JP2003344721A - 集光用光回路及び光源装置 - Google Patents
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Abstract
合波させる。 【解決手段】 入射導波部50は、レーザ光が入射され
る入射直線領域51と、入射直線領域51から入射され
たレーザ光を所定の方向に曲げる曲線領域52と、曲線
領域52を通過したレーザ光を平行光化するアップテー
パ領域53とを備えている。
Description
光源装置に係り、例えば半導体ダイレクトレーザ加工機
や固体励起レーザのポンプ光源に用いて好適な集光用光
回路及び光源装置に関する。
アレイ状光源からの出射光を集光する集光用光回路とし
てY型合波回路が提案されている。
ある。Y型合波回路の入射光の多くは、臨界角を超えて
導波路が合流する接続点で導波路外に放射される。この
ため、入射光は、接続点を1段経る毎に2〜3dB程度
の損失が生じる。したがって、アレイ状光源の多数の出
射光を集光するために、Y型合波回路の接続点の段数を
増やしてもY型合波回路の出力強度はあまり大きくなら
ない、という問題があった。
同公報の図1に示すように、レーザダイオードバー10
の放出面12,14,16に、光ファイバ束24の光フ
ァイバ18,20,22をそれぞれ対応させて、レーザ
光を集光して高密度化を図る多重エミツタレーザダイオ
ードをマルチモード光ファイバに結合するための装置
(以下「従来技術1」という。)が提案されている。
の放出面を備えているので、すべての放出面に1本ずつ
光ファイバを接続するのは非常に煩雑であり、放出面に
接続することができる光ファイバの数に限度がある。し
たがって、放出面に光ファイバを接続してレーザ光を集
光したとしても、集光されたレーザ光のエネルギー密度
に限界がある。
イバ束の外径が小さいことが望ましいが、多くの放出面
から出射されたレーザ光を集光しようとすると、光ファ
イバ束24の外径が大きくなり、実用上、レーザ光を集
光することが困難になってしまう。
報の図2に示すように、複数の光源を有する半導体レー
ザー(レーザバー)1bを積層し、積層された半導体レ
ーザー1bからの出射光を横方向に集束する光分岐器2
b1と、光分岐器2b1からの出射光を縦方向に集束する
光分岐器2b2とを備えた半導体レーザー集光装置(以
下「従来技術2」という。)が提案されている。
調整において、積層された半導体レーザー1bのレーザ
光の出射位置と、光分岐器2b1のレーザ光の入射位置
とを高精度に一致させる必要がある。さらに、光軸調整
後の半導体レーザー1、光分岐器2b1及び光分岐器2
b2の配置状態を保持することも困難である。そのた
め、各接続部位における位置の不整合が発生し易く、こ
の結果、効率よくレーザ光を集光することが困難であっ
た。
レイ型半導体レーザの各光放射部から出射されたレーザ
光を集束する光集束器10を備えたアレイ型半導体レー
ザ用結合装置(以下「従来技術3」という。)が提案さ
れている。
数が増えると、光集束器10の長手方向(レーザ光の入
射方向に平行な方向)の長さが大きくなり、現実的な寸
法では収まりきれない大きさになる問題があった。光集
束器10の長手方向を短くするためには、光集束器に形
成された光導波路を急激に曲げる必要があるが、急激に
曲げるとレーザ光の放射損失が増加する問題があった。
提案されたものであり、アレイ状光源からの複数の出射
光を高効率で合波させる集光用光回路及び光源装置を提
供することを目的とする。
光が入射される複数の入射ポートと、前記入射ポートに
光結合されると共に入射した光を平行光束にする平行光
化部と、を備えた複数の入射導波部と、入射端が前記複
数の入射導波部の各々に光結合されると共に入射端から
出射端に向かって導波領域が徐々に小さくなるダウンテ
ーパ部と、前記ダウンテーパ部の出射端に設けられた出
射ポートと、を備えた単一の出射導波部と、を有する。
を備えている。入射ポートは光が入射される部位であ
る。平行光化部は、光の伝搬角を小さくして、光を伝搬
方向に対してほぼ平行光束になるようにする。ここで
は、平行光化部は、請求項2のアップテーパ部を含んで
いてもよいし、光の伝搬方向を光の結合点方向に変換す
る曲線導波部であってもよい。
トとを備えている。ダウンテーパ部は、各入射導波部の
平行光化部に光結合されており、各平行光化部から出射
された光を合波して、出射ポート介して外部に出射す
る。
ば、平行光化部によって光の伝搬角を小さくして平行光
