JP2003500504A - 局所化粧用および身体ケア用組成物におけるポリシロキサンブロックコポリマー - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 式［Ａ］［Ｂ］の単位から形成されるポリシロキサンブロックコポリマーを作成する方法であって、式中、Ａは、ラジカル重合可能なモノマーから形成されるポリマーブロックであり、Ｂは、ポリシロキサンブロックであり、ラジカル開始剤を、それぞれポリシロキサン上の基とラジカル開始剤との間の求核置換反応によってポリシロキサン上にグラフト化することによってポリシロキサンマクロ開始剤を形成するステップと、原子移動ラジカル重合反応において、このようにして得られたポリシロキサンマクロ開始剤をラジカル重合可能なモノマー類と反応させて、ポリシロキサンブロックコポリマーを形成するステップとを含む方法。また、ポリシロキサンブロックコポリマーを含んで整髪用組成物などの化粧用および身体ケア用組成物をも提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 発明の分野 本発明は、化粧用および身体ケア用組成物の用途に好適なポリシロキサンブロ
ックコポリマー類とそれらの調製、またポリシロキサンブロックコポリマー類を
含む整髪用組成物などの化粧用および身体ケア用組成物に関するものである。

【０００２】 背景および従来技術 整髪用スプレイ、ムース、ゲルおよびシャンプーなどの化粧用および身体ケア
用組成物は、例えば膜形成能、増粘化、感覚特性および整髪およびヘアセットな
どの多くの利点を提供するために樹脂類、ゴム類および粘性ポリマー類を含有す
ることが多い。

【０００３】 このような組成物に使用されるポリマー類としては、交互の、ランダムなブロ
ックまたはホモポリマー形状における種々のモノマー類を含有する有機またはシ
リコーン含有の線状またはグラフトコポリマー類が挙げられる。

【０００４】 グラフトコポリマー類は、ヘアケア用および他の身体ケア用組成物において膜
形成ポリマー類として利用することが知られている。これらのグラフトコポリマ
ー類は、一般にポリマー骨格および該骨格にグラフトされた１つまたは複数のマ
クロモノマー類を含んで成り、所望の総合的ポリマー特性を提供するために、ポ
リマー骨格およびマクロモノマーグラフトに関してガラス転移温度および水溶性
などの物理化学的特質により独立に選ぶことができる。

【０００５】 例えば、ＷＯ９５／０１３８３およびＷＯ９５／０１３８４には、ヘアおよび
スキンケア用組成物における水溶性またはアルコール溶解性または分散性グラフ
トコポリマー類の使用を記載しており、その中でコポリマーは、骨格および２つ
以上のポリマー側鎖を有し、ランダムな反復モノマー単位ＡおよびＢの共重合化
により形成される。モノマーＡは、疎水性を有するために選択され、マクロモノ
マーＢは、長鎖の親水性部分を含んでなる。ヨーロッパ特許第４１２，７０４号
、ヨーロッパ特許第４０８，３１３号およびヨーロッパ特許第４１２，７０７号
には、ヘアケア適用においてシリコーングラフトアクリルエステルコポリマー類
の使用を示唆していた。米国特許第４，９８８，５０６号には、ヘアケア組成物
における非感圧ポリシロキサングラフトコポリマー類の使用を記載している。

【０００６】 ブロックコポリマー類は、ポリマー構築がより綿密に制御できるという点でグ
ラフトコポリマー類よりも有利である。これは、特定の適用、例えば保持力およ
び感触改善のためヘアスプレイポリマーにおける「ハード」および「ソフト」の
セグメントの交替に関して、別個の物理化学的性質のセグメントを用いてポリマ
ー類をデザインする際に特に重要である。

【０００７】 米国特許第５，４６８，４７７号には、シリコーンポリマーセグメントおよび
ビニルポリマーセグメントを含んで成るビニルシリコーングラフトコポリマーま
たはビニルシリコーンブロックコポリマーを含有する化粧用および身体ケア用組
成物を記載している。このブロックまたはグラフトコポリマーは、メルカプト官
能シリコーン連鎖移動剤およびビニルモノマー類のラジカル重合により作成する
。この方法により作成されたコポリマー類は一般に、未完鎖終末のために低分子
量であり、またシリコーンの含量は低い。また、分子内架橋反応により、無制御
な方法で形成されたポリマーとなり、したがって複数の鎖長および分子構造の混
合物を有する多分散系となる。さらに、メルカプト基は分解して臭いの問題を与
える傾向があるので、これらの存在は、身体ケア適用にとって不利益である。

【０００８】 ブロックコポリマー類の合成に対する他の方法は、ラジカルを形成する基を含
むオルガノポリシロキサン類であるオルガノポリシロキサンマクロ開始剤を使用
することである。これらは米国特許第５，５２３，３６５号に記載され、ＷＯ９
８／４８７７１に使用されており、そこではアゾ基を有するポリジメチルシロキ
サンのマクロ開始剤が、ブロックコポリマーを合成するのに用いられている。問
題としては、かなりの量で存在する必要があり、さもなければ最終生成物におい
てシロキサン含量が不十分となるラジカルマクロ開始剤に関連する費用面と安全
面での障害が挙げられる。さらに、ポリジメチルシロキサンのマクロ開始剤の大
きさにより、反応が非効率的で、大量の未反応シリコーンを時間のかかる抽出工
程で除去しなければならず、スケールアップが極めて困難になると思われる。

【０００９】 化粧用および身体ケア用組成物に使用するために、費用的に有効なポリシロキ
サンブロックコポリマー類を好都合に作成する必要がある。

【００１０】 本発明は、ラジカルマクロ開始剤を、簡便な求核置換反応を用いてオルガノポ
リシロキサン類から調製するポリシロキサンブロックコポリマー類を作成するた
めの改良された方法を提供する。このようにして生成されたマクロ開始剤は、次
いで、制御された構造のポリシロキサンブロックコポリマー類を調製するために
原子移動ラジカル重合化において使用できる。原子移動ラジカル重合化は、一般
的にＰｏｌｙｍｅｒ Ｖｏｌ ３９，Ｎｏ．２１，ｐｐ ５１６３−５１７０（
Ｎａｋａｇａｗａら）に記載されており、グラフトコポリマーを作成するために
ＷＯ９８／５１２６１に使用されている。

