴に到達する前に、近端３１ａのドリップ穴から放出されるためである。仮に、
ドリップマニホルド１３ａが完全に水平であるならば、吐出される近端の液滴３
２ａの量は、遠端の液滴３２ｂの量よりも多い。従来技術では、より多くの流体
が遠端３１ｂに到達できるように、ドリップマニホルド１３ａは、マニホルド角
φ４２だけ僅かに下方に傾けられている。マニホルド角４２は、ドリップマニホ
ルド１３ａの最適な角度を見出すことによって決定される。最適な角度では、近
端３１ａおよび遠端３１ｂの双方で等量の液滴が生成される。マニホルド角４２
は、ｙ軸４０ａおよびｘ軸４０ｂに関連して測定される。ドリップマニホルド１
３ａが、トップブラシ３０ａ上に遠端の液滴３２ａおよび近端の液滴３２ｂを吐
出すると、ブラシ３０が回転してウエハ１２をスクラブ洗浄する。
に、ドリップマニホルド１３ａに供給された流体は、流体の「液滴」を、ブラシ
３２ａの長さ全体に渡って均一に吐出することを理想とする。このため、流体は
、通常、流速および圧力を減少させた状態で、ドリップマニホルド１３ａに導入
される。これを実現するために、流体ソース２４は、ドリップ制御部１３を介し
て、洗浄液を供給する。ドリップ制御部１３は、ドリップマニホルド１３ａの近
端３１ａに注入される流体量を調整する。ところが、近端３１ａに流入した流体
は、遠端３１ｂでの速度よりも高い速度でドリップマニホルドから流出する傾向
がある。流体の吐出に差が生じるのは、流体の大部分が、遠端３１ｂのドリップ
穴に到達する前に、近端３１ａのドリップ穴から放出されるためである。仮に、
ドリップマニホルド１３ａが完全に水平であるならば、吐出される近端の液滴３
２ａの量は、遠端の液滴３２ｂの量よりも多い。従来技術では、より多くの流体
が遠端３１ｂに到達できるように、ドリップマニホルド１３ａは、マニホルド角
φ４２だけ僅かに下方に傾けられている。マニホルド角４２は、ドリップマニホ
ルド１３ａの最適な角度を見出すことによって決定される。最適な角度では、近
端３１ａおよび遠端３１ｂの双方で等量の液滴が生成される。マニホルド角４２
は、ｙ軸４０ａおよびｘ軸４０ｂに関連して測定される。ドリップマニホルド１
３ａが、トップブラシ３０ａ上に遠端の液滴３２ａおよび近端の液滴３２ｂを吐
出すると、ブラシ３０が回転してウエハ１２をスクラブ洗浄する。
【０００７】
しかしながら、ドリップマニホルド１３ａを校正して正確な量の液体フローを
生成するプロセスは、非常に時間が掛かり困難である。推量と試行錯誤とによっ
て種々のマニホルド角φ４２を試し、洗浄液の最適な流速を見出さなければなら
ない。最適な流速が見出された後でも、洗浄装置を別の位置に移動させる毎に、
ドリップマニホルドを再校正する必要が生じる。これは、位置毎に（同室内の場
所毎に）、床の角度が異なっているためである。したがって、洗浄装置を頻繁に
移動させる場合には、定期的な再校正が必要となり、大きな時間のロスが生じ、
ウエハ洗浄のスループットが減少する。また、ドリップマニホルドの些細な動き
でマニホルド角φ４２が変化し得るため、洗浄装置の衝突または刺激によってド
リップマニホルドが動くと、マニホルド角φ４２の維持に更なる問題が生じる。
したがって、従来技術のドリップマニホルド１３ａは、望ましいまたは実用的な
回数よりも遥かに頻繁に再校正される。
生成するプロセスは、非常に時間が掛かり困難である。推量と試行錯誤とによっ
て種々のマニホルド角φ４２を試し、洗浄液の最適な流速を見出さなければなら
ない。最適な流速が見出された後でも、洗浄装置を別の位置に移動させる毎に、
ドリップマニホルドを再校正する必要が生じる。これは、位置毎に（同室内の場
所毎に）、床の角度が異なっているためである。したがって、洗浄装置を頻繁に
移動させる場合には、定期的な再校正が必要となり、大きな時間のロスが生じ、
ウエハ洗浄のスループットが減少する。また、ドリップマニホルドの些細な動き
でマニホルド角φ４２が変化し得るため、洗浄装置の衝突または刺激によってド
リップマニホルドが動くと、マニホルド角φ４２の維持に更なる問題が生じる。
したがって、従来技術のドリップマニホルド１３ａは、望ましいまたは実用的な
回数よりも遥かに頻繁に再校正される。
【０００８】
図１Ｅは、不均一な液滴３２をドリップ穴１３ｂから吐出するドリップマニホ
ルド１３ａをより詳細に示す断面図である。ドリップ穴１３ｂは、通常、ドリッ
プマニホルド１３ａに穴を開けることによって形成される。しかしながら、穴開
けプロセスは、ドリップ穴１３ｂの中および周りに穴の削り屑１３ｃを残すこと
が知られている。これらの削り屑は、微粒子としてウエハに導びかれ、回路の損
傷や、流体の流れの遅延の原因となり、この結果、ドリップマニホルド１３ａに
沿って噴射される流体を不均一にする。穴の削り屑１３ｃおよび不均一な流体吐
出を補償するために、流体は、通常、高圧および高流速でドリップマニホルド１
３ａに送出される。これによって、ドリップマニホルド１３ａに沿ったすべての
ドリップ穴１３ｂからの流体の分配が改善されると考えられている。しかしなが
ら、この高圧の送出および流れは、結果として、高圧ジェット３２’を生じさせ
る傾向がある。
ルド１３ａをより詳細に示す断面図である。ドリップ穴１３ｂは、通常、ドリッ
プマニホルド１３ａに穴を開けることによって形成される。しかしながら、穴開
けプロセスは、ドリップ穴１３ｂの中および周りに穴の削り屑１３ｃを残すこと
が知られている。これらの削り屑は、微粒子としてウエハに導びかれ、回路の損
傷や、流体の流れの遅延の原因となり、この結果、ドリップマニホルド１３ａに
沿って噴射される流体を不均一にする。穴の削り屑１３ｃおよび不均一な流体吐
出を補償するために、流体は、通常、高圧および高流速でドリップマニホルド１
３ａに送出される。これによって、ドリップマニホルド１３ａに沿ったすべての
ドリップ穴１３ｂからの流体の分配が改善されると考えられている。しかしなが
ら、この高圧の送出および流れは、結果として、高圧ジェット３２’を生じさせ
る傾向がある。
【０００９】
ドリップ穴１３ｂからの流体の分配は改善されるが、高圧ジェット３２’は、
ブラシ３２ａの繊細な表面を損傷させる。比較的少数回の洗浄工程の後に、ブラ
シ３２ａが切断されたり擦り減ったりする場合もある。流体送出の流れおよび圧
力を単に増大させる解決法を採用すると、不均一な流体送出を超える問題が起こ
る。
ブラシ３２ａの繊細な表面を損傷させる。比較的少数回の洗浄工程の後に、ブラ
シ３２ａが切断されたり擦り減ったりする場合もある。流体送出の流れおよび圧
力を単に増大させる解決法を採用すると、不均一な流体送出を超える問題が起こ
る。
【００１０】
現行のドリップマニホルド１３ａに固有なこれらの問題に対処するために、ド
リップ制御部１３の一部として圧力調整器、圧力計、流量計などのデバイスが使
用されているが、過剰な噴射を阻止する試みとしては、大きな失敗であった。し
かしながら、適切と思われるドリップ制御を実行しても、流体圧力に予期せぬ変
動が生じ、結果として、トップブラシ３０ａおよび／またはウエハ１２を損傷さ
せる高圧ジェット３２’を生じさせる。
リップ制御部１３の一部として圧力調整器、圧力計、流量計などのデバイスが使
用されているが、過剰な噴射を阻止する試みとしては、大きな失敗であった。し
かしながら、適切と思われるドリップ制御を実行しても、流体圧力に予期せぬ変
動が生じ、結果として、トップブラシ３０ａおよび／またはウエハ１２を損傷さ
せる高圧ジェット３２’を生じさせる。
【００１１】
上記のドリップマニホルドの使用は、かなり非効率的であることがわかる。こ
のようなドリップマニホルドは、セットアップに時間が掛かり、ドリップマニホ
ルドを最適なマニホルド角φ４２に維持するために多大な時間を必要とするとい
う不利な面を有している。また、流体圧力の変動による流量変化の影響、および
、穴の削り屑１３ｃに起因するブラシおよびウエハの損傷の可能性があるため、
流体供給を注意深く監視する必要がある。すなわち、従来技術のドリップ機構を
用いると、ウエハ洗浄のスループットの低下、および／または、ブラシおよびウ
エハの損傷が生じ得る。
のようなドリップマニホルドは、セットアップに時間が掛かり、ドリップマニホ
ルドを最適なマニホルド角φ４２に維持するために多大な時間を必要とするとい
