JP2003522201A - 安定剤としての電子吸引性置換基を有する新規３−アリールベンゾフラノン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 安定剤としての電子吸引性置換基を有する新規３−アリールベンゾフラノンを提供する。 【解決手段】 本発明は、酸化的，熱的又は光により誘起される分解に対して有機材料、特にポリマー及び潤滑剤を保護するための安定剤としての、並びにカラー写真材料中の酸化された現像剤用の掃去剤としての、次式Ｉ： 【化１】 （式中、一般記号は請求項１で定義されたものと同じ意味を表わし、そしてＲ₁は電子吸引性置換基を有する芳香族基を表わす）で表わされる新規化合物に関する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】

本発明は、新規３−アリールベンゾフラノン、有機材料、好ましくはポリマー
又は潤滑剤を含む組成物、及び新規安定剤、並びに酸化的、熱的又は光により誘
起される分解に対して有機材料を安定化するためのその使用、及びカラー写真材
料中の酸化された現像剤用の掃去剤〔また、以下の本文中で、ドックス(Dox) 掃
去剤とも呼ばれる〕としての前記新規安定剤の使用に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

カラー写真に関する問題の一つが、望ましくない場所に好ましくない染料の形
成を生じさせ得る、酸化されたカラー現像剤の、それが形成されている感光性銀
ハロゲン化物乳化剤層から出て別の銀ハロゲン化物乳化剤層内に入る拡散である
ことは良く知られている。例えば、緑色感光層中に生じ、そして混和されたマゼ
ンタカップラーとのカップリング反応を通してマゼンタ染料を形成するけれども
、酸化された現像剤はまた、赤色感光層中にも拡散し、それにより、好ましくな
いシアン染料を生成し得、或いは、青色感光層中にも拡散し、それにより、好ま
しくない黄色染料を生成し得る。間違った層中のこの種の色形成は、写真画像の
カラーバランスを崩し、それ故、色の再現性が悪くなる。この問題を克服する方
法の一つは、感光性銀ハロゲン化物乳剤層の間の中間層に酸化された現像剤の掃
去剤を混和することである。これらの掃去剤は、低い移行傾向、空気酸化に対す
る良好な安定性及び写真オイルへの高い溶解度のような更なる特性を有するべき
である。

【０００３】 酸化された現像剤用の掃去剤として有用なヒドロキノン誘導体は、例えば、ア
メリカ合衆国特許第４３４５０１６号に記載されている。

【０００４】 有機ポリマー用の安定剤としての幾つかの３−フェニル−３Ｈ−ベンゾフラン
−２−オンの使用は、なかんずく、ＷＯ−Ａ−８０／０１５６６及びアメリカ合
衆国特許第５５１６９２０号に開示されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】

電子吸引性置換基を有する３−アリールベンゾフラン−２−オン類の選択され
た群は、酸化的、熱的又は光により誘起される分解を受け易い有機材料用の安定
剤として使用するために特に適することが今や見出された。これらの新規化合物
は、カラー写真におけるドックス(Dox) 掃去剤としても特に適している。

【０００６】

【課題を解決するための手段】

従って、本発明は、次式Ｉ：

【化５６】 〔式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は次式II，III 又はIV：

【化５７】 で表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式：

【化５８】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ 及びＲ₅ は互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ
ル基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニル
アルキル基、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニ
ル基；非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５
ないし８のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原
子数１ないし１８のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基
、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし２５の
アルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルアミノ基、炭素
原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基；酸素原子，硫黄原子又は次式：

【化５９】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイルオキシ
基；炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオ
キシ基又は炭素原子数１ないし１２のアルキル基で置換されたベンゾイルオキシ
基を表わし；或いは置換基Ｒ₂ とＲ₃ 又はＲ₃ とＲ₄ 又はＲ₄ とＲ₅ の各組は結
合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し；或いはＲ₄ は更に−（
ＣＨ₂ ）_p −ＣＯＲ₁₉基又は−（ＣＨ₂ ）_q −ＯＨ基を表わし、或いはＲ₃ ，Ｒ ₅ 及びＲ₆ が水素原子を表わす場合、Ｒ₄ は更に次式Ｖ：

【化６０】 （式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わ
す）で表わされる基を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は次式ＶＩ：

【化６１】 （式中、Ｒ₄ は式Ｖで表わされる基を表わさず、そしてＲ₁ は、ｎ＝１に対して
上記において定義されたものと同じ意味を表わす）で表わされる基を表わし、
Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀，Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃，Ｒ₁₄及びＲ₁₅は互いに独立して水
素原子、弗素原子、弗素置換された炭素原子数１ないし１２のアルキル基、−Ｃ
Ｎ基、次式：

【化６２】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基、−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基又は−ＳＯ₃ Ｒ₂₆基を表わすが
、但し、Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀，Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃，Ｒ₁₄及びＲ₁₅の少なくと
も一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇は互いに独立して、弗素原子，弗素原子で置換された炭素原子数
１ないし１２のアルキル基，−ＣＮ基，次式：

【化６３】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基、−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基又は−ＳＯ₃ Ｒ₂₆基により置換
されたフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₁₈は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、 Ｒ₁₉はヒドロキシル基、次式：

【化６４】 で表わされる基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基又は次式：

【化６５】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂₀及びＲ₂₁は互いに独立して水素原子、−ＣＦ₃ 基、炭素原子数１ないし１
２のアルキル基又はフェニル基を表わし、或いはＲ₂₀及びＲ₂₁は結合している炭
素原子と一緒になって、非置換又は１個ないし３個の炭素原子数１ないし４のア
ルキル基により置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成
し、 Ｒ₂₂は水素原子、ヒドロキシル基、次式：

【化６６】 で表わされる基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９
のフェニルアルキル基、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換さ
れたフェニル基；非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭
素原子数５ないし８のシクロアルキル基；或いは酸素原子，硫黄原子又は次式：

【化６７】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルキル基を表わし
、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニ
ルアルキル基、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェ
ニル基；非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数
５ないし８のシクロアルキル基；或いは酸素原子，硫黄原子又は次式：

【化６８】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルキル基を表わし
、 Ｒ₂₄及びＲ₂₅は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし２５のアルキル
基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし２４のアルキル基；酸
素原子，硫黄原子又は次式：

【化６９】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルキル基；非置換
又は炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基；又は炭素原子数３ないし２４のアルケニル
基を表わし；或いはＲ₂₄及びＲ₂₅は、それらが結合している窒素原子と一緒にな
って、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された、或いは
酸素原子，硫黄原子又は次式：

【化７０】 で表わされる基により中断された５−，６−又は７−員複素環式環を形成し、 Ｒ₂₆は水素原子又は炭素原子数１ないし２５のアルキル基を表わし、 Ｒ₂₇及びＲ₂₈は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし２５のアルキル
基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし２４のアルキル基；酸
素原子，硫黄原子又は次式：

【化７１】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルキル基；非置換
又は炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基；又は炭素原子数３ないし２４のアルケニル
基を表わし；或いはＲ₂₇及びＲ₂₈は、それらが結合している窒素原子と一緒にな
って、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された、或いは
酸素原子，硫黄原子又は次式：

【化７２】 で表わされる基により中断された５−，６−又は７−員複素環式環を形成し、 Ｒ₂₉及びＲ₃₀は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル
基又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、或いはＲ₂₉及びＲ ₃₀ は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、非置換又は炭素原子数１
ないし４のアルキル基により置換された、或いは酸素原子，硫黄原子又は次式：

【化７３】 で表わされる基により中断された５−，６−又は７−員複素環式環を形成し、 Ｘ₁ は直接結合、炭素原子数１ないし１８のアルキレン基、酸素原子，硫黄原
子又は次式：

【化７４】 で表わされる基により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；炭素
原子数２ないし１８のアルケニレン基、炭素原子数２ないし２０のアルキリデン
基、炭素原子数７ないし２０のフェニルアルキリデン基、炭素原子数５ないし８
のシクロアルキレン基、炭素原子数７又は８のビシクロアルキレン基、非置換又
は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニレン基、次式：

【化７５】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₂ は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；酸素原子，硫黄原子又は次式
：

【化７６】 で表わされる基により中断された炭素原子数４ないし１８のアルキレン基；炭素
原子数２ないし１８のアルケニレン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレ
ン基、炭素原子数７又は８のビシクロアルキレン基、非置換又は炭素原子数１な
いし４のアルキル基で置換されたフェニレン基、次式：

【化７７】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₃ は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；酸素原子，硫黄原子又は次式
：

【化７８】 で表わされる基により中断された炭素原子数４ないし１８のアルキレン基；炭素
原子数２ないし１８のアルケニレン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレ
ン基、炭素原子数７又は８のビシクロアルキレン基、非置換又は炭素原子数１な
いし４のアルキル基で置換されたフェニレン基、次式：

【化７９】 で表わされる基を表わし、 Ｍはｒ価の金属カチオンを表わし、 ｎは１又は２を表わし、 ｐは０，１又は２を表わし、 ｑは１，２，３，４，５又は６を表わし、そして ｒは１，２又は３を表わす〕で表わされる化合物に関するものである。

【０００７】

【発明の実施の形態】

２５個までの炭素原子を有するアルカノイルオキシ基は分岐又は非分岐基、例
えば、ホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオ
キシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基
、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、デカノイルオキシ基、ウンデカ
ノイルオキシ基、ドデカノイルオキシ基、トリデカノイルオキシ基、テトラデカ
ノイルオキシ基、ペンタデカノイルオキシ基、ヘキサデカノイルオキシ基、ヘプ
タデカノイルオキシ基、オクタデカノイルオキシ基、イコサノイルオキシ基又は
ドコサノイルオキシ基である。好ましいのは、２個ないし１８個、とりわけ２個
ないし１２個、例えば２個ないし６個の炭素原子を有するアルカノイルオキシ基
である。特別に好ましいのは、アセトキシ基である。

【０００８】 酸素原子，硫黄原子又は次式：

【化８０】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイルオキシ
基は、例えば、ＣＨ₃ −Ｏ−ＣＨ₂ ＣＯＯ−基、ＣＨ₃ −Ｓ−ＣＨ₂ ＣＯＯ−基
、ＣＨ₃ −Ｎ（ＣＨ₃ ）−ＣＨ₂ ＣＯＯ−基、ＣＨ₃ −Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｏ−
ＣＨ₂ ＣＯＯ−基、ＣＨ₃ −（Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ）₂ Ｏ−ＣＨ₂ ＣＯＯ−基、Ｃ
Ｈ₃ −（Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ）₃ Ｏ−ＣＨ₂ ＣＯＯ−基又はＣＨ₃ −（Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ）₄ Ｏ−ＣＨ₂ ＣＯＯ−基である。

【０００９】 炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニルオキシ基は、例えば、シク
ロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘ
プチルカルボニルオキシ基又はシクロオクチルカルボニルオキシ基である。好ま
しいのは、シクロヘキシルカルボニルオキシ基である。

【００１０】 酸素原子，硫黄原子又は次式：

【化８１】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ
基は、例えば、ＣＨ₃ ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−基又はＣＨ₃ ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ ＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−基である。

【００１１】 好ましくは１個ないし３個、とりわけ１個又は２個のアルキル基を持つ、炭素
原子数１ないし１２のアルキル基により置換されたベンゾイルオキシ基は、例え
ば、ｏ−，ｍ−又はｐ−メチルベンゾイルオキシ基、２，３−ジメチルベンゾイ
ルオキシ基、２，４−ジメチルベンゾイルオキシ基、２，５−ジメチルベンゾイ
ルオキシ基、２，６−ジメチルベンゾイルオキシ基、３，４−ジメチルベンゾイ
ルオキシ基、３，５−ジメチルベンゾイルオキシ基、２−メチル−６−エチルベ
ンゾイルオキシ基、４−第三ブチルベンゾイルオキシ基、２−エチルベンゾイル
オキシ基、２，４，６−トリメチルベンゾイルオキシ基、２，６−ジメチル−４
−第三ブチルベンゾイルオキシ基又は３，５−ジ第三ブチルベンゾイルオキシ基
である。好ましい置換基は炭素原子数１ないし８のアルキル基、とりわけ炭素原
子数１ないし４のアルキル基である。

【００１２】 ２５個までの炭素原子を有するアルキル基は分岐又は非分岐基、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、
イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペン
チル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、
１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テ
トラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オク
チル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，
３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メ
チルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシ
ル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプ
タデシル基、オクタデシル基、イコシル基又はドコシル基である。Ｒ₂ 及びＲ₄ に対する好ましい定義の一つは、例えば、炭素原子数１ないし１８のアルキル基
である。Ｒ₄ に対するとりわけ好ましい定義は、炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基である。

【００１３】 酸素原子，硫黄原子又は次式：

【化８２】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルキル基は、例え
ば、ＣＨ₃ −Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −基、ＣＨ₃ −Ｓ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −基、ＣＨ₃ −
Ｎ（ＣＨ₃ ）−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −基、ＣＨ₃ −Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ ₂ −基、ＣＨ₃ −（Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ）₂ Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −基、ＣＨ₃ −（Ｏ
−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ）₃ Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −基又はＣＨ₃ −（Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ）₄ Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −基である。

【００１４】 弗素原子により置換された炭素原子数１ないし１２のアルキル基は分岐又は非
分岐基、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル
基又はペンタフルオロエチル基である。フルオロメチル基が好ましい。

【００１５】 炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は、例えば、ベンジル基、α−メ
チルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基又は２−フェニルエチル基である
。好ましいのは、ベンジル基又はα，α−ジメチルベンジル基である。

【００１６】 非置換又は１個ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニ
ル基が置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は、例えば、ベン
ジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、２−フェニルエ
チル基、２−メチルベンジル基、３−メチルベンジル基、４−メチルベンジル基
、２，４−ジメチルベンジル基、２，６−ジメチルベンジル基又は４−第三ブチ
ルベンジル基である。好ましいのは、ベンジル基である。

【００１７】 好ましくは１個ないし３個、とりわけ１個又は２個のアルキル基を含む、炭素
原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニル基は、例えば、ｏ−，
ｍ−又はｐ−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチ
ルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３
，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２−メチル−６−エ
チルフェニル基、４−第三ブチルフェニル基、２−エチルフェニル基又は２，６
−ジエチルフェニル基である。

【００１８】 非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５
ないし８のシクロアルキル基は、例えば、シクロペンチル基、メチルシクロペン
チル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル
基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシク
ロヘキシル基、シクロヘプチル基又はシクロオクチル基である。好ましいのは、
シクロヘキシル基及び第三ブチルシクロヘキシル基である。

【００１９】 １８個までの炭素原子を有するアルコキシ基は分岐又は非分岐基、例えば、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イ
ソブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、
ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、テトラデシルオキシ基
、ヘキサデシルオキシ基又はオクタデシルオキシ基である。好ましいのは、１個
ないし１２個、とりわけ１個ないし８個、例えば１個ないし６個の炭素原子を有
するアルコキシ基である。

【００２０】 １８個までの炭素原子を有するアルキルチオ基は分岐又は非分岐基、例えば、
メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチ
ルチオ基、イソブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ヘキシル
チオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、テトラデシルチオ基
、ヘキサデシルチオ基又はオクタデシルチオ基である。好ましいのは、１個ない
し１２個、とりわけ１個ないし８個、例えば１個ないし６個の炭素原子を有する
アルキルチオ基である。

【００２１】 ４個までの炭素原子を有するアルキルアミノ基は分岐又は非分岐基、例えば、
メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、
ｎ−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基又は第三ブチルアミノ基である。

【００２２】 ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基は更に、二つの基が互いに独
立して分岐又は非分岐の、例えば、ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、メチル−ｎ−プロピルアミノ基、メチルイソプロピルアミノ
基、メチル−ｎ−ブチルアミノ基、メチルイソブチルアミノ基、エチルイソプロ
ピルアミノ基、エチル−ｎ−ブチルアミノ基、エチルイソブチルアミノ基、エチ
ル第三ブチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、イソプロ
ピル−ｎ−ブチルアミノ基、イソプロピルイソブチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチル
アミノ基又はジ−イソブチルアミノ基であることを意味する。

【００２３】 ２５個までの炭素原子を有するアルカノイルアミノ基は分岐又は非分岐基、例
えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ブタノイ
ルアミノ基、ペンタノイルアミノ基、ヘキサノイルアミノ基、ヘプタノイルアミ
ノ基、オクタノイルアミノ基、ノナノイルアミノ基、デカノイルアミノ基、ウン
デカノイルアミノ基、ドデカノイルアミノ基、トリデカノイルアミノ基、テトラ
デカノイルアミノ基、ペンタデカノイルアミノ基、ヘキサデカノイルアミノ基、
ヘプタデカノイルアミノ基、オクタデカノイルアミノ基、イコサノイルアミノ基
又はドコサノイルアミノ基である。好ましいのは、２個ないし１８個、とりわけ
２個ないし１２個、例えば２個ないし６個の炭素原子を有するアルカノイルアミ
ノ基である。

【００２４】 炭素原子数１ないし１８のアルキレン基は、分岐又は非分岐基、例えば、メチ
レン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペン
タメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、デカ
メチレン基、ドデカメチレン基又はオクタデカメチレン基である。Ｘ₁ に対する
好ましい定義は、炭素原子数１ないし１２のアルキレン基、とりわけ炭素原子数
１ないし８のアルキレン基、例えば炭素原子数１ないし８のアルキレン基である
。Ｘ₂ に対する好ましい定義は、炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、とり
わけ炭素原子数２ないし８のアルキレン基である。Ｘ₃ に対する好ましい定義は
、炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、とりわけ炭素原子数２ないし１２の
アルキレン基、例えば炭素原子数４ないし１２のアルキレン基である。

【００２５】 酸素原子，硫黄原子又は次式：

【化８３】 で表わされる基により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキレン基は、例
えば、−ＣＨ₂ −Ｏ−ＣＨ₂ −基、−ＣＨ₂ −Ｓ−ＣＨ₂ −基、−ＣＨ₂ −Ｎ（
ＣＨ₃ ）−ＣＨ₂ −基、−ＣＨ₂ −Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −基、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｏ
−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −基、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −
基、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −（Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −）₂ Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −基、−ＣＨ ₂ ＣＨ₂ −（Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −）₃ Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −基、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −
（Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −）₄ Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −基又は−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｓ−ＣＨ ₂ ＣＨ₂ −基である。

【００２６】 ２個ないし２０個の炭素原子を有するアルキリデン基は、例えば、エチリデン
基、プロピリデン基、ブチリデン基、ペンチリデン基、４−メチルペンチリデン
基、ヘプチリデン基、ノニリデン基、トリデシリデン基、ノナデシリデン基、１
−メチルエチリデン基、１−エチルプロピリデン基又は１−エチルペンチリデン
基である。好ましいのは、炭素原子数２ないし８のアルキリデン基である。

【００２７】 ７個ないし２０個の炭素原子を有するフェニルアルキリデン基は、例えば、ベ
ンジリデン基、２−フェニルエチリデン基又は１−フェニル−２−ヘキシリデン
基である。好ましいのは、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキリデン基であ
る。

【００２８】 炭素原子数５ないし８のシクロアルキレン基は、二つの遊離原子価及び少なく
とも一つの環ユニットを有する飽和炭化水素基であり、そして例えば、シクロペ
ンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基又はシクロオクチレン基
である。好ましいのは、シクロヘキシレン基である。

【００２９】 炭素原子数７又は８のビシクロアルキレン基は、例えば、ビシクロヘプチレン
基又はビシクロオクチレン基である。

【００３０】 各々、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基、弗素原子、トリフルオ
ロメチル基又は−ＣＮ基により置換されたフェニレン基又はナフチレン基は、例
えば、１，２−，１，３−又は１，４−フェニレン基；１，２−，１，３−，１
，４−，１，６−，１，７−，２，６−又は２，７−ナフチレン基；１，４−（
２−トリフルオロメチル）フェニレン基、１，４−（２−トリフルオロメチル）
ナフチレン基又は１，４−（２−シアノ）フェニレン基である。

【００３１】 好ましくは１個ないし３個、とりわけ１個又は２個の、分岐又は非分岐アルキ
ル類の基を含む、炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子
数５ないし８のシクロアルキリデン環の基は、例えば、シクロペンチリデン基、
メチルシクロペンチリデン基、ジメチルシクロペンチリデン基、シクロヘキシリ
デン基、メチルシクロヘキシリデン基、ジメチルシクロヘキシリデン基、トリメ
チルシクロヘキシリデン基、第三ブチルシクロヘキシリデン基、シクロヘプチリ
デン基又はシクロオクチリデン基である。好ましいのは、シクロヘキシリデン基
及び第三ブチルシクロヘキシリデン基である。

【００３２】 単−，二−又は三−価金属カチオンは、好ましくは、アルカリ金属カチオン、
アルカリ土類金属カチオン又はアルミニウムカチオン、例えば、Ｎａ⁺ ，Ｋ⁺ ，
Ｍｇ⁺⁺，Ｃａ⁺⁺又はＡｌ⁺⁺⁺ である。

【００３３】 ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし２４のアルキル基は、例
えば、ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピ
ル基、４−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチ
ル基、５−ヒドロキシペンチル基、４−ヒドロキシペンチル基、３−ヒドロキシ
ペンチル基、２−ヒドロキシペンチル基、６−ヒドロキシヘキシル基、５−ヒド
ロキシヘキシル基、４−ヒドロキシヘキシル基、３−ヒドロキシヘキシル基、２
−ヒドロキシヘキシル基、７−ヒドロキシヘプチル基、６−ヒドロキシヘプチル
基、５−ヒドロキシヘプチル基、４−ヒドロキシヘプチル基、３−ヒドロキシヘ
プチル基、２−ヒドロキシヘプチル基、８−ヒドロキシオクチル基、７−ヒドロ
キシオクチル基、６−ヒドロキシオクチル基、５−ヒドロキシオクチル基、４−
ヒドロキシオクチル基、３−ヒドロキシオクチル基、２−ヒドロキシオクチル基
、９−ヒドロキシノニル基、１０−ヒドロキシデシル基、１１−ヒドロキシウン
デシル基、１２−ヒドロキシドデシル基、１３−ヒドロキシトリデシル基、１４
−ヒドロキシテトラデシル基、１５−ヒドロキシペンタデシル基、１６−ヒドロ
キシヘキサデシル基、１７−ヒドロキシヘプタデシル基、１８−ヒドロキシオク
タデシル基、２０−ヒドロキシエイコシル基又は２２−ヒドロキシドコシル基の
ような、好ましくは１個ないし３個、特に１個又は２個のヒドロキシル基を含む
分岐又は非分岐基である。Ｒ₂₄，Ｒ₂₅，Ｒ₂₇及びＲ₂₈の好ましい定義は、ヒドロ
キシル基により置換された炭素原子数４ないし１２のアルキル基、とりわけヒド
ロキシル基により置換された炭素原子数５ないし１２のアルキル基、例えば、ヒ
ドロキシル基により置換された炭素原子数５ないし１１のアルキル基である。Ｒ ₂₄ ，Ｒ₂₅，Ｒ₂₇及びＲ₂₈の好ましい定義の一つは、ヒドロキシル基により置換さ
れた炭素原子数２ないし２０のアルキル基、とりわけヒドロキシル基により置換
された炭素原子数２ないし１８のアルキル基、例えば、ヒドロキシル基により置
換された炭素原子数２ないし１４のアルキル基である。Ｒ₂₄，Ｒ₂₅，Ｒ₂₇及びＲ ₂₈ の特に好ましい定義は、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし
１２のアルキル基、とりわけヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ない
し８のアルキル基、例えば、２−ヒドロキシエチル基のような、ヒドロキシル基
により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基である。

