JP2003344867A - 液晶表示装置用電極板及びその製造方法、それを用いた液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置用電極板及びその製造方法、それを用いた液晶表示装置Info
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- JP2003344867A JP2003344867A JP2002153495A JP2002153495A JP2003344867A JP 2003344867 A JP2003344867 A JP 2003344867A JP 2002153495 A JP2002153495 A JP 2002153495A JP 2002153495 A JP2002153495 A JP 2002153495A JP 2003344867 A JP2003344867 A JP 2003344867A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】カラーフィルタ層２０が形成されたガラス基板
１１上にＴＦＴ素子３０を形成する構成の液晶表示装置
用電極板において、ＴＦＴ素子を高い基板温度で成膜し
てもカラーフィルタ層２０の色特性が低下せず、色再現
域がＮＴＳＣ方式の４０％以上の液晶表示装置用電極
板、その製造方法、液晶表示装置を提供すること。 【解決手段】カラーフィルタ層２０が前記耐熱性に優れ
た顔料を含有する感光性着色組成物を用いて形成されこ
と。メラミン系架橋剤またはエポキシ系架橋剤を含有す
る感光性着色組成物を用いて形成されたこと。オーバー
コート層４１が２段階硬化法によって硬化、形成された
こと。
１１上にＴＦＴ素子３０を形成する構成の液晶表示装置
用電極板において、ＴＦＴ素子を高い基板温度で成膜し
てもカラーフィルタ層２０の色特性が低下せず、色再現
域がＮＴＳＣ方式の４０％以上の液晶表示装置用電極
板、その製造方法、液晶表示装置を提供すること。 【解決手段】カラーフィルタ層２０が前記耐熱性に優れ
た顔料を含有する感光性着色組成物を用いて形成されこ
と。メラミン系架橋剤またはエポキシ系架橋剤を含有す
る感光性着色組成物を用いて形成されたこと。オーバー
コート層４１が２段階硬化法によって硬化、形成された
こと。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用電
極板、及び液晶表示装置に関するものであり、特に、ガ
ラス基板上のカラーフィルタ層、オーバーコート層上に
ＴＦＴ素子が形成され、色再現性の良好な液晶表示装置
用電極板及びその製造方法、それを用いた液晶表示装置
に関する。
極板、及び液晶表示装置に関するものであり、特に、ガ
ラス基板上のカラーフィルタ層、オーバーコート層上に
ＴＦＴ素子が形成され、色再現性の良好な液晶表示装置
用電極板及びその製造方法、それを用いた液晶表示装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】同一基板上にＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）等のスイッチング素子とカラーフィルタ層を形成す
ることは、対向基板の簡略化や、双方の電極板を貼り合
わせる際の位置ずれや寸法ずれを防ぐ意味からも望まし
いことと考えられ、この構成を実現する試みが為されて
きた。しかしながら、例えば、ＴＦＴ素子と透明画素電
極が形成された電極板上にカラーフィルタ層を形成する
といった構成の場合においては、カラーフィルタ層の存
在に起因する諸々の不具合が発生していた。
タ）等のスイッチング素子とカラーフィルタ層を形成す
ることは、対向基板の簡略化や、双方の電極板を貼り合
わせる際の位置ずれや寸法ずれを防ぐ意味からも望まし
いことと考えられ、この構成を実現する試みが為されて
きた。しかしながら、例えば、ＴＦＴ素子と透明画素電
極が形成された電極板上にカラーフィルタ層を形成する
といった構成の場合においては、カラーフィルタ層の存
在に起因する諸々の不具合が発生していた。
【０００３】例えば、透明画素電極と対向電極との間に
カラーフィルタ層が加わるので新たな電圧損失が発生
し、液晶駆動の応答性の劣化を招くという問題が生じ
る。そこで、電圧損失を防ぐためカラーフィルタ層上に
透明画素電極を設けると、透明画素電極とＴＦＴ素子と
の導通はスルーホールを介して行うことになり、製造工
程が煩雑なものとなる。
カラーフィルタ層が加わるので新たな電圧損失が発生
し、液晶駆動の応答性の劣化を招くという問題が生じ
る。そこで、電圧損失を防ぐためカラーフィルタ層上に
透明画素電極を設けると、透明画素電極とＴＦＴ素子と
の導通はスルーホールを介して行うことになり、製造工
程が煩雑なものとなる。
【０００４】一方、例えば、カラーフィルタ層が形成さ
れた電極板上にＴＦＴ素子と透明画素電極を形成すると
いった構成の場合においては、プラズマＣＶＤを用いて
シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）やアモルファスシリコン膜
（ａ−Ｓｉ：Ｈ）を高温で成膜するので、既に形成され
てあるカラーフィルタ層は熱によって変色、或いは褪色
し良好な色特性のカラーフィルタ層は得られない。
れた電極板上にＴＦＴ素子と透明画素電極を形成すると
いった構成の場合においては、プラズマＣＶＤを用いて
シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）やアモルファスシリコン膜
（ａ−Ｓｉ：Ｈ）を高温で成膜するので、既に形成され
てあるカラーフィルタ層は熱によって変色、或いは褪色
し良好な色特性のカラーフィルタ層は得られない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題を
解決するためになされたものであり、カラーフィルタ層
が形成されたガラス基板上にＴＦＴ素子と透明画素電極
を形成するといった構成の液晶表示装置用電極板におい
て、液晶表示装置用電極板を構成するＴＦＴ素子を形成
する際に、高い基板温度で成膜してもカラーフィルタ層
の変色や褪色などでカラーフィルタ層の色特性が低下す
ることのない、或いはカラーフィルタ層の色特性の低下
を少なくした液晶表示装置用電極板、すなわち、色再現
域がＮＴＳＣ方式の規格値に対し４０％以上、白バラン
スが０．２７＜ｘ＜０．３５、０．２７＜ｙ＜０．４０