う不利な面を有している。また、流体圧力の変動による流量変化の影響、および
、穴の削り屑１３ｃに起因するブラシおよびウエハの損傷の可能性があるため、
流体供給を注意深く監視する必要がある。すなわち、従来技術のドリップ機構を
用いると、ウエハ洗浄のスループットの低下、および／または、ブラシおよびウ
エハの損傷が生じ得る。
【００１２】
以上から分かるように、洗浄液の滴下を改善することによって、および、ウエ
ハ洗浄の効率およびアウトプットを高めることによって、従来技術の問題を解消
することができるドリップマニホルドが必要とされている。
ハ洗浄の効率およびアウトプットを高めることによって、従来技術の問題を解消
することができるドリップマニホルドが必要とされている。
【００１３】
本発明は、ウエハ洗浄システムのブラシに均一に化学剤を送出する改良方法を
提供することによって、上記のニーズを満たすものである。なお、本発明は、プ
ロセス、装置、システム、デバイス、方法を含む種々の態様で実現可能である。
以下では、本発明の実施形態をいくつか取り上げて説明する。
提供することによって、上記のニーズを満たすものである。なお、本発明は、プ
ロセス、装置、システム、デバイス、方法を含む種々の態様で実現可能である。
以下では、本発明の実施形態をいくつか取り上げて説明する。
【００１４】
一実施形態では、ウエハ洗浄工程で使用されるドリップマニホルドが開示され
る。ドリップマニホルドは、ドリップマニホルドに固定された複数のドリップノ
ズルを有している。複数のドリップノズルのそれぞれは、第１端と第２端との間
に規定された通路を有している。サファイアオリフィスは、通路内に規定されて
おり、ドリップノズルの第１端に設けられている。サファイアオリフィスは、通
路内に入る流体ストリームを生成するために傾斜しており、流体ストリームは、
ブラシの上方に１以上の均一な液滴を形成するように第２端に向かって反射され
る。
る。ドリップマニホルドは、ドリップマニホルドに固定された複数のドリップノ
ズルを有している。複数のドリップノズルのそれぞれは、第１端と第２端との間
に規定された通路を有している。サファイアオリフィスは、通路内に規定されて
おり、ドリップノズルの第１端に設けられている。サファイアオリフィスは、通
路内に入る流体ストリームを生成するために傾斜しており、流体ストリームは、
ブラシの上方に１以上の均一な液滴を形成するように第２端に向かって反射され
る。
【００１５】
別の実施形態では、ウエハ洗浄工程で使用されるドリップマニホルドが開示さ
れる。第１のブラシと第２のブラシとを有する洗浄ステーションが準備される。
ドリップマニホルドは、第１のブラシの長さ全体に延びている。ドリップマニホ
ルドには、複数のドリップノズルが固定されている。複数のドリップノズルのそ
れぞれは、互いに間隔を空けて設けられており、ドリップマニホルドの長さ全体
に渡って分配されている。各ドリップノズルは、第１端と第２端との間に規定さ
れた通路を有している。サファイアオリフィスは、通路内に規定されており、ド
リップノズルの第１端に設けられている。サファイアオリフィスは、通路内に入
る流体ストリームを生成するために傾斜しており、流体ストリームは、第１のブ
ラシの上方に１以上の均一な液滴を形成するように第２端に向かって反射される
。
れる。第１のブラシと第２のブラシとを有する洗浄ステーションが準備される。
ドリップマニホルドは、第１のブラシの長さ全体に延びている。ドリップマニホ
ルドには、複数のドリップノズルが固定されている。複数のドリップノズルのそ
れぞれは、互いに間隔を空けて設けられており、ドリップマニホルドの長さ全体
に渡って分配されている。各ドリップノズルは、第１端と第２端との間に規定さ
れた通路を有している。サファイアオリフィスは、通路内に規定されており、ド
リップノズルの第１端に設けられている。サファイアオリフィスは、通路内に入
る流体ストリームを生成するために傾斜しており、流体ストリームは、第１のブ
ラシの上方に１以上の均一な液滴を形成するように第２端に向かって反射される
。
【００１６】
さらに別の実施形態では、ウエハ洗浄工程で使用されるドリップノズルを作成
する方法が開示される。方法は、第１端と第２端とを有する管状部分を生成する
工程を含む。方法は、さらに、第１端と第２端との間に通路を規定する工程と、
管状部分の通路の第１端にサファイアオリフィスを挿入する工程を含む。ドリッ
プノズルを作成する方法は、また、サファイアオリフィスを特定の角度で傾斜し
た状態で通路内に挿入し、その角度を、流体フローが第１端からサファイアオリ
フィスを介して管状部分の通路に導入され、１以上の均一な液滴として第２端か
ら出るように、構成する工程を含む。
する方法が開示される。方法は、第１端と第２端とを有する管状部分を生成する
工程を含む。方法は、さらに、第１端と第２端との間に通路を規定する工程と、
管状部分の通路の第１端にサファイアオリフィスを挿入する工程を含む。ドリッ
プノズルを作成する方法は、また、サファイアオリフィスを特定の角度で傾斜し
た状態で通路内に挿入し、その角度を、流体フローが第１端からサファイアオリ
フィスを介して管状部分の通路に導入され、１以上の均一な液滴として第２端か
ら出るように、構成する工程を含む。
【００１７】
本発明によって種々の効果が得られる。代表的には、均一な液滴を安定して滴
下させるドリップマニホルドを設計することによって、ウエハ洗浄の効率および
スループットを改善できる。特許請求の範囲に記載された発明は、ブラシおよび
／またはウエハの損傷などの問題を誘起する洗浄化学剤の流量の変動を排除でき
る。
下させるドリップマニホルドを設計することによって、ウエハ洗浄の効率および
スループットを改善できる。特許請求の範囲に記載された発明は、ブラシおよび
／またはウエハの損傷などの問題を誘起する洗浄化学剤の流量の変動を排除でき
る。
【００１８】
本発明のドリップマニホルドは、洗浄液を適切に供給できるように、特定のマ
ニホルド角で配置する必要がない。この提案によって、最適なマニホルド角を取
得および維持するために、ドリップマニホルドシステムの再校正を行う必要性が
排除される。この特徴は、ドリップマニホルドの維持に費やされる時間を減らし
、ウエハ洗浄のスループットを高めることを可能にする。さらに、このドリップ
マニホルドは、流体圧力の小さな変化で生じる滴下洗浄液の変動を排除する。さ
らに、ドリップノズルの設計に起因して、穴の削り屑によって通常生じる流量の
変化も排除される。したがって、ドリップマニホルドは、ウエハ洗浄プロセスに
おいて好ましいタイプの滴下を容易に生成および維持できる新しいドリップシス
テムを可能にする。
ニホルド角で配置する必要がない。この提案によって、最適なマニホルド角を取
得および維持するために、ドリップマニホルドシステムの再校正を行う必要性が
排除される。この特徴は、ドリップマニホルドの維持に費やされる時間を減らし
、ウエハ洗浄のスループットを高めることを可能にする。さらに、このドリップ
マニホルドは、流体圧力の小さな変化で生じる滴下洗浄液の変動を排除する。さ
らに、ドリップノズルの設計に起因して、穴の削り屑によって通常生じる流量の
変化も排除される。したがって、ドリップマニホルドは、ウエハ洗浄プロセスに
おいて好ましいタイプの滴下を容易に生成および維持できる新しいドリップシス
テムを可能にする。
【００１９】
本発明の原理を例示す添付図面と関連付けながら行う以下の詳細な説明によっ
て、本発明のその他の態様および利点がより明らかになる。
て、本発明のその他の態様および利点がより明らかになる。
【００２０】
本発明による方法およびシステムは、ウエハ洗浄システムのブラシ上に均一に
化学剤を送出するための改良された方法を提供する。以下の説明では、本発明の
完全な理解のために、多くの特定項目が説明されている。しかしながら、当業者
には明らかなように、本発明は、これらの特定項目の一部またはすべてを省略し
ても実施可能である。また、本発明が不必要に不明瞭となるのを避けるため、周
知のプロセスの説明は省略されている。
化学剤を送出するための改良された方法を提供する。以下の説明では、本発明の
完全な理解のために、多くの特定項目が説明されている。しかしながら、当業者
には明らかなように、本発明は、これらの特定項目の一部またはすべてを省略し
ても実施可能である。また、本発明が不必要に不明瞭となるのを避けるため、周