【００３４】 ３個ないし２４個の炭素原子を有するアルケニル基は、例えば、プロペニル基
、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−２，４−ペンタジエ
ニル基、３−メチル−２−ブテニル基、ｎ−２−オクテニル基、ｎ−２−ドデセ
ニル基、イソ−ドデセニル基、オレイル基、ｎ−２−オクタデセニル基又はｎ−
４−オクタデセニル基のような分岐又は非分岐基である。好ましいのは、３個な
いし１８個、とりわけ３個ないし１２個、例えば３個ないし６個、とりわけ３個
又は４個の炭素原子を有するアルケニル基である。

【００３５】 Ｒ₂₄とＲ₂₅又はＲ₂₇とＲ₂₈は、それらが結合している窒素原子と一緒になって
、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された、或いは酸素
原子，硫黄原子又は次式：

【化８４】 で表わされる基により中断された５−，６−又は７−員複素環式環を形成し、こ
れは、例えば、下記の基：

【化８５】 を示す。Ｒ₂₄とＲ₂₅又はＲ₂₇とＲ₂₈は、好ましくは、それらが結合している窒素
原子と一緒になって、例えば、次式：

【化８６】 で表わされるような、酸素原子により中断された６−員複素環式環を表わす。

【００３６】 Ｒ₂₉及びＲ₃₀は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、非置換又は
炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された、或いは酸素原子，硫黄原
子又は次式：

【化８７】 で表わされる基により中断された５−，６−又は７−員複素環式環を形成すると
き、これは、例えば、下記の基：

【化８８】 を示す。

【００３７】 炭素原子数２ないし１８のアルケニレン基は、例えば、ビニレン基、メチルビ
ニレン基、オクテニルエチレン基又はドデセニルエチレン基である。炭素原子数
２ないし８のアルケニレン基が好ましい。

【００３８】 好ましい式Ｉで表わされる化合物は、 式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は次式II，III 又はIV：

【化８９】 で表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式：

【化９０】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ 及びＲ₅ は各々各々互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒ
ドロキシル基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９の
フェニルアルキル基、フェニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、
炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキルチ
オ基、炭素原子数１ないし１８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし１
８のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし１８のアルケノイルオキシ基；
酸素原子又は硫黄原子により中断された炭素原子数３ないし１８のアルカノイル
オキシ基；炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾ
イルオキシ基又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたベンゾイルオ
キシ基を表わし；或いは置換基Ｒ₂ とＲ₃ 又はＲ₃ とＲ₄ 又はＲ₄ とＲ₅ の各組
は結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し；或いはＲ₄ は更に
−（ＣＨ₂ ）_p −ＣＯＲ₁₉基又は−（ＣＨ₂ ）_q −ＯＨ基を表わし、或いはＲ₃ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ が水素原子を表わす場合、Ｒ₄ は更に次式Ｖ：

【化９１】 （式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わ
す）で表わされる基を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は次式ＶＩ：

【化９２】 （式中、Ｒ₄ は式Ｖで表わされる基を表わさず、そしてＲ₁ は、ｎ＝１に対して
上記において定義されたものと同じ意味を表わす）で表わされる基を表わし、
Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀，Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃，Ｒ₁₄及びＲ₁₅は各々互いに独立し
て水素原子、弗素原子、弗素置換された炭素原子数１ないし８のアルキル基、−
ＣＮ基、次式：

【化９３】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基、−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基又は−ＳＯ₃ Ｒ₂₆基を表わすが
、但し、Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀，Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃，Ｒ₁₄又はＲ₁₅の少なくと
も一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇は各々互いに独立して、弗素原子，トリフルオロメチル基，−Ｃ
Ｎ基，次式：

【化９４】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基、−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基又は−ＳＯ₃ Ｒ₂₆基により各々
置換されたフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₁₈は水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒ₁₉はヒドロキシル基、次式：

【化９５】 で表わされる基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基又は次式：

【化９６】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂₀及びＲ₂₁は各々互いに独立して水素原子、−ＣＦ₃ 基、炭素原子数１ない
し８のアルキル基又はフェニル基を表わし、或いはＲ₂₀及びＲ₂₁は結合している
炭素原子と一緒になって、炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成
し、 Ｒ₂₂は水素原子、ヒドロキシル基、次式：

【化９７】 で表わされる基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９
のフェニルアルキル基、フェニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基
；或いは酸素原子又は硫黄原子により中断された炭素原子数３ないし２５のアル
キル基を表わし、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２２のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニ
ルアルキル基、フェニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、或いは
酸素原子又は硫黄原子により中断された炭素原子数３ないし２５のアルキル基を
表わし、 Ｒ₂₄及びＲ₂₅は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアル
キル基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし１８のアルキル基
；酸素原子，硫黄原子又は次式：

【化９８】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし１８のアルキル基；炭素原
子数７ないし９のフェニルアルキル基；又は炭素原子数３ないし１８のアルケニ
ル基を表わし；或いはＲ₂₄及びＲ₂₅は、それらが結合している窒素原子と一緒に
なって、５−，６−又は７−員複素環式環を形成し、 Ｒ₂₆は水素原子又は炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表わし、 Ｒ₂₇及びＲ₂₈は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアル
キル基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし１８のアルキル基
；酸素原子，硫黄原子又は次式：

【化９９】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし１８のアルキル基；炭素原
子数７ないし９のフェニルアルキル基；又は炭素原子数３ないし１８のアルケニ
ル基を表わし；或いはＲ₂₇及びＲ₂₈は、それらが結合している窒素原子と一緒に
なって、５−，６−又は７−員複素環式環を形成し、 Ｒ₂₉及びＲ₃₀は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアル
キル基又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、或いはＲ₂₉及
びＲ₃₀は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、５−，６−又は７−
員複素環式環を形成し、 Ｘ₁ は直接結合、炭素原子数１ないし１２のアルキレン基、酸素原子又は硫黄
原子により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；炭素原子数２な
いし１２のアルケニレン基、炭素原子数２ないし１２のアルキリデン基、炭素原
子数７ないし１２のフェニルアルキリデン基、炭素原子数５ないし８のシクロア
ルキレン基、フェニレン基、次式：

【化１００】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₂ は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基；酸素原子，硫黄原子又は次式
：

【化１０１】 で表わされる基により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基；炭素
原子数２ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレ
ン基、フェニレン基、次式：

【化１０２】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₃ は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、酸素原子，硫黄原子又は次式
：

【化１０３】 で表わされる基により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基；炭素
原子数２ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレ
ン基、フェニレン基、次式：

【化１０４】 で表わされる基を表わし、 Ｍはｒ価の金属カチオンを表わし、 ｎは１又は２を表わし、 ｐは０，１又は２を表わし、 ｑは１，２，３，４，５又は６を表わし、そして ｒは１，２又は３を表わす化合物である。

【００３９】 別の式Ｉで表わされる好ましい化合物は、 式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は式II，III 又はIVで表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式：

【化１０５】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ 及びＲ₅ は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ない
し１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基
、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数１な
いし１２のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし１２のアルカノイルオキシ基、
炭素原子数３ないし１２のアルケノイルオキシ基；酸素原子により中断された炭
素原子数３ないし１２のアルカノイルオキシ基；シクロヘキシルカルボニルオキ
シ基、ベンゾイルオキシ基を表わし；或いは置換基Ｒ₂ とＲ₃ 又はＲ₃ とＲ₄ 又
はＲ₄ とＲ₅ の各組は結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し
；或いはＲ₄ は更に−（ＣＨ₂ ）_p −ＣＯＲ₁₉基又は−（ＣＨ₂ ）_q −ＯＨ基を
表わし、或いはＲ₃ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ が水素原子を表わす場合、Ｒ₄ は更に式Ｖ（
式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わす
）で表わされる基を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は式ＶＩ（式中、Ｒ₄ は式Ｖで表わされる基を表わさず、そ
してＲ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わす）
で表わされる基を表わし、 Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀，Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃，Ｒ₁₄及びＲ₁₅は各々互いに独立
して水素原子、弗素原子、弗素原子により置換された炭素原子数１ないし４のア
ルキル基、−ＣＮ基、次式：

【化１０６】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基、−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基又は−ＳＯ₃ Ｒ₂₆基を表わすが
、但し、Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀，Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃，Ｒ₁₄又はＲ₁₅の少なくと
も一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇は各々互いに独立してフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₁₉はヒドロキシル基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基又は次式：

【化１０７】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂₀及びＲ₂₁は各々互いに独立して水素原子、−ＣＦ₃ 基、炭素原子数１ない
し４のアルキル基を表わし、或いはＲ₂₀及びＲ₂₁は結合している炭素原子と一緒
になってシクロヘキシリデン環を形成し、 Ｒ₂₂はヒドロキシル基、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、フェニル基、
シクロヘキシル基；或いは酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２の
アルキル基を表わし、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２２のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、シク
ロヘキシル基、或いは酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアル
キル基を表わし、 Ｒ₂₄及びＲ₂₅は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１２のアル
キル基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし１２のアルキル基
；酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアルキル基；ベンジル基
又は炭素原子数３ないし１２のアルケニル基を表わし；或いはＲ₂₄及びＲ₂₅は、
それらが結合している窒素原子と一緒になって、６−員複素環式環を形成し、 Ｒ₂₆は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表わし、 Ｒ₂₇及びＲ₂₈は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１２のアル
キル基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし１２のアルキル基
；酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアルキル基；ベンジル基
又は炭素原子数３ないし１２のアルケニル基を表わし；或いはＲ₂₇及びＲ₂₈は、
それらが結合している窒素原子と一緒になって、６−員複素環式環を形成し、 Ｒ₂₉及びＲ₃₀は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１２のアル
キル基又はベンジル基を表わし、或いはＲ₂₉及びＲ₃₀は、それらが結合している
窒素原子と一緒になって、６−員複素環式環を形成し、 Ｘ₁ は直接結合、炭素原子数１ないし８のアルキレン基、酸素原子により中断
された炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；フェニレン基、次式：

【化１０８】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₂ は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、酸素原子により中断された炭素
原子数４ないし１２のアルキレン基；シクロヘキシレン基、フェニレン基、次式
：

【化１０９】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₃ は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、酸素原子により中断された炭
素原子数４ないし１２のアルキレン基；炭素原子数２ないし１２のアルケニレン
基、シクロヘキシレン基、フェニレン基、次式：

【化１１０】 で表わされる基を表わし、 ｎは１又は２を表わし、 ｐは１又は２を表わし、そして ｑは２又は３を表わす化合物である。

【００４０】 式Ｉで表わされる化合物であって、更に好ましいものは、 式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は式IIで表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式：

【化１１１】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし
９のフェニルアルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし
８のアルカノイルオキシ基又はベンゾイルオキシ基を表わし、 Ｒ₃ は水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒ₄ は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし
９のフェニルアルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし
８のアルカノイルオキシ基、−（ＣＨ₂ ）_p −ＣＯＲ₁₉基又は−（ＣＨ₂ ）_q −
ＯＨ基を表わし、或いはＲ₃ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ が水素原子を表わす場合、Ｒ₄ は更
に式Ｖ（式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味
を表わす）で表わされる基を表わし、 Ｒ₅ は水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は式ＶＩ（式中、Ｒ₄ は式Ｖで表わされる基を表わさず、そ
してＲ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わす）
で表わされる基を表わし、 Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀及びＲ₁₁は各々互いに独立して水素原子、弗素原子、
弗素原子により置換された炭素原子数１ないし４のアルキル基、−ＣＮ基、次式
：

【化１１２】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基又は−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基を表わすが、但し、Ｒ₇ ，Ｒ ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀又はＲ₁₁の少なくとも一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇は各々互いに独立してフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₁₉は炭素原子数１ないし８のアルコキシ基を表わし、 Ｒ₂₀及びＲ₂₁は各々互いに独立して水素原子、−ＣＦ₃ 基又は炭素原子数１な
いし４のアルキル基を表わし、或いはＲ₂₀及びＲ₂₁は結合している炭素原子と一
緒になってシクロヘキシリデン環を形成し、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２２のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、シク
ロヘキシル基、或いは酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアル
キル基を表わし、 Ｒ₂₄及びＲ₂₅は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基；酸
素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアルキル基；ベンジル基又は
炭素原子数３ないし１２のアルケニル基を表わし、 Ｒ₂₆は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、 Ｒ₂₉及びＲ₃₀は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキ
ル基又はベンジル基を表わし、 Ｘ₁ は直接結合、炭素原子数１ないし８のアルキレン基、次式：

【化１１３】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₂ は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、又は酸素原子により中断された
炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表わし、 Ｘ₃ は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、又は酸素原子により中断され
た炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表わし、 ｎは１又は２を表わし、 ｐは１又は２を表わし、そして ｑは２又は３を表わす、式Ｉで表わされる化合物である。

【００４１】 式Ｉで表わされる特に興味深い化合物は、 式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は式IIで表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式：

【化１１４】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニ
ルアルキル基、フェニル基又はシクロヘキシル基を表わし、 Ｒ₃ は水素原子又はメチル基を表わし、 Ｒ₄ は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし
９のフェニルアルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基又は式Ｖ（式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わす）で表わさ
れる基を表わし、 Ｒ₅ は水素原子又はメチル基を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は式ＶＩ（式中、Ｒ₄ は式Ｖで表わされる基を表わさず、そ
してＲ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わす）
で表わされる基を表わし、 Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀及びＲ₁₁は各々互いに独立して水素原子、弗素原子、
弗素原子により置換された炭素原子数１ないし４のアルキル基、−ＣＮ基、次式
：

【化１１５】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基又は−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基を表わすが、但し、Ｒ₇ ，Ｒ ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀又はＲ₁₁の少なくとも一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇は各々互いに独立してフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₂₀及びＲ₂₁は各々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表わし、或いはＲ₂₀及びＲ₂₁は結合している炭素原子と一緒になってシ
クロヘキシリデン環を形成し、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２２のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、シク
ロヘキシル基又は酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアルキル
基を表わし、 Ｒ₂₆は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、 Ｘ₁ は直接結合、炭素原子数１ないし８のアルキレン基又は−Ｏ−Ｘ₃ −Ｏ−
基を表わし、 Ｘ₃ は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基又は酸素原子により中断された
炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表わし、そして ｎは１又は２を表わす化合物である。

【００４２】 式Ｉで表わされる非常に特別に興味深い化合物は、 式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は式IIで表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式：

【化１１６】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ は炭素原子数１ないし８のアルキル基又はシクロヘキシル基を表わし、 Ｒ₃ は水素原子を表わし、 Ｒ₄ は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキシル基又は
式Ｖ（式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を
表わす）で表わされる基を表わし、 Ｒ₅ は水素原子を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は式ＶＩ（式中、Ｒ₄ は式Ｖで表わされる基を表わさず、そ
してＲ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わす）
で表わされる基を表わし、 Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀及びＲ₁₁は各々互いに独立して水素原子、弗素原子、
トリフルオロメチル基、−ＣＮ基又は次式：

【化１１７】 で表わされる基を表わすが、但し、Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀又はＲ₁₁の少なくと
も一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇は各々互いに独立してフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₂₀及びＲ₂₁は各々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表わし、或いはＲ₂₀及びＲ₂₁は結合している炭素原子と一緒になってシ
クロヘキシリデン環を形成し、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２２のアルキル基、ベンジル基又はシクロヘキシル
基を表わし、 Ｘ₁ は炭素原子数１ないし８のアルキレン基又は−Ｏ−Ｘ₃ −Ｏ−基を表わし
、 Ｘ₃ は炭素原子数２ないし１４のアルキレン基を表わし、そして ｎは１又は２を表わす化合物である。

【００４３】 式Ｉで表わされる非常に特別に好ましい化合物は、 式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は式IIで表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式：

【化１１８】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒ₃ は水素原子を表わし、 Ｒ₄ は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒ₅ は水素原子を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は式ＶＩ（式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義
されたものと同じ意味を表わす）で表わされる基を表わし、 Ｒ₇ は水素原子又はトリフルオロメチル基を表わし、 Ｒ₈ は水素原子、トリフルオロメチル基又は−ＣＮ基を表わし、 Ｒ₉ は水素原子又はトリフルオロメチル基を表わし、 Ｒ₁₀は水素原子、トリフルオロメチル基又は−ＣＮ基を表わし、 Ｒ₁₁は水素原子、弗素原子、トリフルオロメチル基、−ＣＮ基又は次式：

【化１１９】 で表わされる基を表わすが、但し、Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀又はＲ₁₁の少なくと
も一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇はフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２２のアルキル基を表わし、 Ｘ₁ は−Ｏ−Ｘ₃ −Ｏ−基を表わし、 Ｘ₃ は炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表わし、そして ｎは１又は２を表わす化合物である。

【００４４】 式Ｉで表わされる化合物は公知方法にて製造することができる。式Ｉで表わさ
れる化合物の好ましい製造方法は、ＷＯ−Ａ−９９／６７２３２に開示されてい
る。

【００４５】 式Ｉで表わされる化合物は、酸化的、熱的又は光により誘起される分解に対し
て有機材料を安定化するために適している。有機材料の安定化における酸化防止
剤としてのそれらの優れた作用に対して、特別な注意が向けられている。

【００４６】 この様な物質の具体的な例を以下に示す。 １．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリ
イソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリ
ビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレ
フィンのポリマー、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエ
チレン（所望により架橋されていてよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰ
Ｅ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高
分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）
、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）
，（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。

【００４７】 ポリオレフィン、すなわち先の段落で例示したモノオレフィン、好ましくはポ
リエチレン及びポリプロピレンのポリマーは、異なる方法、そしてとりわけ、下
記の方法により製造することができる。

【００４８】 ａ）ラジカル重合（通常、高圧及び高められた温度の下で行われる）。 ｂ）通常、周期律表の族IVｂ，Ｖｂ，VIｂ又はVIIIの１種又は１種よりも多くの
金属を含む触媒を使用する触媒重合。前記金属は、通常１種又はそれより多くの
配位子を有しており、代表的にはπ−又はσ−配位されていてよい酸化物，ハロ
ゲン化物，アルコレート，エステル，エーテル，アミン，アルキル，アルケニル
及び／又はアリールである。前記金属錯体は、遊離の形態にあってもよいし又は
基材上に、代表的には活性化塩化マグネシウム、三塩化チタン、アルミナ又は酸
化珪素上に担持されていてもよい。前記触媒は、重合媒体に可溶性であってもよ
いし又は非可溶性であってもよい。前記触媒は重合の際に単独で使用してもよく
、又は別の活性剤、代表的には金属アルキル、金属ハイドライド、金属アルキル
ハライド、金属アルキルオキシド若しくは金属アルキルオキサンを使用してもよ
く、前記金属は、周期律表の族Ｉａ，IIａ及び／又はIIIaの元素である。活性剤
は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル類を用いて都合良く変
性されていてよい。前記触媒系は、通常、フィリップス（Phillips）触媒，スタ
ンダードオイルインディアナ（Standard Oil Indiana）触媒，チーグラー（−ナ
ッタ）〔Ziegler(-Natta) 〕触媒，ＴＮＺ〔デュポン（DuPont）〕触媒，メタロ
セン触媒又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と呼ばれる。

【００４９】 ２．１．で記述したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレ
ンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰ
Ｅ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）及び異なる種類のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ
／ＨＤＰＥ）。

【００５０】 ３．モノオレフィンとジオレフィンとの互いの又はその他のビニルモノマーとの
コポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリエチレ
ン（ＬＬＤＰＥ）及びそれらの低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プ
ロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、
エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレ
ン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オ
クテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シ
クロオレフィンコポリマー（例えば、ＣＯＣの様なエチレン／ノルボルネン）、
エチレン／１−オレフィンコポリマー（１−オレフィンは現場で発生する）、プ
ロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチ
レン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポ
リマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニル
コポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（イオノマー）
、並びにエチレンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタ
ジエン又はエチリデン−ノルボルネンとのターポリマー；並びに前記コポリマー
同士及び上記１．に記載されたポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エ
チレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（
ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ
／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互又はランダムポリアルキレン／一酸化炭
素コポリマー並びにそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。

【００５１】 ４．水素化変性体（例えば粘着付与剤）を包含する炭化水素樹脂（例えば炭素原
子数５ないし９）及びポリアルキレンと澱粉との混合物。

【００５２】 １．ないし４．からのホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、
アイソタクチック、ヘミアイソタクチック又はアタクチックを包含するどのよう
な立体構造を有していてもよい；なかでもアタクチックポリマーが好ましい。ス
テレオブロックポリマーもまた包含される。

【００５３】 ５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）
。

【００５４】 ６．スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの全ての異性体、とりわけ
ｐ−ビニルトルエン、エチルスチレンの全ての異性体、プロピルスチレン、ビニ
ルビフェニル、ビニルナフタレン、及びビニルアントラセン、及びそれらの混合
物を包含するビニル芳香族モノマーから誘導される芳香族ホモポリマー及びコポ
リマー。ホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチッ
ク、ヘミアイソタクチック又はアタクチックを包含するどのような立体構造を有
していてもよい；なかでもアタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロック
ポリマーも包含される。

【００５５】 ６ａ．エチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、無水マレイン酸、マレイ
ミド、酢酸ビニル及び塩化ビニル又はそれらのアクリル誘導体及びその混合物か
ら選択される前述のビニル芳香族モノマー及びコモノマーを包含するコポリマー
、例えばスチレン／ブタジエンコポリマー、スチレン／アクリロニトリルコポリ
マー、スチレン／エチレンコポリマー（インターポリマー）、スチレン／アルキ
ルメタクリレートコポリマー、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレートコ
ポリマー、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレートコポリマー、スチレ
ン／無水マレイン酸コポリマー、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレ
ートコポリマー；スチレンコポリマーとその他のポリマー、例えばポリアクリレ
ート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーとから製
造された耐衝撃性を有する混合物；及びスチレンのブロックコポリマー、例えば
スチレン／ブタジエン／スチレンブロックコポリマー、スチレン／イソプレン／
スチレンブロックコポリマー、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンブロッ
クコポリマー又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンブロックコポリマ
ー。

【００５６】 ６ｂ．とりわけ、しばしば、ポリビニルシクロヘキサン（ＰＶＣＨ）として記載
される、アタクチックポリスチレンの水素化により製造されるポリシクロヘキシ
ルエチレン（ＰＣＨＥ）を包含する、６．に記載されたポリマーの水素化から誘
導される水素化された芳香族ポリマー。

【００５７】 ６ｃ．６ａ．に記載されたポリマーの水素化から誘導される水素化された芳香族
ポリマー。

【００５８】 ホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘ
ミアイソタクチック又はアタクチックを包含するどのような立体構造を有してい
てもよい；なかでもアタクチック・ポリマーが好ましい。ステレオブロックポリ
マーも包含される。

