JP2003344795A - 電子写真装置の光学装置 - Google Patents
電子写真装置の光学装置Info
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- JP2003344795A JP2003344795A JP2002150765A JP2002150765A JP2003344795A JP 2003344795 A JP2003344795 A JP 2003344795A JP 2002150765 A JP2002150765 A JP 2002150765A JP 2002150765 A JP2002150765 A JP 2002150765A JP 2003344795 A JP2003344795 A JP 2003344795A
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- JP
- Japan
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- light beam
- scanned
- lens
- plastic
- optical device
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- Pending
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- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、プラスチックＦθレンズを安定して
使用することを課題としている。 【解決手段】本発明は、複数の独立した光ビームを発生
する光ビーム発生手段と、発生した光ビームを偏向面に
よって反射して該光ビームを偏向させる偏向手段と、被
走査面と、前記偏向手段によって偏向された前記光ビー
ムを前記被走査面上に結像させるＦθ特性を有する結像
光学系とからなり、前記偏向手段によって偏向された前
記光ビームによって前記被走査面上を走査する光走査装
置において、前記Ｆθレンズをプラスチック製としたこ
とを特徴とし、さらには、光ビームスポット径焦点位置
における焦点深度の中心値を被走査面上に対してずらし
て調整することを特徴とする。
使用することを課題としている。 【解決手段】本発明は、複数の独立した光ビームを発生
する光ビーム発生手段と、発生した光ビームを偏向面に
よって反射して該光ビームを偏向させる偏向手段と、被
走査面と、前記偏向手段によって偏向された前記光ビー
ムを前記被走査面上に結像させるＦθ特性を有する結像
光学系とからなり、前記偏向手段によって偏向された前
記光ビームによって前記被走査面上を走査する光走査装
置において、前記Ｆθレンズをプラスチック製としたこ
とを特徴とし、さらには、光ビームスポット径焦点位置
における焦点深度の中心値を被走査面上に対してずらし
て調整することを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真装置の光
学装置に関するものである。
学装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子写真装置の高精細化にともな
い、被走査面である感光体面上で必要な光ビームスポッ
ト径を安定して出力する必要がある。また、同時に光学
装置の原価低減としてレンズ類のプラスチック化に伴
い、Ｆθレンズにおいてもプラスチック化を進める必要
がある。従来のガラスレンズに対してプラスチックＦθ
レンズは環境の変化に対して敏感な特性を有しており、
成形後に再度加熱処理を行い内部歪を除去するなど、使
いこなすための工夫を行ってきている。
い、被走査面である感光体面上で必要な光ビームスポッ
ト径を安定して出力する必要がある。また、同時に光学
装置の原価低減としてレンズ類のプラスチック化に伴
い、Ｆθレンズにおいてもプラスチック化を進める必要
がある。従来のガラスレンズに対してプラスチックＦθ
レンズは環境の変化に対して敏感な特性を有しており、
成形後に再度加熱処理を行い内部歪を除去するなど、使
いこなすための工夫を行ってきている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のガラスレンズに対してプラスチックのＦθレンズは環
境の変化に対して敏感な特性を有しており、成形後の再
度加熱処理などを実施しても、レンズ内部の屈折率が温
度および湿度に影響され、見かけ上の焦点の距離が変動
する現象が発生する。また、その変動量もプラス側、マ
イナス側に均一には変動せず、径時的にどちらかの方向
へ焦点の距離が変動してしまう。そのため、従来の光学
装置のように感光体面上で光ビームスポット径が所定の
