JP2003338070A - 光ヘッド装置 - Google Patents
光ヘッド装置Info
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Abstract
と対物レンズの光軸とがズレた場合においても、非点収
差の発生を抑えるとともに、ディスクチルトによるコマ
収差を補正する手段を備えた装置を得る。 【解決手段】位相補正素子はその表面に透明電極が形成
された一対の透明基板と、透明基板間に挟持された液晶
層とを備え、透明基板面には、コマ収差を補正するため
の分割されたコマ収差補正用電極31〜35と非点収差
を補正するための分割された非点収差補正用電極が3
6、37とが形成されており、この位相補正素子を光ヘ
ッド装置に搭載する。
Description
気ディスクなどの光記録媒体の情報の記録・再生を行う
光ヘッド装置に関する。
ィスクであるCDに比べデジタル情報が高密度で記録さ
れており、DVDを再生するための光ヘッド装置は、光
源の波長をCDの780nmよりも短い660nmとし
たり、対物レンズの開口数(NA)をCDの0.45よ
りも大きい0.6〜0.65にして光ディスク面上に集
光するスポット径を小さくしている。しかし、光源光の
短波長化や対物レンズの高NA化が原因で、光ディスク
面が光軸に対して直角より傾くディスクチルトの許容量
や光ディスクの厚さムラの許容量が小さくなる。
クチルトの場合にはコマ収差が発生し、光ディスクの厚
さムラの場合には球面収差が発生するために、光ヘッド
装置の集光特性が劣化して信号の読み取りが困難になる
ことによる。高密度記録において、ディスクチルトや厚
さムラに対する光ヘッド装置の許容量を拡げるためにい
くつかの方式が提案されている。
物レンズのアクチュエータに、検出されたチルト角に応
じて対物レンズを傾けるように傾斜用の軸を追加する方
式がある。しかし、この追加方式では球面収差は補正で
きないことや、アクチュエータの構造が複雑になるなど
の問題がある。
の間に備えた位相補正素子により波面収差を補正する方
式がある。この補正方式では、アクチュエータに大幅な
改造を施すことなく光ヘッド装置に素子を組み入れるだ
けでディスクチルトの許容量や厚さムラの許容量を拡げ
ることができる。
ルトを補正する上記の補正方式に特開平10−2026
3がある。これは、位相補正素子を構成している液晶な
どの複屈折性材料を挟持している一対の基板のそれぞれ
に、電極が分割されて形成された分割電極に電圧を印加
して、複屈折性材料の実質的な屈折率を光ディスクのチ
ルト角に応じて変化させ、この屈折率の変化により発生
した透過光の位相(波面)変化により、光ディスクのチ
ルトで発生したコマ収差を補正する方式である。したが
って、位相補正素子により発生する位相分布は補正すべ
き波面収差分布と一致する必要がある。
を光ヘッド装置に組み込む場合に生ずる位置ズレや、ト
ラッキングサーボ時の対物レンズ移動のように、位相補
正素子の電極中心(光軸)と対物レンズの中心(光軸)
との位置ズレである、いわゆるレンズシフトが生じた場
合、位相補正素子の発生する位相分布が、補正すべき波
面収差分布に対してシフトする結果、波面収差補正性能
が低下し信号特性が劣化する。特に、コマ収差補正にお
けるレンズシフトの場合、位相補正素子が発生するコマ
収差型位相分布の位置ズレにより非点収差が発生し、信
号品質に大きな影響をもたらす。近年の記録情報の高密
度化において、この非点収差の発生が問題となってきて
おり、これを解決する手段が求められていた。
解決するためになされたものであり、光源と、光源から
の出射光を光記録媒体上に集光させるための対物レンズ
と、光源と対物レンズとの間に設けられた出射光の波面
を変化させる位相補正素子と、波面を変化させるための
電圧を位相補正素子へ出力する制御電圧発生手段とを備
えた光ヘッド装置であって、位相補正素子はその表面に
透明電極が形成された一対の透明基板と、透明基板間に
挟持された液晶層とを備え、少なくとも一方の透明基板
面には、コマ収差を補正するための透明電極であるコマ
収差補正用電極または球面収差を補正するための透明電
極である球面収差補正用電極と、非点収差を補正するた
めの透明電極である非点収差補正用電極とが形成されて
おり、各々の透明電極はそれぞれ複数個に分割されてい
ることを特徴とする光ヘッド装置を提供する。
正素子の光軸と交差して横切りかつ複数個に分割された
前記コマ収差補正用電極の並ぶ方向と直交する方向に沿
って並ぶように位相補正素子上に配された偶数個の電極