知のプロセスの説明は省略されている。
【００２１】
図２Ａおよび図２Ｂは、洗浄システム１２０の側面と上面とをそれぞれ示す図
である。洗浄システム１２０は、通常、入力ステーション１００を備えている。
入力ステーション１００には、システムを通り抜ける洗浄のために複数のウエハ
が挿入される。ウエハ１２が入力ステーション１００の中に挿入されると、ウエ
ハ１２は入力ステーション１００から取り出され、第１のブラシステーション１
０２ａ内に搬送される。ここでは、選択された化学剤および水（例えば脱イオン
水）を用いてスクラブ洗浄される。この後、ウエハ１２は、第２のブラシステー
ション１０２ｂに搬送される。２つのブラシステーションには、本発明によるド
リップノズルを含むドリップマニホルドが収容されている。以下では、ドリップ
マニホルドおよびドリップノズルの特徴に関して詳細に説明する。
である。洗浄システム１２０は、通常、入力ステーション１００を備えている。
入力ステーション１００には、システムを通り抜ける洗浄のために複数のウエハ
が挿入される。ウエハ１２が入力ステーション１００の中に挿入されると、ウエ
ハ１２は入力ステーション１００から取り出され、第１のブラシステーション１
０２ａ内に搬送される。ここでは、選択された化学剤および水（例えば脱イオン
水）を用いてスクラブ洗浄される。この後、ウエハ１２は、第２のブラシステー
ション１０２ｂに搬送される。２つのブラシステーションには、本発明によるド
リップノズルを含むドリップマニホルドが収容されている。以下では、ドリップ
マニホルドおよびドリップノズルの特徴に関して詳細に説明する。
【００２２】
ウエハ１２は、２つのブラシステーション１０２内でスクラブ洗浄された後、
スピン・リンス・ドライ（ＳＲＤ）ステーション１０４に搬送される。ここでは
、ウエハの表面に脱イオン水が噴射され、回転乾燥される。ＳＲＤステーション
１０４を経たウエハは、出力ステーション１０６に搬送される。洗浄システム１
２０は、システムエレクトロニクス１０８によってプログラムされ、制御される
ように構成されている。もちろん、この洗浄システムは、単なる例示であり、本
発明は、ドリップマニホルドに結合されたブラシ技術を利用するあらゆるタイプ
の洗浄システムに適用可能である。例えば、システムは、ウエハを水平方向また
は垂直方向にスクラブ洗浄するための独立型のブラシステーションであってもよ
いし、あるいは、化学機械研磨（ＣＭＰ）システムと洗浄システムとを組み合わ
せたものの一部であってもよい。
スピン・リンス・ドライ（ＳＲＤ）ステーション１０４に搬送される。ここでは
、ウエハの表面に脱イオン水が噴射され、回転乾燥される。ＳＲＤステーション
１０４を経たウエハは、出力ステーション１０６に搬送される。洗浄システム１
２０は、システムエレクトロニクス１０８によってプログラムされ、制御される
ように構成されている。もちろん、この洗浄システムは、単なる例示であり、本
発明は、ドリップマニホルドに結合されたブラシ技術を利用するあらゆるタイプ
の洗浄システムに適用可能である。例えば、システムは、ウエハを水平方向また
は垂直方向にスクラブ洗浄するための独立型のブラシステーションであってもよ
いし、あるいは、化学機械研磨（ＣＭＰ）システムと洗浄システムとを組み合わ
せたものの一部であってもよい。
【００２３】
図３Ａは、本発明の一実施形態に従ったドリップノズル２００の断面図である
。ドリップノズル２００は、より均一な液滴をより安定に滴下させるように構成
されている。
。ドリップノズル２００は、より均一な液滴をより安定に滴下させるように構成
されている。
【００２４】
一実施形態において、ドリップノズル２００は、第１端２０１ａと第２端２０
１ｂとを有している。ドリップノズル２００は、ノズルヘッド２００ｃに接続さ
れた管状部分２０１ｃを有している。ドリップノズル２００は、流体が通る通路
を第１端２０１ａと第２端２０１ｂとの間に含んでいる。通路２０５は、一般に
、内面２００’を有する円柱形状で規定される。一実施形態において、ドリップ
ノズル２００の第１端２０１ａは、傾斜した壁２００ａを有していることが好ま
しい。なお、傾斜壁２００ａの傾斜角は、流体フローの要求または他の校正パラ
メータに応じて変更可能である。また、ドリップノズル２００は、ノズル外壁２
００ｂを有している。ドリップノズル２００を（以下で示すように）ドリップマ
ニホルドに固定するために、ノズル外壁は、ネジ山（図示せず）を有しているこ
とが好ましい。
１ｂとを有している。ドリップノズル２００は、ノズルヘッド２００ｃに接続さ
れた管状部分２０１ｃを有している。ドリップノズル２００は、流体が通る通路
を第１端２０１ａと第２端２０１ｂとの間に含んでいる。通路２０５は、一般に
、内面２００’を有する円柱形状で規定される。一実施形態において、ドリップ
ノズル２００の第１端２０１ａは、傾斜した壁２００ａを有していることが好ま
しい。なお、傾斜壁２００ａの傾斜角は、流体フローの要求または他の校正パラ
メータに応じて変更可能である。また、ドリップノズル２００は、ノズル外壁２
００ｂを有している。ドリップノズル２００を（以下で示すように）ドリップマ
ニホルドに固定するために、ノズル外壁は、ネジ山（図示せず）を有しているこ
とが好ましい。
【００２５】
一実施形態では、サファイアオリフィス２０２は、第１端２０１ａにおいて、
傾斜壁２００ａに挿入されることが好ましい。別の実施形態では、サファイアオ
リフィスは、充分に硬く、かつ、洗浄溶液に適合する任意の適切な材料で作成さ
れる。このため、サファイアオリフィスは、挿入オリフィスを規定する任意の材
料で作成可能である。通路２００”は、傾斜壁２００ａで傾斜しているため、サ
ファイアオリフィス２０２も通路２００”に適合するように傾斜している。した
がって、サファイアオリフィス２０２は、通路２０５内で傾斜通路を規定するオ
リフィス内面２０２’を含む。この傾斜通路は、ドリップノズル内面２００’の
ストリーム接触面２０６に向かう傾斜した流体ストリームを形成するのに役立つ
。
傾斜壁２００ａに挿入されることが好ましい。別の実施形態では、サファイアオ
リフィスは、充分に硬く、かつ、洗浄溶液に適合する任意の適切な材料で作成さ
れる。このため、サファイアオリフィスは、挿入オリフィスを規定する任意の材
料で作成可能である。通路２００”は、傾斜壁２００ａで傾斜しているため、サ
ファイアオリフィス２０２も通路２００”に適合するように傾斜している。した
がって、サファイアオリフィス２０２は、通路２０５内で傾斜通路を規定するオ
リフィス内面２０２’を含む。この傾斜通路は、ドリップノズル内面２００’の
ストリーム接触面２０６に向かう傾斜した流体ストリームを形成するのに役立つ
。
【００２６】
代表的な実施形態では、サファイアが使用されているが、種々の洗浄液に適合
する材料などの他の材料を使用してもよい。洗浄液は、塩基性溶液や、酸性溶液
（例えばＨＦ）、他の流体を含んでいてもよい。サファイア材料は、厳しい許容
誤差で規定される通路（例えば穴）とともに規定され得る。形成された通路は、
非常に滑らかで遮るもののない表面（例えば平滑面）を有する。さらに、当業者
に分かるように、サファイアオリフィス２０２は、ドリップノズルの内面２００
’に向けられた流体の傾斜ストリームが最終的に生成される限り、異なる配置も
可能である。
する材料などの他の材料を使用してもよい。洗浄液は、塩基性溶液や、酸性溶液
（例えばＨＦ）、他の流体を含んでいてもよい。サファイア材料は、厳しい許容
誤差で規定される通路（例えば穴）とともに規定され得る。形成された通路は、
非常に滑らかで遮るもののない表面（例えば平滑面）を有する。さらに、当業者
に分かるように、サファイアオリフィス２０２は、ドリップノズルの内面２００
’に向けられた流体の傾斜ストリームが最終的に生成される限り、異なる配置も
可能である。
【００２７】
オリフィス入力流体２０４’は、まず、ドリップノズル２００に入り、サファ
イアオリフィス２０２内を進む。サファイアオリフィス２０２から出てドリップ
ノズル２００の内側通路２０５に入った傾斜ストリームは、広がり始める。傾斜
ストリームは、ストリーム境界２０６ａとストリーム境界２０６ｂとによって規
定されている。そして、この初期ストリームは、ドリップノズル内面２００’の