【００１１】 発明の概要 第１の態様において、本発明は、式［Ａ］［Ｂ］の単位から形成されるポリシ
ロキサンブロックコポリマーを作成する方法であって、式中、Ａは、ラジカル重
合可能なモノマーから形成されるポリマーブロックであり、Ｂは、ポリシロキサ
ンブロックであり、ラジカル開始剤を、それぞれポリシロキサン上の基とラジカ
ル開始剤の間の求核置換反応によってポリシロキサン上にグラフト化することに
より、ポリシロキサンマクロ開始剤を形成するステップと、原子移動ラジカル重
合反応において、このようにして得られたポリシロキサンマクロ開始剤をラジカ
ル重合可能なモノマー類と反応させて、ポリシロキサンブロックコポリマーを形
成するステップとを含む方法を提供する。

【００１２】 第２の態様において、本発明は、上記の方法により得ることができるポリシロ
キサンブロックコポリマーを提供する。

【００１３】 本発明はまた、上記のポリシロキサンブロックコポリマーを含んで成る整髪用
組成物などの化粧用および身体ケア用組成物を提供する。

【００１４】 詳細な説明および好ましい実施形態 工程 本発明の工程は、２つの重要な反応ステップを含む。

【００１５】 第１反応ステップ 第１反応ステップは、ラジカル開始剤を、それぞれポリシロキサン上の基とラ
ジカル開始剤の間の求核置換反応によってポリシロキサン上にグラフト化するこ
とにより、ポリシロキサンマクロ開始剤を形成することを含む。

【００１６】 典型的には、ポリシロキサンマクロ開始剤は、（ｉ）そのＯ、ＮまたはＳ原子
を介して求核攻撃可能な少なくとも１つの基で末端キャップ化されたポリシロキ
サンと、 （ｉｉ）少なくとも１つの−Ｃ（Ｏ）Ｘ基と、［式中、Ｘは、ポリシロキサン
（ｉ）の求核性Ｏ、ＮまたはＳ原子によって置換可能な脱離基である］遷移金属
触媒の存在下でラジカルを生成できる少なくとも１つの有機ハライド基とを含ん
で成るラジカル開始剤 との間の求核置換反応によって形成される。

【００１７】 上記のように、少なくとも１つの基で末端キャップ化されていることを条件と
して、該ポリシロキサン（ｉ）は、線状、分枝状または超分枝状であってもよい
。「末端キャップ化する」とは、基が、ポリシロキサンの末端位置またはその近
傍に存在することを意味する。

【００１８】 好ましいポリシロキサン類の例は、式を有するものである。 ［Ｙ（Ｒ^３）_ｐ−Ｓｉ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−Ｏ−［Ｓｉ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−Ｏ］ _ｎ Ｓｉ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−（Ｒ^４）_ｑＺ］ 式中、ｎは、５〜１，０００，０００の整数であり、 Ｒ^１およびＲ^２は、任意に置換された一価の線状または分枝状のＣ_１〜１８炭
化水素ラジカルから独立して選ばれ、 Ｒ^３およびＲ^４は、任意に置換された二価の線状または分枝状のＣ_１〜Ｃ_１８ 炭化水素ラジカルから独立して選ばれ、 ｐおよびｑは、０または１の値を有する整数であり、 ＹおよびＺは、水酸基、−ＮＨ_２およびＮＨＲ^５［Ｒ^５は任意に置換された一
価の線状または分枝状のＣ_１〜１８炭化水素ラジカルである］から独立して選ば
れる。ＹおよびＺの両方ではなく、いずれかが、水素または任意に置換された一
価の線状または分枝状のＣ_１〜１８炭化水素ラジカルであってもよく、それによ
りモノ末端キャップ化ポリシロキサンを与える。

【００１９】 一価の非置換ラジカルの例としては、メチルラジカル、エチルラジカル、ｎ−
プロピルラジカル、ｉ−プロピルラジカル、ｎ−ブチルラジカル、ｉ−ブチルラ
ジカル、ｔ−ブチルラジカル、ｎ−ペンチルラジカル、ｉ−ペンチルラジカル、
ネオ−ペンチルラジカルおよびｔ−ペンチルラジカルなどのアルキルラジカル；
メトキシラジカル、エトキシラジカル、ｎ−プロポキシラジカル、ｉ−プロポキ
シラジカル、ｎ−ブトキシラジカル、ｉ−ブトキシラジカル、ｔ−ブトキシラジ
カル、ｎ−ペントキシラジカル、ｉ−ペントキシラジカル、ネオ−ペントキシラ
ジカルおよびｔ−ペントキシラジカルなどのアルコキシラジカル；ｎ−ヘキシル
ラジカルなどのヘキシルラジカル；ビニルラジカル、アリルラジカル、５−ヘキ
セニルラジカル、４−ビニルシクロヘキシルラジカルおよび３−ノルボルネニル
ラジカルなどのアルケニルラジカル；シクロペンチルラジカル、シクロヘキシル
ラジカル、４−エチルシクロヘキシルラジカルおよびシクロヘプチルラジカルな
どのシクロアルキルラジカル；ノルボルニルラジカルおよびメチルシクロヘキシ
ルラジカル；フェニルラジカル、ビフェニリルラジカル、ナフチルラジカル、ア
ンスリルラジカルおよびフェナンスリルラジカルなどのアリールラジカル；ｏ−
、ｍ−およびｐ−トリルラジカル、キシリルラジカルおよびエチルフェニルラジ
カルなどのアルカリルラジカル；およびベンジルラジカル、スチリルラジカルお
よびフェニルエチルラジカルなどのアラルキルラジカルがある。

【００２０】 一価の置換ラジカルの例としては、クロロメチルラジカル、３−クロロプロピ
ルラジカル、３−ブロモプロピルラジカル、３，３，３−トリフロロプロピルラ
ジカルおよび５，５，５，４，４，３，３−ヘプタフロロペンチルラジカル、ク
ロロフェニルラジカル、ジクロロフェニルラジカルおよびトリフロロトリルラジ
カルなどのハロゲン化炭化水素ラジカル；２−メルカプトエチルラジカルおよび
３−メルカプトプロピルラジカルなどのメルカプトアルキルラジカル；２−シア
ノエチルラジカルおよび３−シアノプロピルラジカルなどのシアノアルキルラジ
カル；３−アミノプロピルラジカル、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプ
ロピルラジカルおよびＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノ−（２−メチル）
プロピルラジカルなどのアミノアルキルラジカル；アミノフェニルラジカルなど
のアミノアリールラジカル；３−アクリルオキシプロピルラジカルおよび３−メ
タクリルオキシプロピルラジカルなどのアシルオキシアルキルラジカル；および
ヒドロキシプロピルラジカルなどのヒドロキシアルキルラジカルがある。