である上記の光ヘッド装置を提供する。
光軸とのズレにより発生した、光記録媒体の半径方向の
位置ズレの量に応じて、補正用の位相差を前記非点収差
補正用電極と光軸が通過する光軸電極との間に発生させ
る位相差発生手段を有する上記の光ヘッド装置を提供す
る。
収差補正用電極と前記光軸電極との間において発生する
位相差と、前記位置ズレの量との積に比例する位相差
を、前記非点収差補正用電極と前記光軸電極との間にお
いて発生する上記の光ヘッド装置を提供する。
理構成の一例を示す。図2に示した光ヘッド装置は光記
録媒体であるCD、DVDなどの光ディスク8に情報を
記録、再生するためのものであり、光源である半導体レ
ーザ1から出射した光は例えばホログラムタイプの偏光
ビームスプリッタ2を透過した後、コリメートレンズ3
により平行光となり、位相補正素子4を透過後、4分の
1波長板5を透過し、立ち上げミラー11で90°方向
に反射され、アクチュエータ7に設置された対物レンズ
6により光ディスク8上に集光される。集光された光は
光ディスク8により反射され対物レンズ6、立ち上げミ
ラー11、4分の1波長板5、位相補正素子4、コリメ
ートレンズ3を順次先程とは逆に透過した後、偏光ビー
ムスプリッタ2により回折され光検出器9に入射する。
前述の半導体レーザ1からの出射光が光ディスク8によ
り反射される際、光ディスクの面上に記録された情報に
より反射光は変調され、光検出器9により記録情報を読
み取ることができる。
ホログラムを備えており、異方性方向(屈折率に差があ
る方向)に偏光成分を有する光を強く回折して光検出器
9に導く。光検出器9より得られる光ディスクの例えば
再生信号の強度が最適となるように、位相補正素子4に
向けて制御電圧発生手段である位相補正素子制御回路1
0により電圧が出力される。位相補正素子制御回路10
より出力される電圧は、ディスクチルトや厚さムラに応
じた電圧であり、位相補正素子4の電極に印加する実質
的に変化する電圧となる。
の構成を図3を用いて説明する。透明基板21a、21
bが、例えばエポキシ系樹脂を主成分とするシール材2
2により接着され液晶セルを形成している。透明基板2
1a、21bには、ガラス、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリカーボネートなどが使
用できるが、耐久性などの点からガラスの基板が好まし
い。したがって、以下では基板の材料としてガラスを使
用する場合について説明する。
サと、例えば樹脂の表面に金などを被膜した導電性スペ
ーサが含有されている。ガラス基板21aの内側表面に
は、内側表面から電極24a、シリカなどを主成分とす
る絶縁膜25a、配向膜26aがこの順に、またガラス
基板21bの内側表面には、内側表面から電極24b、
シリカなどを主成分とする絶縁膜25b、配向膜26b
がこの順に被膜されている。液晶セルの外側表面には反
射防止膜が被膜されていてもよい。
ル基板などによって位相補正素子制御回路と接続できる
ようパターン配線されている。また電極24bは上述の
金などを被膜した導電性スペーサによりガラス基板21
a上に形成された電極24aと電気的に接続しており、
したがって、電極24bは電極引出部27で接続線によ
って位相補正素子制御回路と接続できる。図3には、電
極24bと電極24aとがシール材22と接している様
子が示されていないが、紙面と平行なシール材とは接し
ており両電極は導電性スペーサを通じて電気的に接続さ
れている。液晶セル内部には液晶が充填され液晶層23
とされており、図3に示した液晶分子28は、一方向に
配向されたホモジニアス配向の状態にある。使用される
液晶はディスプレイなどで用いられているネマティック
液晶が好ましく、ツイストしていてもよい。
晶分子28のプレチルト角が2〜10゜となれば好まし
く、ポリイミド膜を図2の紙面に平行で左右方向にラビ
ングしたものや、シリカ膜を斜め蒸着したものなどがよ
い。電極24a、24bの材質は透過率が高い方が望ま
しく、ITO膜などの透明導電膜を使用すればよい。
せる機能に必要な構成を述べたが、波長板や偏光性のホ
ログラムを位相補正素子4に積層することにより、波長
板5や偏光ビームスプリッタ2の機能を位相補正素子4
が併せ持つようにできる。この場合、光ヘッド装置を構
成する光学部品の点数が減ることで組立、調整が簡易と
なり、生産性が向上して好ましい。
波長により光束径を変化させるためのダイクロイック開
口制限層などを積層し、またガラス基板21a、21b
の外側表面上に直接形成することもでき、この場合も個