束にしてから合波することで、高効率で光を結合させる
ことができる。
明において、前記平行光化部は、入射端から出射端に向
かって導波領域が徐々に大きくなるアップテーパ部を含
んでいる。
射を繰り返すことで伝搬角が小さくなり平行光束にされ
る。したがって、請求項2記載の発明によれば、各入射
導波部のアップテーパ部は伝搬角の小さな光をダウンテ
ーパ部に入射させるので、高効率で光を合波させること
ができる。 なお、アップテーパ部の出射側に、直線導
波部、曲線導波部、ダウンテーパ部、またはダウンテー
パ部と直線導波部とを結合した導波部を設けてもよい。
記載の集光用光回路と、前記集光用光回路の各々の入射
ポートに対してレーザ光を直接入射するアレイ状光源
と、前記集光用光回路の出射導波部に光結合された光フ
ァイバと、前記光ファイバから出射されたレーザ光を集
光する集光手段と、を備えている。
らず、例えば発散角を抑制するような構造の光源であれ
ば特に限定されない。アレイ状光源は、複数の光出射部
から光を出射して、この光を集光用光回路の入射ポート
に入射させる。集光用光回路は、アレイ状光源から出射
された光を合波して、出射ポートを介して出射する。各
集光用光回路から出射されたそれぞれの光は、光ファイ
バを介して、集光手段で集光される。
ば、アレイ状光源から出射された光を集光用光回路によ
って光の伝搬角を小さくして合波し、光ファイバ及び集
光手段を介して外部に出射するので、高効率で結合され
た高輝度の光を外部に出射することができる。
導波路で構成してもよいし、光ファイバ等のその他の光
学系で構成してもよい。導波部を光導波路で構成した場
合、ダウンテーパ部は、光の伝搬方向に向かって導波路
の幅が小さくなるように形成すれば、導波領域が小さく
なる。アップテーパ部は、光の伝搬方向に向かって導波
路の幅が広くなるように形成すれば、導波領域が大きく
なる。
態について図面を参照しながら詳細に説明する。
レーザ光源装置1の構成を示す斜視図である。
上に設置された状態で複数のレーザ光を出射する半導体
レーザアレイ20と、半導体レーザアレイ20から出射
されたレーザ光を速軸方向に集光するロッドレンズ30
と、ロッドレンズ30からのレーザ光を合波する複数の
光導波路デバイス40と、各光導波路デバイス40で合
波されたレーザ光を導光する複数の光ファイバ70と、
各光ファイバ70から出射されたレーザ光を集光して焦
点位置を調整する集光レンズ80とを備えている。
状に精密に形成されており、主面11上に配置された半
導体レーザアレイ20及び光導波路デバイス40の高さ
方向の位置を精密に規制する。
体レーザアレイ20、ロッドレンズ30及び光導波路デ
バイス40の拡大断面図である。
体レーザアレイ20と光導波路デバイス40の間には、
半導体レーザアレイ20のレーザ配列方向に沿って、凹
部溝12が形成されている。凹部溝12の幅は、ロッド
レンズ30の直径よりも小さくなっている。そして、ロ
ッドレンズ30は、凹部溝12上に配置され、位置規制
されている。
図1に示すように、板状に形成された冷却基板13によ
って直接冷却される。冷却基板13は、その内部に冷媒
を通すための図示しない水路を設けている。冷媒供給機
14は、冷却基板13に対して冷媒ホース15及び冷媒
入出力ポート16を介して冷媒を供給し、使用済みの冷
媒を出力ポート17及び冷媒ホース18を介して回収
し、再び冷却用の冷媒を冷却基板13に供給する。これ
により、冷却基板13は、Si基板10を常に冷却する
ことができる。なお、冷媒基板13は、冷媒によってS
i基板10を冷却する水冷式であるが、冷却フィンによ
ってSi基板10を冷却する空冷式であってもよい。
0上において、半導体レーザアレイ20のレーザ配列方
向に沿って、所定間隔毎に配置されている。半導体レー
ザアレイ20は、駆動電源21から供給される駆動電源
によって駆動され、複数のレーザ光出射部からレーザ光
を同一方向に出射する。なお、レーザ光の発散角は、速
軸方向θ⊥〜40°、遅軸方向θ//〜10°の一般的な
特性である。
Si基板10に形成された凹部溝12によって位置規制
され、半導体レーザアレイ20から出射されたレーザ光
を速軸方向に集束して、光導波路デバイス40に入射さ
せる。
は、速軸方向については、ロッドレンズ30により収束
されるので、高効率で容易に光導波路デバイス40に結
合する。一方、遅軸方向については、遅軸方向の発散角
の値を考慮した上で半導体レーザアレイ20と光導波路
デバイス40との距離を短くすることで、レンズを用い
ることなく高効率に結合させる。このときの結合効率