【００５９】 ７．スチレン又はα−メチルスチレンのようなビニル芳香族モノマーのグラフト
コポリマー、例えばポリブタジエンに対するスチレンのグラフトコポリマー、ポ
リブタジエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーに対
するスチレンのグラフトコポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン及びアク
リロニトリル（又はメタクリロニトリル）のグラフトコポリマー；ポリブタジエ
ンに対するスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレートのグラフトコ
ポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン及び無水マレイン酸のグラフトコポ
リマー；ポリブタジエンに対するスチレン、アクリロニトリル及び無水マレイン
酸又はマレイミドのグラフトコポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン及び
マレイミドのグラフトコポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン及びアルキ
ルアクリレート又はメタクリレートのグラフトコポリマー；エチレン／プロピレ
ン／ジエンターポリマーに対するスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポ
リマー；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートに対するス
チレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー；アクリレート／ブタジエン
コポリマーに対するスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー、並び
にそれらの６．において記載したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳポリマー
、ＭＢＳポリマー、ＡＳＡポリマー又はＡＥＳポリマーとして知られるコポリマ
ー混合物。

【００６０】 ８．ハロゲン含有ポリマー例えばポリクロロプレン、塩化ゴム、塩化及び臭化イ
ソブチレン−イソプレンコポリマー（ハロブチルゴム）、塩化又はスルホクロル
化ポリエチレン、エチレンと塩化エチレンとのコポリマー、エピクロロヒドリン
ホモ−及びコポリマー、とりわけハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えば
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビニリデン、
並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニルデンコポリマー、塩
化ビニル／酢酸ビニルコポリマー又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。

【００６１】 ９．α，β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポリマー例えばポリアクリ
レート及びポリメタクリレート；ブチルアクリレートを用いて耐衝撃性を改良し
たポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。

【００６２】 １０．９．において記載したモノマーの互いの又はその他の不飽和モノマーとの
コポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリ
ル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキル
アクリレート又はアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー又はアクリロ
ニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。

【００６３】 １１．不飽和アルコール及びアミン又はそのアシル誘導体又はそのアセタールか
ら誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニ
ルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン；並びに上記１．
において記載したオレフィンとのそれらのコポリマー。

【００６４】 １２．環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例えばポリアルキレングリ
コール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はビスグリシジルエ
ーテルとのそれらのコポリマー。

【００６５】 １３．ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及びコモノマーとしてエチレ
ンオキシドを含むそれらのポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリ
レート又はＭＢＳを用いて変性されたポリアセタール。

【００６６】 １４．ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、並びにポリフェニレンオキシド
とポリスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。

【００６７】 １５．一成分としての末端ヒドロキシル基を有するポリエーテル、ポリエステル
又はポリブタジエンと、他成分としての脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートと
から誘導されたポリウレタン、並びにその先駆物質。

【００６８】 １６．ジアミン及びジカルボン酸から、及び／又はアミノカルボン酸又は相当す
るラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、
ポリアミド６、ポリアミド６／６，６／１０，６／９，６／１２，４／６，１２
／１２，ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンとアジピン酸
とから出発した芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及
び／又はテレフタル酸及び変性剤としてのエラストマーを用いて又は用いないで
製造されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテ
レフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；及び更に、前記ポ
リアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、イオノマー又は化学的に結
合された若しくはグラフトされたエラストマーとのコポリマー；又はポリエーテ
ル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラ
メチレングリコールとのコポリマー；並びにＥＰＤＭ又はＡＢＳを用いて変性さ
れたポリアミド又はコポリアミド；及び加工中に縮合したポリアミド（ＲＩＭ−
ポリアミド系）。

【００６９】 １７．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリ
エステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。

【００７０】 １８．ジカルボン酸及びジオールから、及び／又はヒドロキシカルボン酸又は相
当するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサン
テレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）及びポリヒドロキシベ
ンゾエート、並びにヒドロキシ末端基を有するポリエーテルから誘導されたブロ
ックコポリエーテルエステル；及び更にポリカーボネート又はＭＢＳを用いて変
性されたポリエステル。

【００７１】 １９．ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。

【００７２】 ２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。

【００７３】 ２１．一成分としてのアルデヒド及び他成分としてのフェノール、尿素及びメラ
ミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、
尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。

【００７４】 ２２．乾性及び非乾性アルキド樹脂。

【００７５】 ２３．飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールと架橋剤としてのビニル化
合物とから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、及び更に低燃性のそのハロゲン
含有変性体。

【００７６】 ２４．置換アクリレート、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート
又はポリエステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。

【００７７】 ２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソ
シアネート又はエポキシ樹脂を用いて架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹
脂及びアクリレート樹脂。

【００７８】 ２６．脂肪族，脂環式，複素環式又は芳香族グリシジル化合物、例えば、ビスフ
ェノールＡ及びビスフェノールＦのジグリシジルエーテル生成物から誘導される
架橋エポキシ樹脂で、これらは、慣用の硬化剤、例えば、酸無水物又はアミンを
用いて、促進剤の存在下又は非存在下で架橋されるもの。

【００７９】 ２７．天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチン及び化学的に変性され
た同種の誘導体、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート及び
セルロースブチレート、又はセルロースエーテル、例えばメチルセルロース；並
びにロジン及びそれらの誘導体。

【００８０】 ２８．上述のポリマーの配合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリ
アミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢ
Ｓ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／
ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵ
Ｒ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ
６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／
ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。

【００８１】 ２９．純粋なモノマー状化合物又は前記化合物の混合物である天然及び合成有機
材料、例えば鉱油、動物及び植物脂肪、油及びワックス、又は合成エステル（例
えばフタレート、アジペート、ホスフェート又はトリメリテート）をベースとす
る油、脂肪及びワックス、及び更にどのような重量比でもよい合成エステルと鉱
油との混合物、代表的には紡糸組成物として使用される混合物、並びに前記材料
の水性乳剤。

【００８２】 ３０．天然又は合成ゴムの水性乳剤、例えば天然ラテックス又はカルボキシル化
スチレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。

【００８３】 本発明の別の対象は、それ故、 ａ）酸化的、熱的又は光により誘起される分解を受け易い有機材料、及び ｂ）少なくとも１種の式Ｉで表わされる化合物 を含む組成物である。

【００８４】 好ましい有機材料は、天然，半合成又は、好ましくは、合成ポリマーである。

【００８５】 特に言及すべき有機材料は、合成ポリマー、最も好ましくは、熱可塑性ポリマ
ーである。とりわけ好ましい有機材料は、ポリアセタール、ポリオレフィン例え
ばポリプロピレン又はポリエチレン、ポリエーテル／ポリウレタン、ポリエステ
ル例えばポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート又は加硫ゴムである。

【００８６】 特に述べるために取り上げるべきことは、とりわけ、熱可塑性樹脂の加工中の
熱作用下での酸化又は熱分解に対する式Ｉで表わされる新規化合物の有用性であ
る。本発明の式Ｉで表わされる化合物は、それ故、加工安定剤として使用するた
めに非常に適している。

【００８７】 前記式Ｉで表わされる化合物は、好ましくは、安定化すべき有機材料に、前記
材料の質量に基づいて、０．０００５ないし１０％、好ましくは０．００１ない
し２％、代表的には０．０１ないし２％の濃度で添加される。

【００８８】 前記式Ｉで表わされる化合物を含むことに加えて、本発明の組成物は、別の補
助安定剤、代表的には下記のものを含んでもよい。

【００８９】１．酸化防止剤 １．１．アルキル化モノフェノール 例えば、２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４
，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−エチルフェノール、２
，６−ジ第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−
イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノ−ル、２
−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノー
ル、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、側鎖が直鎖状又は
分岐鎖状であるノニルフェノール、例えば、２，６−ジノニル−４−メチルフェ
ノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノ
ール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノ
ール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノー
ル及びそれらの混合物。

【００９０】１．２．アルキルチオメチルフェノール 例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４
−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチ
ル−６−エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノ
ール。

【００９１】１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン 例えば、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ第三ブ
チルヒドロキノン、２，５−ジ第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−
４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレ
ート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。

【００９２】１．４．トコフェロール 例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ
−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。

【００９３】１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２
，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三
ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ第二アミルフェノール）
、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド
。

【００９４】１．６．アルキリデンビスフェノール 例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）
、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２
’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール
］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メ
チレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブ
チル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチ
ルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，
α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（
２，６−ジ第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル
−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２
−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−
第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカ
プトブタン、エチレングリコール−ビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４
’ーヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチル
フェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシ
フェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５
−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。

【００９５】１．７．Ｏ−，Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物 例えば、３，５，３’，５’−テトラ第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジ
ベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベ
ンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチル
ベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルメルカプトアセテート。

【００９６】１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート 例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−２−ヒドロ
キシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，
２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス
［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３
，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。

【００９７】１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物 例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４
，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。

【００９８】１．１０．トリアジン化合物 例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプ
ト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３
，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−ト
リス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリ
アジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル
）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−
２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１
，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−
ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。

【００９９】１．１１．ベンジルホスホネート 例えば、ジメチル２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネー
ト、ジエチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジ
オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジ
オクタデシル５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネー
ト、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエ
ステルのカルシウム塩。

【０１００】１．１２．アシルアミノフェノール 例えば、４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸ア
ニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カ
ルバメート。

【０１０１】１．１３．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン 酸と以下の一価又は多価アルコールとのエステル アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チ
オジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペ
ンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’
−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペ
ンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−
ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．
２］オクタン。

【０１０２】１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロ ピオン酸と以下の一価又は多価アルコールとのエステル アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チ
オジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペ
ンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’
−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペ
ンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−
ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．
２］オクタン、３，９−ビス［２−｛３−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，
４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン。

【０１０３】１．１５．β−（３，５−ジシクロシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル） プロピオン酸と以下の一価又は多価アルコールとのエステル アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１
，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール
、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、ト
リス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチ
ル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメ
チルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−
ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

【０１０４】１．１６．３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と以下の一価又 は多価アルコールとのエステル アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１
，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール
、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、ト
リス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチ
ル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメ
チルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−
ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

【０１０５】１．１７．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン 酸のアミド 例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド
、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド〔ユニロイヤル(Uniroyal)社から
提供される商標名ナウガード(Naugard) ＸＬ−１〕。

【０１０６】１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）

【０１０７】１．１９．アミン系酸化防止剤 例えば、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ
第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペン
チル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペ
ンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−
ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナ
フチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェ
ニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチ
ル−Ｎ，Ｎ’−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ
−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニ
ル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルア
ミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例え
ばｐ，ｐ’−ジ第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノー
ル、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ド
デカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（
４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−４−ジメチルアミノメ
チルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジ
フェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフ
ェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２
−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（
１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル
−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフ
ェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合
物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジ
アルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及び
ジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３
−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジア
ルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアル
キル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ，
−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）ヘキサメチレンジ
アミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート
、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジン−４−オール。

【０１０８】 ２．紫外線吸収剤及び光安定剤 ２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール 例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−
ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル
）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三アミル−２’−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベン
ジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブ
チル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２
−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロ
キシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾ
トリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メト
キシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチル
ヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２
−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２
’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾ
トリアゾール−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−
メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；次式：［Ｒ
−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＣＯＯ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −］₂ （式中、Ｒは３’−第三ブチル−
４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表
わす）で表わされる化合物、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチ
ルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベン
ゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメ
チルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾ
ール。

【０１０９】２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン 例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオ
キシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロ
キシ及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。

【０１１０】２．３．置換及び非置換安息香酸エステル 例えば、４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オク
チルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチ
ルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ第三ブ
チルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシ
ル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチ
ルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。

【０１１１】２．４．アクリレート 例えば、エチルα−シアノ−β, β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル
α−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシシ
ンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチ
ルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメト
キシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビ
ニル) −２−メチルインドリン。

【０１１２】２．５．ニッケル化合物 例えば、２，２’−チオビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル)
フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１又は１：２錯体であって、ｎ−ブチ
ルアミン、トリエタノールアミン若しくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミ
ンのような付加的な配位子を伴うもの又は伴わないもの、ニッケルジブチルジチ
オカルバメート；モノアルキルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ第
三ブチルベンジルホスホン酸のメチル若しくはエチルエステルのニッケル塩；ケ
トキシム、例えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシム
のニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールの
ニッケル錯体であって、他の配位子を伴うもの又は伴わないもの。

【０１１３】２．６．立体障害性アミン 例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート
、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１
−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−
３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロ
キシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコ
ハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジク
ロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状又は環状縮合生成物、トリス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタ
ンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，
３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ
−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネート
、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザス
ピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２
，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モ
ルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状又は環状縮合
生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミ
ノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−
ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−
トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物
、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−
トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピヘリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３
−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロ
リジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペラジンとの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シク
ロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物
、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタン及び２，４，６−トリクロ
ロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジンの縮合生成物〔ＣＡＳ Ｒｅｇ．Ｎｏ［136504-96-6 ］〕；１
，６−ヘキサンジアミン及び２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン
並びにＮ，Ｎ−ジブチルアミン及び４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジンの縮合生成物〔ＣＡＳ Ｒｅｇ．Ｎｏ［192268-64-7 ］〕；Ｎ
−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシン
イミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ド
デシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−
オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン、７，７，９，
９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−
オキソ−スピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、１，１
−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル
）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビスホルミル−Ｎ，Ｎ’
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジア
ミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−
４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、無水マ
レイン酸−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−ア
ミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジン
との反応生成物。

【０１１４】２．７．オキサミド 例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオ
キサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、
２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ第三ブチルオキサニリド、２−エト
キシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピ
ル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド及び該
化合物と２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ第三ブトキサニリドとの混
合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物及びｏ−及びｐ−エ
トキシ−二置換オキサニリドの混合物。

【０１１５】２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン 例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル
) −１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェ
ニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン
、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロ
ピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリ
アジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス
（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１
，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル
）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２
−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フ
ェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−
［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ
）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）
−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１
，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ド
デシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）
フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキ
シ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプ
ロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン
、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２
−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン。

【０１１６】３．金属奪活剤 例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロ
イルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、
３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オ
キサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイ
ルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ
，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリ
チロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。

【０１１７】４．ホスフィット及びホスホナイト 例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェ
ニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラ
ウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリ
トリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィ
ット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第
三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジク
ミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ第三ブ
チル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシ
ルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−
６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６
−トリス第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェ
ニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２
，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２
−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）メ
チルホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチル
ホスフィット、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２−メ
チル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２”
−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ第三ブチル−１，
１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（
３，３’，５，５’−テトラ第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジ
イル）ホスフィット、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ第三ブ
チルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィラン。

【０１１８】５．ヒドロキシルアミン 例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキ
シルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒド
ロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキ
サデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ
−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ
−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素添加された牛脂アミンから誘導された
Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。

【０１１９】６．ニトロン 例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニト
ロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニ
トロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−
ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘ
キサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル
ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−
α−ヘキサデシルニトロン、水素添加された牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−
ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。

【０１２０】７．チオ相乗剤 例えば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネ
ート。

【０１２１】８．過酸化物掃去剤 例えば、β−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウリル、ステアリル、ミ
リスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール又は２−メル
カプトベンズイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタ
デシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプ
ト）プロピオネート。

【０１２２】９．ポリアミド安定剤 例えば、沃化物及び／又は燐化合物及び二価マンガン塩と組み合わせた銅塩。

【０１２３】１０．塩基性補助安定剤 例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシ
アヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタ
ン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムス
テアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステア
レート、ナトリウムリシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピロカ
テコレート又は亜鉛ピロカテココレート。

【０１２４】１１．核剤 例えば、無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例えば、二酸化チタン又は酸
化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩又は硫酸塩；有
機化合物、例えば、モノ−又はポリカルボン酸及びその塩、例えば、４−第三ブ
チル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸
ナトリウム；ポリマー状化合物、例えばイオン性コポリマー（イオノマー）。と
りわけ好ましいものは、１，３：２，４−ビス（３’，４’−ジメチルベンジリ
デン）ソルビトール、１，３：２，４−ジ（パラメチル−ジベンジリデン）ソル
ビトール、及び１，３：２，４−ジ（ベンジリデン）ソルビトールである。

【０１２５】１２．充填剤及び強化剤 例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タル
ク、陶土、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、
黒鉛、木材粉末、及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。

【０１２６】１３．その他の添加剤 例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整
剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤及び発泡剤。

【０１２７】１４．ベンゾフラノン及びインドリノン 例えば、米国出願Ｕ．Ｓ．４３２５８６３、Ｕ．Ｓ．４３３８２４４、Ｕ．Ｓ
．５１７５３１２、Ｕ．Ｓ．５２１６０５２、Ｕ．Ｓ．５２５２６４３、ＤＥ−
Ａ−４３１６６１１、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６、
ＥＰ−Ａ−０５８９８３９又はＥＰ−Ａ−０５９１１０２に開示されたもの、或
いは３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ第三ブチル
ベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイ
ルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３’−ビス［５，
７−ジ第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフ
ラン−２−オン］、５，７−ジ第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベン
ゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５
，７−ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピ
バロイルオキシフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オン、３
−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オ
ン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン
−２−オン。

【０１２８】 補助安定剤は、典型的には、安定化すべき材料の総量に基づき０．０１ないし
１０％の濃度で使用される。

【０１２９】 式Ｉで表わされる新規化合物は、特に、フェノール系酸化防止剤、光安定剤及
び／又は加工安定剤と共に使用し得る。

【０１３０】 他の好ましい組成物は、式Ｉで表わされる化合物に加え、有機ホスフィット又
はホスホナイト系の化合物を含む。

【０１３１】 例えば、タルク、炭酸カルシウム、雲母、カオリン等の充填剤及び強化剤（リ
スト中１２項）は、例えば、安定化すべきポリオレフィンの総重量に基づき、０
．０１ないし４０％の濃度でポリオレフィンに加えられる。

【０１３２】 例えば、金属水酸化物、特に水酸化アルミニウム又は水酸化マグネシウム、等
の充填剤及び強化剤（リスト中１２項）は、例えば、安定化すべきポリオレフィ
ンの総重量に基づき、０．０１ないし６０％の濃度でポリオレフィンに加えられ
る。

【０１３３】 充填剤としてのカーボンブラックは、有利には、安定化すべきポリオレフィン
の総重量に基づき、０．０１ないし５％の濃度でポリオレフィンに加えられる。

【０１３４】 強化剤としてのガラス繊維は、有利には、安定化すべきポリオレフィンの総重
量に基づき、０．０１ないし２０％の濃度でポリオレフィンに加えられる。

【０１３５】 本発明の組成物のまた更なる添加剤として重要なものは、高級脂肪酸のアルカ
リ土類金属、例えば、ステアリン酸カルシウム、乳酸カルシウム及び／又はカル
シウムステアロイル−２−ラクテート等である。

【０１３６】 有機重合体材料、例えばポリオレフィンの、対応する造型物品への加工のため
の慣用安定剤組み合わせとしては、フェノール系酸化防止剤と有機ホスフィット
又はホスホナイトに基づく二次酸化防止剤との組み合わせが勧められる。しかし
ながら、基材及び加工によっては、多くのポリオレフィン加工機は、約２８０℃
より高い温度範囲で工程を実施しなければならない。高温実施、特に、３００℃
より高い温度におけるものには、式Ｉで表わされる加工安定剤を含めることが特
に適している。化学工業的材料及び造型物品、例えば、ＨＤポリオレフィンに基
づくもの、例えば、パイプ類及びその化学工業的変形物（付属品類）が、より高
い生産量及びより少ない不良品で生産され得る。式Ｉで表わされる化合物の更な
る利点はまた、非常に少ない量で使用できることであり、それは結果として、慣
用の安定剤混合物に比べ、全体としての酸化防止剤濃度の減少をもたらす。例え
ば、式Ｉで表わされる化合物を低濃度で使用すると、例えば、ポリオレフィンに
おいて、全体としての安定剤濃度を約三分の一減少させることができ、それは同
時に、経済的利便性を表わす。

【０１３７】 式Ｉで表わされる化合物及びその他の任意の添加剤は、公知の方法により有機
重合体材料に配合する、例えば、造型物品への造型前又は造型中に配合するか、
或いは代わりに、有機重合体材料に該化合物の溶液又は分散液を塗布し続いて溶
媒を蒸発させる。式Ｉで表わされる化合物は、安定化すべき材料に、これらの化
合物を含むマスターバッチの形態で、典型的には、例えば２．５ないし２５質量
％の濃度で添加することができる。

【０１３８】 式Ｉで表される化合物はまた、重合の前又は重合中或いは架橋の前に添加して
もよい。

【０１３９】 この点に関し、特に注意を喚起すべきことは、式Ｉで表される新規の化合物は
変色を、とりわけ例えばポリウレタンフォームの製造における所謂ピンク色化を
抑制するという驚くべき特色である。

【０１４０】 式Ｉで表される化合物は、及び適用できる場合には更なる添加剤は、純粋形で
又はワックス、油又はポリマー中にカプセル化されて、安定化すべき材料に配合
され得る。

【０１４１】 式Ｉで表わされる化合物はまた、そして適用できる場合には更なる添加剤は、
安定化すべきポリマーに噴霧されてもよい。それらは他の添加剤（例えば、上記
慣用添加剤）又はその溶融物を希釈するために使用することもでき、その結果、
それらはこれらの添加剤と共に安定化すべきポリマー上に噴霧することもできる
。重合触媒の不活性化中に噴霧により塗布することが特に有利であるが、この場
合、従来、噴霧は不活性化のために使用された気体を使用して行われる。

【０１４２】 そのようにして安定化された材料は、至極広範な種々の形態、例えば、フィル
ム、繊維、テープ、造型用化合物又は断面材、或いは表面塗装用結合材、特に粉
体塗料、接着剤又はセメント、の形態で使用され得る。

【０１４３】 そのようにして安定化された材料は、同様に、至極広範な種々の形態、特に、
抽出媒体と永続的に接触している厚層ポリオレフィン造型物品、例えば、液体又
は気体用パイプ、フィルム、繊維、土壌メンブレン、テープ、断面材又はタンク
、の形態で使用され得る。

【０１４４】 好ましい厚層ポリオレフィン造型物品は、１ないし５０ｍｍ、特に１ないし３
０ｍｍ、例えば、２ないし１０ｍｍ、の層厚を有する。

【０１４５】 それゆえ、本願発明の好ましい態様は、式Ｉで表わされる化合物の、酸化的、
熱的又は光により誘起される分解に対する有機材料の安定化のための使用である
。

【０１４６】 本発明はまた、有機材料に少なくとも一つの式Ｉで表わされる化合物を配合す
るか塗布することからなる、酸化的、熱的又は光により誘起される分解に対する
有機材料の安定化方法にも関する。