【００２１】 好ましい一価のラジカルとしては、Ｃ_１〜Ｃ_６のアルキルラジカルまたはフェ
ニルラジカル、特にメチルラジカル、エチルラジカル、プロピルラジカルまたは
フェニルラジカルから独立して選ばれる。

【００２２】 二価の炭化水素ラジカルの例としては、メチレンラジカルおよびエチレンラジ
カル、ならびにプロピレンラジカル、ブチレンラジカル、ペンチレンラジカル、
ヘキシレンラジカル、シクロヘキシレンラジカルおよびオクタデシレンラジカル
などの線状または分枝状飽和アルキレンラジカル；メトキシエチレンラジカルお
よびエトキシエチレンラジカルなどのアルコキシアルキレンラジカル；ヘキセニ
レンラジカルおよびフェニレンラジカルなどの不飽和アルキレンラジカルまたは
アリーレンラジカル；メチルフェニレンラジカルおよびエチルフェニレンラジカ
ルなどのアルカリレンラジカル；およびメトキシフェニレンラジカルおよびエト
キシフェニレンラジカルなどのアルコキシアリーレンラジカルがある。二価の炭
化水素ラジカルＲ^３およびＲ^４は、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｃ−、
−ＣＯＮＲ^５−、−ＮＲ^５Ｃ（Ｏ）−および−Ｃ（Ｏ）−など、炭素原子に両側
で結合した二価ラジカルにより中断されることがある。式中、Ｒ^５は、上記の水
素または一価の任意に置換された線状または分枝状Ｃ_１〜１８炭化水素ラジカル
である。

【００２３】 上記の一般式に対応する特に好ましいポリシロキサンは、 ｎ＝５〜１，０００，０００、好ましくは５〜５００ Ｒ^１およびＲ^２＝メチル、 ｐおよびｑ＝０、かつＹおよびＺ＝水酸基；またはｐおよびｑ＝１、かつＲ^３ およびＲ^４＝（ＣＨ_２）_３かつＹおよびＺ＝ＮＨ_２ を有する。

【００２４】 ラジカル開始剤（ｉｉ）は、少なくとも１つの−Ｃ（Ｏ）Ｘ基と［式中Ｘは、
ポリシロキサン（ｉ）の求核性Ｏ、ＮまたはＳ原子によって置換可能な脱離基で
ある］遷移金属触媒の存在下でラジカルを生成できる少なくとも１つの有機ハラ
イド基とを含んで成る。

【００２５】 好ましいラジカル開始剤の例は、次式のものである。 Ｒ^７−Ｃ（Ｏ）Ｘ 式中、Ｒ^７は有機ハライド基であり、Ｘは脱離基である。Ｘはハロゲン原子（
Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩ）であることが好ましい。「有機ハライド基」とは、ハ
ロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩ）をも含有する置換または無置換のいずれ
かである任意の線状、分枝状または環状（芳香族または他の）炭素構造を意味す
る。

【００２６】 好ましいラジカル開始剤は次の一般式のものである。 Ｃ（Ｒ^８）（Ｒ^９）Ｈａｌ’−（Ｒ^１０）_ｒ−Ｃ（Ｏ）Ｈａｌ 式中、Ｈａｌ’およびＨａｌは、独立にハロゲン原子を示し、Ｒ^８およびＲ^９ は、水素または任意に置換された一価の上記のような線状または分枝状Ｃ_{１〜１ ８} 炭化水素ラジカルから独立に選ばれ、ｒは、０または１の値を有する整数であ
り、Ｒ^１０は、任意に置換された二価の上記のような線状または分枝状Ｃ_１〜Ｃ _１８ 炭化水素ラジカルから選ばれる。

【００２７】 上記の一般式に相当する特に好ましいラジカル開始剤は、 ＨａｌおよびＨａｌ’＝Ｂｒ，Ｒ^８およびＲ^９＝メチル、およびｒ＝０ を有する。

【００２８】 第１反応ステップは、従来の反応条件下での（ｉ）と（ｉｉ）との間の求核置
換反応を含む。ポリシロキサン（ｉ）の求核性Ｏ、ＮまたはＳ原子は、ラジカル
開始剤（ｉｉ）の脱離基Ｘを置換し、それにより（ｉ）と（ｉｉ）を結合してポ
リシロキサンマクロ開始剤を生成する。

【００２９】 第２反応ステップ 第２反応ステップは、ポリシロキサンブロックコポリマーを形成するために、
触媒量または量論量のＣｕ（Ｉ）塩または他の遷移金属種存在下で、ステップ（
ｉ）で得られたポリシロキサンマクロ開始剤の有機ハライド基を、ラジカル重合
可能なモノマー類と反応させることを含む。

【００３０】 この反応ステップにおいて、有機ハライド基は、ラジカル重合可能なモノマー
類と触媒存在で開始剤として作用し、その結果、原子移動ラジカル重合化により
、ラジカル重合可能なモノマー類ブロックがポリシロキサンマクロ開始剤上に結
合する。このラジカル重合可能なモノマー類のブロックは、上記のようなポリシ
ロキサンブロックコポリマーのポリマーブロック（Ａで示す）を構成する。