の範囲にある液晶表示装置用電極板を提供することを課
題とするものである。また、上記液晶表示装置用電極板
の製造方法、及び上記液晶表示装置用電極板を用いた液
晶表示装置を提供することを課題とする。
解決するためになされたものであり、カラーフィルタ層
が形成されたガラス基板上にＴＦＴ素子と透明画素電極
を形成するといった構成の液晶表示装置用電極板におい
て、液晶表示装置用電極板を構成するＴＦＴ素子を形成
する際に、高い基板温度で成膜してもカラーフィルタ層
の変色や褪色などでカラーフィルタ層の色特性が低下す
ることのない、或いはカラーフィルタ層の色特性の低下
を少なくした液晶表示装置用電極板、すなわち、色再現
域がＮＴＳＣ方式の規格値に対し４０％以上、白バラン
スが０．２７＜ｘ＜０．３５、０．２７＜ｙ＜０．４０
の範囲にある液晶表示装置用電極板を提供することを課
題とするものである。また、上記液晶表示装置用電極板
の製造方法、及び上記液晶表示装置用電極板を用いた液
晶表示装置を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス基板上
に、少なくともカラーフィルタ層、オーバーコート層が
形成され、該オーバーコート層上にＴＦＴ素子、透明画
素電極が形成された液晶表示装置用電極板であって、Ｃ
光源によるＣＩＥ色度図上での色再現域が、ＮＴＳＣ方
式の規格値の色再現域１００％に対し４０％以上の色再
現域を有し、白バランスが０．２７＜ｘ＜０．３５、
０．２７＜ｙ＜０．４０の範囲にあることを特徴とする
液晶表示装置用電極板である。
に、少なくともカラーフィルタ層、オーバーコート層が
形成され、該オーバーコート層上にＴＦＴ素子、透明画
素電極が形成された液晶表示装置用電極板であって、Ｃ
光源によるＣＩＥ色度図上での色再現域が、ＮＴＳＣ方
式の規格値の色再現域１００％に対し４０％以上の色再
現域を有し、白バランスが０．２７＜ｘ＜０．３５、
０．２７＜ｙ＜０．４０の範囲にあることを特徴とする
液晶表示装置用電極板である。
【０００７】また、本発明は、上記発明による液晶表示
装置用電極板において、前記カラーフィルタ層が、メラ
ミン系架橋剤またはエポキシ系架橋剤を含有する感光性
着色組成物を用いて形成されたカラーフィルタ層である
ことを特徴とする液晶表示装置用電極板である。
装置用電極板において、前記カラーフィルタ層が、メラ
ミン系架橋剤またはエポキシ系架橋剤を含有する感光性
着色組成物を用いて形成されたカラーフィルタ層である
ことを特徴とする液晶表示装置用電極板である。
【０００８】また、本発明は、上記発明による液晶表示
装置用電極板において、前記オーバーコート層が、２段
階硬化法によって硬化、形成されたオーバーコート層で
あることを特徴とする液晶表示装置用電極板である。
装置用電極板において、前記オーバーコート層が、２段
階硬化法によって硬化、形成されたオーバーコート層で
あることを特徴とする液晶表示装置用電極板である。
【０００９】また、本発明は、ガラス基板上に、少なく
ともカラーフィルタ層、オーバーコート層を形成し、該
オーバーコート層上にＴＦＴ素子、透明画素電極を形成
する液晶表示装置用電極板の製造方法であって、下記の
顔料を含有する感光性着色組成物を用いてカラーフィル
タ層を形成することを特徴とする液晶表示装置用電極板
の製造方法である。 ・赤顔料：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、１２３、
１４６、又は１７７から選ばれる顔料 ・緑顔料：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、或いは３６
から選ばれるハロゲン化フタロシアニン系顔料 ・青顔料：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、
１５：２、１５：３、１５：４、１５：６から選ばれる
１種以上の銅フタロシアニン系顔料
ともカラーフィルタ層、オーバーコート層を形成し、該
オーバーコート層上にＴＦＴ素子、透明画素電極を形成
する液晶表示装置用電極板の製造方法であって、下記の
顔料を含有する感光性着色組成物を用いてカラーフィル
タ層を形成することを特徴とする液晶表示装置用電極板
の製造方法である。 ・赤顔料：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、１２３、
１４６、又は１７７から選ばれる顔料 ・緑顔料：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、或いは３６
から選ばれるハロゲン化フタロシアニン系顔料 ・青顔料：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、
１５：２、１５：３、１５：４、１５：６から選ばれる
１種以上の銅フタロシアニン系顔料
【００１０】また、本発明は、上記発明による液晶表示
装置用電極板の製造方法において、前記カラーフィルタ
層を、メラミン系架橋剤またはエポキシ系架橋剤を含有
する感光性着色組成物を用いて形成することを特徴とす
る液晶表示装置用電極板の製造方法である。
装置用電極板の製造方法において、前記カラーフィルタ
層を、メラミン系架橋剤またはエポキシ系架橋剤を含有
する感光性着色組成物を用いて形成することを特徴とす
る液晶表示装置用電極板の製造方法である。
【００１１】また、本発明は、上記発明による液晶表示
装置用電極板の製造方法において、前記オーバーコート
層を、２段階硬化法によって硬化、形成することを特徴
とする液晶表示装置用電極板の製造方法である。
装置用電極板の製造方法において、前記オーバーコート
層を、２段階硬化法によって硬化、形成することを特徴
とする液晶表示装置用電極板の製造方法である。
【００１２】また、本発明は、上記発明による液晶表示
装置用電極板のいずれかの液晶表示装置用電極板を用い
たことを特徴とする液晶表示装置である。
装置用電極板のいずれかの液晶表示装置用電極板を用い
たことを特徴とする液晶表示装置である。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を詳細
に説明する。カラーテレビ受像機のカラーＣＲＴで再現
できる色の範囲は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各
蛍光体が発光する三原色の色度図上の三つの色度点で囲