【０１４７】 本発明はまた、機能液、好ましくは潤滑剤、圧媒液及び金属加工液の系及び４
−ストローク、オットー(Otto)、２−ストローク、ディーゼル、ワンケル(Wanke
l)及び軌道型パワーエンジン用燃料からのもの、及び少なくとも一つの式Ｉで表
わされる化合物を含む組成物にも関する。

【０１４８】 式Ｉで表わされる化合物は、好ましくは、多機能安定剤として潤滑剤及び燃料
中で使用され得る。すなわち、それらは、それら自身において、酸化防止的、摩
擦減少的、極圧保護的及び磨耗保護的作用を、また耐腐食特性をも兼備する。

【０１４９】 好ましい潤滑剤及び燃料及び関連製品は、エンジンオイル、タービンオイル、
ギヤオイル、圧媒液、ディーゼル又はオットー燃料、金属加工液及び潤滑グリー
スである。

【０１５０】 特に好ましい潤滑剤は、鉱物油、合成油又はその混合物である。

【０１５１】 それ自体公知の製品が潤滑剤、圧媒液及び金属加工液の系からの機能液として
使用される。

【０１５２】 考慮される潤滑剤及び圧媒液は当業者によく知られた物であろうし、関連専門
文献、例えば、ディーター・クラマン(Dieter Klamann)「潤滑剤及び関連製品」
、シューワ・コベック(Schewe-Kobek)「潤滑剤ハンドブック」（アルフレッド・
ヒューセグ−ヴェルラグ博士(Dr.Alfred Huetig-Verlag) ハイデルベルグ、１９
７４年）及び、「ウルマン、工業化学百科事典(Ullmann's Encyclopaedia of In
dustiralChemistry)」１３巻、８５−９４頁（ヴェルラグ・ケミー、ワインハイ
ム、１９７７年）に記載されている。

【０１５３】 潤滑剤は、特に、オイル及びグリース、例えば鉱物油をベースとするものであ
る。オイルが好ましい。

【０１５４】 使用され得る潤滑剤の更なるグループは、植物又は動物油、グリーズ、獣脂及
びワックス、又はそれらの互いとの混合物、又は上記の鉱物油又は合成油との混
合物である。

【０１５５】 植物又は動物油、グリーズ、獣脂及びワックスは、例えば、椰子の実油、椰子
油、ナタネ油、アブラナ油、亜麻仁油、塊茎油、大豆油、綿実油、ヒマワリ油、
かぼちゃ種油、ココナツ油、トウモロコシ油、ヒマシ油、樹堅果油及びそれらの
混合物、魚油、牛脂、牛脚脂及び骨脂等の屠殺された動物から得られる獣脂、及
びそれらの変性された、エポキシ化された及びスルホキシ化された形態、例えば
、エポキシ化された大豆油である。

【０１５６】 鉱油は、特に炭化水素化合物をベースとする。

【０１５７】 合成油の例には、脂肪族又は芳香族カルボキシエステルをベースとする潤滑剤
、重合性エステル、ポリアルキレンオキシド、燐酸エステル、ポリ−α−オレフ
ィン又はシリコーン、二価の酸と一価のアルコールのジエステル、例えば、セバ
シン酸ジオクチル、アジピン酸ジノニル、トリメチロールプロパンと一価の酸又
はそのような酸の混合物とのトリエステル、例えば、トリメチロールプロパント
リペラゴネート、トリメチロールプロパントリカプリレート又はそれらの混合物
、ペンタエリトリトールと一価の酸又はそのような酸の混合物とのテトラエステ
ル、例えば、ペンタエリトリトールテトラカプリレート、又は、一価の酸及び二
価の酸と多価アルコールとの複合エステル、例えば、トリメチロールプロパンと
カプリル酸及びセバシン酸との複合エステル、又はその混合物等がある。鉱物油
とは別に、特に適するもの、例えば、ポリ−α−オレフィン、エステルをベース
とする潤滑剤、ホスフェート、グリコール、ポリグリコール及びポリアルキレン
グリコール、またそれらの水との混合物がある。

【０１５８】 金属加工液及び圧媒液は、潤滑剤のために上記したものと同様の物質をベース
に調製され得、それらの液体は、しばしばそのような物質と水あるいは他の液体
との乳液である。

【０１５９】 本発明の潤滑剤及び燃料組成物は、例えば、内燃エンジンにおいて、例えばオ
ットー、ディーゼル、２−ストローク、ワンケル又はロータリーエンジンを備え
た自動車において使用される。

【０１６０】 式Ｉで表わされる化合物は、潤滑剤及び燃料、及び金属加工液に容易に溶解し
、従って、潤滑剤及び燃料、金属加工液及び圧媒液のための添加剤として特に適
している。

【０１６１】 潤滑剤における添加剤として、式Ｉで表わされる化合物は、非常に少量であっ
てさえ効果的である。それらは、有利には、各場合において潤滑剤に基づき、０
．０１ないし５質量％、好ましくは０．０５ないし３質量％、非常に特別に０．
１ないし２質量％の量で潤滑剤と混合される。

【０１６２】 式Ｉで表わされる化合物は、それ自体公知の方法で潤滑剤及び燃料と混合され
得る。式Ｉで表わされる化合物は、例えば油中に容易に溶解する。所謂マスター
バッチを調製することも可能であり、該バッチは、使用の形態の一つとして適当
な潤滑剤又は燃料で、使用に適する濃度に希釈してもよい。その場合、１質量％
より高い濃度が可能である。

【０１６３】 潤滑剤及び燃料、金属加工液及び圧媒液は更に、その基本特性を更に改良する
ために添加される他の添加剤を含んでもよく、そのような添加剤は、他の酸化防
止剤、金属不動態化剤、錆抑制剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、分散剤、洗
剤、摩擦係数減少剤、他の極圧添加剤及び耐磨耗添加剤等を含む。そのような他
の添加剤は有利には、０．０１ないし５質量％の量で加えられる。

【０１６４】 多数のそのような化合物を、例えば上記リスト「１．酸化防止剤」に、特に１
．１ないし１．１９項に、見出し得る。加えて、更なる添加剤を例として挙げる
ことができる：

【０１６５】別の酸化防止剤の例 ： 脂肪族又は芳香族ホスフィット、チオジプロピオン酸又はチオジ酢酸のエステ
ル或いはジチオカルバミン酸又はジチオ燐酸の塩、２，２，１２，１２−テトラ
メチル−５，９−ジヒドロキシ−３，７，１１−トリチアトリデカン及び２，２
，１５，１５−テトラメチル−５，１２−ジヒドロキシ−３，７，１０，１４−
テトラチアヘキサデカン。

【０１６６】金属奪活剤、例えば銅用奪活剤の例 ： ａ）ベンゾトリアゾール及びその誘導体、例えば２−メルカプベンゾトリアゾー
ル、２，５−ジメルカプトベンゾトリアゾール、４−又は５−アルキルベンゾト
リアゾール（例えば、トルトリアゾール）及びその誘導体、４，５，６，７−テ
トラヒドロベンゾトリアゾール、５，５’−メチレンビス−ベンゾトリアゾール
；ベンゾトリアゾール又はトルトリアゾールのマンニッヒ塩基、例えば１−［ジ
（２−エチルヘキシル）アミノメチル］トルトリアゾール及び１−［ジ（２−エ
チルヘキシル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール；アルコキシアルキルベンゾ
トリアゾール、例えば１−（ノニルオキシメチル）ベンゾトリアゾール、１−（
１−ブトキシエチル）ベンゾトリアゾール及び１−（１−シクロヘキシルオキシ
ブチル）トルトリアゾール。 ｂ）１，２，４−トリアゾール及びその誘導体、例えば３−アルキル−（又は−
アリール−）１，２，４−トリアゾール、１，２，４−トリアゾールのマンニッ
ヒ塩基、例えば１−［ジ（２−エチルヘキシル）アミノメチル］−１，２，４−
トリアゾール；アルコキシアルキル−１，２，４−トリアゾール、例えば１−（
１−ブトキシエチル）−１，２，４−トリアゾール；アシレート化３−アミノ−
１，２，４−トリアゾール。 ｃ）イミダゾール誘導体、例えば４，４’−メチレンビス（２−ウンデシル−５
−メチル）イミダゾール及びビス［（Ｎ−メチル）イミダゾール−２−イル］カ
ルビノール−オクチルエーテル。 ｄ）硫黄含有複素環式化合物、例えば２−メルカプトベンゾチアゾール、２，５
−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ジメルカプトベンゾチ
アジアゾール及びその誘導体；３，５−ビス［ジ（２−エチルヘキシル）アミノ
メチル］−１，３，４−チアジアゾリン−２−オン。 ｅ）アミノ化合物、例えばサリチリデン−プロピレンジアミン、サリチルアミノ
グアニジン及びその塩。

【０１６７】防錆剤の例 ： ａ）有機酸、そのエステル，金属塩，アミン塩及び無水物、例えば、アルキル−
及びアルケニル−コハク酸及びアルコール，ジオール又はヒドロキシカルボン酸
とのその部分エステル、アルキル−及びアルケニル−コハク酸の部分アミド、４
−ノニルフェノキシ酢酸、アルコキシ−及びアルコキシエトキシ−カルボン酸、
例えばドデシルオキシ酢酸、ドデシルオキシ（エトキシ）酢酸及びそのアミン塩
、及び更にＮ−オレイル−サルコシン、ソルビタンモノオレエート、ナフテン酸
鉛、アルケニルコハク酸無水物、例えば、ドデセニルコハク酸無水物、２−（２
−カルボキシエチル）−１−ドデシル−３−メチルグリセロール及びその塩、と
りわけそのナトリウム塩及びトリエタノールアミン塩。 ｂ）窒素含有化合物、例えば、 ｉ．第一，第二又は第三、脂肪族又は脂環式アミン並びに、有機及び無機酸のア
ミン塩、例えば、油溶性アルキルアンモニウムカルボキシレート、並びに１−［
Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−３−（４−ノニルフェノキシ
）プロパン−２−オール。 ii. 複素環式化合物、例えば、置換されたイミダゾリン及びオキサゾリン、例え
ば、２−ヘプタデセニル−１−（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリン。 ｃ）燐含有化合物、例えば、燐酸部分エステル又はホスホン酸部分エステルのア
ミン塩、ジアルキルジチオ燐酸亜鉛。 ｄ）硫黄含有化合物、例えば、ジノニルナフタレンスルホン酸バリウム、石油ス
ルホン酸カルシウム、アルキルチオ基で置換された脂肪族カルボン酸、脂肪族２
−スルホカルボン酸のエステル及びその塩。 ｅ）グリセロール誘導体、例えば、グリセロールモノオレエート、１−（アルキ
ルフェノキシ）−３−（２−ヒドロキシエチル）グリセロール、１−（アルキル
フェノキシ）−３−（２，３−ジヒドロキシプロピル）グリセロール、２−カル
ボキシアルキル−１，３−ジアルキルグリセロール。

【０１６８】粘度指数向上剤の例 ： ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ビニルピロリジン／メタクリレート
コポリマー、ポリビニルピロリドン、ポリブテン、オレフィンコポリマー、スチ
レン／アクリレートコポリマー、ポリエーテル。

【０１６９】流動点降下剤の例 ： ポリ（メタ）アクリレート、エチレン／酢酸ビニルコポリマー、アルキルポリ
スチレン、フマレートコポリマー、アルキル化ナフタレン誘導体。

【０１７０】分散剤／界面活性剤の例 ： ポリブテニルコハク酸アミド又はイミド、ポリブテニルホスホン酸誘導体、塩
基性スルホン酸マグネシウム，カルシウム及びバリウム、並びにフェノレート。

【０１７１】極圧及び耐摩耗添加剤の例 ： 例えば、塩化パラフィン、硫化オレフィン又は植物油（大豆／ナタネ油）、ア
ルキル−又はアリール−ジ−又はトリ−スルフィド、ジアルキルジチオ燐酸亜鉛
、ジチオカルバミン酸亜鉛、例えばジアミルジチオカルバミン酸亜鉛、ジチオン
酸モリブデン、例えばジチオカルバミン酸モリブデン、トリアリールホスフェー
ト、例えばトリトリルホスフェート、トリクレシルホスフェート、フェニルホス
フェートイソプロピルエステル、モノ−又はジ−アルキル燐酸のアミン塩、例え
ばモノ−／ジ−ヘキシルホスフェートのアミン塩、アルキルホスホン酸のアミン
塩、例えばメチルホスホン酸のアミン塩、トリアリールホスフィット、例えばト
リス［ノニルフェニル］ホスフィット、ジアルキルホスフィット、例えばジオク
チルホスフィット、トリアリールモノチオホスフェート、例えばトリフェニルチ
オホスフェート又はトリス［イソノニルフェニル］チオノホスフェート又は第三
ブチル化トリフェニルチオノホスフェート、置換されたトリアルキルモノ−又は
ジ−チオホスフェート、例えば［ジ（イソプロポキシホスフィノチオイル）チオ
］プロピオネート又はブチレン−１，３−ビス（ジイソブトキシホスフィノチオ
イル）プロピオネート、トリチオホスフェート、例えばトリチオ燐酸Ｓ，Ｓ，Ｓ
−トリス（イソオクチル−２−アセテート）、３−ヒドロキシ−１，３−チアホ
スフェタン−３−オキシドのアミン塩、ベンゾトリアゾール又はその誘導体、例
えばビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル−トルトリアゾール、ジチオカル
バメート、例えばメチレン−ビス−ジブチルジチオカルバメート、２−メルカプ
トベンゾチアゾールの誘導体、例えば１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル
）アミノメチル］−２−メルカプト−１Ｈ−１，３−ベンゾチオゾール、２，５
−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、例えば２，５−ビス（第三ノニ
ルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、のような硫黄−及び／又は燐−及び
／又はハロゲン−含有化合物。

【０１７２】摩擦係数低減剤の例 ： ラード油、オレイン酸、牛脂、ナタネ油、硫化脂肪、アミン。別の例はＥＰ−
Ａ−０５６５４８７に与えられている。

【０１７３】水／油金属工作液及び圧媒液における使用のための特別な添加剤の例 ：乳化剤 ：石油スルホネート、アミン、例えばポリオキシエチル化脂肪アミン、非
イオン性表面活性化物質。緩衝剤 ：アルカノールアミン。殺菌剤 ：トリアジン、チアゾリノン、トリス−ニトロメタン、モルホリン、ナト
リウムピリデネトール。速度向上剤 ：スルホン酸のカルシウム塩及びバリウム塩。燃料添加剤の例 ：燃料添加剤は、１９９４年のキルク−オスマー(Kirk-Othmer)
の化学技術大辞典(Encyclopedia of Chemical Technology) ，第１２巻に記載さ
れており、そしてこの場合、本質的にガソリン及びディーゼル添加剤である。ガソリン添加剤 ：染料、とりわけアゾ染料。酸化防止剤 ：アミン系、とりわけパラ−フェニレンジアミン、又はフェノール系
、例えば、上記の様な２，６−ジ第三ブチルフェノール。金属奪活剤 ：とりわけＮ，Ｎ’−ジサリチリデン−１，２−プロパン、ベンゾト
リアゾール、ＥＤＴＡ。防錆剤 ：例えば、カルボン酸、スルホネート、アミン又はアミン塩。分散剤 ：例えば、エステル、高分子量アミン、マンニッヒ塩基、コハク酸イミド
、硼化コハク酸イミド。洗剤 ：例えば、脂肪酸アミン、非ポリマー状アミン、ポリブテンコハク酸イミド
、ポリエーテルアミン、低分子量アミン、スルホネート、サリチル酸誘導体。解乳化剤 ：例えば、ポリエチレン基又はポリブチレン基を含む長鎖アルコール類
又はフェノール類。アンチノック剤 ：四アルキル鉛、マンガンメチルシクロペンタジエニルトリカル
ボニル。酸素化合物 ：燃焼挙動を改良するための植物油エステル類、エーテル類、アルコ
ール類。ディーゼル添加剤 ：引火向上剤（セタン向上剤）、例えばアルキルニトレート、
エーテルニトレート、アルキルジグリコールニトレート、有機過酸化物。とりわけ、クラックされたディーゼル用安定剤 ：ラジカル捕捉剤として機能する
アミン及び他のＮ−含有化合物。

【０１７４】 潤滑剤におけるとりわけ好ましい別の添加剤は、アミン系酸化防止剤、とりわ
けモノ−及びジ−アルキル化第三ブチル−／第三オクチル−ジフェニルアミン混
合物である。

【０１７５】 本発明は有機材料を安定化するための、とりわけ潤滑剤及び燃料，圧媒液又は
金属工作液、好ましくは圧媒油及びギヤオイルにおける添加剤としての式Ｉで表
わされる化合物の使用にも関するものである。本発明の使用は、機械的摩耗に対
して潤滑すべき金属成分の保護（摩耗保護）並びに腐蝕保護活性及び更に、潤滑
剤及び金属成分の両方に対する酸化防止活性を包含する。

【０１７６】 従って本発明は、式Ｉで表わされる化合物が添加された有機材料、とりわけ潤
滑剤及び燃料，金属工作液及び圧媒液の使用中の特性を改良する方法にも関する
ものである。

【０１７７】 本発明の写真材料は、少なくとも１層の感光性ハロゲン化銀乳化剤を持つ支持
体を含む。

【０１７８】 本発明のカラー写真材料の例は、カラーネガフィルム，カラーリバーサルフィ
ルム，カラーポジフィルム，カラー写真紙，カラーリバーサル写真紙，染料拡散
移動プロセス又は銀染料ブリーチプロセス用のカラー感光材料である。

【０１７９】 とりわけ興味深いものは、基材上に、少なくとも一つの黄色染料供与化合物を
含む少なくとも一つの青感光性ハロゲン化銀乳化剤層、少なくとも一つのマゼン
タ染料供与化合物を含む少なくとも一つの緑感光性ハロゲン化銀乳化剤層、少な
くとも一つのシアン染料供与化合物を含む少なくとも一つの赤感光性ハロゲン化
銀乳化剤層、及び慣用の（非感光性）上面層（群）及び前記感光性層群を分離す
る中間層を含むカラー写真記録材料である。

【０１８０】 前記カラー写真材料層は、この分野で周知の種々の順序で配置することができ
る。

【０１８１】 式Ｉで表わされる化合物は、何れかの写真材料層、すなわち何れかの感光性ハ
ロゲン化銀乳化剤層又は非感光性層に含まれてよい。ドックス(Dox) 掃去剤とし
ての使用のために、式Ｉで表わされる化合物は好ましくは、１層又はそれより多
くの非感光性層に含まれる。この場合、前記感光性層は式Ｉで表わされる化合物
を低濃度で含み得るか、又は含まなくてよい。

【０１８２】 式Ｉで表わされる化合物は好ましくは、中間層、とりわけマゼンタカップラー
を含む緑感光性層に隣接する非感光性層に混和される。本発明の範囲内の好まし
いカラー写真材料は、例えば、Ｕ．Ｓ．５５３８８４０の第４９欄第５１行ない
し第６９欄第２７行、及び同明細書中で引用された刊行物に開示されたようなも
の；Ｕ．Ｓ．５５３８８４０の前記欄は、言及により本明細書中に取り込まれて
いるような前記マゼンタカップラーがピラゾロ−アゾールタイプであるものであ
る。

【０１８３】 更に好ましいものは、ハロゲン化銀乳化剤が少なくとも９５モル％のＡｇＣｌ
を含むカラー写真材料である。

【０１８４】 通常、式Ｉで表わされる化合物は、写真材料中に、１０ｍｇ／ｍ² ないし１０
００ｍｇ／ｍ² 、とりわけ３０ｍｇ／ｍ² ないし５００ｍｇ／ｍ² の量含まれる
。

【０１８５】 式Ｉで表わされる化合物は、ポリマー（例えば、ＰＶＣ，ポリエステル，ポリ
ビニルアルコール等）と共にミル加工され得、そして１層中に配置され得、それ
故、隣接層へのそれらの移行を防止することができる。また、適する官能基（例
えば、エステル基，ヒドロキシル基）を含む式Ｉで表わされる化合物は、ポリマ
ー例えばポリビニルアルコール又はポリエステルと、それらに化学的に結合させ
るために反応させることができる。これは、それらの移行傾向を低減する。

【０１８６】 写真材料用の代表的な基材は、ポリマー状フィルム及び紙（ポリマー被覆紙を
包含する）を包含する。カラー写真記録材料の支持体及び他の層に関する詳細は
、１９９４年９月の研究開報の項目３６５４４中に見出すことができる。

【０１８７】 前記写真乳化剤層の基本構成物は、結合剤，ハロゲン化銀粒子及びカラーカッ
プラーである。感光性層並びに、上面層及びハロゲン化銀乳化剤層を分離する中
間層のような他の（非感光性）層の構成物に関する詳細は、１９９６年９月の研
究開報の項目３８９５７中に見出すことができる。

【０１８８】 従って本発明は、式Ｉで表わされる化合物を含むカラー写真材料、及びカラー
写真材料中の添加剤としての式Ｉで表わされる化合物の使用にも関するものであ
る。

【０１８９】 本発明はまた、式Ｉで表わされる化合物をカラー写真材料に混和することによ
る、カラー写真材料中の酸化された現像剤の一つの色感光層から他の色感光層へ
の移行を防止するための方法にも関するものである。

【０１９０】 本発明の式Ｉで表わされる化合物は、ピラゾロトリアゾール族のマゼンタカッ
プラーを含む写真材料に混和されるとき、とりわけ都合が良い。

【０１９１】 本発明の化合物と組み合わせて使用すべきとりわけ適するイエロー，マゼンタ
及びシアンカップラーの例は、Ｕ．Ｓ．５５３８８４０の第３３欄第３行ないし
第７３欄第３４行、及び同明細書中で引用された刊行物中に与えられているもの
である。これら一節は、言及により本明細書中に取り込まれている。

【０１９２】 本発明の範疇で使用することができる式Ｉで表わされる化合物は、高沸点有機
溶媒中にそれらを予め溶解することにより、それ自体又はカラーカップラーと一
緒にそして別の添加剤を用いて若しくは用いずに、前記カラー写真記録材料に混
和することができる。１６０℃より高い温度で沸騰する溶媒を使用することが好
ましい。これら溶媒の代表例は、フタル酸，燐酸，クエン酸，安息香酸又は脂肪
酸のエステル、及び更にアルキルアミド及びフェノールである。

【０１９３】 本発明のカラー写真材料の構造並びに、本新規材料中で用いることができる成
分及び添加剤に関する更なる詳細は、中でも、Ｕ．Ｓ．５５３８８４０の第２７
欄第２５行ないし第３３欄第２行；及び更にＵ．Ｓ．５５３８８４０の第７４欄
第１８行ないし第１０６欄第１６行；及びＵ．Ｓ．５７８０６２５の第１２欄第
６行ないし第５７欄第６行；並びにこれら二つの言及で引用された刊行物中に見
出すことができ、Ｕ．Ｓ．５５３８８４０及びＵ．Ｓ．５７８０６２５のこれら
一節は、言及により本明細書中に取り込まれている。他の有用な情報，例えば如
何に式Ｉで表わされるどの化合物を写真材料中で使用することができるかは、Ｅ
Ｐ−Ａ−０８７１０６６の第１０頁第１０行ないし第１１頁第３２行、とりわけ
同明細書中に引用された言及から得ることができる。