【００３１】 第２反応ステップに係る触媒は、遷移金属塩、好ましくはＣｕ（Ｉ）ハロゲン
化物塩（Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ、Ｉ）などのＣｕ（Ｉ）塩であり、それは、反応混合物
中のＣｕ（Ｉ）塩を溶解させるのに好適なリガンドに対して錯体化されているこ
とが好ましい。ＷＯ第９８／５１２６１号には、反応混合物中のＣｕ（Ｉ）塩を
溶解させるのに使用するための好ましいリガンドを記載している（二リン酸塩、
２，２’ビピリジル、Ｃ_１〜Ｃ_２０アルキル置換ビピリジルおよびその組合せ、
最も好ましくは、Ｃｕ（Ｉ）ハロゲン化物塩、特にＣｕＣｌにおいて錯体化され
た２，２’ビピリジルなどの非プロトン性の二座体）。ＷＯ第９８／５１２６２
号にはまた、本発明の方法の第２反応ステップに使用される重合化法の例（原子
移動ラジカル重合化）を記載した幾つかの雑誌論文を参照している。さらに、こ
のような記載例は、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｖｏｌ．３９，Ｎｏ．２１，ｐｐ ５１６
３−５１７０（Ｎａｋａｇａｗａら）およびＭａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ １
９９７，３０，２１９０−２１９３（Ｈａｄｄｌｅｔｏｎら）に見ることができ
る。当業者らは、種々の他のリガンド類も使用できることを解するであろう。

【００３２】 第２反応ステップの重合化工程は、当業者なら理解されるようにバルク、溶液
、乳化液および懸濁液にて供給できる。

【００３３】 本発明の方法の第２反応ステップで使用するのに好適なラジカル重合可能なモ
ノマー類としては、エチレン性不飽和モノマー類が好ましい。

【００３４】 「重合化可能」とは、原子移動ラジカル重合化、さらに好ましくは「リビング
」原子移動ラジカル重合化を用いて本発明の方法の第２反応ステップに従って重
合化できるモノマー類を意味し、その中のポリマー鎖長および構造はラジカルの
安定性により制御でき、改善された単分散性をもたらす。

【００３５】 「エチレン性不飽和」とは、少なくとも１つの重合可能な炭素−炭素二重結合
を含有するモノマー類を意味する（これはモノ−、ジ−、トリ−またはテトラ置
換できる）。単一モノマーまたは２つ以上のモノマー類組合せのいずれかを利用
することができる。いずれの場合においても、モノマー類は、最終ポリシロキサ
ンブロックコポリマーの物理化学的要件に合致するように選ばれる。

【００３６】 好適なエチレン性不飽和モノマー類は、以下の一般式のものである。 Ｈ（Ｒ^１１）Ｃ＝Ｃ（Ｒ^１２）（Ｃ（Ｏ）Ｇ） 式中、Ｒ^１１およびＲ^１２は、水素、Ｃ_１〜Ｃ_１０直鎖または分枝鎖アルキル
基、メトキシ基、エトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−メトキシエチル
基および２−エトキシエチル基から独立して選ばれ、 Ｇは、水酸基、−Ｏ（Ｍ）_２／ｖ、−ＯＲ^１３、−ＮＨ_２、−ＮＨＲ^１３およ
び−Ｎ（Ｒ^１３）（Ｒ^１４）から選ばれ、 式中、Ｍは、アルカリ金属イオン類およびアルカリ土類金属イオン類などの金
属イオン、アンモニウムイオン類およびモノ−、ジ−、トリ−およびテトラアル
キルアンモニウムイオン類などの置換アンモニウムイオン類から選ばれた原子価
ｖのカウンターイオンであり、Ｒ^１３およびＲ^１４の各々は、水素、Ｃ_１〜Ｃ_８ 直鎖または分枝鎖のアルキル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、２−ヒドロキシ
エチル、２−メトキシエチルおよび２−エトキシエチルから独立して選ばれる。
ここで有用なモノマー類の代表的な非限定例としては、保護または無保護アクリ
ル酸およびメタクリル酸塩類、エステル類およびアミド類が挙げられる。

【００３７】 該塩類は、通常の無毒性金属、アンモニウム、または置換アンモニウムカウン
ターイオンのいずれかから誘導できる。該エステル類は、Ｃ_１〜４０直鎖アルコ
ール、Ｃ_３〜４０分枝鎖アルコールまたはＣ_３〜４０炭素環式アルコール、約２
個から約８個の炭素原子および約２個から約８個の水酸基を有する多価アルコー
ル類から誘導でき（その非限定例としては、エチレングリコール、プロピレング
リコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、グリセロール、および
１，２，６−ヘキサントリオールが挙げられる）；アミノアルコール類から誘導
でき（その非限定例としては、アミノエタノール、ジメチルアミノエタノールお
よびジエチルアミノエタノールおよびそれらの四級化誘導体が挙げられる）；ま
たはアルコールエーテル類から誘導できる（その非限定例としては、メトキシエ
タノールおよびエトキシエタノールが挙げられる）。

【００３８】 該アミド類は、アルキル基またはアルキルアミノ基がＣ_１〜４０直鎖部分、Ｃ _３〜４０ 分枝鎖部分またはＣ_３〜４０炭素環式部分から誘導できる無置換Ｎ−ア
ルキルまたはＮ−アルキルアミノモノ置換、またはＮ，Ｎ−ジアルキル、または
ジ置換のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノジ置換であり得る。さらに、アルキルアミノ
基は四級化できる。また、保護および無保護のアクリル酸または／メタクリル酸
、それらの塩類、エステル類およびアミド類はまた、モノマー類として有用であ
り、そこには置換基が、アクリル酸または／メタクリル酸の炭素２位および３位
にあり、Ｃ_１〜４アルキル、水酸基、ハロゲン化物（−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｆ、−
Ｉ）、−ＣＮおよび−ＣＯ_２Ｈ、例えばメタクリル酸、エタクリル酸、アルファ
クロロアクリル酸および３−シアノアクリル酸である。これら置換アクリル酸お
よびメタクリル酸の塩類、エステル類およびアミド類は、上記のようにアクリル
酸／メタクリル酸塩類、エステル類およびアミド類と定義し得る。他の有用なモ
ノマー類は、Ｃ_１〜４０直鎖カルボン酸、Ｃ_３〜４０分枝鎖カルボン酸またはＣ _３〜４０ 炭素環式カルボン酸のビニルエステル類およびアリルエステル類、ビニ
ルハロゲン化物およびアリルハロゲン化物（例えば、塩化ビニル、塩化アリル）
、（例えば、ビニルピリジン、アリルピリジン）；塩化ビニリデン；および少な
くとも１つの不飽和炭素−炭素二重結合を有する炭化水素（例えば、スチレン、
アルファ−メチルスチレン、ｔ−ブチルスチレン、ブタジエン、イソプレン、シ
クロヘキサジエン、エチレン、プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、イソブチ
レン、ｐ−メチルスチレン）；およびそれらの混合物が挙げられる。