まれた三角形の内側である。例えば、ＮＴＳＣ（Ｎａｔ
ｉｏｎａｌ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ ＳｙｓｔｅｍＣｏ
ｍｍｉｔｔｅｅ）方式の規格値による三つの色度点で囲
まれた色度図上の三角形の面積がＮＴＳＣ方式における
色再現域となる。
に説明する。カラーテレビ受像機のカラーＣＲＴで再現
できる色の範囲は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各
蛍光体が発光する三原色の色度図上の三つの色度点で囲
まれた三角形の内側である。例えば、ＮＴＳＣ（Ｎａｔ
ｉｏｎａｌ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ ＳｙｓｔｅｍＣｏ
ｍｍｉｔｔｅｅ）方式の規格値による三つの色度点で囲
まれた色度図上の三角形の面積がＮＴＳＣ方式における
色再現域となる。
【００１４】以下に、ＣＩＥ１９３１標準表示系の色度
図でのＮＴＳＣ方式の赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）三
原色の規格値を示す。 Ｒｘ＝０．６７、Ｒｙ＝０．３３ Ｇｘ＝０．２１、Ｇｙ＝０．７１ Ｂｘ＝０．１４、Ｂｙ＝０．０８
図でのＮＴＳＣ方式の赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）三
原色の規格値を示す。 Ｒｘ＝０．６７、Ｒｙ＝０．３３ Ｇｘ＝０．２１、Ｇｙ＝０．７１ Ｂｘ＝０．１４、Ｂｙ＝０．０８
【００１５】また、以下に、上記ＣＩＥ１９３１標準表
示系の色度図上でのＮＴＳＣ方式の規格値における色再
現域（３つの色度点が形成する三角形の面積（Ｓ））を
求める数式を示す。 Ｓ＝｜Ｒｙ（Ｇｘ−Ｂｘ）＋Ｇｙ（Ｂｘ−Ｒｘ）＋Ｂｙ（Ｒｘ−Ｇｘ）｜／２ ＝０．１５８２
示系の色度図上でのＮＴＳＣ方式の規格値における色再
現域（３つの色度点が形成する三角形の面積（Ｓ））を
求める数式を示す。 Ｓ＝｜Ｒｙ（Ｇｘ−Ｂｘ）＋Ｇｙ（Ｂｘ−Ｒｘ）＋Ｂｙ（Ｒｘ−Ｇｘ）｜／２ ＝０．１５８２
【００１６】本発明は、液晶表示装置用電極板を構成す
るカラーフィルタ層の赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）三
原色のＣ光源によるＣＩＥ色度図上での色再現域が、Ｎ
ＴＳＣ方式の規格値の色再現域１００％に対し４０％以
上の色再現域を有することを特徴とするものであるが、
あるカラーフィルタ層（ｉ）の、ＮＴＳＣ方式の規格値
の色再現域１００％に対する色再現域の％（ＮＴＳＣ
比）は、下記の式により求められる。
るカラーフィルタ層の赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）三
原色のＣ光源によるＣＩＥ色度図上での色再現域が、Ｎ
ＴＳＣ方式の規格値の色再現域１００％に対し４０％以
上の色再現域を有することを特徴とするものであるが、
あるカラーフィルタ層（ｉ）の、ＮＴＳＣ方式の規格値
の色再現域１００％に対する色再現域の％（ＮＴＳＣ
比）は、下記の式により求められる。
【００１７】（Ｓi ／Ｓ）×１００
ここで、 Ｓi ：あるカラーフィルタ（ｉ）のＣＩＥ
色度図上での三角形の面積 Ｓ ：０．１５８２ また、Ｓi は、下記の式により求められる。 Ｓi ＝｜Ｒｙi （Ｇｘi −Ｂｘi ）＋Ｇｙi （Ｂｘi −
Ｒｘi ）＋Ｂｙi （Ｒｘi −Ｇｘi ）｜／２ ここで、Ｒｘi 、Ｒｙi 、Ｇｘi 、Ｇｙi 、Ｂｘi 、Ｂ
ｙi は、あるカラーフィルタ層（ｉ）の色度座標
色度図上での三角形の面積 Ｓ ：０．１５８２ また、Ｓi は、下記の式により求められる。 Ｓi ＝｜Ｒｙi （Ｇｘi −Ｂｘi ）＋Ｇｙi （Ｂｘi −
Ｒｘi ）＋Ｂｙi （Ｒｘi −Ｇｘi ）｜／２ ここで、Ｒｘi 、Ｒｙi 、Ｇｘi 、Ｇｙi 、Ｂｘi 、Ｂ
ｙi は、あるカラーフィルタ層（ｉ）の色度座標
【００１８】上記色再現域を有するカラーフィルタ層
は、下記の耐熱性に優れた顔料を含有する感光性着色組
成物を用いて各色画素を形成することにより得られる。 （赤顔料）Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、１２３、
１４６、又は１７７から選ばれる顔料 （緑顔料）Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、或いは３６
から選ばれるハロゲン化フタロシアニン系顔料 （青顔料）Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、
１５：２、１５：３、１５：４、１５：６から選ばれる
１種以上の銅フタロシアニン系顔料
は、下記の耐熱性に優れた顔料を含有する感光性着色組
成物を用いて各色画素を形成することにより得られる。 （赤顔料）Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、１２３、
１４６、又は１７７から選ばれる顔料 （緑顔料）Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、或いは３６
から選ばれるハロゲン化フタロシアニン系顔料 （青顔料）Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、
１５：２、１５：３、１５：４、１５：６から選ばれる
１種以上の銅フタロシアニン系顔料
【００１９】本発明による液晶表示装置用電極板は、カ
ラーフィルタ層が形成されたガラス基板上にＴＦＴ素子
を形成するといった構成の液晶表示装置用電極板であ
り、ＴＦＴ素子を形成する際に、高温処理がなされるが
上記顔料を用いるので、良好な色再現域を有するものと
なる。
ラーフィルタ層が形成されたガラス基板上にＴＦＴ素子
を形成するといった構成の液晶表示装置用電極板であ
り、ＴＦＴ素子を形成する際に、高温処理がなされるが
上記顔料を用いるので、良好な色再現域を有するものと
なる。
【００２０】図１は、本発明による液晶表示装置用電極
板の一実施例を示す部分断面図である。図１に示すよう
に、この液晶表示装置用電極板は、ガラス基板（１１）
上に、ブラックマトリックス（２１）、カラーフィルタ
層（２０）、オーバーコート層（４１）が順次に形成さ
れ、オーバーコート層（４１）上にＴＦＴ素子（３
０）、及び透明画素電極（３１）が形成されたものであ