一部であるストリーム接触面２０６に衝突する。初期ストリームは特定の角度で
ストリーム接触面２０６に衝突するため、初期ストリームは、ストリーム接触面
２０６で反射し、ドリップノズル２００の第２端２０１ｂに向けて傾斜する。こ
の反射によって、初期ストリームは失速して広がり、スプレー境界２０８ａとス
プレー境界２０８ｂとを有する第１の反射スプレーを形成する。この広がりによ
って、境界２０８ａ，２０８ｂを有する第１の反射スプレーの一部は、境界２０
６ａ，２０６ｂを有する入射初期ストリームの一部と接触する。この接触は、初
期ストリームと第１の反射スプレーとの双方を減速させるのに役立つ。
イアオリフィス２０２内を進む。サファイアオリフィス２０２から出てドリップ
ノズル２００の内側通路２０５に入った傾斜ストリームは、広がり始める。傾斜
ストリームは、ストリーム境界２０６ａとストリーム境界２０６ｂとによって規
定されている。そして、この初期ストリームは、ドリップノズル内面２００’の
一部であるストリーム接触面２０６に衝突する。初期ストリームは特定の角度で
ストリーム接触面２０６に衝突するため、初期ストリームは、ストリーム接触面
２０６で反射し、ドリップノズル２００の第２端２０１ｂに向けて傾斜する。こ
の反射によって、初期ストリームは失速して広がり、スプレー境界２０８ａとス
プレー境界２０８ｂとを有する第１の反射スプレーを形成する。この広がりによ
って、境界２０８ａ，２０８ｂを有する第１の反射スプレーの一部は、境界２０
６ａ，２０６ｂを有する入射初期ストリームの一部と接触する。この接触は、初
期ストリームと第１の反射スプレーとの双方を減速させるのに役立つ。
【００２８】
次に、第１の反射スプレーは、スプレー接触面２０８に衝突する。このとき、
第１の反射スプレーは既に広がっているため、スプレー接触面２０８はスプレー
接触面２０６よりも大きな面積を有する。この接触によって、第１の反射スプレ
ーは、ドリップノズル２００の第２端２０１ｂに向けて再び反射される。この反
射によって、第１の反射スプレーは失速し、より低速の第２の反射スプレーが生
成される。この失速は、スプレー境界をさらに広げ、スプレー境界２１０ａおよ
びスプレー境界２１０ｂを形成する。第２の反射スプレーが広がると、入射する
第１の反射スプレーと接触する。この接触は、第１の反射スプレーと第２の反射
スプレーとの双方をさらに減速させる。
第１の反射スプレーは既に広がっているため、スプレー接触面２０８はスプレー
接触面２０６よりも大きな面積を有する。この接触によって、第１の反射スプレ
ーは、ドリップノズル２００の第２端２０１ｂに向けて再び反射される。この反
射によって、第１の反射スプレーは失速し、より低速の第２の反射スプレーが生
成される。この失速は、スプレー境界をさらに広げ、スプレー境界２１０ａおよ
びスプレー境界２１０ｂを形成する。第２の反射スプレーが広がると、入射する
第１の反射スプレーと接触する。この接触は、第１の反射スプレーと第２の反射
スプレーとの双方をさらに減速させる。
【００２９】
次に、第２の反射スプレーは、スプレー接触面２１０と接触する。繰り返すが
、スプレーは進行中に広がるため、スプレー接触面２１０はスプレー接触面２０
８よりも大きい。この接触によって、スプレーは、ドリップノズル２００の第２
端２０１ｂに向けて特定の角度で再び反射され、第３の反射スプレーが生成され
る。この反射によって、スプレーは再び減速し、さらに広がる。この広がりは、
スプレー境界２１２ａおよびスプレー境界２１２ｂを形成する。さらに、このス
プレーの広がりによって、第３の反射スプレーは、入射する第２の反射スプレー
と接触する。この接触によって、第２の反射スプレーと第３の反射スプレーとの
双方が減速する。
、スプレーは進行中に広がるため、スプレー接触面２１０はスプレー接触面２０
８よりも大きい。この接触によって、スプレーは、ドリップノズル２００の第２
端２０１ｂに向けて特定の角度で再び反射され、第３の反射スプレーが生成され
る。この反射によって、スプレーは再び減速し、さらに広がる。この広がりは、
スプレー境界２１２ａおよびスプレー境界２１２ｂを形成する。さらに、このス
プレーの広がりによって、第３の反射スプレーは、入射する第２の反射スプレー
と接触する。この接触によって、第２の反射スプレーと第３の反射スプレーとの
双方が減速する。
【００３０】
各スプレー反射は流体を減速させる。これらのスプレー反射は、第２端２０１
ｂのノズルヘッド２００ｃの周辺部に流体が到達するまで続く。このとき、流体
は大幅に減速されている。この減速は、ドリップノズル２００の第２端２０１ｂ
に向かって液体を蓄積させ、第１端２０１ａの方向への逆向きの力２０７を生じ
させる。逆向きの力２０７の発生は、ドリップノズル２００の通路２０５を進行
する流体をさらに減速させるのに役立つ。この結果、ノズルヘッド２００ｃの開
口部で均一な液滴がゆっくりと形成され、制御された安定した均一な滴下動作が
実現される。
ｂのノズルヘッド２００ｃの周辺部に流体が到達するまで続く。このとき、流体
は大幅に減速されている。この減速は、ドリップノズル２００の第２端２０１ｂ
に向かって液体を蓄積させ、第１端２０１ａの方向への逆向きの力２０７を生じ
させる。逆向きの力２０７の発生は、ドリップノズル２００の通路２０５を進行
する流体をさらに減速させるのに役立つ。この結果、ノズルヘッド２００ｃの開
口部で均一な液滴がゆっくりと形成され、制御された安定した均一な滴下動作が
実現される。
【００３１】
この例において、ドリップノズルヘッド２００ｃは、ノズル外壁２００ｂより
も大きな外周を有するように構成されている。また、ノズルヘッド２００ｃは、
ドリップノズル２００の表面２００ｃ’で制御され、均一な液滴の生成がさらに
支援されることが好ましい。例えば、直径Ｄ２６３は、均一な液滴がノズルヘッ
ド２００ｃに付着する面積を規定することによって、均一な液滴の形成に寄与し
ている。均一な液滴は、その質量によって表面２００ｃ’から分離されるまで大
きくなる。また、角度θ２６５は、流体がノズルを上向きに移動するのを阻止す
ることによって、均一な液滴の形成に寄与している。なお、ドリップノズルは、
同様の液滴を生成するために種々の形状およびサイズで構成可能である。さらに
、ドリップノズル２００は、ドリップノズルヘッド２００ｃを伴わずに作成可能
である。ドリップノズル２００の実際の形状は、主として、流体の粘性と、滴下
速度と、ノズルが装着される環境と、に依存する。また、ドリップノズル２００
は、テフロン（登録商標）やポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの流体
化学剤に適合する材料で作成されることが好ましい。ＰＥＴ材料は、純度が高く
、比較的加工が容易であるものとして知られている。一実施形態では、ドリップ
ノズル２００の長さＬ２６０は、約０．０２インチから約１インチまでの範囲で
変更可能であり、約０．４３７インチの長さが好ましい。寸法は、一般に、ドリ
ップノズル内面２００’で１回以上のスプレー反射が実現される任意の長さに変
更可能である。これは、より均一な液滴の形成を保証するものである。この実施
形態では、ドリップノズル２００の通路の直径Ｄ２６２は、約０．０２インチか
ら約０．１インチまでの範囲に設定でき、さらに好ましくは約０．０６２インチ
である。もちろん、この寸法は、粘性および所望の流体フローに依存して変更可
能である。さらに、サファイアオリフィスは、オリフィス内面２００”に挿入さ
れたときに、傾斜していることが好ましい。この角度は、広い範囲で変更可能で
ある。例えば、角度θ２６４は約１５度から約７５度までの範囲に設定でき、約
４５度に設定されるのが好ましい。一般に、ドリップノズル内面２００’で１回
以上のスプレー反射が生じるためには、いくらかの傾斜が必要である。
も大きな外周を有するように構成されている。また、ノズルヘッド２００ｃは、
ドリップノズル２００の表面２００ｃ’で制御され、均一な液滴の生成がさらに
支援されることが好ましい。例えば、直径Ｄ２６３は、均一な液滴がノズルヘッ
ド２００ｃに付着する面積を規定することによって、均一な液滴の形成に寄与し
ている。均一な液滴は、その質量によって表面２００ｃ’から分離されるまで大
きくなる。また、角度θ２６５は、流体がノズルを上向きに移動するのを阻止す