【００３９】 ここで有用な好ましいモノマー類は、保護および無保護のアクリル酸、メタク
リル酸、エタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−
ブチル、アクリル酸イソ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸２−エチ
ルヘキシル、アクリル酸デシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸メチル、メ
タクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソ−ブチル、メタ
クリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸デシル、
エタクリル酸メチル、エタクリル酸エチル、エタクリル酸ｎ−ブチル、エタクリ
ル酸イソ−ブチル、エタクリル酸ｔ−ブチル、エタクリル酸２−エチルヘキシル
、エタクリル酸デシル、アクリル酸２，３−ジヒドロキシプロピル、メタクリル
酸２，３−ジヒドロキシプロピル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル
酸２−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ヒドロキシプロピル、モノアクリル酸
グリセリル、モノエタクリル酸グリセリル、メタクリル酸グリシジル、アクリル
酸グリシジル、アクリルアミド、メタクリルアミド、エタクリルアミド、Ｎ−メ
チルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタ
クリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、
Ｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−
ブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−オクチルアクリ
ルアミド、Ｎ−オクタデシルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド
、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタ
クリルアミド、Ｎ−ドデシルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル
アクリルアミド、四級化Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、四級化Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチ
ルメタクリルアミド、アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、メタクリル酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、四級化アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチ
ル、四級化メタクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、アクリル酸２−ヒドロ
キシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、エタクリル酸２−ヒドロキシ
エチル、アクリル酸グリセリル、アクリル酸２−メトキシエチル、メタクリル酸
２−メトキシエチル、エタクリル酸２−メトキシエチル、アクリル酸２−エトキ
シエチル、メタクリル酸２−エトキシエチル、エタクリル酸２−エトキシエチル
、マレイン酸、マレイン酸無水物およびその半エステル類、フマール酸、イタコ
ン酸、イタコン酸無水物およびその半エステル類、クロトン酸、アンゲリカ酸、
ジアリルジメチル塩化アンモニウム、ビニルピロリドンビニルイミダゾール、メ
チルビニルエーテル、メチルビニルケトン、マレイミド、ビニルピリジン、ビニ
ルフラン、スチレンスルホン酸塩、アリルアルコール、クエン酸アリル、酒石酸
アリル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、ビニルカプロラクタムおよびその混合
物から選ばれたものが挙げられる。

【００４０】 さらに好ましいモノマー類は、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、エタ
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、エタクリル酸エチル
、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、エタクリル酸ｎ−ブチル、
アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、エタクリル
酸２−エチルヘキシル、Ｎ−オクチルアクリルアミド、アクリル酸２−メトキシ
エチル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
エチル、メタクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、アクリル酸、メタクリル
酸、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチルおよ
びその混合物から選ばれたものが挙げられる。

【００４１】 最も好ましいモノマー類は、アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、メタ
クリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタ
クリル酸ヒドロキシエチル、Ｎ−オクチルアクリルアミド、アクリル酸２−ヒド
ロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチルおよびその混合物から選ばれ
たものが挙げられる。

【００４２】 ポリシロキサンブロックコポリマー類 上記の工程により得ることができる典型的なポリシロキサンブロックコポリマ
ーは、一般式［Ａ］Ｌ［Ｂ］の単位から形成され、式中、Ａはラジカル重合可能
なモノマーから形成されるポリマーブロックであり、Ｂはポリシロキサンブロッ
クであり、Ｌは、ＡおよびＢブロックをＯ−Ｓｉ，Ｎ−ＳｉまたはＳ−Ｓｉ結合
を経てＢブロックに結合する二価の結合基である。Ｌは、 −Ｒ^１５−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−； −Ｒ^１５−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−； −Ｒ^１５−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ^１６）−； −Ｒ^１５−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ^１６）−；または −Ｒ^１５−Ｎ（Ｒ^１６）−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ^１７）−； から選ばれることが好ましく、 式中、Ｒ^１５は、上記のような二価の、任意に置換された線状または分枝状の
Ｃ_１〜Ｃ_１８炭化水素ラジカル、および Ｒ^１６およびＲ^１７は、上記のような一価の、任意に置換された線状または分
枝状のＣ_１〜１８炭化水素ラジカルから独立して選ばれる。

【００４３】 本発明のシリコーンブロックコポリマーの全体分子構造は、式Ａ−Ｌ−Ｂ，Ａ
−Ｌ−Ｂ−Ｌ−Ａ、−（Ａ−Ｌ−Ｂ）_ｎ−により記載でき、式中、ｎは、２以上
の整数であり、または［Ａ−Ｌ−］［Ａ−Ｌ−］Ｂ［−Ｌ−Ａ］［−Ｌ−Ａ］に
より記載でき、Ａ−Ｌ−Ｂは、ジブロック構造を表し、Ａ−Ｌ−Ｂ−Ｌ−Ａは、
トリブロック構造を表し、−（Ａ−Ｌ−Ｂ）_ｎ−は、マルチブロック構造を表し
、［Ａ−Ｌ−］［Ａ−Ｌ−］Ｂ［−Ｌ−Ａ］［−Ｌ−Ａ］は、樹枝状構造を表す
。

【００４４】 化粧用および身体ケア用組成物 本発明ポリシロキサンブロックコポリマー類は、ヘアケア組成物、特にヘアス
プレイ組成物に製剤化することが好ましいが、しかしムース、ゲル、ローション
、トニック、スプレイ、シャンプー、コンデショナー、リンス、ハンドおよびボ
ディローション、顔面湿潤剤、日焼け止め、抗座瘡剤、局所鎮痛剤、マスカラな
どを含む広範囲の種々の製品タイプに製剤化することもできる。このような製品
を製剤化するのに必要な担体および添加組成物は、製品タイプにより変化し、当
業者により慣例どおり選ぶことができる。以下のものは、これら担体および添加
組成物の幾つかを説明したものである。