は、ロッドレンズ30、光導波路デバイス40の入射端
面を誘電体多層膜等で無反射コートとすることで、95
%以上にすることができる。
ロッドレンズ30及び光導波路デバイス40の平面図で
あり、(B)は半導体レーザアレイ20、ロッドレンズ
30及び光導波路デバイス40の断面図である。
してSiO2、コア材料としてGeO2を付加したSiO
2が用いられ、本実施の形態ではステップインデックス
構造である。そして、光導波路デバイス40は、平面板
状に形成された光導波路基板41と、光導波路基板41
上に形成された光導波路42とで構成されている。
た光導波路42の構成を示す平面図である。光導波路4
2は、N個の入射導波部50と、1つの出射導波部60
とで構成されている。
光が結合される点を結合点Pとし、結合点Pからそれぞ
れの入射導波部50の終端中心部に向けて直線Lp(p
=1,2,…,N)を設ける。そして、出射導波部60
を線対称にする直線Lと直線Lpとのなす角をθpとす
る。
示す平面図である。各入射導波部50は、図4に示した
直線Lに対して対称に構成されており、レーザ光が入射
される入射直線領域51と、入射直線領域51から入射
されたレーザ光を所定の方向に曲げる曲線領域52と、
曲線領域52を通過したレーザ光を平行光化するアップ
テーパ領域53とを備えている。
有する直線状の導波路であり、半導体レーザアレイ20
の各レーザ光出射部に対応してそれぞれ形成されてい
る。入射直線領域51の一端側は、半導体レーザアレイ
20からのレーザ光が入射される入射ポート51aであ
る。
20のレーザ光出射部と同数設けられている。本実施の
形態では、N(=1,2,…,N)個の入射ポート51
aが存在する。なお、N個の入射直線領域51は、互い
に平行に形成されている。一方、入射直線領域51の他
端側は、曲線領域52に結合している。
プテーパ領域53の間に形成されている。曲線領域52
は、一定の幅W1で曲線状に形成された導波路であり、
入射直線領域51から出射されたレーザ光を結合点Pの
方向に向ける役割を果たすものである。したがって、曲
線領域52は、入射導波部50の対称軸上にある場合は
直線状に形成されているが、対称軸から離れるに従って
曲げの角度が大きくなっている。
方向に沿って横幅がW1からW2に一定の割合で大きく
なる導波路である。したがって、アップテーパ領域53
は、曲線領域52から入射されたレーザ光の伝搬角(伝
搬方向と実際のレーザ光のなす角)θを次第に小さくし
て平行光化する。なお、以下の説明では、アップテーパ
領域53の終端におけるレーザ光の伝搬角θを中心とし
た広がり角をθaとする。
示す平面図である。出射導波部60は、各アップテーパ
領域53から入射されたレーザ光を結合するダウンテー
パ領域61と、結合されたレーザ光を外部に出力する出
射直線領域62とを備えている。
方向に沿って横幅がW4からW5に一定の割合で小さく
なるように形成された扇状のスラブ領域61aを有する
導波路である。ダウンテーパ領域61の円弧部分は、レ
ーザ光が入射される部位であり、N個のアップテーパ領
域53に接続されている。ダウンテーパ領域61の円周
角部分は、レーザ光を出力する部位であり、本実施の形
態では出射直線領域62に接続されている。
に、各アップテーパ領域53から入射されるレーザ光を
結合して、出射直線領域62を介して出力する。このと
き、各アップテーパ領域53からダウンテーパ領域61
に入射されたレーザ光は、広がり角の大きさに関係な
く、スラブ領域61aで内部反射を繰り返して結合され
る。なお、結合効率については後述する。
された導波路である。出射直線領域62の一方側はダウ
ンテーパ領域61の結合点Pに接続され、その他方側は
レーザ光を出射する出射ポート62aになっている。
端幅W5に対する結合効率の測定結果を示す図である。
なお、結合効率は、レーザ光の発散角特性、ロッドレン
ズ30の焦点距離・配置、光導波路デバイス40のコア
領域及びクラッド領域の屈折率によって様々な値をとる
が、概ね図7のような特性になる。実用的には、テーパ
終端幅W5は、結合効率が十分大きくなるように設定す
るのが好ましい。図7によると、テーパ終端幅W5が大
きくなるのに従って結合効率も大きくなり、テーパ終端
幅W5がW1に対して3倍になったときに、結合効率は
ほぼ1.0になって飽和した。
ーザ光の伝搬角θを中心とした広がり角θaは、次の関
係を満たすときに十分な効果が得られる。
大値である。なお、p=1,…,Nのすべてについて上
記式が成り立つのが好ましいが、p=1,…,Nのうち