ることによって、均一な液滴の形成に寄与している。なお、ドリップノズルは、
同様の液滴を生成するために種々の形状およびサイズで構成可能である。さらに
、ドリップノズル２００は、ドリップノズルヘッド２００ｃを伴わずに作成可能
である。ドリップノズル２００の実際の形状は、主として、流体の粘性と、滴下
速度と、ノズルが装着される環境と、に依存する。また、ドリップノズル２００
は、テフロン（登録商標）やポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの流体
化学剤に適合する材料で作成されることが好ましい。ＰＥＴ材料は、純度が高く
、比較的加工が容易であるものとして知られている。一実施形態では、ドリップ
ノズル２００の長さＬ２６０は、約０．０２インチから約１インチまでの範囲で
変更可能であり、約０．４３７インチの長さが好ましい。寸法は、一般に、ドリ
ップノズル内面２００’で１回以上のスプレー反射が実現される任意の長さに変
更可能である。これは、より均一な液滴の形成を保証するものである。この実施
形態では、ドリップノズル２００の通路の直径Ｄ２６２は、約０．０２インチか
ら約０．１インチまでの範囲に設定でき、さらに好ましくは約０．０６２インチ
である。もちろん、この寸法は、粘性および所望の流体フローに依存して変更可
能である。さらに、サファイアオリフィスは、オリフィス内面２００”に挿入さ
れたときに、傾斜していることが好ましい。この角度は、広い範囲で変更可能で
ある。例えば、角度θ２６４は約１５度から約７５度までの範囲に設定でき、約
４５度に設定されるのが好ましい。一般に、ドリップノズル内面２００’で１回
以上のスプレー反射が生じるためには、いくらかの傾斜が必要である。
【００３２】
図３Ｂは、本発明の別の実施形態に従ったドリップマニホルド２２０の断面図
である。この実施形態において、ドリップマニホルド２２０は、マニホルド内面
２２０ａとマニホルド外面２２０ｂとを有している。ドリップノズル２００は、
ネジ山２００ｄによってドリップマニホルド２２０に固定されている。ドリップ
ノズル２００は、ドリップノズル２００をドリップマニホルド２２０に圧入する
などの他の種々の方法でドリップマニホルド２２０に固定されていてもよい。一
実施形態では、ドリップノズル２００は、第１端２０１ａがドリップマニホルド
２２０の内側領域２０３に突出するように配置されていることが好ましい。ドリ
ップマニホルドの内部は、約０．２５０インチから約１．００インチまでの範囲
内の任意の適切な直径を有することができ、好ましくは約０．３７５インチであ
る。ドリップノズル２００を内側領域２０３内に到達させることによって、オリ
フィス表面２０２’によって規定される穴が、削り屑２２０ｃ（穴開けによって
生じる）で詰まるのを抑制できる。ドリップマニホルド２２０の内側領域２０３
は、マニホルド内面２２０ａによって規定される円柱形状であることが好ましい
。洗浄液がドリップマニホルド２２０内にポンプで供給されると、内側領域２０
３はマニホルド流体２０４で満たされる。マニホルド流体２０４の一部は、オリ
フィス入力流体２０４’として、サファイアオリフィス２０２に入る。そして、
オリフィス入力流体２０４’は、図３Ａで説明した多数回の反射を経て、均一な
液滴２０４ａが、ノズルヘッド２００ｃから放出される。もちろん、実際のドリ
ップマニホルドには、後述するように、複数のドリップノズル２００が設けられ
ている。
である。この実施形態において、ドリップマニホルド２２０は、マニホルド内面
２２０ａとマニホルド外面２２０ｂとを有している。ドリップノズル２００は、
ネジ山２００ｄによってドリップマニホルド２２０に固定されている。ドリップ
ノズル２００は、ドリップノズル２００をドリップマニホルド２２０に圧入する
などの他の種々の方法でドリップマニホルド２２０に固定されていてもよい。一
実施形態では、ドリップノズル２００は、第１端２０１ａがドリップマニホルド
２２０の内側領域２０３に突出するように配置されていることが好ましい。ドリ
ップマニホルドの内部は、約０．２５０インチから約１．００インチまでの範囲
内の任意の適切な直径を有することができ、好ましくは約０．３７５インチであ
る。ドリップノズル２００を内側領域２０３内に到達させることによって、オリ
フィス表面２０２’によって規定される穴が、削り屑２２０ｃ（穴開けによって
生じる）で詰まるのを抑制できる。ドリップマニホルド２２０の内側領域２０３
は、マニホルド内面２２０ａによって規定される円柱形状であることが好ましい
。洗浄液がドリップマニホルド２２０内にポンプで供給されると、内側領域２０
３はマニホルド流体２０４で満たされる。マニホルド流体２０４の一部は、オリ
フィス入力流体２０４’として、サファイアオリフィス２０２に入る。そして、
オリフィス入力流体２０４’は、図３Ａで説明した多数回の反射を経て、均一な
液滴２０４ａが、ノズルヘッド２００ｃから放出される。もちろん、実際のドリ
ップマニホルドには、後述するように、複数のドリップノズル２００が設けられ
ている。
【００３３】
図３Ｃは、サファイアオリフィス２０２の分解図である。この実施形態では、
サファイアオリフィス２０２は、一般に円柱形状として規定されるオリフィス内
面２０２’を含んでいる。サファイアオリフィス２０２の一端において、内面２
０２’は外側に向かって傾斜しており、傾斜面２０２”を規定する。傾斜面２０
２”は、ドリップノズル２００の通路２０５に流体を供給するように構成されて
いる。したがって、作動時において、オリフィス入力流体２０４’はサファイア
オリフィス２０２に入り、ストリーム境界２０６ａ，２０６ｂによって規定され
る状態で一方の側から出る。一実施形態では、サファイアオリフィス２０２の外
径Ｄ２６６は、約０．０８７インチであることが好ましい。なお、オリフィス内
面２０２’の直径は、必要に応じて種々の流速を生じさせるように、変更可能で
ある。オリフィス内面２０２’の寸法は、所望の許容誤差で厳密に制御されるた
め、特定のサイズを有するサファイアオリフィス２０２の大部分は、ほぼ同じで
ある。好ましい一実施形態において、オリフィス内面２０２’は、約０．０１０
の直径を有している。サファイアオリフィス２０２の長さＬ２６８は、この例で
は約０．０４７インチである。もちろん、長さＬ２６８は、所望の滴下特性に依
存して変更可能である。図３Ｄは、代替のオリフィス２０２”を示す図である。
サファイアオリフィス２０２は、一般に円柱形状として規定されるオリフィス内
面２０２’を含んでいる。サファイアオリフィス２０２の一端において、内面２
０２’は外側に向かって傾斜しており、傾斜面２０２”を規定する。傾斜面２０
２”は、ドリップノズル２００の通路２０５に流体を供給するように構成されて
いる。したがって、作動時において、オリフィス入力流体２０４’はサファイア
オリフィス２０２に入り、ストリーム境界２０６ａ，２０６ｂによって規定され
る状態で一方の側から出る。一実施形態では、サファイアオリフィス２０２の外
径Ｄ２６６は、約０．０８７インチであることが好ましい。なお、オリフィス内
面２０２’の直径は、必要に応じて種々の流速を生じさせるように、変更可能で
ある。オリフィス内面２０２’の寸法は、所望の許容誤差で厳密に制御されるた
め、特定のサイズを有するサファイアオリフィス２０２の大部分は、ほぼ同じで
ある。好ましい一実施形態において、オリフィス内面２０２’は、約０．０１０
の直径を有している。サファイアオリフィス２０２の長さＬ２６８は、この例で
は約０．０４７インチである。もちろん、長さＬ２６８は、所望の滴下特性に依
存して変更可能である。図３Ｄは、代替のオリフィス２０２”を示す図である。
【００３４】
この実施形態でも、代替のオリフィス２０２”はサファイア材料で形成される
ことが好ましい。代替のオリフィス２０２”のオリフィス内面２０２’は、一定
の形状を維持しており、ドリップノズル２００の通路２０５に対して外側に向か
って傾斜していない。一実施形態において、代替のオリフィス２０２”の直径Ｄ
２６６は、やはり約０．０８７インチである。なお、オリフィス内面２０２’の
直径は、必要に応じて種々の流速を生じさせるように、変更可能である。オリフ
ィス内表２０２’の寸法は、所望の許容誤差で厳密に制御されるため、特定のサ