る。ＴＦＴ素子（３０）は、ゲート電極（３３）、ゲー
ト絶縁膜（３４）、アモルファスシリコン膜（３５）、
パシベーション層（３６）、オーミック層（３７）、ソ
ース電極（３８）、およびドレイン電極（３９）で構成
されている。また、ドレイン電極（３９）は透明画素電
極（３１）に接続している。
板の一実施例を示す部分断面図である。図１に示すよう
に、この液晶表示装置用電極板は、ガラス基板（１１）
上に、ブラックマトリックス（２１）、カラーフィルタ
層（２０）、オーバーコート層（４１）が順次に形成さ
れ、オーバーコート層（４１）上にＴＦＴ素子（３
０）、及び透明画素電極（３１）が形成されたものであ
る。ＴＦＴ素子（３０）は、ゲート電極（３３）、ゲー
ト絶縁膜（３４）、アモルファスシリコン膜（３５）、
パシベーション層（３６）、オーミック層（３７）、ソ
ース電極（３８）、およびドレイン電極（３９）で構成
されている。また、ドレイン電極（３９）は透明画素電
極（３１）に接続している。
【００２１】カラーフィルタ層（２０）に用いる色素と
しては、上記のような耐熱性に優れる顔料が用いられ
る。この顔料を分散させる媒体は、カラーフィルタ層の
骨格成分となる樹脂であり、この樹脂は耐熱性のある樹
脂が望ましい。具体的には、耐熱温度２３０〜２５０℃
のアクリレート樹脂やポリイミド樹脂が挙げられる。ま
た、メラミン系架橋剤やエポキシ系架橋剤を含有する感
光性着色組成物を用いてカラーフィルタ層を形成するこ
とにより、カラーフィルタ層の樹脂組成を耐熱性に優れ
たものにすることができる。
しては、上記のような耐熱性に優れる顔料が用いられ
る。この顔料を分散させる媒体は、カラーフィルタ層の
骨格成分となる樹脂であり、この樹脂は耐熱性のある樹
脂が望ましい。具体的には、耐熱温度２３０〜２５０℃
のアクリレート樹脂やポリイミド樹脂が挙げられる。ま
た、メラミン系架橋剤やエポキシ系架橋剤を含有する感
光性着色組成物を用いてカラーフィルタ層を形成するこ
とにより、カラーフィルタ層の樹脂組成を耐熱性に優れ
たものにすることができる。
【００２２】また、オーバーコート層（４１）は、カラ
ーフィルタ表面の段差や微細な凹凸を緩和するため、ま
た、カラーフィルタからの溶出物を遮蔽するためのもの
であって、表面の平坦化、及び溶出物の遮蔽をすること
で、この上に形成されるＴＦＴ素子や、透明画素電極の
特性に好結果をもたらす。また、オーバーコート層は、
２段階硬化法によって硬化させることにより熱衝撃を緩
和し色特性の劣化を抑えたものとなるので、オーバーコ
ート層は２段階で硬化させることが好ましい。
ーフィルタ表面の段差や微細な凹凸を緩和するため、ま
た、カラーフィルタからの溶出物を遮蔽するためのもの
であって、表面の平坦化、及び溶出物の遮蔽をすること
で、この上に形成されるＴＦＴ素子や、透明画素電極の
特性に好結果をもたらす。また、オーバーコート層は、
２段階硬化法によって硬化させることにより熱衝撃を緩
和し色特性の劣化を抑えたものとなるので、オーバーコ
ート層は２段階で硬化させることが好ましい。
【００２３】
【実施例】以下に、本発明による液晶表示装置用電極板
の製造方法の実施例を説明する。 ＜実施例１＞ （感光性着色組成物の調製）アクリル樹脂（メタクリル
酸２０部、ブチルアクリレート３０部、ブチルメタクリ
レート５０部をエチルセロソルブ３００部に溶解し、窒
素雰囲気下でアゾビスイソブチルニトリル０．７部を加
えて７０℃、５時間反応により得られたアクリル樹脂）
を樹脂濃度２０％になるようにエチルセロソルブで希釈
した。
の製造方法の実施例を説明する。 ＜実施例１＞ （感光性着色組成物の調製）アクリル樹脂（メタクリル
酸２０部、ブチルアクリレート３０部、ブチルメタクリ
レート５０部をエチルセロソルブ３００部に溶解し、窒
素雰囲気下でアゾビスイソブチルニトリル０．７部を加
えて７０℃、５時間反応により得られたアクリル樹脂）
を樹脂濃度２０％になるようにエチルセロソルブで希釈
した。
【００２４】この希釈樹脂５０ｇに対し顔料１２．３
ｇ、分散剤１．３ｇ、溶剤としてシへキサノン３６．４
ｇを添加して３本ロールで十分混練して赤の着色樹脂
（ペースト）を作製した。同様に希釈樹脂４５ｇに対し
て顔料１５ｇ、分散剤１．１ｇ、溶剤としてシクロへキ
サノン３８．９ｇを添加して３本ロールで十分混練して
緑の着色樹脂（ペースト）を作製した。そして、さらに
希釈樹脂５０ｇに対し顔料９．５ｇ、分散剤１．０ｇ、
溶剤としてシクロへキサノン３９．５ｇを添加して３本
ロールで十分混練して青の着色樹脂（ペースト）を作製
した。
ｇ、分散剤１．３ｇ、溶剤としてシへキサノン３６．４
ｇを添加して３本ロールで十分混練して赤の着色樹脂
（ペースト）を作製した。同様に希釈樹脂４５ｇに対し
て顔料１５ｇ、分散剤１．１ｇ、溶剤としてシクロへキ
サノン３８．９ｇを添加して３本ロールで十分混練して
緑の着色樹脂（ペースト）を作製した。そして、さらに
希釈樹脂５０ｇに対し顔料９．５ｇ、分散剤１．０ｇ、
溶剤としてシクロへキサノン３９．５ｇを添加して３本
ロールで十分混練して青の着色樹脂（ペースト）を作製
した。
【００２５】以下に顔料を示す。
［赤用］顔料（チバスペシャルティ社製：クロモフタル
レッドＡ３Ｂ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７）１
２．３ｇ。 ［緑用］顔料リオノールグリーン６Ｙ−５０１（東洋イ
ンキ製造（株）製：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）
１５．Ｏｇ。 ［青用］顔料リオノールブルーＬ６７００Ｆ（ＢＡＳＦ
社製：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６）９．５ｇ。
レッドＡ３Ｂ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７）１
２．３ｇ。 ［緑用］顔料リオノールグリーン６Ｙ−５０１（東洋イ
ンキ製造（株）製：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）
１５．Ｏｇ。 ［青用］顔料リオノールブルーＬ６７００Ｆ（ＢＡＳＦ
社製：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６）９．５ｇ。
【００２６】各着色樹脂（ペースト）５０ｇに対してジ
ペンタエリスリトールペンタアクリト５ｇ、２−メチル