の数個(例えば、1個又は2個)は満たさなくても大き
な影響はない。そして、N個の入射ポート51aに入力
されたレーザ光が1つずつこの特性を外れていくと、結
合効率は緩やかに低下する。
は、アップテーパ領域53によってレーザ光の伝搬角θ
を小さくして平行光に近づけて、そしてダウンテーパ領
域61で各レーザ光を合波することにより、高効率で結
合させることができる。
の出射直線領域62と同じ数だけ設けられている。光フ
ァイバ70のレーザ光入射端は、図1に示すように、光
ファイバ保持部材71によって固定されている。
の主面11上であって、光導波路デバイス40の出射直
線領域62の出射ポート側に設置されている。光ファイ
バ保持部材71には、出射ポートから出射されるレーザ
光の光軸に沿ってV字溝72が形成されている。そし
て、レーザ光入射側の光ファイバ70をV字溝72に位
置合わせすることによって、光導波路デバイス40と光
ファイバ70との3次元的な光軸調整が不要になる。
1に示すように、ファイババンドル73によって1つに
束ねられている。そして、各光ファイバ70から出射さ
れたレーザ光は、集光レンズ80によって集光され、レ
ーザ光を加工物やレーザ結晶物に照射される。
レーザ光源装置1は、半導体レーザアレイ20が出射し
たレーザ光を、光導波路デバイス40によってレーザ光
の伝搬角θを小さくして平行光に近づけてから合波する
ことにより、高効率で結合させることができる。
素子作製の微細加工工程により精度よく作製されている
ため、同様の微細加工工程で作製された光導波路デバイ
ス40の入射ポート51aに結合するのは容易である。
したがって、半導体レーザ光源装置1は、パッシブアラ
イメントで高精度の位置調整が可能になり、レーザ光を
高効率で結合させることができる。
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に記載されて範囲内で様々な設計上
の変更を行ってもよい。なお、以下の説明では、上述し
た実施の形態と同一の部位には同一の符号を付し、重複
する部位の説明は省略する。
た他の光導波路42Aの構成を示す平面図である。光導
波路42Aは、N個の入射導波部50Aと、1つの出射
導波部60とで構成されている。
を示す平面図である。入射導波部50Aは、レーザ光が
入射される入射直線領域51と、入射直線領域51を通
過したレーザ光を平行光化するアップテーパ領域53
と、アップテーパ領域53から入射されたレーザ光を所
定の方向に曲げる曲線領域54とを備えている。
曲線領域52とアップテーパ領域53の順番を入れ替え
て構成されたものである。そして、曲線領域54は、ア
ップテーパ領域53で平行光束にされたレーザ光を結合
点Pの方向に向ける役割を果たしている。なお、曲線領
域54は、入射導波部50Aの対称軸上にある場合は直
線状に形成されているが、対称軸から離れるに従って曲
げの角度が大きくなっている。
は、曲線領域54によってレーザ光の発散角分布を小さ
くしてからダウンテーパ領域61によってレーザ光を合
波するので、高効率にレーザ光を結合することができ
る。
れた他の光導波路42Bの構成を示す平面図である。光
導波路42Bは、レーザ光の遅軸方向の発散角θ//が小
さな半導体レーザアレイ20の場合に用いて好適であ
り、N個の入射導波部50Bと、1つの出射導波部60
とで構成されている。
る入射直線領域51と、入射直線領域51から入射され
たレーザ光を所定の方向に曲げる曲線領域52とを備え
ている。つまり、入射導波部50Bは、図5に示すアッ
プテーパ領域53を除いた構成になっている。
方向の発散角θ//が小さい場合、アップテーパ領域53
を備えてなくても、曲線領域52によってレーザ光の伝
搬方向を結合点Pの方向に変換することによって、上述
した実施の形態と同様に高効率で結合させることができ
る。
れた他の光導波路42Cの構成を示す平面図である。光
導波路42Cは、入射直線領域の受光角が半導体レーザ
アレイ20の発散角よりも大きい場合に用いて好適であ
り、N個の入射導波部50Cと、1つの出射導波部60
とで構成されている。
成を示す平面図である。入射導波部50Cは、レーザ光
が入射される入射直線領域51と、入射直線領域51に
入射されたレーザ光を一度絞る入射ダウンテーパ領域5
5と、入射ダウンテーパ領域55を通過したレーザ光を
結合点Pの方向に向ける曲線領域56と、曲線領域56
を通過したレーザ光を平行光化するアップテーパ領域5
7と、アップテーパ領域57から入射されたレーザ光を