イズを有するサファイアオリフィス２０２”の大部分は、ほぼ同じである。さら
に別の実施形態では、代替のオリフィス２０２”の長さＬ２６８は、約０．０４
７インチであることが好ましい。代替のオリフィス２０２”の長さＬ２６８は、
所望の滴下特性に依存して変更可能である。オリフィス入力流体２０４’は、代
替のオリフィス２０２”に入り、ストリーム境界２０６ａ，２０６ｂによって規
定される状態で他方の側から出る。前述したように、サファイアオリフィス２０
２および代替のオリフィス２０２”は、種々の洗浄液に適合し、かつ、正確な許
容誤差で規定され、かつ、形成後に平滑面が得られる他の材料で作成されていて
もよい。平滑面は、流体の入口点をより均一に作成することを可能とし、ドリッ
プマニホルド２２０に組み込まれる各ドリップノズル２００からの液滴をより制
御されたものにする。
ことが好ましい。代替のオリフィス２０２”のオリフィス内面２０２’は、一定
の形状を維持しており、ドリップノズル２００の通路２０５に対して外側に向か
って傾斜していない。一実施形態において、代替のオリフィス２０２”の直径Ｄ
２６６は、やはり約０．０８７インチである。なお、オリフィス内面２０２’の
直径は、必要に応じて種々の流速を生じさせるように、変更可能である。オリフ
ィス内表２０２’の寸法は、所望の許容誤差で厳密に制御されるため、特定のサ
イズを有するサファイアオリフィス２０２”の大部分は、ほぼ同じである。さら
に別の実施形態では、代替のオリフィス２０２”の長さＬ２６８は、約０．０４
７インチであることが好ましい。代替のオリフィス２０２”の長さＬ２６８は、
所望の滴下特性に依存して変更可能である。オリフィス入力流体２０４’は、代
替のオリフィス２０２”に入り、ストリーム境界２０６ａ，２０６ｂによって規
定される状態で他方の側から出る。前述したように、サファイアオリフィス２０
２および代替のオリフィス２０２”は、種々の洗浄液に適合し、かつ、正確な許
容誤差で規定され、かつ、形成後に平滑面が得られる他の材料で作成されていて
もよい。平滑面は、流体の入口点をより均一に作成することを可能とし、ドリッ
プマニホルド２２０に組み込まれる各ドリップノズル２００からの液滴をより制
御されたものにする。
【００３５】
図４は、複数のドリップノズル２００を有するドリップマニホルド２２０を本
発明の一実施形態に従って示す側面図である。この実施形態において、流体ソー
ス２５８は、管材２５２によって圧力調整器２５６に接続されている。そして、
管材２５２の一部には、圧力計２５４が取り付けられている。管材２５２は、圧
力調整器２５６をドリップマニホルド２２０の一端に接続している。図３Ｂで説
明したように、ドリップマニホルド２２０には、複数のドリップノズル２００が
固定されている。一実施形態では、ドリップマニホルド２２０は、テフロン（登
録商標）材料または洗浄化学剤に適合する他の任意の材料で作成されており、円
筒形の構造であることが好ましい。
発明の一実施形態に従って示す側面図である。この実施形態において、流体ソー
ス２５８は、管材２５２によって圧力調整器２５６に接続されている。そして、
管材２５２の一部には、圧力計２５４が取り付けられている。管材２５２は、圧
力調整器２５６をドリップマニホルド２２０の一端に接続している。図３Ｂで説
明したように、ドリップマニホルド２２０には、複数のドリップノズル２００が
固定されている。一実施形態では、ドリップマニホルド２２０は、テフロン（登
録商標）材料または洗浄化学剤に適合する他の任意の材料で作成されており、円
筒形の構造であることが好ましい。
【００３６】
この実施形態では、流体ソース２５８は、圧力調整器２５６に流体を供給する
。圧力調整器２５６では、ドリップマニホルドに導かれる流体の圧力が制御され
る。圧力計２５４は、管材２５２中の流体圧力を監視する。圧力調整器２５６と
圧力計２５４との双方を使用することによって、洗浄液の流体圧力（およびその
結果として生じる滴下）が制御される。流体は、管材２５２を経て、ドリップマ
ニホルド２２０に入る。流体がドリップマニホルド２２０内に入ると、圧流が複
数のドリップノズル２００に等しく流れ込む。ドリップマニホルド２２０は圧流
で満たされるため、すべてのドリップノズル２００に入る流体の流れは実質的に
等しい。前述したように、流体がドリップノズル２００を通過すると、均一な液
滴２０４ａが、制御された一定の速度でドリップノズル２００から滴下する。ド
リップマニホルド２２０からの流体フローは、圧力計２５４および圧力調整器２
５６だけを用いて調整可能であり、流量計または追加のハードウェアを実装する
必要はない。
。圧力調整器２５６では、ドリップマニホルドに導かれる流体の圧力が制御され
る。圧力計２５４は、管材２５２中の流体圧力を監視する。圧力調整器２５６と
圧力計２５４との双方を使用することによって、洗浄液の流体圧力（およびその
結果として生じる滴下）が制御される。流体は、管材２５２を経て、ドリップマ
ニホルド２２０に入る。流体がドリップマニホルド２２０内に入ると、圧流が複
数のドリップノズル２００に等しく流れ込む。ドリップマニホルド２２０は圧流
で満たされるため、すべてのドリップノズル２００に入る流体の流れは実質的に
等しい。前述したように、流体がドリップノズル２００を通過すると、均一な液
滴２０４ａが、制御された一定の速度でドリップノズル２００から滴下する。ド
リップマニホルド２２０からの流体フローは、圧力計２５４および圧力調整器２
５６だけを用いて調整可能であり、流量計または追加のハードウェアを実装する
必要はない。
【００３７】
図５は、複数のドリップノズル２００を有するドリップマニホルド２２０を用
いた洗浄システムを、本発明の一実施形態に従って示す図である。管材２５２は
、ドリップマニホルド２２０の一端に接続されている。一実施形態では、ドリッ
プマニホルド２２０は、洗浄液がトップブラシ３０ａ上に滴下されるように、ト
ップブラシ３０ａの上方に配置されることが好ましい。なお、ドリップマニホル
ド２２０は、トップブラシ３０ａ（またはドリップマニホルド２２０の下方に配
置された任意の他のブラシ）に対して安定した洗浄液の供給を可能にする任意の
位置に設けられていればよい。ウエハ１２は、ボトムブラシ３０ｂ上、かつ、ト
ップブラシ３０ａの下方に配置される。管材２５２は、ドリップマニホルド２２
０内に流体を移送する。流体は、ドリップノズル２００を通って、均一な液滴２
０４ａの形態で放出される。均一な液滴２０４ａが一定の速度でトップブラシ３
０ａに供給されると、ブラシ３０が回転して、ウエハ１２をスクラブ洗浄する。
ドリップマニホルド２２０は、正確な量の洗浄液を所望の速度で正確にトップブ
ラシ３０ａに供給し、この結果、ウエハ１２の最適な洗浄を行うことが可能とな
る。
いた洗浄システムを、本発明の一実施形態に従って示す図である。管材２５２は
、ドリップマニホルド２２０の一端に接続されている。一実施形態では、ドリッ
プマニホルド２２０は、洗浄液がトップブラシ３０ａ上に滴下されるように、ト
ップブラシ３０ａの上方に配置されることが好ましい。なお、ドリップマニホル
ド２２０は、トップブラシ３０ａ（またはドリップマニホルド２２０の下方に配
置された任意の他のブラシ）に対して安定した洗浄液の供給を可能にする任意の
位置に設けられていればよい。ウエハ１２は、ボトムブラシ３０ｂ上、かつ、ト
ップブラシ３０ａの下方に配置される。管材２５２は、ドリップマニホルド２２
０内に流体を移送する。流体は、ドリップノズル２００を通って、均一な液滴２
０４ａの形態で放出される。均一な液滴２０４ａが一定の速度でトップブラシ３
０ａに供給されると、ブラシ３０が回転して、ウエハ１２をスクラブ洗浄する。
ドリップマニホルド２２０は、正確な量の洗浄液を所望の速度で正確にトップブ
ラシ３０ａに供給し、この結果、ウエハ１２の最適な洗浄を行うことが可能とな
る。
【００３８】
以上では、幾つかの好ましい実施形態に関連して本発明の説明を行ったが、当
業者ならば、発明の詳細な説明および添付の図面を参照することによって、様々
な代替の形態、追加、変更、および等価の形態を実現できる。したがって、本発
明は、このような代替の形態、追加、変更、および等価の形態の全てを、発明の
真の趣旨および特許請求の範囲の範囲内に含む。
業者ならば、発明の詳細な説明および添付の図面を参照することによって、様々