【００４５】 担体 本発明のヘアケア組成物は、毛髪への適用に好適である担体、またはこのよう
な担体の混合物を含むことができる。該担体は、組成物の約０．５％から約９９
．５％、好ましくは約５．０％から約９９．５％、より好ましくは約１０．０％
から約９８．０％にて存在する。ここで使用される表現の「毛髪への適用に好適
な」とは、担体が、毛髪の美観を損わず、または悪影響を与えず、またはその下
の皮膚に刺激を引き起こさないことを意味する。本発明のヘアケア組成物による
使用に好適な担体は、例えばヘアスプレイ、ムース、トニック、ゲル、シャンプ
ー、コンデショナーおよびリンスの製剤に用いられたものを含む。適切な担体の
選択としては、使用する具体的なコポリマーにも依存し、また製剤化製品を塗布
面に残す意図か（例えば、ヘアスプレイ、ムース、トニックまたはゲル）、また
は使用後濯ぎ落す意図か（例えば、シャンプー、コンディショナー、リンス）に
もまた依存することとなる。

【００４６】 ここに使用される担体としては、ヘアケア組成物に従来から用いられている広
範囲の組成物を挙げることができる。該担体には、使用される特定のコポリマー
を、好ましくは、水、Ｃ１〜Ｃ６アルコール類、酢酸低級アルキルおよびその混
合物で溶解または分散させる溶媒を含むことができる。該担体には、アセトン、
炭化水素（イソブタン、ヘキサン、デセンなど）、ハロゲン化炭化水素（フレオ
ンなど）およびシクロメチコーンなどの揮発性シリコン誘導体などの広範囲の種
類の添加物質もまた含有できる。ヘアケア組成物がヘアスプレイ、トニック、ゲ
ルまたはムースである場合、好ましい溶媒としては、水、エタノール、揮発性シ
リコーン誘導体およびそれらの混合物が挙げられる。このような混合物に用いら
れる溶媒類は、互いに混和しても、また混和しなくてもよい。ムースおよびエー
ロゾルヘアスプレイには、物質を発泡体として（ムースの場合）、または微細な
均一スプレイとして（エーロゾルヘアスプレイの場合）送達するために、任意の
従来からの推進剤を利用することもできる。好適な推進剤の例としては、トリク
ロロフロロメタン、ジクロロジフロロメタン、ジフロロエタン、ジメチルエーテ
ル、プロパン、ｎ−ブタンまたはイソブタンなどの物質が挙げられる。低粘性を
有するトニックまたはヘアスプレイ製品はまた、乳剤を利用してもよい。好適な
乳剤の例としては、非イオン性、カチオン性、アニオン性界面活性剤またはその
混合物が挙げられる。このような乳剤が使用される場合、組成物の約０．０１％
から約７．５％の濃度で存在するのが好ましい。推進剤の濃度は、所望どおり調
整できるが、一般には、ムース組成物の約３％から約３０％であり、エーロゾル
ヘアスプレイ組成物の約１５％から約５０％である。

【００４７】 好適なスプレイ容器類は、当業界によく知られており、従来の非エーロゾルポ
ンプスプレイ、すなわち「噴霧器」、上記のような推進剤を有するエーロゾル容
器類またはカン類、また、推進剤として圧縮空気を利用するポンプエーロゾル容
器類も挙げられる。

【００４８】 ヘアケア組成物がコンディショナーおよびリンスである場合、担体は、広範囲
の種類の物質をあげることができる。ヘアケア組成物がシャンプーの場合、担体
は、例えば界面活性剤、懸濁剤および増粘剤を挙げることができる。

【００４９】 該担体は、広範囲の種々の形態をとり得る。例えば、水中油型、油中水型、水
中油中水型などの乳剤担体、およびシリコーン中水中油型乳剤がここでは有用で
ある。これらの乳剤は、例えば約１００ｃｐｓから約２００，０００ｃｐｓの広
範囲の粘度を含み得る。これらの乳剤はまた、従来の推進剤を用いた機械ポンプ
容器類または加圧エーロゾル容器類のいずれかを用いてスプレイ形態で送達でき
る。これらの担体はまた、ムースの形態で送達できる。他の好適な局所単体は、
油類、アルコール類およびシリコーン類（例えば、鉱油、エタノール、イソプロ
パノール、ジメチコーン、シクロメチコーンなど）などの無水液体溶媒類；水性
基剤単相液体溶媒類（例えば、ヒドロ−アルコール性溶媒系）；これらの無水お
よび水性基剤単相溶媒類の増粘化体（例えば、適当なゴム類、樹脂類、ワックス
類、ポリマー類、塩類などの添加により固体または半固体を形成するために溶媒
の粘度を増加した場合）が挙げられる。

【００５０】 添加成分 広範囲の種類の添加成分は、本発明に従って化粧用および身体ケア用組成物に
使用できる。例としては以下のものが挙げられる。

【００５１】 − ｐ−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−アミ
ノ安息香酸２−エチルヘキシル、ｐ−アミノ安息香酸、２−フェニルベンツイミ
ダゾール−５−スルホン酸、オクトクリレン、オキシベンゾーン、サリチル酸ホ
モメンチル、サリチル酸オクチル、４，４’−メトキシ−ｔ−ブチルベンゾイル
メタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、３−ベンジリデンカンファー、
３−（４−メチルベンジリデン）カンファー、二酸化チタン、酸化亜鉛、シリカ
、酸化鉄およびそれらの混合物などの日焼け止め剤。

【００５２】 − 亜鉛ピリチオン、ピロクトンオラミン、二硫化セレン、硫黄、コールター
ルなどの抗ふけ活性剤。

【００５３】 − 炭化水素類、シリコーン流体類、カチオン性物質などのヘアケア組成物用
のコンディショニング剤。該炭化水素類は、直鎖または分枝鎖のいずれかであり
得、約１０〜約１６個、好ましくは約１２〜約１６個の炭素原子を含むことがで
きる。好適な炭化水素の例としては、デカン、ドデカン、テトラデカン、トリデ
カンおよびそれらの混合物である。ここで有用な好適なシリコーンコンディショ
ニング剤の例としては、環式または線状のいずれかのポリジメチルシロキサン類
、フェニルおよびアルキルフェニルシリコーン類、およびシリコーンコポリオー
ル類を挙げることができる。ここで有用なカチオン性コンディショニング剤とし
ては、四級アンモニウム塩類または脂肪族アミン類の塩類を挙げることができる
。