【０１９４】 本発明の前記材料中の写真層はまた、紫外線を遮蔽し、それ故、光分解に対し
て染料，カップラー又は他の成分を保護する紫外線吸収剤を含んでよい。本発明
のヒドロキノン化合物は、紫外線吸収剤が存在するそれら層中に含まれてよい。

【０１９５】 本発明の本新規材料中で又は本発明の方法の範囲において使用することが好ま
しい紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール，２−ヒドロキシベンゾフェノン，オ
キサニリド，シアノアクリレート，サリチル酸エステル，アクリロニトリル誘導
体，チアゾリン及び２−ヒドロキシフェニルトリアジンを包含する。

【０１９６】 ＧＢ−Ａ−２３１９５２３では、第４９頁第２１行ないし第７３頁第２行に、
カラー写真材料、とりわけカップラー（第５２頁第１行ないし第５６頁第２２行
），紫外線吸収剤（第５６頁第２５行ないし第６８頁第１行）及びダーク(dark)
安定剤（第６８頁第２行ないし第７３頁第２行）が記載されている。２−ヒドロ
キシフェニルトリアジン族の好ましい紫外線吸収剤はまた、例えば、Ｕ．Ｓ．５
６６８２００の第１欄第３０行ないし第７欄第５５行及び特別な例として第２６
欄第３１行ないし第３２欄最終行に、並びにベンゾトリアゾール族の幾つかの好
都合な紫外線吸収剤に関しては、Ｕ．Ｓ．５３００４１４の第２欄第１０行ない
し第１０欄第５４行に詳細に記載されている。Ｕ．Ｓ．５６６８２００及びＵ．
Ｓ．５３００４１４のこれら欄は、言及により本明細書中に取り込まれている。

【０１９７】 式Ｉで表わされる化合物は、ヒドラジン；例えば下記式ＨＱ−１又は下記式Ｈ
Ｑ−２で表わされるヒドロキノン；例えば下記式Ａ−３で表わされる６−ヒドロ
キシクロマン；又は、例えば下記式Ａ−４で表わされるヒドロキシルアミンのよ
うな何らかの既知ドックス(Dox) 掃去剤と組み合わせて使用されてよい。

【化１２０】

【化１２１】

【０１９８】 ハロゲン化銀乳化剤として、慣用の塩化銀乳化剤，臭化銀乳化剤又は沃化銀乳
化剤、或いは塩化臭化銀乳化剤及び塩化沃化銀乳化剤のようなそれらの混合物を
使用することが可能であり、前記ハロゲン化銀は全て既知の結晶形態を有してい
てよい。塩化銀乳化剤の使用は、本新規方法の材料において調和された特別な重
要性を持つ。この様な乳化剤の製造及びその増感は、１９８９年１１月の研究開
報の項目３０７１０５に記載されている。

【０１９９】 式Ｉで表わされる化合物は好ましくは、輸送又は貯蔵中の樹脂の早期重合又は
架橋に対するエチレン性不飽和樹脂の安定剤として使用されてもよい。

【０２００】 好ましいエチレン性不飽和樹脂は、少なくとも一つのエチレン性不飽和結合を
有し、且つ紫外線により光重合し得るか又は硬化性であり、例えば、液体又は樹
脂様モノマー，オリゴマー，コオリゴマー，コポリマーのポリマー或いはその混
合物である。

【０２０１】

【実施例・発明の効果】

下記の実施例により、本発明を更に詳しく説明する。部及びパーセントは質量
による。実施例１ ：５，７−ジ第三ブチル−３−（４−トリフルオロメチルフェニル）− ３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０１），表１〕の製造 ａ）２，４−ジ第三ブチル−６−［ピペリジン−１−イル−（４−トリフルオロ
メチルフェニル）メチル］フェノール〔化合物（２０１），表２〕の製造 ピペリジン８．２９ｇ（９７．３３mmol）を室温で、トルエン５０ｍＬ中の４
−トリフルオロメチルベンズアルデヒド７．７４ｇ（４４．４３mmol）の溶液に
添加する。僅かに黄色に着色した溶液を４時間、還流下で沸騰させる；水約１ｍ
Ｌを水分離器を使用して分別し、次いでトルエン１５ｍＬ中の２，４−ジ第三ブ
チルフェノール８．７３ｇ（４２．３２mmol）の溶液を滴下して添加する。この
反応混合物を更に１７時間還流下で沸騰させ、次いで室温に冷却する；真空ロー
タリーエバポレーターを使用して溶媒を溜去する。イソプロパノール／メタノー
ル（１：１）からの残渣の結晶化は、融点１５０〜１５２℃の化合物（２０１）
（表２）１５．０４ｇ（収率７９％）を与える。 分子量Ｃ₂₇Ｈ₃₆Ｆ₃ ＮＯ（４４７．５９） 分析，計算値：Ｃ７２．４５％；Ｈ８．１１％；Ｎ３．１３％ 分析，測定値：Ｃ７２．６３％；Ｈ８．０５％；Ｎ３．０５％ ¹ ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ，ｐｐｍ）：１．１２（ｓ，９Ｈ）；１
．３９（ｓ，９Ｈ）；１．５６（ｍ，４Ｈ）；２．２８（ｂｍ，６Ｈ）；４．３
７（ｓ，１Ｈ）；６．６５（ｄ，１Ｈ）；７．０８（ｄ，１Ｈ）；７．４７（ｍ
，４Ｈ）

【０２０２】 化合物（２０２），（２０３）及び（２０４）（表２）は、４−トリフルオロ
メチルベンズアルデヒドの代わりに３−トリフルオロメチルベンズアルデヒド［
化合物（２０２）に対して］，２−トリフルオロメチルベンズアルデヒド［化合
物（２０３）に対して］及び３，５−ジトリフルオロメチルベンズアルデヒド［
化合物（２０４）に対して］を使用して、実施例１ａと同様にして得られる。

【０２０３】 ｂ）５，７−ジ第三ブチル−３−（４−トリフルオロメチルフェニル）−３Ｈ−
ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０１），表１〕の製造 乾燥トルエン１５０ｍＬ中の実施例１ａに基づいて製造された化合物（２０１
）１２．５３ｇ（２８．０mmol）の溶液をアルゴンを使用して脱気し、次いでジ
クロロ［１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］パラジウム（II）３
３．６ｍｇ（０．０５７mmol）及び蟻酸４．２２ｍＬ（１１２mmol）を添加する
。オートクレーブを一酸化炭素を用いてフラッシュし、封止し、次いで６bar の
一酸化炭素圧を適用する。この反応混合物を１４時間、１４０℃に維持する。室
温に冷却後、反応混合物を水中に注ぎ、そして酢酸エチルを使用して３回抽出す
る。有機相を混合し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空ロータリーエバポ
レーターを使用して濃縮する。酢酸エチルを使用するシリカゲル上での残渣の濾
過及びメタノールからの純粋フラクションの結晶化は、融点１２７〜１２８℃の
化合物（１０１）（表１）９．４６ｇ（収率８７％）を与える。 分子量Ｃ₂₃Ｈ₂₅Ｆ₃ Ｏ₂ （３９０．４５） 分析，計算値：Ｃ７０．７５％；Ｈ６．４５％ 分析，測定値：Ｃ７０．９６％；Ｈ６．５３％ ¹ ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ，ｐｐｍ）：１．２３（ｓ，９Ｈ）；１
．３７（ｓ，９Ｈ）；４．８３（ｓ，１Ｈ）；６．９７（ｍ，１Ｈ）；７．３１
（ｍ，３Ｈ）；７．５７（ｄ，２Ｈ）

【０２０４】 化合物（１０２），（１０３）及び（１０４）（表１）は、化合物（２０１）
の代わりに化合物（２０２），化合物（２０３）及び化合物（２０４）（表２）
を使用して、実施例１ｂと同様にして得られる。

【０２０５】実施例２ ：５，７−ジ第三ブチル−３−（４−フルオロフェニル）−３Ｈ−ベン
ゾフラン−２−オン〔化合物（１０５），表１〕の製造 ａ）２，４−ジ第三ブチル−６−［（４−フルオロフェニル）ピペリジン−１−
イル−メチル］フェノール〔化合物（２０５），表２〕の製造 ピペリジン８．２９ｇ（９７．３３mmol）を室温で、トルエン５０ｍＬ中の４
−フルオロベンズアルデヒド５．５２ｇ（４４．４３mmol）の溶液に添加する。
僅かに黄色に着色した溶液を１６時間、還流下で沸騰させる；水約１ｍＬを水分
離器を使用して分別し、次いでトルエン１５ｍＬ中の２，４−ジ第三ブチルフェ
ノール８．７３ｇ（４２．３２mmol）の溶液を滴下して添加する。この反応混合
物を更に１６時間還流下で沸騰させ、次いで室温に冷却する；真空ロータリーエ
バポレーターを使用して溶媒を溜去する。イソプロパノール／メタノール（１：
１）からの残渣の結晶化は、融点１３５〜１３６℃の化合物（２０５）（表２）
１５．４０ｇ（収率９１％）を与える。 分子量Ｃ₂₆Ｈ₃₆ＦＮＯ（３９７．５８） 分析，計算値：Ｃ７８．５５％；Ｈ９．１３％；Ｎ３．５２％ 分析，測定値：Ｃ７８．４８％；Ｈ９．０９％；Ｎ３．５０％ ¹ ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ，ｐｐｍ）：１．１２（ｓ，９Ｈ）；１
．３７（ｓ，９Ｈ）；１．５７（ｍ，４Ｈ）；２．２８（ｂｍ，６Ｈ）；４．３
５（ｓ，１Ｈ）；６．６３（ｄ，１Ｈ）；６．９１（ｄｔ，２Ｈ）；７．０８（
ｄ，１Ｈ）；７．３２（ｂｍ，４Ｈ）

【０２０６】 ｂ）５，７−ジ第三ブチル−３−（４−フルオロフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラ
ン−２−オン〔化合物（１０５），表１〕の製造 乾燥トルエン１５０ｍＬ中の実施例２ａに基づいて製造された化合物（２０５
）１１．１３ｇ（２８．０mmol）の溶液をアルゴンを使用して脱気し、次いでジ
クロロ［１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］パラジウム（II）３
３．６ｍｇ（０．０５７mmol）及び蟻酸４．２２ｍＬ（１１２mmol）を添加する
。オートクレーブを一酸化炭素を用いてフラッシュし、封止し、次いで６bar の
一酸化炭素圧を適用する。この反応混合物を１４時間、１４０℃に維持する。室
温に冷却後、反応混合物を水中に注ぎ、そして酢酸エチルを使用して３回抽出す
る。有機相を混合し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空ロータリーエバポ
レーターを使用して濃縮する。酢酸エチルを使用するシリカゲル上での残渣の濾
過及びメタノールからの純粋フラクションの結晶化は、融点１４６〜１４７℃の
化合物（１０５）（表１）８．５３ｇ（収率９０％）を与える。 分子量Ｃ₂₂Ｈ₂₅ＦＯ₂ （３４０．４４） 分析，計算値：Ｃ７７．６２％；Ｈ７．４０％ 分析，測定値：Ｃ７７．６６％；Ｈ７．３５％ ¹ ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ，ｐｐｍ）：１．２２（ｓ，９Ｈ）；１
．３６（ｓ，９Ｈ）；４．７４（ｓ，１Ｈ）；６．９９（ｍ，３Ｈ）；７．１６
（ｍ，２Ｈ）；７．２６（ｄ，１Ｈ）

【０２０７】実施例３ ：５，７−ジ第三ブチル−３−（４−シアノフェニル）−３Ｈ−ベンゾ
フラン−２−オン〔化合物（１０６），表１〕の製造 ａ）２，４−ジ第三ブチル−６−［（４−シアノフェニル）ピペリジン−１−イ
ル−メチル］フェノール〔化合物（２０６），表２〕の製造 ピペリジン８．２９ｇ（９７．３３mmol）を室温で、トルエン５０ｍＬ中の４
−シアノベンズアルデヒド５．８３ｇ（４４．４３mmol）の溶液に添加する。僅
かに黄色に着色した溶液を４時間、還流下で沸騰させる；水約１ｍＬを水分離器
を使用して分別し、次いでトルエン１５ｍＬ中の２，４−ジ第三ブチルフェノー
ル８．７３ｇ（４２．３２mmol）の溶液を滴下して添加する。この反応混合物を
更に６時間還流下で沸騰させ、次いで室温に冷却する；真空ロータリーエバポレ
ーターを使用して溶媒を溜去する。メタノールからの残渣の結晶化は、融点１６
５〜１６６℃の化合物（２０６）（表２）１２．９５ｇ（収率７５％）を与える
。 分子量Ｃ₂₇Ｈ₃₆Ｎ₂ Ｏ（４０４．６０） 分析，計算値：Ｃ８０．１５％；Ｈ８．９７％；Ｎ６．９２％ 分析，測定値：Ｃ８０．０１％；Ｈ９．００％；Ｎ６．７８％ ¹ ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ，ｐｐｍ）：１．１２（ｓ，９Ｈ）；１
．３６（ｓ，９Ｈ）；１．５７（ｍ，４Ｈ）；２．２８（ｂｍ，６Ｈ）；４．３
４（ｓ，１Ｈ）；６．６３（ｄ，１Ｈ）；７．０９（ｄ，１Ｈ）；７．５１（ｂ
ｍ，４Ｈ）

【０２０８】 化合物（２０７）及び（２０８）（表２）は、４−シアノベンズアルデヒドの
代わりに３−シアノベンズアルデヒド［化合物（２０７）に対して］及び３，５
−ジシアノベンズアルデヒド［化合物（２０８）に対して］を使用して、実施例
３ａと同様にして得られる。

【０２０９】 ｂ）５，７−ジ第三ブチル−３−（４−シアノフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン
−２−オン〔化合物（１０６），表１〕の製造 乾燥トルエン１５０ｍＬ中の実施例３ａに基づいて製造された化合物（２０６
）１１．３３ｇ（２８．０mmol）の溶液をアルゴンを使用して脱気し、次いでジ
クロロ［１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］パラジウム（II）３
３．６ｍｇ（０．０５７mmol）及び蟻酸４．２２ｍＬ（１１２mmol）を添加する
。オートクレーブを一酸化炭素を用いてフラッシュし、封止し、次いで６bar の
一酸化炭素圧を適用する。この反応混合物を１４時間、１４０℃に維持する。室
温に冷却後、反応混合物を水中に注ぎ、そして酢酸エチルを使用して３回抽出す
る。有機相を混合し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空ロータリーエバポ
レーターを使用して濃縮する。酢酸エチルを使用するシリカゲル上での残渣の濾
過及びメタノールからの純粋フラクションの結晶化は、融点１３６〜１３７℃の
化合物（１０６）（表１）７．７２ｇ（収率７９％）を与える。 分子量Ｃ₂₃Ｈ₂₅ＮＯ₂ （３４７．４６） 分析，計算値：Ｃ７９．５１％；Ｈ７．２５％；Ｎ４．０３％ 分析，測定値：Ｃ７９．３６％；Ｈ６．９８％；Ｎ３．８２％ ¹ ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ，ｐｐｍ）：１．２３（ｓ，９Ｈ）；１
．３６（ｓ，９Ｈ）；４．８３（ｓ，１Ｈ）；６．９５（ｍ，１Ｈ）；７．３１
（ｍ，３Ｈ）；７．６１（ｄ，２Ｈ）

【０２１０】 化合物（１０７）及び（１０８）（表１）は、化合物（２０６）の代わりに化
合物（２０７）及び化合物（２０８）（表２）を使用して、実施例３ｂと同様に
して得られる。

【０２１１】実施例４ ：５，７−ジ第三ブチル−３−（４−メトキシカルボニルフェニル）−
３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０９），表１〕の製造 ａ）２，４−ジ第三ブチル−６−［（４−メトキシカルボニルフェニル）ピペリ
ジン−１−イル−メチル］フェノール〔化合物（２０９），表２〕の製造 ピペリジン１８．９８ｇ（２２２．９４mmol）を室温で、トルエン１００ｍＬ
中の４−メトキシカルボニルベンズアルデヒド１６．７１ｇ（１０１．７８mmol
）の溶液に添加する。僅かに黄色に着色した溶液を１５時間、還流下で沸騰させ
る；水約２ｍＬを水分離器を使用して分別し、次いでトルエン３０ｍＬ中の２，
４−ジ第三ブチルフェノール２０．０ｇ（９６．９３mmol）の溶液を滴下して添
加する。この反応混合物を更に１時間還流下で沸騰させ、次いで室温に冷却する
；真空ロータリーエバポレーターを使用して溶媒を溜去する。イソプロパノール
からの残渣の結晶化は、融点１６７〜１６８℃の化合物（２０９）（表２）３２
．１２ｇ（収率７５％）を与える。 分子量Ｃ₂₈Ｈ₃₉ＮＯ₃ （４３７．６３） 分析，計算値：Ｃ７６．８５％；Ｈ８．９８％；Ｎ３．２０％ 分析，測定値：Ｃ７６．６８％；Ｈ８．８４％；Ｎ３．０１％ ¹ ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ，ｐｐｍ）：１．１１（ｓ，９Ｈ）；１
．３７（ｓ，９Ｈ）；１．５６（ｍ，４Ｈ）；２．３０（ｂｍ，６Ｈ）；３．８
２（ｓ，３Ｈ）；４．４０（ｓ，１Ｈ）；６．６４（ｄ，１Ｈ）；７．０８（ｄ
，１Ｈ）；７．４５（ｂｄ，２Ｈ）；７．９０（ｄｄ，２Ｈ）

【０２１２】 ｂ）５，７−ジ第三ブチル−３−（４−メトキシカルボニルフェニル）−３Ｈ−
ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０９），表１〕の製造 乾燥トルエン１２０ｍＬ中の実施例４ａに基づいて製造された化合物（２０９
）１０．５０ｇ（２４．０mmol）の溶液をアルゴンを使用して脱気し、次いでジ
クロロ［１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］パラジウム（II）２
８．８ｍｇ（０．０４８mmol）及び蟻酸３．６２ｍＬ（９６mmol）を添加する。
オートクレーブを一酸化炭素を用いてフラッシュし、封止し、次いで６bar の一
酸化炭素圧を適用する。この反応混合物を１４時間、１４０℃に維持する。室温
に冷却後、反応混合物を水中に注ぎ、そして酢酸エチルを使用して３回抽出する
。有機相を混合し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして真空ロータリーエバポレ
ーターを使用して濃縮する。酢酸エチルを使用するシリカゲル上での残渣の濾過
及びメタノールからの純粋フラクションの結晶化は、融点１３５〜１３６℃の化
合物（１０９）（表１）７．４１ｇ（収率８１％）を与える。 分子量Ｃ₂₄Ｈ₂₈Ｏ₄ （３８０．４９） 分析，計算値：Ｃ７５．７６％；Ｈ７．４２％ 分析，測定値：Ｃ７５．６７％；Ｈ７．２８％ ¹ ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ，ｐｐｍ）：１．２２（ｓ，９Ｈ）；１
．３７（ｓ，９Ｈ）；３．８５（ｓ，３Ｈ）；４．７４（ｓ，１Ｈ）；６．９６
（ｍ，１Ｈ）；７．２６（ｍ，３Ｈ）；７．９８（ｄ，２Ｈ）

【０２１３】実施例５ ：５，７−ジ第三ブチル−３−（４−ｎ−オクチルオキシカルボニルフ
ェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１１０），表１〕の製造 実施例４ｂに基づいて製造された化合物（１０９）１４．０ｇ（３６．８０mm
ol），１−オクタノール２３．２６ｍＬ（１４７．２mmol）及びジブチル錫オキ
シド（Ｂｕ₂ ＳｎＯ）９２ｍｇ（０．３６８mmol）からなる懸濁液を２時間、１
７０℃に加熱すると、橙色溶液が形成される。この反応混合物から、メタノール
を連続的に溜去する。室温に冷却後、粗反応混合物を、酢酸エチル／ヘキサン（
１：１）との１：１９混合物５０ｍＬで処理し、そしてシリカゲルパッドを通し
て濾過する。真空ロータリーエバポレーターを使用する溶媒の除去は、淡黄色油
状物として、化合物（１１０）（表１）１７．５３ｇ（収率９９％）を与える。 ¹ ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ，ｐｐｍ）：０．９０（ｔ，３Ｈ）；１
．３５（ｓ，９Ｈ）；１．３８（ｂｓ，１０Ｈ）；１．４６（ｓ，９Ｈ）；１．
７８（ｑ，２Ｈ）；４．３３（ｔ，３Ｈ）；４．９２（ｓ，１Ｈ）；７．０５（
ｓ，１Ｈ）；７．３５（ｄ，２Ｈ）；７．３６（ｓ，１Ｈ）；８．０７（ｄ，２
Ｈ）

【０２１４】 化合物（１１１），（１１２），（１１３），（１１４），（１１５），（１
１６）及び（１１７）（表１）は、１−オクタノールの代わりに１−ドデカノー
ル，１−オクタデカノール，１−ノナデカノール，１−ドコサノール，２−エチ
ルヘキサノール，１，６−ヘキサンジオール及び１，１２−ドデカンジオールを
使用して、実施例５と同様にして得られる。化合物（１１６）及び（１１７）の
製造のために、化合物（１０９）に比べて、１，６−ヘキサンジオール及び１，
１２−ドデカンジオールの当量の半分のみを使用した。

【０２１５】

【表１】

【０２１６】

【表２】

【０２１７】

【表３】

【０２１８】

【表４】

【０２１９】

【表５】

【０２２０】

【表６】

【０２２１】実施例６ ：カラー写真材料中の酸化された現像剤の移行の防止 本発明の化合物類を、酸化された現像剤用の層間掃去剤としてのそれらの能力
に関して評価するため、ポリエチレンコート紙支持体上に示された順序で層を設
けることにより、３種の層状写真試験要素を調製する。試験要素１ （参考試料） （１）−不感化された臭化銀乳化剤２６０ｍｇ・ｍ^-2（銀に基づく）、 −ゼラチン１８７５ｍｇ・ｍ^-2、 −マゼンタ染料形成性カップラーＭ−２：

【化１２２】 ２５０ｍｇ・ｍ^-2、 −トリクレシルホスフェート２５０ｍｇ・ｍ^-2、 −２−スルホネート−４，８−ジイソブチルナフタレン，ナトリウム塩界面活性
剤、 −７−メチル−５−ヒドロキシ−１，３，８−トリアザインドリジン防曇剤、 を含む感光層。 （２）−ゼラチン１８００ｍｇ・ｍ^-2、 −トリクレシルホスフェート３００ｍｇ・ｍ^-2、 −２−スルホネート−４，８−ジイソブチルナフタレン，ナトリウム塩界面活性
剤、 を含む中間層。 （３）−ゼラチン１８００ｍｇ・ｍ^-2、 −ジブチルフタレート１８０ｍｇ・ｍ^-2、 −２−スルホネート−４，８−ジイソブチルナフタレン，ナトリウム塩界面活性
剤、 −２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン，カリウム塩硬
化剤、 を含む層。