な代替の形態、追加、変更、および等価の形態を実現できる。したがって、本発
明は、このような代替の形態、追加、変更、および等価の形態の全てを、発明の
真の趣旨および特許請求の範囲の範囲内に含む。
本発明は、添付の図面に関連する詳細な説明から容易に理解される。説明を容
易にするため、同様の参照符号は同様の構成要素を示す。
易にするため、同様の参照符号は同様の構成要素を示す。
【図１Ａ】 ウエハ洗浄システムの上位の概略図である。
【図１Ｂ】 ブラシステーション内で実行される洗浄プロセスの概略図であ
る。
る。
【図１Ｃ】 図１Ｂに示す複数の要素の断面図である。
【図１Ｄ】 図１Ｂに示すウエハ洗浄構造をより詳細に示す側面図である。
【図１Ｅ】 不均一な液滴を穴から吐出するドリップマニホルドをより詳細
に示す断面図である。
に示す断面図である。
【図２Ａ】 本発明の一実施形態に従ったウエハ洗浄システムを示す側面図
である。
である。
【図２Ｂ】 本発明の一実施形態に従ったウエハ洗浄システムを示す上面図
である。
である。
【図３Ａ】 本発明の一実施形態に従ったドリップノズルの断面図である。
【図３Ｂ】 本発明の別の実施形態に従ったドリップマニホルドの断面図で
ある。
ある。
【図３Ｃ】 本発明の一実施形態に従ったサファイアオリフィスマニホルド
の分解図である。
の分解図である。
【図３Ｄ】 本発明の一実施形態に従った代替のオリフィスを示す図である
。
。
【図４】 複数のドリップノズルを有するドリップマニホルドを、本発明の
一実施形態に従って示す側面図である。
一実施形態に従って示す側面図である。
【図５】 複数のドリップノズルを有するドリップマニホルドを用いた洗浄
システムを、本発明の一実施形態に従って示す図である。
システムを、本発明の一実施形態に従って示す図である。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１４年６月１８日（２００２．６．１８）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，
ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ
Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ
，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，
ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ
Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ
，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，
ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，
ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ
Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ
，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，
ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，Ｊ
Ｐ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ
，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，
ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，Ｒ
Ｏ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ
，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，
ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ
(72)発明者 ミカイリッチ・カトリーナ・エー．
アメリカ合衆国 カリフォルニア州95131
サン・ホセ，ウィロー・レイク・レー
ン，1809
(72)発明者 ラヴキン・マイク
アメリカ合衆国 カリフォルニア州94087
サニーベイル，ウエスト・ニッカーボッ
カー・ドライブ，1215
(72)発明者 デラリオス・ジョン・エム．
アメリカ合衆国 カリフォルニア州94303
パロ・アルト，ロマベルデ，941
Ｆターム(参考） 4F033 AA04 AA14 BA03 BA04 CA14
EA06 FA00 NA01
Claims (30)
- 【請求項１】 ウエハ洗浄工程で使用されるドリップマニホルドであって、 複数のドリップノズルを備え、 各ドリップノズルは、 第１端と、第２端と、これらの間に規定された通路と、 前記通路内に規定され、前記ドリップノズルの前記第１端に設けられたサファ
イアオリフィスであって、前記サファイアオリフィスは、流体ストリームを生成
するために傾斜しており、前記流体ストリームは、特定の表面の上方に１以上の
均一な液滴を形成するように前記第２端に向かって反射される、前記サファイア
オリフィスと、 を備える、ドリップマニホルド。 - 【請求項２】 請求項１記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマニホ
ルドであって、 前記ドリップマニホルドは、第１のブラシと第２のブラシとを有する洗浄ステ
ーションに組み込まれており、 前記ドリップマニホルドは、前記第１のブラシの長さ全体に延びている、ドリ
ップマニホルド。 - 【請求項３】 請求項２記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマニホ
ルドであって、 前記複数のドリップノズルのそれぞれは、互いに間隔を空けて設けられており
、前記ドリップマニホルドの長さ全体に渡って分配されている、ドリップマニホ
ルド。 - 【請求項４】 請求項１記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマニホ
ルドであって、 前記複数のドリップノズルのそれぞれの前記第１端は、前記ドリップマニホル
ドの内側領域に突出している、ドリップマニホルド。 - 【請求項５】 請求項４記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマニホ
ルドであって、 前記複数のドリップノズルのそれぞれの前記第２端は、前記ドリップマニホル
ドの外面を越えて延びている、ドリップマニホルド。 - 【請求項６】 請求項１記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマニホ
ルドであって、 前記第１端は、傾斜した壁を有しており、 前記傾斜壁は、挿入物としての前記サファイアオリフィスを収容するように構
成されている、ドリップマニホルド。 - 【請求項７】 請求項１記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマニホ
ルドであって、 前記複数のノズルのそれぞれは、前記ドリップマニホルドへのねじ込みを可能
にするネジ山を含む、ドリップマニホルド。 - 【請求項８】 請求項１記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマニホ
ルドであって、 前記複数のドリップノズルのそれぞれは、前記第２端にノズルヘッドを有して
いる、ドリップマニホルド。 - 【請求項９】 請求項１記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマニホ
ルドであって、 前記ドリップノズルの前記第１端と前記第２端との間に規定された前記通路は
、前記流体ストリームが前記均一な液滴を形成するまでに１回以上反射される長
さを規定する、ドリップマニホルド。 - 【請求項１０】 請求項１記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマニ
ホルドであって、 前記サファイアオリフィスの前記内面は、一端において、外側に向かって傾斜
して傾斜面を規定しており、前記傾斜面は、前記ドリップノズルの前記第１端と
前記第２端とによって規定される前記通路内に流体が供給されるように構成され
ている、ドリップマニホルド。 - 【請求項１１】 ウエハ洗浄工程で使用されるドリップマニホルドであって
、 第１のブラシと第２のブラシとを有する洗浄ステーションと、 前記第１のブラシの長さ全体に延びるドリップマニホルドと、 前記ドリップマニホルドに組み込まれた複数のドリップノズルであって、前記
複数のドリップノズルのそれぞれは、互いに間隔を空けて設けられており、前記
ドリップマニホルドの長さ全体に渡って分配されている、前記複数のドリップノ
ズルと、 を備え、 各ドリップノズルは、 第１端と、第２端と、これらの間に規定された通路と、 前記通路内に規定され、前記ドリップノズルの前記第１端に設けられたサファ
イアオリフィスであって、前記サファイアオリフィスは、流体ストリームを生成
するために傾斜しており、前記流体ストリームは、前記第１のブラシの上方に１
以上の均一な液滴を形成するように前記第２端に向かって反射される、前記サフ
ァイアオリフィスと、 を備える、ドリップマニホルド。 - 【請求項１２】 請求項１１記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマ
ニホルドであって、 前記複数のドリップノズルのそれぞれの前記第１端は、前記ドリップマニホル
ドの内側領域に突出している、ドリップマニホルド。 - 【請求項１３】 請求項１２記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマ
ニホルドであって、 前記複数のドリップノズルのそれぞれの前記第２端は、前記ドリップマニホル
ドの外面を越えて延びている、ドリップマニホルド。 - 【請求項１４】 請求項１１記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマ
ニホルドであって、 前記第１端は、傾斜した壁を有しており、 前記傾斜壁は、挿入物としての前記サファイアオリフィスを収容するように構
成されている、ドリップマニホルド。 - 【請求項１５】 請求項１１記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマ
ニホルドであって、 前記複数のノズルのそれぞれは、前記ドリップマニホルドへのねじ込みを可能
にするネジ山を含む、ドリップマニホルド。 - 【請求項１６】 請求項１１記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマ
ニホルドであって、 前記複数のドリップノズルのそれぞれは、前記第２端にノズルヘッドを有して
いる、ドリップマニホルド。 - 【請求項１７】 請求項１１記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマ
ニホルドであって、 前記ドリップノズルの前記第１端と前記第２端との間に規定された前記通路は
、前記流体ストリームが前記均一な液滴を形成するまでに１回以上反射される長
さを規定する、ドリップマニホルド。 - 【請求項１８】 請求項１１記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマ
ニホルドであって、 前記サファイアオリフィスの前記内面は、一端において、外側に向かって傾斜
して傾斜面を規定しており、前記傾斜面は、前記ドリップノズルの前記第１端と
前記第２端とによって規定される前記通路内に流体が供給されるように構成され
ている、ドリップマニホルド。 - 【請求項１９】 特定の表面の上方に配置されるドリップマニホルドで使用
するために構成されたドリップノズルを作成する方法であって、 第１端と第２端とを有し、前記第１端と前記第２端との間に通路を規定する管
状部分を生成する工程と、 前記管状部分の前記通路の前記第１端にサファイアオリフィスを挿入する工程
と、 を備え、 前記挿入工程は、前記サファイアオリフィスを特定の角度に調整することによ
って、流体フローが、前記第１端から導入され、前記角度で配置された前記サフ
ァイアオリフィスを通って、前記管状部分の前記通路に入り、１以上の液滴を規
定しながら前記管状部分の前記第２端から出るように、構成されている、方法。 - 【請求項２０】 請求項１９記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップノ
ズルを作成する方法であって、 前記サファイアオリフィスは、前記管状部分の前記通路に至る傾斜した通路を
規定する円柱形状のオリフィス内面を含むように構成されている、方法。 - 【請求項２１】 請求項２０記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップノ
ズルを作成する方法であって、 前記円柱形状のオリフィス内面は、前記サファイアオリフィスの一端で、外側
に向かって傾斜するように構成されている、方法。 - 【請求項２２】 請求項１９記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップノ
ズルを作成する方法であって、 前記サファイアオリフィスは、サファイア材料または洗浄に適合する材料で作
成されている、方法。 - 【請求項２３】 請求項１９記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップノ
ズルを作成する方法であって、 前記サファイアオリフィスの前記角度は、前記洗浄液を前記ドリップノズルの
内面に１回以上反射させ、前記洗浄液は、均一な液滴として前記ドリップノズル
から出る、方法。 - 【請求項２４】 請求項１９記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップノ
ズルを作成する方法であって、 前記管状部分の前記第２端は、ドリップノズルヘッドとして構成されている、
方法。 - 【請求項２５】 請求項２４記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップノ
ズルを作成する方法であって、 前記ドリップノズルヘッドは、ノズル外壁よりも大きい、方法。 - 【請求項２６】 請求項２４記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップノ
ズルを作成する方法であって、 前記ドリップノズルヘッドの一端は、平坦である、方法。 - 【請求項２７】 ドリップマニホルドであって、 複数のドリップノズルを備え、 各ドリップノズルは、 第１端と、第２端と、これらの間に規定された通路と、 前記通路内に規定され、前記ドリップノズルの前記第１端に設けられた挿入オ
リフィスであって、前記挿入オリフィスは、流体ストリームを生成するために傾
斜しており、前記流体ストリームは、受け取り物体の上方に１以上の均一な液滴
を形成するように前記第２端に向かって反射される、前記挿入オリフィスと、 を備える、ドリップマニホルド。 - 【請求項２８】 請求項２７記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマ
ニホルドであって、 前記ドリップマニホルドは、第１のブラシと第２のブラシとを有する洗浄ステ
ーションに組み込まれており、 前記ドリップマニホルドは、前記第１のブラシの長さ全体に延びている、ドリ
ップマニホルド。 - 【請求項２９】 請求項２８記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマ
ニホルドであって、 前記複数のドリップノズルのそれぞれは、互いに間隔を空けて設けられており
、前記ドリップマニホルドの長さ全体に渡って分配されている、ドリップマニホ
ルド。 - 【請求項３０】 請求項２７記載のウエハ洗浄工程で使用されるドリップマ
ニホルドであって、 前記挿入オリフィスは、サファイア材料と洗浄に適合する材料とのうちの一方
で規定される、ドリップマニホルド。
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