値に入るようにその焦点深度の中央値に感光体面がくる
ような光ビームスポット径の調整方法では、Ｆθレンズ
の径時変化により焦点位置が変動することで、感光体面
上での光ビームスポット径が見かけ上変化する現象が発
生してしまう。
のガラスレンズに対してプラスチックのＦθレンズは環
境の変化に対して敏感な特性を有しており、成形後の再
度加熱処理などを実施しても、レンズ内部の屈折率が温
度および湿度に影響され、見かけ上の焦点の距離が変動
する現象が発生する。また、その変動量もプラス側、マ
イナス側に均一には変動せず、径時的にどちらかの方向
へ焦点の距離が変動してしまう。そのため、従来の光学
装置のように感光体面上で光ビームスポット径が所定の
値に入るようにその焦点深度の中央値に感光体面がくる
ような光ビームスポット径の調整方法では、Ｆθレンズ
の径時変化により焦点位置が変動することで、感光体面
上での光ビームスポット径が見かけ上変化する現象が発
生してしまう。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、前記Ｆθレンズをプラスチック製とした
ことを特徴とし、さらには、光ビームスポット径焦点位
置における焦点深度の中心値を被走査面上に対してずら
して調整することを特徴とする。
に、本発明は、前記Ｆθレンズをプラスチック製とした
ことを特徴とし、さらには、光ビームスポット径焦点位
置における焦点深度の中心値を被走査面上に対してずら
して調整することを特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図を参照
しながら説明する。図１に本光学装置の全体図を示す。
印刷領域において半導体レーザ１より照射されたレーザ
ビーム２は、コリメータレンズ３により平行光となり、
シリンダレンズ群４にて縦径と横径を絞り込み、ポリゴ
ンミラー５上に一度結像させた後に走査される。ポリゴ
ンミラー５により走査されたレーザビーム２は、 Ｆθ
レンズ６上で広がった後、再び絞られリターンミラー７
にて反射された後、ロングシリンダレンズ８にてタテ径
のみをさらに絞られて感光体面９に走査される。
しながら説明する。図１に本光学装置の全体図を示す。
印刷領域において半導体レーザ１より照射されたレーザ
ビーム２は、コリメータレンズ３により平行光となり、
シリンダレンズ群４にて縦径と横径を絞り込み、ポリゴ
ンミラー５上に一度結像させた後に走査される。ポリゴ
ンミラー５により走査されたレーザビーム２は、 Ｆθ
レンズ６上で広がった後、再び絞られリターンミラー７
にて反射された後、ロングシリンダレンズ８にてタテ径
のみをさらに絞られて感光体面９に走査される。
【０００６】図２に従来の光学装置での感光体面上光ビ
ームスポット径のモデルを示す。光学装置のレンズによ
って絞られたレーザビーム１０は感光体面１１に図のよ
うに焦点される。この時の光ビームスポット径の規定値
をｂ(８０μｍ)以下とする時の焦点深度はａとなる。
ームスポット径のモデルを示す。光学装置のレンズによ
って絞られたレーザビーム１０は感光体面１１に図のよ
うに焦点される。この時の光ビームスポット径の規定値
をｂ(８０μｍ)以下とする時の焦点深度はａとなる。
【０００７】図３にプラスチックＦθレンズの焦点距離
がｃ変動した時の感光体面上光ビームスポット径のモデ
ルを示す。Ｆθレンズの焦点距離ｃ＞（ａ／２）となっ
た時に、見かけ上の感光体面の位置は１１から１２の位
置と移動し、この時の光ビームスポット径ｄは規定値の
ｂ(８０μｍ)を超えてしまう。（実際は感光体面の位置
は移動せずにレーザビーム１０の位置が変動する。）図
４に本発明の実施例を示す。図３でのＦθレンズの特性
を予め把握することで、初期的に焦点距離の変動値ｄを
想定した位置１３に光ビームスポット径の中心値がくる
ように調整する。これにより、径時的にＦθレンズの焦
点距離がｃ変化した場合に光ビームスポット径の中心値
が１４の位置まで変化する。いずれの場合においても感
光体面位置１０に対して焦点深度ａの範囲内となり、光
ビームスポット径の規定値ｂ(８０μｍ)を満足出来る。
但し、この時の焦点距離変動量ｃは光ビームスポット径
の規定値ｂにおける焦点深度ａに対して、ｃ＜ａとなる
必要がある。
がｃ変動した時の感光体面上光ビームスポット径のモデ
ルを示す。Ｆθレンズの焦点距離ｃ＞（ａ／２）となっ
た時に、見かけ上の感光体面の位置は１１から１２の位
置と移動し、この時の光ビームスポット径ｄは規定値の
ｂ(８０μｍ)を超えてしまう。（実際は感光体面の位置
は移動せずにレーザビーム１０の位置が変動する。）図
４に本発明の実施例を示す。図３でのＦθレンズの特性
を予め把握することで、初期的に焦点距離の変動値ｄを
想定した位置１３に光ビームスポット径の中心値がくる
ように調整する。これにより、径時的にＦθレンズの焦