ー１−（４−（メチルチオ）フエニル）−２−モルホリ
ノープロパン−１−オン０．８ｇ、メトキシスチリルト
リアジン０．２ｇ、さらに、先に合成した希釈樹脂３
ｇ、さらにプロピレングリコールジメチルアセテート４
１ｇを加えて良く攪拌し各色の感光性着色組成物とし
た。
ペンタエリスリトールペンタアクリト５ｇ、２−メチル
ー１−（４−（メチルチオ）フエニル）−２−モルホリ
ノープロパン−１−オン０．８ｇ、メトキシスチリルト
リアジン０．２ｇ、さらに、先に合成した希釈樹脂３
ｇ、さらにプロピレングリコールジメチルアセテート４
１ｇを加えて良く攪拌し各色の感光性着色組成物とし
た。
【００２７】（カラーフィルタ層の形成）先ず、ブラッ
クマトリックスが形成されたガラス基板（１１）上に赤
色の感光性着色組成物をスピンコートし乾燥させた。７
０℃２０分プレベーク後、液晶表示素子の１画素と同じ
画素サイズのマスクを用いて４００ｍＪ／ｃｍ2 露光し
た。２．５％炭酸ナトリウムの水溶液で現像し水洗し、
さらに水洗、乾燥後２３０℃３０分でベーク乾燥して赤
色のパターンを得た。ベーク後の膜厚は１．２μｍであ
った。
クマトリックスが形成されたガラス基板（１１）上に赤
色の感光性着色組成物をスピンコートし乾燥させた。７
０℃２０分プレベーク後、液晶表示素子の１画素と同じ
画素サイズのマスクを用いて４００ｍＪ／ｃｍ2 露光し
た。２．５％炭酸ナトリウムの水溶液で現像し水洗し、
さらに水洗、乾燥後２３０℃３０分でベーク乾燥して赤
色のパターンを得た。ベーク後の膜厚は１．２μｍであ
った。
【００２８】次に、緑色の感光性着色組成物をスピンコ
ートし乾燥させた。以下赤色と同様のプロセスにて膜厚
１．２μｍの緑色のパターンを得た。さらに、青色の感
光性着色組成物をスピンコートし乾燥させた。以下前色
と同様のプロセスにて膜厚１．２μｍの青色のパターン
を得、赤色、緑色、青色のパターンで構成するカラーフ
ィルタ層（２０）をブラックマトリックス（２１）が形
成されたガラス基板（１１）上に形成した。
ートし乾燥させた。以下赤色と同様のプロセスにて膜厚
１．２μｍの緑色のパターンを得た。さらに、青色の感
光性着色組成物をスピンコートし乾燥させた。以下前色
と同様のプロセスにて膜厚１．２μｍの青色のパターン
を得、赤色、緑色、青色のパターンで構成するカラーフ
ィルタ層（２０）をブラックマトリックス（２１）が形
成されたガラス基板（１１）上に形成した。
【００２９】（液晶表示装置用電極板の作製）次に、ガ
ラス基板（１１）上のアクリレート樹脂を樹脂成分とす
るカラーフィルタ層（２０）上に、アクリル系樹脂のオ
ーバーコート層（４１）を形成し、この上にクロムのゲ
ート電極（３３）と、ＩＴＯ（酸化インジウム−スズ）
の透明画素電極（３１）をパターン形成した。
ラス基板（１１）上のアクリレート樹脂を樹脂成分とす
るカラーフィルタ層（２０）上に、アクリル系樹脂のオ
ーバーコート層（４１）を形成し、この上にクロムのゲ
ート電極（３３）と、ＩＴＯ（酸化インジウム−スズ）
の透明画素電極（３１）をパターン形成した。
【００３０】次に、図３に示すブロック図に従い、第一
成膜室（５２）にてシリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）をプラ
ズマＣＶＤで厚さ０．５μｍに成膜し、ゲート絶縁膜
（３４）を形成した。ここでは、基板温度は２３０℃、
水素を１７０ｓｃｃｍ、水素で希釈した１０％シラン
（ＳｉＨ4：１０％、Ｈ2：９０％）を流量５０ｓｃｃ
ｍ、同じく水素希釈のアンモニアを流量３４ｓｃｃｍで
反応室内に供給し、圧力１ｔｏｒｒ、負荷電力１８０
Ｗ、堆積速度０．１ｎｍ／ｓｅｃにて８０分間の成膜を
行った。
成膜室（５２）にてシリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）をプラ
ズマＣＶＤで厚さ０．５μｍに成膜し、ゲート絶縁膜
（３４）を形成した。ここでは、基板温度は２３０℃、
水素を１７０ｓｃｃｍ、水素で希釈した１０％シラン
（ＳｉＨ4：１０％、Ｈ2：９０％）を流量５０ｓｃｃ
ｍ、同じく水素希釈のアンモニアを流量３４ｓｃｃｍで
反応室内に供給し、圧力１ｔｏｒｒ、負荷電力１８０
Ｗ、堆積速度０．１ｎｍ／ｓｅｃにて８０分間の成膜を
行った。
【００３１】この際、２３０℃という低温成膜を実現す
るため、マイクロ波（２．４５ＧＨｚ、４００Ｗ）によ
り形成した水素ラジカル（Ｈ*）（水素２０ｓｃｃｍ）
をＳｉＮｘのプラズマＣＶＤ中に導入した。これは、図
２に示すように、発振器（７１）からのマイクロ波を導
波管（７２）に導き、この導波管（７２）の途中から水
素を供給することで水素ラジカルを生成し、これをＣＶ
Ｄチャンバー（７３）内で主にガラス基板に向けて供給
するものである。
るため、マイクロ波（２．４５ＧＨｚ、４００Ｗ）によ
り形成した水素ラジカル（Ｈ*）（水素２０ｓｃｃｍ）
をＳｉＮｘのプラズマＣＶＤ中に導入した。これは、図
２に示すように、発振器（７１）からのマイクロ波を導
波管（７２）に導き、この導波管（７２）の途中から水
素を供給することで水素ラジカルを生成し、これをＣＶ
Ｄチャンバー（７３）内で主にガラス基板に向けて供給
するものである。
【００３２】次に、第二成膜室（５３）にてアモルファ
スシリコン（ａ−Ｓｉ：Ｈ）膜（３５）をプラズマＣＶ
Ｄにて厚さ０．０５μｍに成膜した。ここでは、基板温
度は２３０℃、水素で希釈した１０％シラン（Ｓｉ
Ｈ4：１０％、Ｈ2：９０％）を流量３００ｓｃｃｍで反
応室内に供給し、圧力１ｔｏｒｒ、負荷電力６０Ｗ、堆
積速度０．１ｎｍ／ｓｅｃにて成膜を行った。
スシリコン（ａ−Ｓｉ：Ｈ）膜（３５）をプラズマＣＶ
Ｄにて厚さ０．０５μｍに成膜した。ここでは、基板温
度は２３０℃、水素で希釈した１０％シラン（Ｓｉ
Ｈ4：１０％、Ｈ2：９０％）を流量３００ｓｃｃｍで反
応室内に供給し、圧力１ｔｏｒｒ、負荷電力６０Ｗ、堆
積速度０．１ｎｍ／ｓｅｃにて成膜を行った。
【００３３】続いて、第三成膜室（５４）にてシリコン
窒化膜（ＳｉＮｘ）のパシベーション層（３６）を同様
にしてプラズマＣＶＤで厚さ０．５μｍに成膜した。こ
の際にも、水素ラジカル（Ｈ*）（水素２０ｓｃｃｍ）
をＳｉＮｘのプラズマＣＶＤ中に導入した。ここでは、
ＴＦＴ素子のゲート電極（３３）と、ソース電極（３
８）、ドレイン電極（３９）が重なる部分の界面が特性
上重要であるため、上記のようにゲート絶縁膜（３４）
とアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ：Ｈ）膜（３５）は
必ず連続形成し、パシベーション層（３６）も続いて連
続形成することが望ましい。
窒化膜（ＳｉＮｘ）のパシベーション層（３６）を同様
にしてプラズマＣＶＤで厚さ０．５μｍに成膜した。こ
の際にも、水素ラジカル（Ｈ*）（水素２０ｓｃｃｍ）
をＳｉＮｘのプラズマＣＶＤ中に導入した。ここでは、
ＴＦＴ素子のゲート電極（３３）と、ソース電極（３
８）、ドレイン電極（３９）が重なる部分の界面が特性
上重要であるため、上記のようにゲート絶縁膜（３４）
とアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ：Ｈ）膜（３５）は
必ず連続形成し、パシベーション層（３６）も続いて連
続形成することが望ましい。
【００３４】この後、フォトレジストをパターン耐蝕膜
とする反応性イオンエッチングをＣＦ4ガス中にて行っ
てゲート絶縁膜（３４）、アモルファスシリコン膜（３
５）、およびパシベーション層（３６）を所望のパター
ンとした。続いて、フォトレジストをパターン耐蝕膜と
し、パシベーション層（３６）に、同様に反応性イオン
エッチングをＣＦ4ガス中にて行って長方形のスルーホ
ールを２箇所形成し、ここにオーミック層（３７）をプ
ラズマＣＶＤにて厚さ０．０５μｍに形成した。
とする反応性イオンエッチングをＣＦ4ガス中にて行っ
てゲート絶縁膜（３４）、アモルファスシリコン膜（３
５）、およびパシベーション層（３６）を所望のパター
ンとした。続いて、フォトレジストをパターン耐蝕膜と
し、パシベーション層（３６）に、同様に反応性イオン
エッチングをＣＦ4ガス中にて行って長方形のスルーホ
ールを２箇所形成し、ここにオーミック層（３７）をプ
ラズマＣＶＤにて厚さ０．０５μｍに形成した。
【００３５】ここで、基板温度は２３０℃、水素を１５
０ｓｃｃｍと、水素で希釈した１０％シラン（Ｓｉ
Ｈ4：１０％、Ｈ2：９０％）を流量３００ｓｃｃｍ、水
素希釈１０００ｐｐｍのＰＨ3を流量９０ｓｃｃｍで反
応室内に供給し、圧力１ｔｏｒｒ、負荷電力６０Ｗ、堆
積速度０．０６ｎｍ／ｓｅｃにて成膜を行った。次いで
ソース電極（３８）とドレイン電極（３９）を金属アル
ミニウム膜にて厚さ０．８μｍにスパッタリングにて成
膜し、ウエットエッチングにてパターン形成した。
０ｓｃｃｍと、水素で希釈した１０％シラン（Ｓｉ
Ｈ4：１０％、Ｈ2：９０％）を流量３００ｓｃｃｍ、水
素希釈１０００ｐｐｍのＰＨ3を流量９０ｓｃｃｍで反
応室内に供給し、圧力１ｔｏｒｒ、負荷電力６０Ｗ、堆
積速度０．０６ｎｍ／ｓｅｃにて成膜を行った。次いで
ソース電極（３８）とドレイン電極（３９）を金属アル
ミニウム膜にて厚さ０．８μｍにスパッタリングにて成
膜し、ウエットエッチングにてパターン形成した。
【００３６】このあと、全面にポリイミドの配向膜を塗
布し、ラビング工程を経て、対向電極板と対向させて位
置合わせをしながら貼り合わせ、液晶を両電極板の間に
注入し、密封して液晶表示装置とした。得られた液晶表
示装置は、欠陥画素や色ムラなどは発生せず高品位な画
面が得られた。
布し、ラビング工程を経て、対向電極板と対向させて位
置合わせをしながら貼り合わせ、液晶を両電極板の間に
注入し、密封して液晶表示装置とした。得られた液晶表
示装置は、欠陥画素や色ムラなどは発生せず高品位な画
面が得られた。
【００３７】得られた液晶表示装置の色特性は、Ｃ光源
によるＣＩＥ色度図上での色度点が、赤（Ｒ）はｘ＝
０．６００、ｙ＝０．３２４、緑（Ｇ）はｘ＝０．３２
３、ｙ＝０．５５３、青（Ｂ）はｘ＝０．１６０、ｙ＝
０．１５１であり、色再現域が、ＮＴＳＣ方式の規格値
の色再現域１００％に対し４８％であった。また、白
（Ｗ）はｘ＝０．３４４、ｙ＝０．３６０、白（Ｗ）の
Ｙ値は３７であった。
によるＣＩＥ色度図上での色度点が、赤（Ｒ）はｘ＝
０．６００、ｙ＝０．３２４、緑（Ｇ）はｘ＝０．３２
３、ｙ＝０．５５３、青（Ｂ）はｘ＝０．１６０、ｙ＝
０．１５１であり、色再現域が、ＮＴＳＣ方式の規格値
の色再現域１００％に対し４８％であった。また、白
（Ｗ）はｘ＝０．３４４、ｙ＝０．３６０、白（Ｗ）の
Ｙ値は３７であった。
【００３８】＜実施例２＞実施例１における感光性着色
組成物の組成に対し、ヘキサメチロールメラミンを固形
分の３％添加した感光性着色組成物を用いて実施例１と
同様に液晶表示装置用電極板を作製した。得られた液晶
表示装置用電極板を用いた液晶表示装置の色再現域は、
実施例１における色再現域に対し５％優位のものであっ
た。
組成物の組成に対し、ヘキサメチロールメラミンを固形
分の３％添加した感光性着色組成物を用いて実施例１と
同様に液晶表示装置用電極板を作製した。得られた液晶
表示装置用電極板を用いた液晶表示装置の色再現域は、
実施例１における色再現域に対し５％優位のものであっ
た。
【００３９】＜実施例３＞実施例１における感光性着色
組成物を用いて実施例１と同様にカラーフィルタ層を形
成した後、エポキシ系樹脂のオーバーコート層を形成し
た。オーバーコート層は２種作製した。すなわち、オー
バーコート層を２３０℃、１時間硬化させたオーバーコ
ート層（Ａ）と、オーバーコート層を５０℃、３０分間
硬化させ、更に２３０℃、１時間硬化させたオーバーコ
ート層（Ｂ）の２種作製した。
組成物を用いて実施例１と同様にカラーフィルタ層を形
成した後、エポキシ系樹脂のオーバーコート層を形成し
た。オーバーコート層は２種作製した。すなわち、オー
バーコート層を２３０℃、１時間硬化させたオーバーコ
ート層（Ａ）と、オーバーコート層を５０℃、３０分間
硬化させ、更に２３０℃、１時間硬化させたオーバーコ
ート層（Ｂ）の２種作製した。
【００４０】次に、カラーフィルタ層及びオーバーコー
ト層（Ａ）を形成したガラス基板（Ａ’）と、カラーフ
ィルタ層及びオーバーコート層（Ｂ）を形成したガラス
基板（Ｂ’）を用いて、実施例１と同様に液晶表示装置
用電極板（Ａ’’）と液晶表示装置用電極板（Ｂ’’）
を作製した。
ト層（Ａ）を形成したガラス基板（Ａ’）と、カラーフ
ィルタ層及びオーバーコート層（Ｂ）を形成したガラス
基板（Ｂ’）を用いて、実施例１と同様に液晶表示装置
用電極板（Ａ’’）と液晶表示装置用電極板（Ｂ’’）
を作製した。
【００４１】得られた液晶表示装置用電極板（Ａ’’）
を用いた液晶表示装置（Ａ’’’）と、得られた液晶表
示装置用電極板（Ｂ’’）を用いた液晶表示装置
（Ｂ’’’）の色再現域を比較したところ、液晶表示装
