JP2003501557A5 - - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 溶着物の製造に使用するためのニッケルクロム鉄合金であって、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される上記合金。
【請求項2】 0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素を含む、請求項1記載の合金。
【請求項3】 ニッケルクロム鉄溶着物であって、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、約0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される上記溶着物。
【請求項4】 0.30〜0.95のマンガン、0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素、および0.10〜0.30のケイ素を含む、請求項3記載の溶着物。
【請求項5】 溶着物を製造する溶接用電極であって、該溶着物が、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、約0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される、上記溶接用電極。
【請求項6】 0.30〜0.95のマンガン、0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素、および0.10〜0.30のケイ素を含む溶着物を製造する、請求項5記載の溶接用電極。
【請求項7】 フラックスカバーをもつニッケルクロム線で構成される、請求項5または6記載の溶接用電極。
【請求項8】 フラックスコアをもつニッケルクロム鉄シースで構成される、請求項5または6記載の溶接用電極。
【請求項9】 合金基体とその上の溶着物オーバーレイで構成される溶接物であって、前記溶着物オーバーレイが、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、約0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される、上記溶接物。
【請求項10】 0.30〜0.95のマンガン、0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素、および0.10〜0.30のケイ素を含む、請求項9記載の溶接物。
【請求項11】 核蒸気発生器の管板の形をしている、請求項9または10記載の溶接物。
【請求項12】 ニッケルクロム線またはニッケルクロム鉄線のフラックス被覆電極を製造し、該電極を溶融して溶着物を製造することを含む溶着物の製造方法であって、該溶着物が、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、約0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される、上記方法。
【請求項13】 0.30〜0.95のマンガン、0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素、および0.10〜0.30のケイ素を含む溶着物を製造するための、請求項12記載の方法。
【請求項14】 前記電極の溶融がサブマージアーク溶接またはエレクトロスラグ溶接で実施される、請求項12または13記載の方法。
【請求項15】 ニッケルクロム鉄合金の電極を製造することを含む溶接物の製造方法であって、該合金が、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、約0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される、上記方法。
【請求項16】 0.30〜0.95のマンガン、0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素、および0.10〜0.30のケイ素を含む、請求項15記載の溶接物の製造方法。
【請求項17】 溶接物の製造に使用するための物品であって、該物品が線材、帯材、シース、棒材、電極、予め合金した粉末、または元素の粉末の形をしており、該物品は、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、約0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される、上記物品。
【請求項18】 0.30〜0.95のマンガン、0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素、および0.10〜0.30のケイ素を含む、請求項17記載の物品。
【請求項1】 溶着物の製造に使用するためのニッケルクロム鉄合金であって、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される上記合金。
【請求項2】 0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素を含む、請求項1記載の合金。
【請求項3】 ニッケルクロム鉄溶着物であって、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、約0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される上記溶着物。
【請求項4】 0.30〜0.95のマンガン、0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素、および0.10〜0.30のケイ素を含む、請求項3記載の溶着物。
【請求項5】 溶着物を製造する溶接用電極であって、該溶着物が、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、約0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される、上記溶接用電極。
【請求項6】 0.30〜0.95のマンガン、0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素、および0.10〜0.30のケイ素を含む溶着物を製造する、請求項5記載の溶接用電極。
【請求項7】 フラックスカバーをもつニッケルクロム線で構成される、請求項5または6記載の溶接用電極。
【請求項8】 フラックスコアをもつニッケルクロム鉄シースで構成される、請求項5または6記載の溶接用電極。
【請求項9】 合金基体とその上の溶着物オーバーレイで構成される溶接物であって、前記溶着物オーバーレイが、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、約0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される、上記溶接物。
【請求項10】 0.30〜0.95のマンガン、0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素、および0.10〜0.30のケイ素を含む、請求項9記載の溶接物。
【請求項11】 核蒸気発生器の管板の形をしている、請求項9または10記載の溶接物。
【請求項12】 ニッケルクロム線またはニッケルクロム鉄線のフラックス被覆電極を製造し、該電極を溶融して溶着物を製造することを含む溶着物の製造方法であって、該溶着物が、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、約0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される、上記方法。
【請求項13】 0.30〜0.95のマンガン、0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素、および0.10〜0.30のケイ素を含む溶着物を製造するための、請求項12記載の方法。
【請求項14】 前記電極の溶融がサブマージアーク溶接またはエレクトロスラグ溶接で実施される、請求項12または13記載の方法。
【請求項15】 ニッケルクロム鉄合金の電極を製造することを含む溶接物の製造方法であって、該合金が、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、約0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される、上記方法。
【請求項16】 0.30〜0.95のマンガン、0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素、および0.10〜0.30のケイ素を含む、請求項15記載の溶接物の製造方法。
【請求項17】 溶接物の製造に使用するための物品であって、該物品が線材、帯材、シース、棒材、電極、予め合金した粉末、または元素の粉末の形をしており、該物品は、重量%で、約27〜31.5のクロム、約7〜11の鉄、約0.005〜0.05の炭素、約1.0未満のマンガン、約0.60〜0.95のニオビウム、0.50未満のケイ素、0.01〜0.35のチタン、0.01〜0.25のアルミニウム、0.20未満の銅、1.0未満のタングステン、1.0未満のモリブデン、0.12未満のコバルト、0.10未満のタンタル、約0.10未満のジルコニウム、0.01未満の硫黄、約0.01未満のホウ素、0.02未満のリン、残余のニッケルおよび付随的な不純物で構成される、上記物品。
【請求項18】 0.30〜0.95のマンガン、0.002〜0.10のジルコニウム、0.001〜0.01のホウ素、および0.10〜0.30のケイ素を含む、請求項17記載の物品。
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