点距離がｃ変化した場合に光ビームスポット径の中心値
が１４の位置まで変化する。いずれの場合においても感
光体面位置１０に対して焦点深度ａの範囲内となり、光
ビームスポット径の規定値ｂ(８０μｍ)を満足出来る。
但し、この時の焦点距離変動量ｃは光ビームスポット径
の規定値ｂにおける焦点深度ａに対して、ｃ＜ａとなる
必要がある。
【０００８】以上により、ガラスＦθレンズに対して安
価であるプラスチックＦθレンズを採用しながら高精細
化の要求を満足することが出来る。
価であるプラスチックＦθレンズを採用しながら高精細
化の要求を満足することが出来る。
【０００９】
【発明の効果】本発明によれば、電子写真装置の光学装
置において、プラスチックＦθレンズを使用しても高精
細で安定した品質を維持することが出来る。
置において、プラスチックＦθレンズを使用しても高精
細で安定した品質を維持することが出来る。
【図１】電子写真装置の光学装置の全体図。
【図２】電子写真装置の光学装置での感光体面上光ビー
ムスポット径のモデル図。
ムスポット径のモデル図。
【図３】プラスチックＦθレンズの焦点距離が変動した
時の感光体面上光ビームスポット径のモデル図。
時の感光体面上光ビームスポット径のモデル図。
【図４】本発明の実施例を示すモデル図。
１・・・半導体レーザ、２・・・レーザビーム２、３・
・・コリメートレンズ、４・・・シリンダレンズ群、５
・・・ポリゴンミラー、６・・・ＦＴＨレンズ、７・・
・リターンミラー、８・・・ロングシリンダレンズ、９
・・・感光体面上、１０・・・レーザビーム、１１・・
・感光体面上、１２・・・感光体面上、１３・・・焦点
深度の中央値、１４・・・焦点深度の中央値。
・・コリメートレンズ、４・・・シリンダレンズ群、５
・・・ポリゴンミラー、６・・・ＦＴＨレンズ、７・・
・リターンミラー、８・・・ロングシリンダレンズ、９
・・・感光体面上、１０・・・レーザビーム、１１・・
・感光体面上、１２・・・感光体面上、１３・・・焦点
深度の中央値、１４・・・焦点深度の中央値。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2C362 BA86
2H045 CA63 CB15 CB22
2H087 KA08 KA19 LA22 RA07 RA08
RA45 UA01
5C051 AA02 CA07 DB02 DB22 DB24
DC04 DC07 FA01
5C072 AA03 BA17 HA02 HA09 HA13
XA01 XA05
Claims (2)
- 【請求項１】複数の独立した光ビームを発生する光ビー
ム発生手段と、発生した光ビームを偏向面によって反射
して該光ビームを偏向させる偏向手段と、被走査面と、
前記偏向手段によって偏向された前記光ビームを前記被
走査面上に結像させるＦθ特性を有する結像光学系とか
らなり、前記偏向手段によって偏向された前記光ビーム
によって前記被走査面上を走査する光走査装置におい
て、前記Ｆθレンズをプラスチック製としたことを特徴
とする電子写真装置の光学装置。 - 【請求項２】光ビームスポット径焦点位置における焦点
深度の中心値を前記被走査面上に対してずらして調整す
ることを特徴とする請求項１記載の電子写真装置の光学
装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002150765A JP2003344795A (ja) | 2002-05-24 | 2002-05-24 | 電子写真装置の光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002150765A JP2003344795A (ja) | 2002-05-24 | 2002-05-24 | 電子写真装置の光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003344795A true JP2003344795A (ja) | 2003-12-03 |
Family
ID=29768536
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002150765A Pending JP2003344795A (ja) | 2002-05-24 | 2002-05-24 | 電子写真装置の光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003344795A (ja) |
-
2002
- 2002-05-24 JP JP2002150765A patent/JP2003344795A/ja active Pending
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