【０２２２】試験要素２ （対照試料） （１）試験要素１の感光層と同一組成を有する感光層。 （２）試験要素１の中間層と同一組成を有する中間層。 （３）−ゼラチン１８００ｍｇ・ｍ^-2、 −シアン染料形成性カップラーＣ−２：

【化１２３】 ２７２ｍｇ・ｍ^-2、 −ジブチルフタレート１８０ｍｇ・ｍ^-2、 −２−スルホネート−４，８−ジイソブチルナフタレン，ナトリウム塩界面活性
剤、 −２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン，カリウム塩硬
化剤、 を含む層。

【０２２３】試験要素３及び４ （１）試験要素１の感光層と同一組成を有する感光層。 （２）−ゼラチン１８００ｍｇ・ｍ^-2、 −以下の表３に示す酸化された現像剤の掃去剤２０ｍｇ・ｍ^-2、 −トリクレシルホスフェート３００ｍｇ・ｍ^-2、 −２−スルホネート−４，８−ジイソブチルナフタレン，ナトリウム塩界面活性
剤、 を含む中間層。 （３）試験要素２の上面層と同一組成を有する層。

【０２２４】 前記試験要素は密度増加０．１５を持つステップウェッジを通して画像化暴露
され、その後、ＡＧＦＡ Ｐ−９４現像工程に供される。

【０２２５】 前記試験要素の加工において、幾つかの酸化された現像剤は、それが形成され
ている層、例えば最下部のマゼンタ染料供給層からシアン染料形成性カップラー
を含む最上部層に移行し、その結果、好ましくないシアン染料を生じさせる傾向
がある。生成されるシアン染料の量は、酸化された現像剤の拡散を防止する中間
層の能力に依存する。マゼンタ密度１．５を与える暴露量におけるシアン密度を
下記表３に記載する。試験要素２に対して観察されたシアン密度よりも低いシア
ン密度は、前記酸化された現像剤の掃去を示している。

【表７】 本発明の範囲内の化合物は、前記酸化された現像剤が違う層中を迷走しそして
染料を形成するのを防止するために大変有効であることは、表３のデータから明
らかである。

【０２２６】実施例７ ：複数回押し出されたポリプロピレンの安定化 商標名イルガノックス(Irganox) １０７６（ｎ−オクタデシル３−［３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート）０．０２５％を用い
て予め安定化されたポリプロピレン粉末〔商標名プロファックス(Profax)６５０
１〕（２３０℃／２．１６ｋｇにて測定されたメルトインデックス３．２ｇ／１
０分）１．３ｋｇを、商標名イルガノックス(Irganox) １０１０（ペンタエリト
リトールテトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］）０．０５％，ステアリン酸カルシウム０．０５％，商標名Ｄ
ＨＴ ４Ａ（共和化学工業株式会社，［Ｍｇ_4.5 Ａｌ₂ （ＯＨ）₁₃ＣＯ₃ ・３．
５Ｈ₂ Ｏ］）０．０３％及び下記表４の化合物０．０５％とブレンドする。次い
でこのブレンドを、１００ｒｐｍでシリンダー直径２０ｍｍ及び長さ４００ｍｍ
を有し、三つの加熱領域が下記温度：２６０℃，２７０℃及び２８０℃に調節さ
れている押出機にて押し出す。押出物を水浴を通して引くことにより冷却し、次
いで顆粒化する。この顆粒を繰り返し押し出す。３回押出後、そのメルトインデ
ックスを測定する（２３０℃／２．１６ｋｇにて）。前記メルトインデックスの
実質的な増加は、著しい分子鎖分解、すなわち乏しい安定性を示している。結果
を下記表４に要約する。

【表８】

【０２２７】実施例８ ：加工中のポリプロピレンの安定化 ポリエチレン粉末〔商標名ルポレン(Lupolen) ５２６０Ｚ〕１００部を、商標
名イルガノックス(Irganox) １０１０（ペンタエリトリトールテトラキス［３−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］）０．０
５部及び下記表５の化合物０．０５部とブレンドし、次いでこのブレンドを、２
２０℃及び５０ｒｐｍでブラベンダープラストグラフ中で混練する。この時間中
、混練抵抗をトルクとして連続的に記録する。混練時間の経過につれ、前記ポリ
マーは、トルクの急速な増加により予め決定することができるように長時間の不
変の後に架橋し始める。トルクの著しい増加までにかかる時間は、安定化作用の
尺度として表５に示す。より長い前記時間は、より良好な安定化作用を表わす。

【表９】

【０２２８】実施例９ ：高温における複数回押し出されたポリプロピレンの安定化 商標名イルガノックス(Irganox) １０７６（ｎ−オクタデシル３−［３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート）０．００８％を用い
て予め安定化されたポリプロピレン粉末〔商標名プロファックス(Profax)６５０
１〕（２３０℃／２．１６ｋｇにて測定されたメルトインデックス３．２ｇ／１
０分）１．５ｋｇを、商標名イルガノックス(Irganox) １０１０（ペンタエリト
リトールテトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］）０．０５％，ステアリン酸カルシウム０．１０％及び下記表
６に基づく安定剤又は安定剤混合物０．０１５％ないし０．１００％とブレンド
する。次いでこのブレンドを、１００ｒｐｍでシリンダー直径２０ｍｍ及び長さ
４００ｍｍを有し、三つの加熱領域が下記温度：２８０℃，３２０℃及び３４０
℃に調節されている押出機にて押し出す。押出物を水浴を通して引くことにより
冷却し、次いで顆粒化する。この顆粒を繰り返し押し出す。５回押出後、そのメ
ルトインデックスを測定する（２３０℃／２．１６ｋｇにて）。前記メルトイン
デックスの実質的な増加は、著しい分子鎖分解、すなわち乏しい安定性を示して
いる。結果を下記表６に要約する。

【表１０】 脚注ａ）及びｂ）は、後記表２５の末尾を参照。

【０２２９】実施例１０ ：ポリエーテル／ポリウレタンソフトフォームの製造並びにその安定
化 本発明の安定剤混合物の正確に４７０ｍｇ（ポリオールに基づいて、０．３％
）を、酸化防止剤を含まないポリエーテル／ポリオール，商標名ルプラノール(L
upranol)２０４５（第一ヒドロキシル基を有する三官能性ポリエーテル／ポリオ
ール；ヒドロキシル価３５ｍｇＫＯＨ／ｇ，０．１％未満の水分含有率，０．１
ｍｇＫＯＨ／ｇ未満の酸価）１５７ｇに溶解する。商標名テコスタブ(Tecostab)
〔ドイツ国，ゴールドシュミット(Goldschmidt) 社により供給されるポリシリコ
ーン〕１．７４ｇ，ジアザビシクロオクタン（アミン触媒）０．４８ｇ及び水０
．８ｇからなる溶液１０．２４ｇを添加し、そしてこの反応混合物を１００ｒｐ
ｍで６０秒間、激しく撹拌する。上記ポリオール２．９ｇ中の錫オクトエート（
触媒）０．３２ｇの溶液３．２ｇを添加し、そしてこの反応混合物を再度１００
ｒｐｍで６０秒間、激しく撹拌する。激しく撹拌しながら、イソシアネート〔Ｂ
ＡＳＦ社により供給される商標名ルプラネート(Lupranat)Ｔ８０；トルイレン−
２，４−及びトルイレン−２，６−ジイソシアネート混合物〕９８ｇを直後に添
加し、６秒後、この混合物をラインドモールドに注入し、そしてフォームブロッ
クに形成される間、発熱温度を測定する。このフォームブロックを５℃で耐候チ
ャンバー中で２４時間冷却し、そして貯蔵する。前記ブロックの中央部から２ｃ
ｍスライスを切り出し、そして穿孔器具を使用して、丸い（円筒状）試験試料を
それから切断する。この試料を試験管内で空気の存在下室温で、次いで予備加熱
されたアルブロック(alu-block) サーモスタット内で２００℃で３０分間熟成さ
せる（動的熱試験）。これら試験試料の黄変は、ＡＳＴＭ Ｄ−１９２５−７７
に基づく黄色度指数（ＹＩ）として決定される。低いＹＩ値は前記試料の僅かな
退色を表わし、高いＹＩ値は前記試料の激しい退色を表わす。結果を下記表７及
び表８に要約する。

【表１１】

【表１２】 脚注ｃ），ｄ），ｉ）及びｋ）は、後記表２５の末尾を参照。

【０２３０】実施例１１ ：３００℃で加工されたポリプロピレンの安定化 ＤＩＮ５３７３５に基づいて２３０℃，２．１６ｋｇ下で測定されたメルトイ
ンデックス１２ｇ／１０分を有するポリプロピレン粉末〔フランス国，ポリシム エス．エイ．(Polychim S.A.) 製の商標名Ｂ１０ＦＢ〕２．０ｋｇを、ステア
リン酸カルシウム０．０５％及び下記表９及び表１０に示された安定剤類と一緒
にし、そして高速ミキサー中で２分間、均質化する。この混合物を、バレル直径
２０ｍｍ及び長さ４００ｍｍを有し、三つの加熱領域が下記温度：２００℃，２
２０℃及び２２０℃に設定されている押出機にて毎分６０回転で押し出す。押出
物を冷却のために水浴を通過させ、次いで顆粒化する。これら顆粒を加工してマ
ルチフィラメント繊維を得る。これは、メルトポンプ及び３７孔紡糸ヘッドを持
つ単軸押出機を使用して行う。最高加工温度は３００℃である。

【０２３１】 それにより得られた非延伸繊維の一部分を２３０℃で６分間プレスし、厚さ２
ｍｍのシートを形成する。このシートのメルトインデックス（ＭＦＩ，メルトフ
ローインデックス）を、ＤＩＮ５３７３５に基づいて２３０℃，２．１６ｋｇで
測定する。前記メルトインデックスの大きな増加は激しい分子鎖分解、及びそれ
故乏しい安定性を表わす。結果を下記表９にまとめる。

【０２３２】 それにより得られた非延伸繊維の他の部分を潤滑剤〔ドイツ国，ベーブリンゲ
ンのシル・ウント・ザイラッヒャー(Schill und Seilacher)社製の商標名リマノ
ール(Limanol) Ｐ２５〕で処理し、そして第一延伸に供する。この第一延伸は、
４１６ｇ／９０ｍの線密度を有する繊維ストランドを与える。これは、長さ９０
ｍの繊維ストランドが４１６ｇの質量を有することを示している。別の操作にお
いて、この繊維ストランドを延伸装置を使用して、３．２倍で１２０℃で再度延
伸する。これは、１３０ｇ／９０ｍの線密度を有する繊維ストランドを与える。

【０２３３】 この繊維ストランドの一部分を使用して編まれたチューブを製造する。この編
まれたチューブの黄色度指数（ＹＩ₁ ）は、ＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７７に基づ
いて決定される。低いＹＩ₁ 値は前記試料の僅かな退色を表わし、高いＹＩ₁ 値
は前記試料の激しい退色を表わす。結果を下記表９にまとめる。この編まれたチ
ューブをＡＡＴＣＣ１６４に基づいて二酸化窒素（ＮＯ₂ ）４ないし６ｐｐｍの
存在下、４０℃及び相対大気湿度８７％で、４８時間暴露する。この暴露された
編まれたチューブの黄色度指数（ＹＩ₂ ）は、ＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７７に基
づいて決定される。低いＹＩ₂ 値は前記試料の僅かな退色を表わし、高いＹＩ₂ 値は前記試料の激しい退色を表わす。結果を下記表９にまとめる。

【０２３４】 前記繊維ストランドの他の部分を、１００℃でオーブン熟成試験を行うために
使用する。この試験において、前記試験条件下で前記繊維ストランドを引き裂く
ために取られる時間を日数により測定する。前記繊維ストランドの引き裂き前の
期間が長い程、その安定性はより良好である。結果を下記表１０にまとめる。

【０２３５】 前記非延伸繊維の他の部分を２３０℃で６分間プレスし、厚さ０．１０ｍｍの
薄いフィルムを形成する。このフィルムをＤＩＮ５３３８７に基づいてキセノン
試験に供する。この試験において、前記フィルムは、１７６０ｃｍ^-1ないし１６
８０ｃｍ^-1の波長領域で０．２５のカルボニル指数が観察されるまで、キセノン
１２００耐候装置中で暴露される。数がより大きい程、安定性はより良好である
。結果を下記表１０にまとめる。

【表１３】 脚注ａ），ｅ），ｆ），ｇ），ｈ），ｉ）及びｋ）は、後記表２５の末尾を参
照。

【表１４】 脚注ａ），ｆ），ｇ），ｈ），ｉ）及びｋ）は、後記表２５の末尾を参照。

【０２３６】実施例１２ ：回転成形方法によるポリオレフィン中空物品の製造 メルトフローインデックス６．５ｇ／１０分及び密度０．９３５ｇ／ｃｍ³ を
有する、ヘキセンと共重合された低密度ポリエチレン（ＰＥ−ＬＬＤ），タイプ
商標名クァンタムペトロテン(Quantum Petrothene)ＧＡ−６３５−６６１，１０
０部を、商標名チマソルブ(Chimassorb)９４４［構造式は、後記表２５の後の 脚注（ｂ）を参照］，０．１７０部，ステアリン酸亜鉛０．０５０部及び表１１
及び表１２に記載された安定剤と共に、毎分１００回転で、２４：１マドック(M
addock) タイプＬ／Ｄスクリューを備えたスーペリアー／ＭＰＭ押出機中で２３
２℃で混合する。次いで前記ポリマーを粉砕する。前記ポリマーの粒径は１５０
μｍないし５００μｍである。粉砕により得られる粒子の表面が大きいので、熱
はより急速に吸収され得、これは一層低いエネルギー消費に両方が都合良く働く
。

【０２３７】 実際の回転成形方法又は非常に大きな３次元立体の製造を可能にする回転成形
方法は、クラムシャル(Clamshell) タイプの回転成形機ＦＳＰ Ｍ２０中で行わ
れる。この装置において、アームに固定され、そしてその中にプラスチック試料
が充填されるアルミニウム成形型は、加熱空気の循環を伴い、ガスバーナーで、
５分間にわたり３１６℃に、又は６分間にわたり３２９℃に加熱され、次いでこ
の温度で所定時間保持される（表１１及び表１２参照）。その後、オーブンを開
け、そして前記成形型を先ず循環空気で７分間、次いで水の噴霧により７分間、
そして最後に循環空気で更に２分間冷却する。全加熱及び冷却工程の間、互いに
直角で二軸に関して固定されている前記成形型は、主軸の速度を毎分６回転そし
て回転比を４．５：１に保持しながら回転される。冷却後、前記成形型の蓋を開
け、そして得られた中空物品を取り出す。成形された物品の外側の黄色度指数（
ＹＩ）は、ＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７７に基づいて決定される。低いＹＩ値は前
記試料の僅かな退色を表わし、高いＹＩ値は前記試料の強い退色を表わす。退色
が少なければ少ない程、前記安定剤はより一層有効である。結果を下記表１１及
び表１２に要約する。

【表１５】

【表１６】 脚注ａ），ｉ），ｋ）及びｌ）は、後記表２５の末尾を参照。

【０２３８】実施例１３ ：水と継続的に接触する状態にあるポリエチレンの安定化 ステアリン酸カルシウム０．１０質量％並びに商標名(Irganox) イルガノック
ス１０１０（ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］）０．１０質量％，商標名イルガフ
ォス(Irgafos) １６８（トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット
）０．０５質量％及び化合物（１０４）（表１）０．０５質量％を含む安定剤混
合物を、反応容器から直接取り出されたポリエチレンポリマー〔商標名ホスタレ
ン(Hostalene) ＣＲＰ１００；ＰＥ−ＨＤ〕に乾燥添加し、そしてパッペンメイ
ヤー(Pappenmaier) ミキサー中で２分間、それに混和する。

【０２３９】 シュワベンタン(Schwabenthan)押出機中で、安定化されたポリエチレンを均質
化し、そして顆粒に加工する。水中での抽出試験のために、２００ｍｍ×１５０
ｍｍ×２ｍｍの試験板を、テーブルプレスを使用して、個々の組成の前記顆粒か
らプレスする。前記試験板の脱型を容易にするため、２枚のアルミニウム箔の間
で前記プレス工程を行う。

【０２４０】 安定剤抽出試験を、脱イオン水を用いて行う。先ず抽出容器の加熱を、最大温
度ずれ１．５℃で、ドイツ国，ハナウのヘラウス(Heraeus) 社製の循環空気オー
ブン中で行う。８０℃のような水の沸点以下の抽出試験のために、ガラス容器を
使用する。安定剤で水が過飽和になる恐れがあるので、前記試験のために使用す
る液体の量はポリマー約７０ｇ当たり約４００ｍＬに固定し、そして規則的間隔
、すなわちサンプルが採取される間隔で、前記水を新鮮な水と取り替える。

【０２４１】 前記試験板を８０℃で５０日間、上記試験条件に供する。抽出試験の停止に対
応して、前記試験板の残部安定剤含有量及び酸化誘導時間が決定される。

【０２４２】 立体障害フェノール，商標名イルガノックス(Irganox) １０１０の残部含有量
は、オートサンプラー及びスペクトラ(Spectra) ２００タイプのＵＶ／ＶＩＳ検
出器を備えたスペクトラフィジクス(Spectra Physics) ＳＰ８８００タイプのＨ
ＰＬＣアプライアンス中の内部標準を使用して決定される。商標名ヌクレオシル
(Nucleosil) Ｃ，１８５μｍが充填されたハイパークローム(Hyperchrome) １２
５×４．６ｍｍタイプのカラムを使用して、室温でクロマトグラフィーが行われ
る。１．５ｍＬ／分の流速における射出容積は１４μＬである。ＵＶ検出は２７
０ｎｍにて行う。

【０２４３】 ドイツ国，アルゼナウのテキサスインストルメンツ(TA Instruments)社製の”
デュポン−インストルメント９１０示差走査熱量計(DuPon-Instrument 910 Diff
erential Scanning Calorimeter)を使用し、そして５ｍｇないし１０ｍｇ量の試
料を採取して決定される前記酸化誘導時間は、前記ポリエチレン試料の完全な分
解の開始までの、一定熱負荷（１９０℃／Ｏ₂ ）における分による時間を示して
いる。前記酸化誘導時間が長ければ長い程、前記ポリエチレンは一層良好に安定
化されており、そして前記ポリエチレンは、それが継続的に接触する状態にある
抽出水に対してより安定である。この結果は、抽出媒体と継続的に接触する状態
にあるポリオレフィンの安定化は、それらが安定剤として本発明の式Ｉで表わさ
れる化合物を含む場合に改善されることを示している。

【０２４４】実施例１４ ：カルボキシ官能性ポリエステルをベースとし、且つ電気オーブン及
びガスオーブン中で硬化された粉体塗料の退色の測定 カルボキシ官能性ポリエステルをベースとする粉体塗料組成物を製造するため
に、成分１ないし６（添加剤を含まない組成）及び成分１ないし７（安定剤を含
む組成）を下記の手順で用いる（下記表１３を参照）。

【表１７】 ａ）ベルギー国，ドロゲンボスのＵＣＢ Ｓ．Ａ．製の商標名クリルコート(Cry
lcoat)３６０ ｂ）商標名アラルダイト(Araldit) ＧＴ７００４〔チバ・スペシャルティ・ケミ
カルズ(Ciba Specialty Chemicals Ins.) 社〕は、ビスフェノールＡジグリシジ
ルエーテルである。 ｃ）スイス国，ブーフスのフルカ・アクチエンゲゼルシャフト(Fluka AG)製のオ
クタデシルトリメチルアンモニウムブロミド ｄ）ドイツ国，ラウエンブルクのヴォルレ・ヒェミー・ゲーエムベーハー製の商
標名レシフロー(Resiflow)ＰＶ８８ ｅ）フルカ・アクチエンゲゼルシャフト(Fluka AG)製のベンゾイン ｆ）ドイツ国，レーフェルクッセンのバイエル・アクチエンゲゼルシャフト(Bay
er AG)製の二酸化チタンタイプＲ−ＫＢ−５

【０２４５】 この様にして秤量された成分を遊星撹拌機を使用して混合する。次いでこの混
合物を３００回転／分及び１００℃でプリズム押出機にて押し出し、そして圧延
する。

【０２４６】 この粉体塗料組成物をベンチカッターを使用して粗く砕き、そして１５０００
回転／分で０．７５ｍｍ環状貫通孔スクリーンを持つレッシュ(Retsch)ＺＭ−１
超遠心ミル中で粉砕する。最後に、粉末を遠心スクリーニング装置の３０μｍス
クリーンを通過させる。

【０２４７】 仕上げられた粉体塗料組成物を、６０ｋｖでＥＳＢ−ワーグナー(Wagner)コロ
ナキャップガンを使用して、アルミニウムパネル上に７０μｍの被覆厚で静電噴
霧する。何枚かの被覆されたパネルを電気オーブン中で９０分間，１８０℃で硬
化させる。残りの被覆されたパネルを、２０ｐｐｍのＮＯ₂ 含有率を持つガスオ
ーブン中で４５分間，１８０℃で硬化させる。前記試料の黄色度指数（ＹＩ）を
ＡＳＴＭ Ｄ−１９２５−７０に基づいて決定する。低いＹＩ値は前記試料の僅
かな退色を示し、高いＹＩ値は前記試料の激しい退色を示す。退色が少なければ
少ない程、前記安定剤はより一層有効である。結果を下記表１４及び表１５に要
約する。

【表１８】 脚注ａ），ｉ），ｋ），ｍ）及びｌ）は、後記表２５の末尾を参照。

【表１９】 脚注ａ），ｉ），ｋ）及びｍ）は、後記表２５の末尾を参照。

【０２４８】実施例１５ ：複数回押出の場合で且つとりわけ高温におけるポリプロピレンの安
定化 商標名イルガノックス(Irganox) １０７６（ｎ−オクタデシル３−［３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート）０．００８％を用い
て初期に安定化されたポリプロピレン粉末〔商標名プロファックス(Profax)６５
０１〕（２３０℃で且つ２．１６ｋｇ下で測定されたメルトインデックス３．２
を持つ）１．５ｋｇを、ステアリン酸カルシウム０．１０％及び下記表１６に掲
げた安定剤類０．０１５％ないし０．２０％と共に混合する。この混合物を、バ
レル直径２０ｍｍ及び長さ４００ｍｍを有し、最高押出機温度が２８０℃，３０
０℃，３２０℃及び３４０℃に設定されている押出機にて毎分１００回転で押し
出す。冷却のために押出物を水浴を通過させ、次いで顆粒化する。これら顆粒を
繰り返し押し出す。５回押し出した後、メルトインデックスを測定する（２３０
℃，２．１６ｋｇ下）。メルトインデックスの大きな増加は、激しい分子鎖破壊
、そしてそれ故、乏しい安定性を示している。結果を下記表１６に要約する。