置（Ｂ’’’）の色再現域は、２３０℃、１時間硬化さ
せたオーバーコート層（Ａ）を有する液晶表示装置
（Ａ’’’）の色再現域に対し２０％優位のものであっ
た。
を用いた液晶表示装置（Ａ’’’）と、得られた液晶表
示装置用電極板（Ｂ’’）を用いた液晶表示装置
（Ｂ’’’）の色再現域を比較したところ、液晶表示装
置（Ｂ’’’）の色再現域は、２３０℃、１時間硬化さ
せたオーバーコート層（Ａ）を有する液晶表示装置
（Ａ’’’）の色再現域に対し２０％優位のものであっ
た。
【００４２】＜比較例１＞赤用顔料として、ヘキスト社
製ノボパームカーミンＨＦ４Ｃ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレ
ッド１８５）を用い、緑用顔料として、山水色素（株）
製ファナトグリーンＭ（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン
４）を用い、青用顔料として、東洋インキ製造（株）製
ウルトラブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１）を用
い、顔料以外は実施例１と同様に液晶表示装置を作製し
た。
製ノボパームカーミンＨＦ４Ｃ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレ
ッド１８５）を用い、緑用顔料として、山水色素（株）
製ファナトグリーンＭ（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン
４）を用い、青用顔料として、東洋インキ製造（株）製
ウルトラブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１）を用
い、顔料以外は実施例１と同様に液晶表示装置を作製し
た。
【００４３】この例では、顔料の耐熱性が低く、得られ
た液晶表示装置の色特性は、Ｃ光源によるＣＩＥ色度図
上での色度点が、赤（Ｒ）はｘ＝０．４４３、ｙ＝０．
３５１、緑（Ｇ）はｘ＝０．３３４、ｙ＝０．４２７、
青（Ｂ）はｘ＝０．２７８、ｙ＝０．２６７であり、色
再現域が、ＮＴＳＣ方式の規格値の色再現域１００％に
対し６．８％であった。また、白（Ｗ）はｘ＝０．３４
８、ｙ＝０．３５６、白（Ｗ）のＹ値は５６．４であっ
た。再現できる色再現域が狭く、ＴＦＴ素子の形成での
加熱処理による色特性の劣化が顕著であった。
た液晶表示装置の色特性は、Ｃ光源によるＣＩＥ色度図
上での色度点が、赤（Ｒ）はｘ＝０．４４３、ｙ＝０．
３５１、緑（Ｇ）はｘ＝０．３３４、ｙ＝０．４２７、
青（Ｂ）はｘ＝０．２７８、ｙ＝０．２６７であり、色
再現域が、ＮＴＳＣ方式の規格値の色再現域１００％に
対し６．８％であった。また、白（Ｗ）はｘ＝０．３４
８、ｙ＝０．３５６、白（Ｗ）のＹ値は５６．４であっ
た。再現できる色再現域が狭く、ＴＦＴ素子の形成での
加熱処理による色特性の劣化が顕著であった。
【００４４】
【発明の効果】本発明は、カラーフィルタ層が形成され
たガラス基板上にＴＦＴ素子を形成するといった構成の
液晶表示装置用電極板において、カラーフィルタ層が前
記の耐熱性に優れた顔料を含有する感光性着色組成物を
用いて形成されたカラーフィルタ層であるので、ＴＦＴ
素子を形成する際に、高い基板温度で成膜してもカラー
フィルタ層の変色や褪色などでカラーフィルタ層の色特
性が低下することのない、すなわち、色再現域がＮＴＳ
Ｃ方式の規格値に対し４０％以上、白バランスが０．２
７＜ｘ＜０．３５、０．２７＜ｙ＜０．４０の範囲にあ
る液晶表示装置用電極板となる。
たガラス基板上にＴＦＴ素子を形成するといった構成の
液晶表示装置用電極板において、カラーフィルタ層が前
記の耐熱性に優れた顔料を含有する感光性着色組成物を
用いて形成されたカラーフィルタ層であるので、ＴＦＴ
素子を形成する際に、高い基板温度で成膜してもカラー
フィルタ層の変色や褪色などでカラーフィルタ層の色特
性が低下することのない、すなわち、色再現域がＮＴＳ
Ｃ方式の規格値に対し４０％以上、白バランスが０．２
７＜ｘ＜０．３５、０．２７＜ｙ＜０．４０の範囲にあ
る液晶表示装置用電極板となる。
【００４５】また、本発明は、ガラス基板上に、カラー
フィルタ層、オーバーコート層を形成し、該オーバーコ
ート層上にＴＦＴ素子、透明画素電極を形成する液晶表
示装置用電極板の製造方法において、前記の耐熱性に優
れた顔料を含有する感光性着色組成物を用いてカラーフ
ィルタ層を形成するので、ＴＦＴ素子を形成する際に、
高い基板温度で成膜してもカラーフィルタ層の変色や褪
色などでカラーフィルタ層の色特性が低下することのな
い、すなわち、色再現域がＮＴＳＣ方式の規格値に対し
４０％以上、白バランスが０．２７＜ｘ＜０．３５、
０．２７＜ｙ＜０．４０の範囲にある液晶表示装置用電
極板の製造方法となる。
フィルタ層、オーバーコート層を形成し、該オーバーコ
ート層上にＴＦＴ素子、透明画素電極を形成する液晶表
示装置用電極板の製造方法において、前記の耐熱性に優
れた顔料を含有する感光性着色組成物を用いてカラーフ
ィルタ層を形成するので、ＴＦＴ素子を形成する際に、
高い基板温度で成膜してもカラーフィルタ層の変色や褪
色などでカラーフィルタ層の色特性が低下することのな
い、すなわち、色再現域がＮＴＳＣ方式の規格値に対し
４０％以上、白バランスが０．２７＜ｘ＜０．３５、
０．２７＜ｙ＜０．４０の範囲にある液晶表示装置用電
極板の製造方法となる。
【００４６】また、本発明は、上記液晶表示装置用電極
板を用いた液晶表示装置であるので、色再現域がＮＴＳ
Ｃ方式の規格値に対し４０％以上、白バランスが０．２
７＜ｘ＜０．３５、０．２７＜ｙ＜０．４０の範囲にあ
る液晶表示装置となる。
板を用いた液晶表示装置であるので、色再現域がＮＴＳ
Ｃ方式の規格値に対し４０％以上、白バランスが０．２
７＜ｘ＜０．３５、０．２７＜ｙ＜０．４０の範囲にあ
る液晶表示装置となる。
【図１】本発明による液晶表示装置用電極板の一実施例
を示す部分断面図である。
を示す部分断面図である。
【図２】本発明に用いる水素ラジカル供給部を示す説明
図である。
図である。
【図３】実施例１におけるＴＦＴ素子の形成を説明する
ブロック図である。
ブロック図である。
１１・・ガラス基板
１２・・対向基板
２０・・カラーフィルタ
２１・・ブラックマトリックス
３１・・透明画素電極
３３・・ゲート電極
３４・・ゲート絶縁膜
３５・・アモルファスシリコン膜
３６・・パシベーション層
