JP2003518139A5

JP2003518139A5 -

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Publication number: JP2003518139A5
Application number: JP2000504179A
Authority: JP
Filing date: 1998-07-23
Publication date: 2006-01-05

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】オレフィン類の重合方法であって、式Ｒ¹ＣＨ＝ＣＨＲ¹で表
される１番目のオレフィンと、−ＳｉＲ² ₃、−ＣＯ₂Ｒ³、非共役ケトン、−ＳＯ
₂Ｒ⁷、アルケニル、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ⁴、−Ｃ₆Ｆ₅、−ＯＲ⁸、−ＣＯ
₂Ｈ、−ＯＨ、−ＣＨＯ、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＲ⁵）₂、−ＢＲ⁶ ₂、−ＳＲ⁹、−ＳＨ
、エーテル、エポキシおよび−ＣＯＮＲ⁶⁸Ｒ⁶⁹から成る群から選択される官能基
を１つ以上含む２番目のオレフィンと、
【化１】

［ここで、
Ｒ¹³およびＲ¹⁶は、各々独立して、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルで
あるが、但しイミノの窒素原子に結合している炭素原子がそれに結合している炭
素原子を少なくとも２つ持つことを条件とし、
Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカル
ビルであるか、或はＲ¹⁴とＲ¹⁵が一緒になって炭素環状環を形成するヒドロカル
ビレンもしくは置換ヒドロカルビレンである］
のニッケルもしくはパラジウム配位化合物であるオレフィン重合触媒を接触させ
ることを含み、ここで、
各Ｒ¹は、独立して、水素またはアルキルであり、
各Ｒ²は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロゲン、アシル
オキシ、アミノ、シロキシまたは−ＯＲ¹²であり、
Ｒ³は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ⁴は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
各Ｒ⁵は、独立して、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ⁶は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ⁷は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ⁸は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ⁹は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ¹²は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、そして
Ｒ⁶⁸およびＲ⁶⁹は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカル
ビルであるが、但し
上記官能基がアルケニル、−ＯＲ⁸、−ＯＨ、−ＣＨＯ、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＲ⁵）
₂、−ＳＲ⁹、−ＳＨ、エポキシまたは−ＣＯＮＲ⁶⁸Ｒ⁶⁹の時には上記官能基を１
つ以上含むオレフィンの炭素−炭素二重結合と上記官能基の間にブロッキング基
が存在し、そして
上記官能基が非共役ケトン、アルケニル、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｒ⁴、−Ｃ
Ｏ₂Ｈ、−ＯＨ、−ＣＨＯ、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＲ⁵）₂、−ＳＲ⁹または−ＳＨの時
には上記配位化合物がパラジウム化合物であることを条件とする方法。
【請求項２】上記温度が約−２０℃から約＋８０℃である請求項１記載の
方法。
【請求項３】Ｒ¹³およびＲ¹⁶が各々独立してヒドロカルビルであるが、但
し該イミノの窒素原子に結合している炭素原子がそれに結合している炭素原子を
少なくとも２つ有することを条件とし、そして
Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵が各々独立して水素またはヒドロカルビルであるか或はＲ¹⁴とＲ
¹⁵が一緒になって環を形成するヒドロカルビレンである、
請求項１記載の方法。
【請求項４】Ｒ¹³およびＲ¹⁶が各々アリールまたは置換アリールである請
求項３記載の方法。
【請求項５】Ｒ¹の１つが水素でありそしてもう１つのＲ¹が水素または炭
素原子を１から２０個含むｎ−アルキルである請求項１記載の方法。
【請求項６】Ｒ¹の１つが水素でありそしてもう１つのＲ¹がメチルである
請求項１記載の方法。
【請求項７】Ｒ¹の両方が水素である請求項１記載の方法。
【請求項８】上記ブロッキング基が存在している請求項１記載の方法。
【請求項９】上記ブロッキング基が第四級炭素原子、エステル基、アミド
基、スルホン基、テトラフルオロ−ｐ−フェニレン、シリル基、ボラン基、カー
ボネート基またはアンモニウムカチオンである請求項８記載の方法。
【請求項１０】上記ブロッキング基が第四級炭素原子、エステル基、スル
ホン基または−（ＣＦ₂）_n−（ここで、ｎは２から２０の整数である）である請
求項９記載の方法。
【請求項１１】上記ブロッキング基が他の４つの炭素原子に結合している
第四級炭素原子である請求項１０記載の方法。
【請求項１２】上記２番目のオレフィンが
【化２】