【表２０】 脚注ａ），ｆ），ｇ），ｉ），ｋ）及びｌ）は、後記表２５の末尾を参照。

【０２４９】実施例１６ ：ポリカーボネートの安定化 真空乾燥オーブン中、１２０℃で８時間乾燥したポリカーボネート粉末〔ゼネ
ラル・エレクトリック(General Electric)社製の商標名レキサン(Lexan) １１５
〕１．０ｋｇ及び下記表１７に掲げた安定剤類０．１ｇないし０．６ｇ（０．０
１％ないし０．０６％）を、ヘンシェル(Henschel)ミキサー中で２分間混合する
。次いでこの混合物を最高２８０℃で、シュワベンタン(Schwabenthan)押出機で
押し出す。次いでポリマーストリングを顆粒化する。射出成形機を使用して、２
ｍｍの層厚を有する板を最高３００℃で、そうして得られた前記顆粒から成形す
る。次いでこれら板を、１３５℃で２０００時間、循環空気オーブン中で熟成さ
せる。次いでこれら板の黄色度指数（ＹＩ）をＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７０に基
づいて決定し、そして透過度を４５０ｎｍにおけるパーセントとして決定する。
低いＹＩ値は僅かな退色を示し、そして高いＹＩ値は前記パターンの高い退色を
示す。退色が少なければ少ないほど、前記安定剤はより有効である。透過度が高
ければ高いほど、前記安定剤はより有効である。結果を下記表１７及び表１８に
まとめる。

【表２１】

【表２２】 脚注ａ），ｉ）及びｋ）は、後記表２５の末尾を参照。

【０２５０】実施例１７ ：ポリカーボネートの安定化 真空乾燥オーブン中、１２０℃で８時間乾燥したポリカーボネート粉末〔ゼネ
ラル・エレクトリック(General Electric)社製の商標名レキサン(Lexan) １４５
〕１．０ｋｇに、下記表１９に掲げた安定剤類を入れ、そしてヘンシェル(Hensc
hel)ミキサー中で２分間混合する。次いでこの混合物を最高２８０℃で、シュワ
ベンタン(Schwabenthan)押出機で押し出す。次いでポリマーストリングを顆粒化
する。射出成形機を使用して、２ｍｍの層厚を有する板を最高３００℃で、そう
して得られた前記顆粒から成形する。次いでこれら板を１３５℃で循環空気オー
ブン中で熟成させ、黄色度指数（ＹＩ）がＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７７に基づい
て測定される値２０に達するまでの時間数を測定する。時間が長ければ長いほど
、前記安定剤はより有効である。結果を下記表１９にまとめる。

【表２３】 脚注ａ），ｉ），ｋ）及びｎ）は、後記表２５の末尾を参照。

【０２５１】実施例１８ ：ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）の安定化 真空乾燥オーブン中、１００℃で１０時間乾燥したポリブチレンテレフタレー
ト粉末〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社(Ciba Specilty Chemicals Inc.)
製の商標名クラスチン(Crastin) Ｓ６００〕１．０ｋｇに、下記表２０に掲げた
安定剤類を入れ、そしてヘンシェル(Henschel)ミキサー中で２分間混合する。次
いでこの混合物を最高２５０℃で、二軸押出機〔タイプベルストルフ(Berstorff
) で押し出し、次いで顆粒化する。射出成形機を使用して、そうして得られた前
記顆粒を、４×６ｍｍ厚で且つ長さ５０ｍｍの小さなロッドに最高２６０℃で成
形する。次いでこれら小さなロッドを、１６０℃で循環空気オーブン中で熟成す
る。３６０時間後、前記ロッドの衝撃強さをＫＪ／ｍ² 単位にて測定する。結果
を下記表２０にまとめる。

【表２４】 脚注ａ），ｉ），ｋ）及びｏ）は、後記表２５の末尾を参照。

【０２５２】実施例１９ ：ポリカーボネートの安定化 真空乾燥オーブン中、１２０℃で８時間乾燥したポリカーボネート粉末〔ゼネ
ラル・エレクトリック(General Electric)社製の商標名レキサン(Lexan) １４５
〕１．０ｋｇに、下記表２１に掲げた安定剤類を入れ、そしてヘンシェル(Hensc
hel)ミキサー中で２分間混合する。次いでこの混合物を最高２８０℃で、シュワ
ベンタン(Schwabenthan)押出機で押し出す。次いでポリマーストリングを顆粒化
する。射出成形機を使用して、そうして得られた前記顆粒から２ｍｍの層厚を有
する板を、最高３００℃で成形する。次いでこれら板を、ブラック標準温度６３
℃，１０２分／１８分のドライ／ウェットサイクル及び３４０ｎｍにおける強度
０．３５Ｗ／ｍ² で２５００時間、ウェザ−オ−メーター（ＷＯＭ Ｃｌ６５）
中で照射する。次いでこれら板の黄色度指数（ＹＩ）を、ＡＳＴＭ Ｄ１９２５
−７０に基づいて決定する。低いＹＩ値は前記板の僅かな退色を示し、高いＹＩ
値は前記板の高い退色を示す。退色が少なければ少ないほど、前記安定剤混合物
はより有効である。結果を下記表２１にまとめる。

【表２５】 脚注ａ），ｉ），ｋ），ｐ），ｑ）及びｒ）は、後記表２５の末尾を参照。

【０２５３】実施例２０ ：ポリカーボネートの安定化 真空乾燥オーブン中、１２０℃で８時間乾燥したポリカーボネート粉末〔ゼネ
ラル・エレクトリック(General Electric)社製の商標名レキサン(Lexan) １４５
〕１．０ｋｇに、下記表２２に掲げた安定剤類を入れ、そしてヘンシェル(Hensc
hel)ミキサー中で２分間混合する。次いでこの混合物を最高２８０℃で、シュワ
ベンタン(Schwabenthan)押出機で押し出す。次いでポリマーストリングを顆粒化
する。そうして得られた前記顆粒を厚さ１ｃｍのポリスチレン箱に詰め、そして
黄色度指数（ＹＩ）を、ＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７０に基づいて決定する。低い
ＹＩ値は前記試料の僅かな退色を示し、高いＹＩ値は前記試料の高い退色を示す
。退色が少なければ少ないほど、前記安定剤又は前記安定剤混合物はより有効で
ある。結果を下記表２２にまとめる。

【表２６】 脚注ｉ），ｋ）及びｓ）は、後記表２５の末尾を参照。

【０２５４】実施例２１ ：ポリカーボネートの安定化 真空乾燥オーブン中、１２０℃で１２時間乾燥したポリエステル〔ヘキスト(H
oechst) 社製の商標名ポリクリヤー(Polyclear) Ｔ８６〕２．５ｋｇに、下記表
２３に掲げた安定剤類を入れ、そしてヘンシェル(Henschel)ミキサー中で２時間
混合する。次いでこの混合物を最高２７５℃で、シュワベンタン(Schwabenthan)
押出機で押し出す。次いでポリマーストリングを顆粒化する。そうして得られた
前記顆粒を真空乾燥オーブン中で更に１２時間乾燥する。二重決定のため、前記
顆粒５００ｍｇを２９０℃で１０分間加熱し、そして２９０℃でランシメート中
、純酸素下で１時間貯蔵する。得られたガス状分離生成物を水性捕集溶液に連続
的に導き、そしてこの溶液の導電率（μＳ）を連続的に測定する。低い導電率値
は僅かな分離生成物が形成されていることを示し、高い導電率値は非常に多量の
分離生成物が形成されていることを示す。導電率値が低ければ低い程、前記安定
剤はより有効である。結果を下記表２３にまとめる。

【表２７】 脚注ｉ）及びｋ）は、後記表２５の末尾を参照。

【０２５５】実施例２２ ：光着色したＳＢＲ加硫ゴムの安定化（オゾン雰囲気で４８時間） 商標名カリフレックス(Cariflex)Ｓ−１５０２〔シェル(Shell) 社製のスチレ
ン／ブタジエンゴム〕１００質量部を６０℃，混合ミル中で、商標名クロノス(K
ronos)ＣＬ２２０［クロノス・チタン社(Kronos Titan GmbH) 製の二酸化チタン
（顔料）］３０．０質量部，商標名アクチシル(Aktisil) ＭＭ［ノイブルク／ド
ナウのホフマン・ミネラル(Hoffmann Mineral)社製のカオリン（充填剤）］３０
．０質量部，商標名ナフトレン(Naftolen)Ｎ４０１［メタルゲゼルシャフト(Met
allgesellschaft)社製の可塑剤］５．０質量部，酸化亜鉛（加硫活性剤）１０．
０質量部，ステアリン酸（加硫活性剤）２．０質量部，硫黄（加硫活性剤）２．
０質量部，商標名ヴァルカサイト(Vulkacit)ＭＯＺ［バイエル(Bayer) 社製の加
硫促進剤］１．０質量部，商標名ヴァルカサイト(Vulkacit)チウラム(Thiuram)
［バイエル(Bayer) 社製の加硫促進剤］０．２５質量部及び下記表２４に基づく
試験すべき安定剤１．０質量部と共に、混合工程の最後まで加硫系〔硫黄，商標
名ヴァルカサイト(Vulkacit)ＭＯＺ及び商標名ヴァルカサイト(Vulkacit)チウラ
ム(Thiuram) を添加せずに加工して均質混合物を形成する。この混合物を１５０
℃で、Ｔ９５がレオメーター曲線に達するまで電気加硫プレス中で加硫して、厚
さ２ｍｍ，長さ２１ｃｍそして幅８．０ｃｍのエラストマー板を形成する。

【０２５６】 そうして得られたエラストマー板の数枚について、動的延伸を行いながら、Ａ
ＳＴＭ標準Ｄ３３９５−８６に基づいてオゾンの作用を試験する。この試験にお
いて、前記板を先ず標準大気中で３０日間貯蔵する［２３／５０ ＳＮ−ＩＳＯ
２９１］。次いで１ｃｍ×２０ｃｍの試験片をパンチで打ち出し、そして４８時
間，オゾン雰囲気に暴露する（オゾン含有率：５０ｐｐｈｍ；温度：４０℃；湿
度：相対湿度５０％；延伸：０ないし２５％；延伸速度：０．５Ｈｚ；負荷サイ
クル数：約１７３０００）。次いで、前記試験板について、ＡＳＴＭ Ｄ３３９
５−８６に基づいて亀裂の生成を評価する。等級０は亀裂がないことを示し；等
級１は狭い平らな亀裂を示し；等級２は明らかに視認し得る中程度に広く、中程
度に深い亀裂を示し；等級３は広く且つ深い亀裂を示す。等級が低ければ低い程
、前記エラストマー板の安定化はより良好である。結果を表２４にまとめる。

【０２５７】 残りの前記エラストマー板を散乱光の下、標準実験室雰囲気中で、室温で３週
間貯蔵する。次いでこれら板のΔＬ−色を、０ないし１００のスケールに相当す
るＤＩＮ６１６７に基づいて決定する。退色無しは値１００により示される。結
果を表２４にまとめる。

【表２８】 脚注ｉ），ｋ），ｔ）及びｕ）は、後記表２５の末尾を参照。

【０２５８】実施例２３ ：光着色したＳＢＲ加硫ゴムの安定化（オゾン雰囲気で９６時間） 商標名カリフレックス(Cariflex)Ｓ−１５０２〔シェル(Shell) 社製のスチレ
ン／ブタジエンゴム〕１００質量部を６０℃，混合ミル中で、商標名クロノス(K
ronos)ＣＬ２２０［クロノス・チタン社(Kronos Titan GmbH) 製の二酸化チタン
（顔料）］３０．０質量部，商標名アクチシル(Aktisil) ＭＭ［ノイブルク／ド
ナウのホフマン・ミネラル(Hoffmann Mineral)社製のカオリン（充填剤）］３０
．０質量部，商標名ナフトレン(Naftolen)Ｎ４０１［メタルゲゼルシャフト(Met
allgesellschaft)社製の可塑剤］５．０質量部，酸化亜鉛（加硫活性剤）１０．
０質量部，ステアリン酸（加硫活性剤）２．０質量部，硫黄（加硫活性剤）２．
０質量部，商標名ヴァルカサイト(Vulkacit)ＭＯＺ［バイエル(Bayer) 社製の加
硫促進剤］１．０質量部，商標名ヴァルカサイト(Vulkacit)チウラム(Thiuram)
［バイエル(Bayer) 社製の加硫促進剤］０．２５質量部及び下記表２５に基づく
試験すべき安定剤１．０質量部と共に、混合工程の最後まで加硫系〔硫黄，商標
名ヴァルカサイト(Vulkacit)ＭＯＺ及び商標名ヴァルカサイト(Vulkacit)チウラ
ム(Thiuram) を添加せずに加工して均質混合物を形成する。この混合物を１５０
℃で、Ｔ９５がレオメーター曲線に達するまで電気加硫プレス中で加硫して、厚
さ２ｍｍ，長さ２１ｃｍそして幅８．０ｃｍの弾性板を形成する。

【０２５９】 そうして得られたエラストマー板の数枚について、動的延伸を行いながら、Ａ
ＳＴＭ標準Ｄ３３９５−８６に基づいてオゾンの作用を試験する。この試験にお
いて、前記板を先ず標準大気中で３０日間貯蔵する［２３／５０ ＳＮ−ＩＳＯ
２９１］。次いで１ｃｍ×２０ｃｍの試験片をパンチで打ち出し、そして９６時
間，オゾン雰囲気に暴露する（オゾン含有率：５０ｐｐｈｍ；温度：４０℃；湿
度：相対湿度５０％；延伸：０ないし２５％；延伸速度：０．５Ｈｚ；負荷サイ
クル数：約１７３０００）。次いで、前記試験板について、ＡＳＴＭ Ｄ３３９
５−８６に基づいて亀裂の生成を評価する。等級０は亀裂がないことを示し；等
級１は狭い平らな亀裂を示し；等級２は明らかに視認し得る中程度に広く、中程
度に深い亀裂を示し；等級３は広く且つ深い亀裂を示す。等級が低ければ低い程
、前記弾性板の安定化はより良好である。結果を表２５にまとめる。

【０２６０】 残りの前記エラストマー板を散乱光の下、標準実験室雰囲気中で、室温で３週
間貯蔵する。次いでこれら板のΔＬ−色を、０ないし１００のスケールに相当す
るＤＩＮ６１６７に基づいて決定する。退色無しは値１００により示される。結
果を表２５にまとめる。

【表２９】 ａ）商標名イルガフォス(Irgafos) １６８〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
(Ciba Specialty Chemicals Ins.) 社製〕は、トリス（２，４−ジ第三ブチルフ
ェニル）ホスフィットである。 ｂ）商標名サンドスタブ(Sandostab) Ｐ−ＥＰＱ〔クラリアント(Clariant)社製
〕は、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレン
ジホスホナイトである。 ｃ）商標名イルガノックス(Irganox) ５０５７〔チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ(Ciba Specialty Chemicals Ins.) 社製〕は第二アミン酸化防止剤であり、
そして ａ’）ジフェニルアミン３％； ｂ’）４−第三ブチルジフェニルアミン１４％； ｃ’）以下の群： ｉ）４−第三オクチルジフェニルアミン， ii）４，４’−ジ第三ブチルジフェニルアミン， iii)２，４，４’−トリス第三ブチルジフェニルアミン； の化合物３０％； ｄ’）以下の群： ｉ）４−第三ブチル−４’−第三オクチルジフェニルアミン， ii）ｏ，ｏ’−，ｍ，ｍ’−又はｐ，ｐ’−ジ第三オクチルジフェニルアミ
ン， iii)２，４−ジ第三ブチル−４’−第三オクチルジフェニルアミン； の化合物２９％； ｅ’）以下の群： ｉ）４，４’−ジ第三オクチルジフェニルアミン及び ii）２，４−ジ第三オクチル−４’−第三ブチルジフェニルアミン の化合物２４％ を含む、ジフェニルアミンをジイソブチレンと反応させることにより得られる工
業級混合物である。 ｄ）商標名イルガノックス(Irganox) １１３５〔チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ(Ciba Specialty Chemicals Ins.) 社製〕は、次式Ａ−１：

【化１２４】 で表わされるフェノール性酸化防止剤である。 ｅ）商標名チヌヴィン(Tinuvin) ６２２〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(C
iba Specialty Chemicals Ins.) 社製〕は、平均分子量が約３０００である、次
式Ｈ１：

【化１２５】 で表わされる化合物である。 ｆ）商標名チマソルブ(Chimassorb)９４４〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
(Ciba Specialty Chemicals Ins.) 社製〕は、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）へキサメチレンジアミンと４−第三オクチル
アミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとから製造された直鎖状又
は環状縮合生成物を表わし、そして平均分子量が約２５００である、次式Ｈ２：

【化１２６】 で表わされる化合物である。 ｇ）商標名チマソルブ(Chimassorb)１１９〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
(Ciba Specialty Chemicals Ins.) 社製〕は、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ
−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５
−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとから製造さ
れた縮合生成物を表わし、そして次式Ｈ３：

【化１２７】 で表わされる化合物である。 ｈ）商標名イルガフォス(Irgafos) ３８〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(C
iba Specialty Chemicals Ins.) 社製〕は、次式Ｐ−１：

【化１２８】 で表わされる化合物である。 ｉ）比較例 ｋ）本発明の実施例 ｌ）商標名イルガノックス(Irganox) １０１０〔チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ(Ciba Specialty Chemicals Ins.) 社製〕は、３−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のペンタエリトリトール・エステルで
ある。 ｍ）ＨＡＬＳ混合物は、商標名チヌヴィン(Tinuvin) ６２２〔チバ・スペシャル
ティ・ケミカルズ(Ciba Specialty Chemicals Ins.) 社製；脚注ｅ）を参照〕と
商標名チマソルブ(Chimassorb)１１９〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(Cib
a Specialty Chemicals Ins.) 社製；脚注ｇ）を参照〕との１：１混合物である
。 ｎ）商標名イルガノックス(Irganox) １０７６〔チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ(Ciba Specialty Chemicals Ins.) 社製〕は、次式Ａ−２：

【化１２９】 で表わされる化合物である。 ｏ）商標名イルガノックス(Irganox) ２４５〔チバ・スペシャルティ・ケミカル
ズ(Ciba Specialty Chemicals Ins.) 社製〕は、次式Ａ−３：

【化１３０】 で表わされる化合物である。 ｐ）商標名チヌヴィン(Tinuvin) ２３４〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(C
iba Specialty Chemicals Ins.) 社製〕は、次式ＵＶ−１：

【化１３１】 で表わされる化合物である。 ｑ）商標名チヌヴィン(Tinuvin) ３６０〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(C
iba Specialty Chemicals Ins.) 社製〕は、次式ＵＶ−２：

【化１３２】 で表わされる化合物である。 ｒ）商標名チヌヴィン(Tinuvin) １５７７〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
(Ciba Specialty Chemicals Ins.) 社製〕は、次式ＵＶ−３：

【化１３３】 で表わされる化合物である。 ｓ）商標名ＧＳＹ Ｐ１０１〔ヨシトミ(Yoshitomi) 社製〕は、次式Ｐ−２：

【化１３４】 で表わされる化合物である。 ｔ）商標名ヴァルカノックス(Vulkanox)４０１０〔バイエル(Bayer) 社製〕は、
次式Ａ：

【化１３５】 で表わされる４−イソプロピルアミノ−ジフェニルアミンを表わす。 ｕ）ｐｈｒは、”ゴム１００当たりの部(parts per hundred rubber)”を表わす
。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１０Ｍ 129/72 Ｃ１０Ｍ 129/72 129/74 129/74 131/12 131/12 133/24 133/24 133/40 133/40 Ｇ０３Ｃ 7/392 Ｇ０３Ｃ 7/392 Ａ // Ｃ０７Ｄ 295/08 Ｃ０７Ｄ 295/08 Ｚ 295/14 295/14 Ｚ Ｃ１０Ｎ 30:10 Ｃ１０Ｎ 30:10 40:04 40:04 40:08 40:08 40:12 40:12 40:20 40:20 Ｚ 40:25 40:25 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ， ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ， ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ， ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ， ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，Ｊ Ｐ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ， ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，Ｒ Ｏ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ， ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 ネスヴァドバ，ペーテル スイス国，1723 マルリー，ルート デ プラレテ 83 アー (72)発明者 ヴォルフ，マルチン ドイツ国，79639 グレンザッハ−ヴィー レン，キルヒシュトラーセ 29 (72)発明者 ロッツィンガー，ブルノ スイス国，4127 ビルスフェルデン，シュ ルシュトラーセ 22 (72)発明者 メダー，ディートマー ドイツ国，79104 フライブルク，カタリ ネンシュトラーセ ３ Ｆターム(参考） 2H016 BD07 4C037 QA06 4H104 BB12C LA05 4J002 AB011 AC001 AC031 AC061 AC091 AC121 AE001 AF021 BA001 BB011 BB021 BB051 BB061 BB071 BB081 BB111 BB141 BB151 BB171 BB181 BB231 BB271 BC011 BC021 BC041 BC051 BC061 BC071 BC081 BC091 BD031 BD081 BD101 BD131 BD141 BE021 BE061 BF011 BF021 BG041 BG051 BG101 BG131 BJ001 BK001 BN111 BN121 BN141 BN151 BP011 CB001 CC031 CC161 CC181 CD001 CF001 CG001 CG041 CH021 CH041 CH071 CH091 CK011 CK021 CL011 CL031 CL051 CM041 CN011 CN031 EE038 EE057 EH078 EH128 EJ017 EL076 EN007 EN008 ES008 EU178 EU187 EV068 EV077 EW068 EW118 EW127 FD010 FD036 FD048 FD077