３７・・オーミック層
３８・・ソース電極
３９・・ドレイン電極
４１・・オーバーコート層
５０・・基板搬出入室
５１・・ロードロック室
５２・・第一成膜室
５３・・第二成膜室
５４・・第三成膜室
５５・・アンロードロック室
７１・・発振器
７２・・導波管
７３・・ＣＶＤチャンバー
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０５ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０５
(72)発明者 熊本 優一
東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印
刷株式会社内
(72)発明者 阿部 和俊
東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印
刷株式会社内
Ｆターム(参考） 2H025 AA10 AB13 AC01 AD01 CC12
CC17 FA17
2H048 BA02 BA11 BA45 BA47 BA48
BB02 BB08 BB28 BB37 BB44
CA04 CA14 CA19 CA26
2H091 FA02X FA02Y FA02Z FA37X
FB02 LA15 LA20
2H092 GA11 GA12 GA17 HA04 KB05
KB06 KB14 KB15 KB25 KB26
NA01 NA11 PA08
Claims (7)
- 【請求項１】ガラス基板上に、少なくともカラーフィル
タ層、オーバーコート層が形成され、該オーバーコート
層上にＴＦＴ素子、透明画素電極が形成された液晶表示
装置用電極板であって、Ｃ光源によるＣＩＥ色度図上で
の色再現域が、ＮＴＳＣ方式の規格値の色再現域１００
％に対し４０％以上の色再現域を有し、白バランスが
０．２７＜ｘ＜０．３５、０．２７＜ｙ＜０．４０の範
囲にあることを特徴とする液晶表示装置用電極板。 - 【請求項２】前記カラーフィルタ層が、メラミン系架橋
剤またはエポキシ系架橋剤を含有する感光性着色組成物
を用いて形成されたカラーフィルタ層であることを特徴
とする請求項１記載の液晶表示装置用電極板。 - 【請求項３】前記オーバーコート層が、２段階硬化法に
よって硬化、形成されたオーバーコート層であることを
特徴とする請求項１、又は請求項２記載の液晶表示装置
用電極板。 - 【請求項４】ガラス基板上に、少なくともカラーフィル
タ層、オーバーコート層を形成し、該オーバーコート層
上にＴＦＴ素子、透明画素電極を形成する液晶表示装置
用電極板の製造方法であって、下記の顔料を含有する感
光性着色組成物を用いてカラーフィルタ層を形成するこ
とを特徴とする液晶表示装置用電極板の製造方法。 ・赤顔料：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、１２３、
１４６、又は１７７から選ばれる顔料 ・緑顔料：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、或いは３６
から選ばれるハロゲン化フタロシアニン系顔料 ・青顔料：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、
１５：２、１５：３、１５：４、１５：６から選ばれる
１種以上の銅フタロシアニン系顔料 - 【請求項５】前記カラーフィルタ層を、メラミン系架橋
剤またはエポキシ系架橋剤を含有する感光性着色組成物
を用いて形成することを特徴とする請求項４記載の液晶
表示装置用電極板の製造方法。 - 【請求項６】前記オーバーコート層を、２段階硬化法に
よって硬化、形成することを特徴とする請求項４、又は
請求項５記載の液晶表示装置用電極板の製造方法。 - 【請求項７】請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶
表示装置用電極板を用いたことを特徴とする液晶表示装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002153495A JP4059004B2 (ja) | 2002-05-28 | 2002-05-28 | 液晶表示装置用電極板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002153495A JP4059004B2 (ja) | 2002-05-28 | 2002-05-28 | 液晶表示装置用電極板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003344867A true JP2003344867A (ja) | 2003-12-03 |
| JP4059004B2 JP4059004B2 (ja) | 2008-03-12 |
Family
ID=29770521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002153495A Expired - Fee Related JP4059004B2 (ja) | 2002-05-28 | 2002-05-28 | 液晶表示装置用電極板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4059004B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006058700A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 着色硬化性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法 |
| JP2006114862A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Samsung Electronics Co Ltd | 有機半導体を利用した薄膜トランジスタ表示板及びその製造方法 |
| JP2010230828A (ja) * | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Toppan Printing Co Ltd | 緑色着色組成物、それを用いたカラーフィルタおよび液晶表示装置 |
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