［ここで、
ｑは、０または１から２０の整数であり、
Ｒ⁵⁸およびＲ⁵⁹は、各々独立して、炭素原子を１から２０個含むアルキルであり
、
Ｒ⁶⁰は、共有結合、または炭素原子を１から２０個含むアルキレンであり、
Ｒ⁶⁶およびＲ⁶⁷は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカル
ビルであり、
Ｒ⁶¹は、水素、または炭素原子を１から２０個含むアルキルであり、
Ｒ⁶⁸は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ¹⁰は、各々独立して、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり
、
Ｒ¹¹は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
ｔは、０または１から２０の整数であり、
Ｒ⁶⁴は、炭素原子を１から２０個含むアルキレンであり、そして
Ｒ⁶⁵は、炭素原子を１から２０個含むアルキルである］
である請求項１記載の方法。
【請求項１３】上記官能基が−ＳｉＲ² ₃［ここで、Ｒ²は全部が塩素また
は−ＯＲ⁷⁰であり、ここで、Ｒ⁷⁰は、炭素原子を１から６個含むｎ−アルキル、
エポキシドまたはアルケニルである］である請求項１記載の方法。
【請求項１４】式
H₂C=CH-T-NR⁷¹-C(O)CFR⁷²(OCF₂CFR⁷²)_aOCF₂(CFR⁷²)_bSO₂F (XXVI)
［式中、
Ｔは、アルキレンまたは置換アルキレンであり、
Ｒ⁷¹は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ⁷²は、各々独立して、フッ素、塩素、または炭素原子を１から１０個含むパー
フルオロアルキルであり、
ａは、０、１または２であり、そして
ｂは、０または１から６の整数である］
で表される化合物。
【請求項１５】Ｔが−（ＣＨ₂）_n−［ここで、ｎは１から６の整数である
］であり、
Ｒ⁷¹がアルキルであり、そして
Ｒ⁷²が各々独立してフッ素またはトリフルオロメチルである、
請求項１４記載の化合物。
【請求項１６】Ｔが−（ＣＨ₂）_n−［ここで、ｎは１である］であり、
Ｒ⁷¹がメチルであり、
各Ｒ⁷²がフッ素であり、
ａが０であり、そして
ｂが１である、
請求項１４記載の化合物。
【請求項１７】式
【化３】

［式中、
Ｔは、アルキレンまたは置換アルキレンであり、
Ｒ⁷¹は、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり、
Ｒ⁷²は、各々独立して、フッ素、塩素、または炭素原子を１から１０個含むパー
フルオロアルキルであり、
ａは、０、１または２であり、
ｂは、０または１から６の整数であり、
Ｒ⁷³は、アルキルまたは水素であり、そして
Ｒ⁷⁴は、ヒドロキシル、フッ素、塩素またはＯＭであり、ここで、Ｍは金属カチ
オンである］
で表される繰り返し単位を含んで成る共重合体。
【請求項１８】Ｒ⁷¹がアルキルであり、
Ｒ⁷²が各々独立してフッ素またはトリフルオロメチルであり、そして
Ｒ⁷⁴がフッ素、ヒドロキシルまたはＯＭであり、ここで、Ｍがアルカリ金属カチ
オンである、
請求項１７記載の共重合体。
【請求項１９】Ｔが−（ＣＨ₂）_n−［ここで、ｎは１である］であり、
Ｒ⁷¹がメチルであり、
各Ｒ⁷²がフッ素であり、
ａが０であり、
ｂが０であり、そして
Ｒ⁷⁴がフッ素、ヒドロキシルまたはＯＭであり、ここで、Ｍがアルカリ金属カチ
オンである、
請求項１７記載の共重合体。