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次式Ｉ： 【化１】 〔式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は次式II，III 又はIV： 【化２】 で表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式： 【化３】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ 及びＲ₅ は各々互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロ
   キシル基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェ
   ニルアルキル基、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフ
   ェニル基；非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子
   数５ないし８のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭
   素原子数１ないし１８のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミ
   ノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし２
   ５のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルアミノ基、
   炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基；酸素原子，硫黄原子又は次式
   ： 【化４】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイルオキシ
   基；炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオ
   キシ基又は炭素原子数１ないし１２のアルキル基で置換されたベンゾイルオキシ
   基を表わし；或いは置換基Ｒ₂ とＲ₃ 又はＲ₃ とＲ₄ 又はＲ₄ とＲ₅ の各組は結
   合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し；或いはＲ₄ は更に−（
   ＣＨ₂ ）_p −ＣＯＲ₁₉基又は−（ＣＨ₂ ）_q −ＯＨ基を表わし、或いはＲ₃ ，Ｒ ₅ 及びＲ₆ が水素原子を表わす場合、Ｒ₄ は更に次式Ｖ： 【化５】 （式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わ
   す）で表わされる基を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は次式ＶＩ： 【化６】 （式中、Ｒ₄ は式Ｖで表わされる基を表わさず、そしてＲ₁ は、ｎ＝１に対して
   上記において定義されたものと同じ意味を表わす）で表わされる基を表わし、
   Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀，Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃，Ｒ₁₄及びＲ₁₅は各々互いに独立し
   て水素原子、弗素原子、弗素置換された炭素原子数１ないし１２のアルキル基、
   −ＣＮ基、次式： 【化７】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基、−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基又は−ＳＯ₃ Ｒ₂₆基を表わすが
   、但し、Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀，Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃，Ｒ₁₄及びＲ₁₅の少なくと
   も一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇は各々互いに独立して、弗素原子，弗素原子で置換された炭素原
   子数１ないし１２のアルキル基，−ＣＮ基，次式： 【化８】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基、−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基又は−ＳＯ₃ Ｒ₂₆基により置換
   されたフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₁₈は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、 Ｒ₁₉はヒドロキシル基、次式： 【化９】 で表わされる基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基又は次式： 【化１０】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂₀及びＲ₂₁は各々互いに独立して水素原子、−ＣＦ₃ 基、炭素原子数１ない
   し１２のアルキル基又はフェニル基を表わし、或いはＲ₂₀及びＲ₂₁は結合してい
   る炭素原子と一緒になって、非置換又は１個ないし３個の炭素原子数１ないし４
   のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を
   形成し、 Ｒ₂₂は水素原子、ヒドロキシル基、次式： 【化１１】 で表わされる基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９
   のフェニルアルキル基、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換さ
   れたフェニル基；非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭
   素原子数５ないし８のシクロアルキル基；或いは酸素原子，硫黄原子又は次式： 【化１２】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルキル基を表わし
   、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニ
   ルアルキル基、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェ
   ニル基；非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数
   ５ないし８のシクロアルキル基；或いは酸素原子，硫黄原子又は次式： 【化１３】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルキル基を表わし
   、 Ｒ₂₄及びＲ₂₅は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし２５のアルキル
   基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし２４のアルキル基；酸
   素原子，硫黄原子又は次式： 【化１４】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルキル基；非置換
   又は炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子
   数７ないし９のフェニルアルキル基；又は炭素原子数３ないし２４のアルケニル
   基を表わし；或いはＲ₂₄及びＲ₂₅は、それらが結合している窒素原子と一緒にな
   って、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された、或いは
   酸素原子，硫黄原子又は次式： 【化１５】 で表わされる基により中断された５−，６−又は７−員複素環式環を形成し、 Ｒ₂₆は水素原子又は炭素原子数１ないし２５のアルキル基を表わし、 Ｒ₂₇及びＲ₂₈は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし２５のアルキル
   基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし２４のアルキル基；酸
   素原子，硫黄原子又は次式： 【化１６】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルキル基；非置換
   又は炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子
   数７ないし９のフェニルアルキル基；又は炭素原子数３ないし２４のアルケニル
   基を表わし；或いはＲ₂₇及びＲ₂₈は、それらが結合している窒素原子と一緒にな
   って、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された、或いは
   酸素原子，硫黄原子又は次式： 【化１７】 で表わされる基により中断された５−，６−又は７−員複素環式環を形成し、 Ｒ₂₉及びＲ₃₀は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル
   基又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、或いはＲ₂₉及びＲ ₃₀ は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、非置換又は炭素原子数１
   ないし４のアルキル基により置換された、或いは酸素原子，硫黄原子又は次式： 【化１８】 で表わされる基により中断された５−，６−又は７−員複素環式環を形成し、 Ｘ₁ は直接結合、炭素原子数１ないし１８のアルキレン基、酸素原子，硫黄原
   子又は次式： 【化１９】 で表わされる基により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；炭素
   原子数２ないし１８のアルケニレン基、炭素原子数２ないし２０のアルキリデン
   基、炭素原子数７ないし２０のフェニルアルキリデン基、炭素原子数５ないし８
   のシクロアルキレン基、炭素原子数７又は８のビシクロアルキレン基、非置換又
   は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニレン基、次式： 【化２０】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₂ は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；酸素原子，硫黄原子又は次式
   ： 【化２１】 で表わされる基により中断された炭素原子数４ないし１８のアルキレン基；炭素
   原子数２ないし１８のアルケニレン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレ
   ン基、炭素原子数７又は８のビシクロアルキレン基、非置換又は炭素原子数１な
   いし４のアルキル基で置換されたフェニレン基、次式： 【化２２】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₃ は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；酸素原子，硫黄原子又は次式
   ： 【化２３】 で表わされる基により中断された炭素原子数４ないし１８のアルキレン基；炭素
   原子数２ないし１８のアルケニレン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレ
   ン基、炭素原子数７又は８のビシクロアルキレン基、非置換又は炭素原子数１な
   いし４のアルキル基で置換されたフェニレン基、次式： 【化２４】 で表わされる基を表わし、 Ｍはｒ価の金属カチオンを表わし、 ｎは１又は２を表わし、 ｐは０，１又は２を表わし、 ｑは１，２，３，４，５又は６を表わし、そして ｒは１，２又は３を表わす〕で表わされる化合物。
2. 【請求項２】 請求項１記載の化合物であって、 式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は次式II，III 又はIV： 【化２５】 で表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式： 【化２６】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ 及びＲ₅ は各々互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロ
   キシル基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェ
   ニルアルキル基、フェニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、炭素
   原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基
   、炭素原子数１ないし１８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし１８の
   アルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし１８のアルケノイルオキシ基；酸素
   原子又は硫黄原子により中断された炭素原子数３ないし１８のアルカノイルオキ
   シ基；炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイル
   オキシ基又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたベンゾイルオキシ
   基を表わし；或いは置換基Ｒ₂ とＲ₃ 又はＲ₃ とＲ₄ 又はＲ₄ とＲ₅ の各組は結
   合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し；或いはＲ₄ は更に−（
   ＣＨ₂ ）_p −ＣＯＲ₁₉基又は−（ＣＨ₂ ）_q −ＯＨ基を表わし、或いはＲ₃ ，Ｒ ₅ 及びＲ₆ が水素原子を表わす場合、Ｒ₄ は更に次式Ｖ： 【化２７】 （式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わ
   す）で表わされる基を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は次式ＶＩ： 【化２８】 （式中、Ｒ₄ は式Ｖで表わされる基を表わさず、そしてＲ₁ は、ｎ＝１に対して
   上記において定義されたものと同じ意味を表わす）で表わされる基を表わし、
   Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀，Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃，Ｒ₁₄及びＲ₁₅は各々互いに独立し
   て水素原子、弗素原子、弗素置換された炭素原子数１ないし８のアルキル基、−
   ＣＮ基、次式： 【化２９】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基、−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基又は−ＳＯ₃ Ｒ₂₆基を表わすが
   、但し、Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀，Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃，Ｒ₁₄又はＲ₁₅の少なくと
   も一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇は各々互いに独立して、弗素原子，トリフルオロメチル基，−Ｃ
   Ｎ基，次式： 【化３０】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基、−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基又は−ＳＯ₃ Ｒ₂₆基により各々
   置換されたフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₁₈は水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒ₁₉はヒドロキシル基、次式： 【化３１】 で表わされる基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基又は次式： 【化３２】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂₀及びＲ₂₁は各々互いに独立して水素原子、−ＣＦ₃ 基、炭素原子数１ない
   し８のアルキル基又はフェニル基を表わし、或いはＲ₂₀及びＲ₂₁は結合している
   炭素原子と一緒になって、炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成
   し、 Ｒ₂₂は水素原子、ヒドロキシル基、次式： 【化３３】 で表わされる基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９
   のフェニルアルキル基、フェニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基
   ；或いは酸素原子又は硫黄原子により中断された炭素原子数３ないし２５のアル
   キル基を表わし、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２２のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニ
   ルアルキル基、フェニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、或いは
   酸素原子又は硫黄原子により中断された炭素原子数３ないし２５のアルキル基を
   表わし、 Ｒ₂₄及びＲ₂₅は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアル
   キル基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし１８のアルキル基
   ；酸素原子，硫黄原子又は次式： 【化３４】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし１８のアルキル基；炭素原
   子数７ないし９のフェニルアルキル基；又は炭素原子数３ないし１８のアルケニ
   ル基を表わし；或いはＲ₂₄及びＲ₂₅は、それらが結合している窒素原子と一緒に
   なって、５−，６−又は７−員複素環式環を形成し、 Ｒ₂₆は水素原子又は炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表わし、 Ｒ₂₇及びＲ₂₈は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアル
   キル基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし１８のアルキル基
   ；酸素原子，硫黄原子又は次式： 【化３５】 で表わされる基により中断された炭素原子数３ないし１８のアルキル基；炭素原
   子数７ないし９のフェニルアルキル基；又は炭素原子数３ないし１８のアルケニ
   ル基を表わし；或いはＲ₂₇及びＲ₂₈は、それらが結合している窒素原子と一緒に
   なって、５−，６−又は７−員複素環式環を形成し、 Ｒ₂₉及びＲ₃₀は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアル
   キル基又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、或いはＲ₂₉及
   びＲ₃₀は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、５−，６−又は７−
   員複素環式環を形成し、 Ｘ₁ は直接結合、炭素原子数１ないし１２のアルキレン基、酸素原子又は硫黄
   により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；炭素原子数２ないし
   １２のアルケニレン基、炭素原子数２ないし１２のアルキリデン基、炭素原子数
   ７ないし１２のフェニルアルキリデン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキ
   レン基、フェニレン基、次式： 【化３６】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₂ は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基；酸素原子，硫黄原子又は次式
   ： 【化３７】 で表わされる基により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基；炭素
   原子数２ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレ
   ン基、フェニレン基、次式： 【化３８】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₃ は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、酸素原子，硫黄原子又は次式
   ： 【化３９】 で表わされる基により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基；炭素
   原子数２ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレ
   ン基、フェニレン基、次式： 【化４０】 で表わされる基を表わし、 Ｍはｒ価の金属カチオンを表わし、 ｎは１又は２を表わし、 ｐは０，１又は２を表わし、 ｑは１，２，３，４，５又は６を表わし、そして ｒは１，２又は３を表わす化合物。
3. 【請求項３】 請求項１記載の化合物であって、 式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は式II，III 又はIVで表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式： 【化４１】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ 及びＲ₅ は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ない
   し１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基
   、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数１な
   いし１２のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし１２のアルカノイルオキシ基、
   炭素原子数３ないし１２のアルケノイルオキシ基；酸素原子により中断された炭
   素原子数３ないし１２のアルカノイルオキシ基；シクロヘキシルカルボニルオキ
   シ基、ベンゾイルオキシ基を表わし；或いは置換基Ｒ₂ とＲ₃ 又はＲ₃ とＲ₄ 又
   はＲ₄ とＲ₅ の各組は結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し
   ；或いはＲ₄ は更に−（ＣＨ₂ ）_p −ＣＯＲ₁₉基又は−（ＣＨ₂ ）_q −ＯＨ基を
   表わし、或いはＲ₃ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ が水素原子を表わす場合、Ｒ₄ は更に式Ｖ（
   式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わす
   ）で表わされる基を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は式ＶＩ（式中、Ｒ₄ は式Ｖで表わされる基を表わさず、そ
   してＲ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わす）
   で表わされる基を表わし、 Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀，Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃，Ｒ₁₄及びＲ₁₅は各々互いに独立
   して水素原子、弗素原子、弗素原子により置換された炭素原子数１ないし４のア
   ルキル基、−ＣＮ基、次式： 【化４２】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基、−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基又は−ＳＯ₃ Ｒ₂₆基を表わすが
   、但し、Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀，Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃，Ｒ₁₄及びＲ₁₅の少なくと
   も一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇は各々互いに独立してフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₁₉はヒドロキシル基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基又は次式： 【化４３】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂₀及びＲ₂₁は各々互いに独立して水素原子、−ＣＦ₃ 基、炭素原子数１ない
   し４のアルキル基を表わし、或いはＲ₂₀及びＲ₂₁は結合している炭素原子と一緒
   になってシクロヘキシリデン環を形成し、 Ｒ₂₂はヒドロキシル基、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、フェニル基、
   シクロヘキシル基；或いは酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２の
   アルキル基を表わし、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２２のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、シク
   ロヘキシル基、或いは酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアル
   キル基を表わし、 Ｒ₂₄及びＲ₂₅は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１２のアル
   キル基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし１２のアルキル基
   ；酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアルキル基；ベンジル基
   又は炭素原子数３ないし１２のアルケニル基を表わし；或いはＲ₂₄及びＲ₂₅は、
   それらが結合している窒素原子と一緒になって、６−員複素環式環を形成し、 Ｒ₂₆は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表わし、 Ｒ₂₇及びＲ₂₈は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１２のアル
   キル基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし１２のアルキル基
   ；酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１８のアルキル基；ベンジル基
   又は炭素原子数３ないし１２のアルケニル基を表わし；或いはＲ₂₇及びＲ₂₈は、
   それらが結合している窒素原子と一緒になって、６−員複素環式環を形成し、 Ｒ₂₉及びＲ₃₀は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１２のアル
   キル基又はベンジル基を表わし、或いはＲ₂₉及びＲ₃₀は、それらが結合している
   窒素原子と一緒になって、６−員複素環式環を形成し、 Ｘ₁ は直接結合、炭素原子数１ないし８のアルキレン基、酸素原子により中断
   された炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；フェニレン基、次式： 【化４４】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₂ は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、酸素原子により中断された炭素
   原子数４ないし１２のアルキレン基；シクロヘキシレン基、フェニレン基、次式
   ： 【化４５】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₃ は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、酸素原子により中断された炭
   素原子数４ないし１２のアルキレン基；炭素原子数２ないし１２のアルケニレン
   基、シクロヘキシレン基、フェニレン基、次式： 【化４６】 で表わされる基を表わし、 ｎは１又は２を表わし、 ｐは１又は２を表わし、そして ｑは２又は３を表わす化合物。
4. 【請求項４】 請求項１記載の化合物であって、 式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は式IIで表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式： 【化４７】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし
   ９のフェニルアルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし
   ８のアルカノイルオキシ基又はベンゾイルオキシ基を表わし、 Ｒ₃ は水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒ₄ は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし
   ９のフェニルアルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし
   ８のアルカノイルオキシ基、−（ＣＨ₂ ）_p −ＣＯＲ₁₉基又は−（ＣＨ₂ ）_q −
   ＯＨ基を表わし、或いはＲ₃ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ が水素原子を表わす場合、Ｒ₄ は更
   に式Ｖ（式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味
   を表わす）で表わされる基を表わし、 Ｒ₅ は水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は式ＶＩ（式中、Ｒ₄ は式Ｖで表わされる基を表わさず、そ
   してＲ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わす）
   で表わされる基を表わし、 Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀及びＲ₁₁は各々互いに独立して水素原子、弗素原子、
   弗素原子により置換された炭素原子数１ないし４のアルキル基、−ＣＮ基、次式
   ： 【化４８】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基又は−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基を表わすが、但し、Ｒ₇ ，Ｒ ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀又はＲ₁₁の少なくとも一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇は各々互いに独立してフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₁₉は炭素原子数１ないし８のアルコキシ基を表わし、 Ｒ₂₀及びＲ₂₁は各々互いに独立して水素原子、−ＣＦ₃ 基又は炭素原子数１な
   いし４のアルキル基を表わし、或いはＲ₂₀及びＲ₂₁は結合している炭素原子と一
   緒になってシクロヘキシリデン環を形成し、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２２のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、シク
   ロヘキシル基、或いは酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアル
   キル基を表わし、 Ｒ₂₄及びＲ₂₅は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキ
   ル基、ヒドロキシル基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基；酸
   素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアルキル基；ベンジル基又は
   炭素原子数３ないし１２のアルケニル基を表わし、 Ｒ₂₆は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、 Ｒ₂₉及びＲ₃₀は各々互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキ
   ル基又はベンジル基を表わし、 Ｘ₁ は直接結合、炭素原子数１ないし８のアルキレン基、次式： 【化４９】 で表わされる基を表わし、 Ｘ₂ は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、又は酸素原子により中断された
   炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表わし、 Ｘ₃ は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、又は酸素原子により中断され
   た炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表わし、 ｎは１又は２を表わし、 ｐは１又は２を表わし、そして ｑは２又は３を表わす化合物。
5. 【請求項５】 請求項１記載の化合物であって、 式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は式IIで表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式： 【化５０】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニ
   ルアルキル基、フェニル基又はシクロヘキシル基を表わし、 Ｒ₃ は水素原子又はメチル基を表わし、 Ｒ₄ は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし
   ９のフェニルアルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基又は式Ｖ（式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わす）で表わさ
   れる基を表わし、 Ｒ₅ は水素原子又はメチル基を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は式ＶＩ（式中、Ｒ₄ は式Ｖで表わされる基を表わさず、そ
   してＲ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わす）
   で表わされる基を表わし、 Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀及びＲ₁₁は各々互いに独立して水素原子、弗素原子、
   弗素原子により置換された炭素原子数１ないし４のアルキル基、−ＣＮ基、次式
   ： 【化５１】 で表わされる基、−ＳＯＲ₂₆基又は−ＳＯ₂ Ｒ₂₆基を表わすが、但し、Ｒ₇ ，Ｒ ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀又はＲ₁₁の少なくとも一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇は各々互いに独立してフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₂₀及びＲ₂₁は各々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１ないし４のアル
   キル基を表わし、或いはＲ₂₀及びＲ₂₁は結合している炭素原子と一緒になってシ
   クロヘキシリデン環を形成し、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２２のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、シク
   ロヘキシル基又は酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアルキル
   基を表わし、 Ｒ₂₆は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、 Ｘ₁ は直接結合、炭素原子数１ないし８のアルキレン基又は−Ｏ−Ｘ₃ −Ｏ−
   基を表わし、 Ｘ₃ は炭素原子数２ないし１８のアルキレン基又は酸素原子により中断された
   炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表わし、そして ｎは１又は２を表わす化合物。
6. 【請求項６】 請求項１記載の化合物であって、 式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は式IIで表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式： 【化５２】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ は炭素原子数１ないし８のアルキル基又はシクロヘキシル基を表わし、 Ｒ₃ は水素原子を表わし、 Ｒ₄ は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキシル基又は
   式Ｖ（式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を
   表わす）で表わされる基を表わし、 Ｒ₅ は水素原子を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は式ＶＩ（式中、Ｒ₄ は式Ｖで表わされる基を表わさず、そ
   してＲ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義されたものと同じ意味を表わす）
   で表わされる基を表わし、 Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀及びＲ₁₁は各々互いに独立して水素原子、弗素原子、
   トリフルオロメチル基、−ＣＮ基又は次式： 【化５３】 で表わされる基を表わすが、但し、Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀又はＲ₁₁の少なくと
   も一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇は各々互いに独立してフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₂₀及びＲ₂₁は各々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１ないし４のアル
   キル基を表わし、或いはＲ₂₀及びＲ₂₁は結合している炭素原子と一緒になってシ
   クロヘキシリデン環を形成し、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２２のアルキル基、ベンジル基又はシクロヘキシル
   基を表わし、 Ｘ₁ は炭素原子数１ないし８のアルキレン基又は−Ｏ−Ｘ₃ −Ｏ−基を表わし
   、 Ｘ₃ は炭素原子数２ないし１４のアルキレン基を表わし、そして ｎは１又は２を表わす化合物。
7. 【請求項７】 請求項１記載の化合物であって、 式中、 ｎが１を表わす場合、 Ｒ₁ は式IIで表わされる基を表わし、そして ｎが２を表わす場合、 Ｒ₁ は次式： 【化５４】 で表わされる基を表わし、 Ｒ₂ は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒ₃ は水素原子を表わし、 Ｒ₄ は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 Ｒ₅ は水素原子を表わし、 Ｒ₆ は水素原子又は式ＶＩ（式中、Ｒ₁ は、ｎ＝１に対して上記において定義
   されたものと同じ意味を表わす）で表わされる基を表わし、 Ｒ₇ は水素原子又はトリフルオロメチル基を表わし、 Ｒ₈ は水素原子、トリフルオロメチル基又は−ＣＮ基を表わし、 Ｒ₉ は水素原子又はトリフルオロメチル基を表わし、 Ｒ₁₀は水素原子、トリフルオロメチル基又は−ＣＮ基を表わし、 Ｒ₁₁は水素原子、弗素原子、トリフルオロメチル基、−ＣＮ基又は次式： 【化５５】 で表わされる基を表わすが、但し、Ｒ₇ ，Ｒ₈ ，Ｒ₉ ，Ｒ₁₀又はＲ₁₁の少なくと
   も一つは水素原子を表わさず、 Ｒ₁₆及びＲ₁₇はフェニレン基又はナフチレン基を表わし、 Ｒ₂₃は炭素原子数１ないし２２のアルキル基を表わし、 Ｘ₁ は−Ｏ−Ｘ₃ −Ｏ−基を表わし、 Ｘ₃ は炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表わし、そして ｎは１又は２を表わす化合物。
8. 【請求項８】 ａ）酸化的、熱的又は光により誘起される分解を受け易い有
   機材料、及び ｂ）少なくとも１種の請求項１記載の式Ｉで表わされる化合物 を含む組成物。
9. 【請求項９】 成分（ａ）が潤滑剤、燃料、圧媒液、金属工作液及び天然，
   半合成又は合成ポリマーからなる群からから選択される請求項８記載の組成物。
10. 【請求項１０】 成分（ａ）としてエンジンオイル、タービンオイル、ギヤ
    オイル、ディーゼル燃料又は潤滑グリースを含む請求項８記載の組成物。
11. 【請求項１１】 成分（ａ）として合成ポリマーを含む請求項８記載の組成
    物。
12. 【請求項１２】 成分（ｂ）が、成分（ａ）の質量に基づいて、０．０００
    ５％ないし１０％の量で存在する請求項８記載の組成物。
13. 【請求項１３】 成分（ａ）及び成分（ｂ）以外に、別の添加剤を更に含む
    請求項８記載の組成物。
14. 【請求項１４】 別の添加剤として、フェノール性酸化防止剤、光安定剤及
    び／又は加工安定剤を含む請求項１３記載の組成物。
15. 【請求項１５】 少なくとも１種の請求項１記載の式Ｉで表わされる化合物
    を混和するか又は塗布することからなる、酸化的、熱的又は光により誘起される
    分解に対して有機材料を安定化する方法。
16. 【請求項１６】 酸化的、熱的又は光により誘起される分解に対する有機材
    料用安定剤としての請求項１記載の式Ｉで表わされる化合物の使用。
17. 【請求項１７】 請求項１記載の式Ｉで表わされる化合物を含むカラー写真
    材料。
18. 【請求項１８】 非感光性中間層中に式Ｉで表わされる化合物を含む請求項
    １７記載のカラー写真材料。
19. 【請求項１９】 式Ｉで表わされる化合物を１０ｍｇ／ｍ² ないし１０００
    ｍｇ／ｍ² の量を含む請求項１７記載のカラー写真材料。
20. 【請求項２０】 カラー写真材料中の酸化された現像剤用の掃去剤としての
    請求項１記載の式Ｉで表わされる化合物の使用。
21. 【請求項２１】 カラー写真材料において酸化された現像剤が一つのカラー
    感光層から他のカラー感光層へ移行するのを防止する方法であって、請求項１記
    載の式Ｉで表わされる化合物を前記材料中に混和することによる方法。