【００５４】 − ヘアシャンプーおよびコンディショナー組成物用界面活性剤。シャンプー
用の濃度としては、組成物の約１０％〜約３０％が好ましく、約１２％〜約２５
％が好ましい。コンディショナー用界面活性剤の好ましい濃度は、約０．２％〜
約３％である。本発明の組成物に有用な界面活性剤は、アニオン性、非イオン性
、カチオン性、両性イオン性および両性界面活性剤などが挙げられる。

【００５５】 − カルボン酸ポリマーの増粘剤。これら架橋化ポリマー類としては、アクリ
ル酸、置換アクリル酸、これらのアクリル酸の塩類およびエステル類、および置
換アクリル酸類から誘導された１つまたは複数のモノマー類を含み、そこでの架
橋剤は、多価アルコール類から誘導される２つ以上の炭素−炭素二重結合を含む
。ここで有用なカルボン酸ポリマー増粘剤の例としては、カルボマー類、アクリ
レート類／Ｃ１０−Ｃ３０アルキルアクリレート架橋ポリマー類、およびその混
合物から成る群から選ばれたものである。本発明の組成物は、約０．０２５％〜
約１％、さらに好ましくは約０．０５％〜約０．７５％、最も好ましくは約０．
１０％〜約０．５０％のカルボン酸ポリマー増粘剤を含むことができる。

【００５６】 − 本発明の組成物の種々の担体成分を乳化する乳化剤。好適な乳化剤タイプ
は、モノラウリン酸ポリエチレングリコール２０ソルビタン（ポリソルベート２
０）、ポリエチレングリコール５大豆ステロール、ステアレス−２０、セテアレ
ス−２０、ジステアリン酸ＰＰＧ−２メチルグルコースエーテル、セテス−１０
、ポリソルベート８０、リン酸セチル、セチルリン酸カリウム、セチルリン酸ジ
エタノールアミン、ポリソルベート６０、ステアリン酸グリセリル、ステリアン
酸ＰＥＧ−１００、およびそれらの混合物が挙げられる。該乳化剤は、個々に用
いるか、または２つ以上の混合物として用いることができ、本発明の組成物の約
０．１％〜約１０％、より好ましくは約１％〜約７％、最も好ましくは約１％〜
約５％を含むことができる。

【００５７】 − ビタミン類およびその誘導体（例えば、アスコルビン酸、ビタミンＥ、酢
酸トコフェリル、レチノイン酸、レチノール、レチノイド類など）。

【００５８】 − カチオン性ポリマー類（例えば、ローヌプーラン社からジャガール（Ｊａ
ｇｕａｒ）Ｃシリーズとして入手できる塩化グアーヒドロキシプロピルトリモニ
ウム、塩化ヒドロキシプロピルグアーヒドロキシプロピルトリモニウムなどのカ
チオン性グアーゴム誘導体）。

【００５９】 − 保存剤、抗酸化剤、キレート化剤、金属イオン封鎖剤；および芳香剤、着
色剤、毛髪栄養剤および精油などの美感成分。

【００６０】 次に、本発明を以下の非限定例により説明する。

【００６１】 実施例 実施例１〜８ ＡＢＡトリブロックコポリマー類の以下の一般式：

【００６２】

【化１】 ＰＤＭＡＥＭＡ−ＰＤＭＳ−ＰＤＭＡＥＭＡのＡＢＡトリブロック は、原子移動ラジカル重合化（ＡＴＲＰ）により調製された。商品として入手で
きるポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）−末端アミンプロピルは、効果的なＡ
ＴＲＰ開始剤を与えるために官能化されたハロゲン化物であった。制御された分
子量は、狭い多分散性により成就された。

【００６３】

【表１】 ^＊実施例５および７では、描写されたアミドＰＤＭＳ開始剤よりもむしろエス
テルＰＤＭＳ開始剤を用いて調製され、最終ポリマーにおいて描写された−（Ｃ
Ｈ_３）_２−ＮＨ−結合の代わりに−Ｏ−結合を与えた。

【００６４】 調製法 磁気撹拌バーと共にＣｕ^ＩＢｒ（０．２７３２ｇ、１．９０５ミリモル）を乾
燥シュレンクフラスコに入れ、これを排気し、窒素で３回フラッシュした。メタ
クリル酸２−ジメチルアミノエチル（３．９ｍＬ、０．０２３モル）、トルエン
（７．２ｍｌ）およびＰＤＭＳ開始剤（１）（２ｇ、０．９５２ミリモル）を、
脱気シリンジを用いてシュレンクに加えた。次に、該溶液を３回の凍結−ポンプ
−解凍サイクルにより脱酸素化した^＊。最後に、該フラスコが所望の反応温度で
ある９０℃に到達した後、ｎプロピル−２−ピリジナルメタンイミンリガンド（
２）（０．５４ｍＬ、３．８０９ミリモル）を撹拌しながら加えた。該反応混合
物は、リガンドを加えた時点で直ちに暗褐色となった。

【００６５】

【化２】 ^＊ＤＭＡＥＭＡブロックの目標分子量＝４０００、開始剤の分子量＝２０００
（合計＝６０００）。［モノマー］：［開始剤］の比で、末端ポリマーの分子量
が決まる。記載のＡＴＲＰにおいて、［モノマー］：［開始剤］の要求される比
＝２５：１である。他のリスト試薬の比は以下のとおりである；［Ｃｕ^ＩＢｒ］
：［開始剤］＝１：２、［リガンド］：［Ｃｕ^ＩＢｒ］＝２：１、溶媒量：モノ
マー量＝２：１。

【００６６】 該モノマーは、使用前に塩基性アルミナカラムを通過させることにより精製し
、少なくとも１時間窒素でパージした。全ての重合化用溶媒として使用されたト
ルエンもこの方法で脱気した。Ｃｕ^ＩＢｒは、公表された方法^１に従って使用前
に精製した。

【００６７】 １）Ｋｅｌｌｅｒ，Ｒ．Ｎ．； Ｗｙｃｏｆｆ，Ｈ．Ｄ．Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９４７，２，１。

【００６８】 ポリマーの精製 生成した暗褐色溶液は、ジクロロメタンやテトラヒドロフランなどの従来の溶
媒を用いて、数回アルミナカラムを通過させた。該溶液が無色に見えた時、該溶
媒を減圧留去して淡黄色固体が得られた。