々の部品を新たに追加することに比べて生産性が向上し
て好ましい。波長板を積層する場合には、光ディスク側
のガラス基板に直接貼り合せるか、または貼り合わせた
ガラス基板をさらに積層すればよい。
波面収差を補正する方法について述べる。図4はディス
クチルトにより発生するコマ収差分布を示すものであ
り、光源波長660nm、対物レンズNA0.65、光
ディスク厚さ0.6mm、ディスクチルト角は1°であ
る。
パターンの一例を示すものであり、光ディスクの半径方
向であるラディアル方向(図中X軸方向)のディスクチ
ルトにより発生したコマ収差を補正するものである。分
割されたコマ収差補正用電極31〜35および非点収差
補正用電極36、37は図3に例示した位相補正素子内
部の電極24aを、フォトリソグラフィー技術を用いて
パターニングしたものである。
極中心と対物レンズ瞳(図1破線)の中心が一致してい
る場合には、コマ収差補正用電極31〜35により生じ
る位相分布と図4に示したコマ収差分布が概ね一致する
ために、ディスクチルトにより発生するコマ収差を正し
く補正できる。具体的には、図4のコマ収差分布と等し
い大きさで反対の符号を持つ位相分布が生じるよう、コ
マ収差補正用電極31〜35の形状を決め、適切な電圧
を各電極に印加すればよい。
よびコマ収差補正用電極32と34は発生する位相差が
概ね等しいので同じ電圧を印加してもよい。レンズシフ
トがない場合には非点収差は発生しないために、非点収
差補正用電極36、37はコマ収差補正用電極33と同
じ電圧を印加すればよい。
じた場合、図1において対物レンズ瞳はコマ収差補正用
電極31〜35および非点収差補正用36、37に対し
てX軸方向に移動する。すると、補正すべきコマ収差分
布と位相補正素子により発生する位相分布の位置ズレに
応じた非点収差が発生できる。
3(X、Y)は、(1)式で表される。
り、光源の波長λ、対物レンズのNA、ディスクの厚さ
t、ディスクチルトの角度θなどから決まる。X軸方向
に位置ズレが生じた場合、発生する収差はW3のX方向
の微分値に比例し、(2)式で表される。
θとし、Ak(ただしk=1、2および3)は定数とす
る。右辺第2項はデフォーカス成分であり、これはレン
ズのフォーカスサーボで補正できる。右辺第1項はX
軸、Y軸方向の非点収差であり、コマ収差の大きさZ3
に比例して発生する。また式(2)の非点収差は、レン
ズシフトの大きさに応じて大きくなるため、レンズシフ
トが生じた光ヘッド装置のディスクチルトの許容量は小
さい。
より発生する非点収差を補正するために、非点収差補正
用電極36、37を形成した。コマ収差補正用電極は光
ディスクの半径方向であるラディアル方向(図1のX軸
方向)のディスクチルトにより発生したコマ収差を補正
するものであるため、図1のX軸方向に配された複数の
電極により構成されている。
ディアル方向のレンズシフトにより発生する非点収差
(X軸、Y軸方向に発生)を補正するものであるため、
X軸方向またはY軸方向に配置すればよい。しかし、X
軸方向にはすでにコマ収差補正用電極が配置されている
ために、充分な効果を得るのに必要な電極面積を得るた
めには、Y軸方向(位相補正素子上における光記録媒体
の接線方向に対応)に配置することが好ましい。すなわ
ち、複数個の非点収差補正用電極は、複数個に分割され
たコマ収差補正用電極の並ぶ方向と直交する方向に沿っ
て並ぶように配置することが好ましい。
収差に応じて非点収差補正用電極36、37にはコマ収
差補正用電極33と異なる電圧を印加する。また、
(2)式の非点収差はX軸およびY軸に対して対称であ
るため非点収差補正用電極36と37には同じ電圧を印
加すればよい。
位相差発生手段の一例を述べる。コマ収差補正用電極3
3には基準電圧として電圧Vcを印加し、またディスク
チルト角に応じて変化する補正電圧をコマ収差補正電圧
ΔVθとし、かつレンズシフト量に応じて変化する補正
電圧を非点収差補正電圧ΔVSとすると、コマ収差補正
用電極31、35にはVc+ΔVθ、コマ収差補正用電
極32、34にはVc−ΔVθ、非点収差補正用電極3
6、37にはVc+ΔVSを印加すればよい。位相補正
素子の発生するコマ収差とレンズシフトにより生ずる非
点収差は概ね比例するため、ΔVθとΔVSは、εをラ
ディアル方向のレンズシフトとして、(3)式の関係が
成立するとしてよい。
であり、波長λが660nm、NAが0.65、ディス
ク厚が0.6mmではβ/ε=2〜3/mm程度であ
る。
られる位相差発生手段には、レンズシフトの大きさεに
応じた電圧(ΔVS)を非点収差補正電極に印加できる