一定の伝搬角で出射導波部60に導波する中間直線領域
58とを備えている。なお、曲線領域56は、入射導波
部50Cの対称軸上にある場合は直線状に形成されてい
るが、対称軸から離れるに従って曲げの角度が大きくな
っている。
は、入射ダウンテーパ領域55によって入射されたレー
ザ光を一度絞り、次に続く曲線領域56によってレーザ
光の伝搬方向を結合点P方向に変換させるので、更に効
率的にレーザ光を合波させることができる。なお、入射
導波部50Cの代わりに、次の入射導波部50Dを用い
てもよい。
平面図である。入射導波部50Dは、入射導波部50C
から曲線領域56を除いて構成されたものである。入射
導波部50Dでは、入射ダウンテーパ領域55とアップ
テーパ領域57との接合点が細いため曲がりやすくなっ
ている。そこで、アップテーパ領域57が結合点Pの方
向を向くように、入射ダウンテーパ領域55とアップテ
ーパ領域57との接合点が曲げられている。したがっ
て、入射導波部50Dは、曲線領域56を設けることな
く、レーザ光を結合点Pに向けることができる。
イス40は、上述した実施の形態では、クラッド材料と
してSiO2、コア材料としてGeO2を添加したSiO
2を用いたステップインデックス構造であるとしたが、
他の光学材料を用いてもよいし、屈折率分布に関しては
グレーデッドインデックス構造であってもよい。
デバイス40の結合は、上述した実施の形態ではロッド
レンズ30を用いた結合であったが、簡便な突き合わせ
結合であってもよい。さらに、光源としては、レーザ光
を出射する半導体レーザアレイ20に限らず、発散角を
制御するような構造を有するアレイ状光源を用いること
もできる。
ザアレイ20から出射されたレーザ光を合波するものと
して、光導波路デバイス40を例に挙げて説明したが、
その他、光導波路デバイス40と同様の導波構造を有す
る光ファイバなどの光学系を用いてもよいのは勿論であ
る。
される複数の入射ポートと、入射ポートに光結合される
と共に入射した光を平行光束にする平行光化部と、を備
えた複数の入射導波部と、入射端が複数の入射導波部の
各々に光結合されると共に入射端から出射端に向かって
導波領域が徐々に小さくなるダウンテーパ部と、ダウン
テーパ部の出射端に設けられた出射ポートと、を備えた
単一の出射導波部とを有することにより、光の伝搬角を
小さくして平行光束にしてから合波するので、高効率で
光を結合させることができる。
と、集光用光回路の各々の入射ポートに対してレーザ光
を直接入射するアレイ状光源と、前記集光用光回路の出
射導波部に光結合された光ファイバと、前記光ファイバ
から出射されたレーザ光を集光する集光手段とを備える
ことにより、アレイ状光源から出射された光を集光用光
回路によって光の伝搬角を小さくして合波し、光ファイ
バ及び集光手段を介して外部に出射するので、高効率で
結合された高輝度の光を外部に出射することができる。
置1の構成を示す斜視図である。
ロッドレンズ及び光導波路デバイスの拡大断面図であ
る。
及び光導波路デバイスの平面図であり、(B)は半導体
レーザアレイ、ロッドレンズ及び光導波路デバイスの断
面図である。
を示す平面図である。
面図である。
面図である。
結合効率の測定結果を示す図である。
構成を示す平面図である。
す平面図である。
の構成を示す平面図である。
の構成を示す平面図である。
示す平面図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 光が入射される複数の入射ポートと、前
記入射ポートに光結合されると共に入射した光を平行光
束にする平行光化部と、を備えた複数の入射導波部と、 入射端が前記複数の入射導波部の各々に光結合されると
共に入射端から出射端に向かって導波領域が徐々に小さ
くなるダウンテーパ部と、前記ダウンテーパ部の出射端
に設けられた出射ポートと、を備えた単一の出射導波部
と、 を有する集光用光回路。 - 【請求項2】 前記平行光化部は、入射端から出射端に
向かって導波領域が徐々に大きくなるアップテーパ部を
含む請求項1記載の集光用光回路。 - 【請求項3】 請求項1または2記載の集光用光回路
と、 前記集光用光回路の各々の入射ポートに対してレーザ光
を直接入射するアレイ状光源と、 前記集光用光回路の出射導波部に光結合された光ファイ
バと、 前記光ファイバから出射されたレーザ光を集光する集光
手段と、 を備えた光源装置。
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