【００６９】 結果 膜形成 エタノール／水（５５％：４５％）の溶液を作成した。ポリマーの少量サンプ
ル（０．５ｇ）をこの溶液（１０ｍＬ）に加えた。幾つかのサンプルは撹拌を要
したが、他のものは直ちに溶解した。溶液の少量（１ｍＬ）をプラスティック皿
に入れて、３時間乾燥するために放置した。

【００７０】

【表２】

【００７１】 結合力分析 ジアストロン（Diastron）ＭＴＴ６００パラメータ：％伸長＝１００ 速度（ｍｍ／分）＝１０ 最大力（ｇ）＝２００ ゲージ力（ｇｍｆ）＝２ ５％水性アルコール溶液（５５％エタノール／水）： １マイクリットルを接合部にピペット分注した。 温度＝２０℃ 湿度＝５０％

【００７２】

【表３】

【００７３】 感覚性 実施例１のポリマーを５５％ＶＯＣポンプスプレイに製剤化した（４．２％樹
脂、５５％エタノール、４０．８％水）。これをスィッチにスプレイし、商用の
スウェーブエクストラホールド（Ｓｕａｖｅ（登録商標）Ｅｘｔｒａ Ｈｏｌｄ
）（４．２％ＡＭＰＨＯＭＥＲ（登録商標））ポンプスプレイと比較した。

【００７４】 実施例１を用いた製剤は、軟らかさと沈積物が最小である点（ブラシをかけた
前後）で主たる利点があった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｒ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ， ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，Ｋ Ｚ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ， ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，Ｓ Ｋ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 コウシユデル，エザツト イギリス国、マージーサイド・シー・エイ チ・63・３・ジエイ・ダブリユ、ウイラ ル、ベビントン、クオリー・ロード・イー スト、ユニリーバー・リサーチ・ポート・ サンライト (72)発明者 モレツタ，アンソニー イギリス国、マージーサイド・シー・エイ チ・63・３・ジエイ・ダブリユ、ウイラ ル、ベビントン、クオリー・ロード・イー スト、ユニリーバー・リサーチ・ポート・ サンライト (72)発明者 プラント，イボンヌ・クリステイーン イギリス国、マージーサイド・シー・エイ チ・63・３・ジエイ・ダブリユ、ウイラ ル、ベビントン、クオリー・ロード・イー スト、ユニリーバー・リサーチ・ポート・ サンライト (72)発明者 リード，ユーアン・スチユワート イギリス国、マージーサイド・シー・エイ チ・63・３・ジエイ・ダブリユ、ウイラ ル、ベビントン、クオリー・ロード・イー スト、ユニリーバー・リサーチ・ポート・ サンライト Ｆターム(参考） 4C083 AD161 CC01 CC32 4J015 EA01 EA06 4J026 AB44 BA08 BA12 BA13 BA14 BA16 BA20 BA25 BA27 BA29 BA30 BA32 BA34 BA36 BA39 BA40 CA01 DB02 DB19 DB32 EA05 GA01 GA02 GA06

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式［Ａ］［Ｂ］の単位から形成されるポリシロキサンブロッ
   クコポリマーを作成する方法であって、式中、Ａは、ラジカル重合可能なモノマ
   ーから形成されるポリマーブロックであり、Ｂは、ポリシロキサンブロックであ
   り、ラジカル開始剤を、それぞれポリシロキサン上の基とラジカル開始剤の間の
   求核置換反応によってポリシロキサン上にグラフト化することにより、ポリシロ
   キサンマクロ開始剤を形成するステップと、原子移動ラジカル重合反応において
   、このようにして得られたポリシロキサンマクロ開始剤をラジカル重合可能なモ
   ノマー類と反応させてポリシロキサンブロックコポリマーを形成するステップと
   を含む方法。
2. 【請求項２】 （ａ）（ｉ）そのＯ、ＮまたはＳ原子を介して求核攻撃可能
   な少なくとも１つの基で末端キャップ化されたポリシロキサンと、 （ｉｉ）少なくとも１つの−Ｃ（Ｏ）Ｘ基［式中、Ｘは、ポリシロキサン（ｉ
   ）の求核性Ｏ、ＮまたはＳ原子によって置換可能な脱離基である］と、遷移金属
   触媒の存在下でラジカルを生成できる少なくとも１つの有機ハライド基とを含ん
   で成るラジカル開始剤と の間の求核置換反応によってポリシロキサンマクロ開始剤を形成するステップと
   、それに続いて、 （ｂ）触媒量のＣｕ（Ｉ）塩または他の遷移金属種の存在下でこのようにして
   得られたポリシロキサンマクロ開始剤の有機ハライド基をラジカル重合可能なモ
   ノマー類とを反応させて、ポリシロキサンブロックコポリマーを形成するステッ
   プとを含む請求項１に記載の方法。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の方法により得ることの可能なポリ
   シロキサンブロックコポリマー。
4. 【請求項４】 一般式［Ａ］Ｌ［Ｂ］の単位から形成された、請求項３に記
   載のポリシロキサンブロックコポリマー。 ［式中、Ａは、ラジカル重合可能なモノマーから形成されるポリマーブロック
   であり、Ｂは、ポリシロキサンブロックであり、Ｌは、ＡおよびＢブロックをＯ
   −Ｓｉ、Ｎ−ＳｉまたはＳ−Ｓｉ結合を経てＢブロックに連結する二価の連結基
   であり、好ましくは −Ｒ^１５−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−； −Ｒ^１５−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−； −Ｒ^１５−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ^１６）−； −Ｒ^１５−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ^１６）−；または −Ｒ^１５−Ｎ（Ｒ^１６）−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ^１７）−； から選ばれ、 式中Ｒ^１５は、任意に置換された二価の線状または分枝状のＣ_１〜Ｃ_１８の炭
   化水素ラジカルであり、 Ｒ^１６およびＲ^１７は、任意に置換された一価の線状または分枝状のＣ_{１〜１ ８} の炭化水素ラジカルから独立に選ばれる。］
5. 【請求項５】 請求項３または４に記載のポリシロキサンブロックコポリマ
   ーを含んで成る化粧用および身体用ケア組成物。
6. 【請求項６】 ヘアスプレイ、ヘアゲルまたはヘアムースとして製剤化され
   る請求項５に記載の化粧用および身体ケア用組成物。