機能が必要である。また、(3)式により、非点収差補
正電圧ΔVSはコマ収差補正電圧ΔVθとレンズシフト
の大きさεとの積に比例した電圧を印加できる機能を有
することにより、適切に本発明における位相補正素子を
制御することができる。
レンズシフトを原因とする非点収差を補正したい場合に
は、予め画像計測などの方法を用いてレンズシフト量ε
を測定し、駆動回路上でβとεとの積であるβεを固定
係数として設定しておけば、ディスクチルトによるコマ
収差補正電圧の制御に応じて自動的に非点収差を補正で
きるために、制御回路が簡易になり好ましい。一方、ト
ラッキングサーボによるレンズシフト量により発生する
非点収差を補正するためには、レンズシフト量εに応じ
て発生するトラッキングサーボ信号によってその都度、
動的にΔVSを変化させる必要がある。
極形状、さらに印加電圧数などは、波面収差の所望の補
正性能、位相補正素子制御回路の製作コストなどにより
最適化すればよく、例えばコマ収差補正用電極31、3
2を相似な複数の電極を同心的に配置することにより、
より細かいステップで補正できるような構成にしてもよ
く、また同様に非点収差補正用電極36、37も複数に
分割することでより細かいステップで補正できる構成に
してもよい。電極数を増やすと、より滑らかに波面収差
を補正できるために収差補正性能は向上するが、電極数
が増えるため信号線が増えたり、駆動回路が複雑になる
などの課題が生じる場合もある。
パターン内に非点収差補正用電極を形成したが、例え
ば、球面収差補正用電極パターン内に非点収差補正用電
極を形成してもよい。非点収差補正用電極が形成された
面に対向する面には、球面収差補正電極、コマ収差補正
電極などを形成して、複数の収差成分を同時に補正でき
るようにしてもよい。
子では、コマ収差補正用電極31〜35に非点収差補正
用電圧36、37を付け加えることで、レンズシフトが
生じた場合においても、非点収差の発生を抑制しつつ、
ディスクチルトによるコマ収差を補正できるために、レ
ンズシフト許容量やディスクチルト許容量を拡大でき
る。
り発生するコマ収差と光ディスクの厚さムラにより発生
する球面収差を補正する位相補正素子を備えており、同
時に非点収差を補正することができるため、レンズシフ
トが生じた場合においても広いディスクチルト許容量を
確保できる。
の断面模式図で示したものと同じであり、透明電極24
aには図1に示すコマ収差補正用電極31〜35と、非
点収差補正用電極36、37が同一面上に形成されてい
る。一方、透明電極24bには、図5に示す球面収差補
正用電極41〜45が備えられており、各電極面の中心
(光軸)が一致するように位相補正素子は構成されてお
り、図2に示した光ヘッド装置の位相補正素子4として
組み込まれている。また、図1、図4に示したX軸方向
は図2におけるラディアル方向、すなわち光ディスクの
半径方向に一致している。
10が接続されており、コマ収差補正用電極33に電圧
Vc、コマ収差補正用電極31、35に電圧Vc+ΔV
θ、電コマ収差補正用極32、34に電圧Vc−Δ
Vθ、非点収差補正用電極36、37に電圧Vc+ΔV
Sが印加され、また球面収差補正用電極41〜45には
補正用電圧が印加される。
る場合、球面収差補正用電極41〜45にそれぞれ異な
る電圧を印加することにより球面収差補正位相分布が発
生する。ここで、X軸方向にレンズシフトが生じた場
合、X軸方向のコマ収差が発生するが、コマ収差補正用
電極31〜35により発生するコマ収差位相分布、また
はディスクチルトにより発生するコマ収差によりX軸方
向のコマ収差を相殺できる。
正するために、ディスクチルト量に応じた補正電圧ΔV
θを非点収差補正用電極に印加することにより、コマ収
差補正位相分布を発生する。上述のとおり、X軸方向の
レンズシフトが生じると、位相補正素子が発生するコマ
収差に応じてX軸方向の非点収差が発生する。
正用電極36、37に上述の式(3)で示した電圧ΔV
Sを印加した。レンズシフト量εは、位相補正素子を光
ヘッド装置に組み込んだ後に、画像計測によりX軸方向
の位置ズレとして計測された。本例で計測されたεは
0.09mmであり、比例係数β=2.8としてΔVS
=0.252ΔVθとなるように位相補正素子制御回路
を調整した。
得られた、波面収差(残留収差値)とディスクチルトと
の関係のグラフ示す。ここで光源光の波長は660n
m、対物レンズのNAは0.65、対物レンズの瞳直径
は3.1mm、光ディスクの厚さは0.6mmであり厚
さ誤差はない。図中実線(A)はβε=0.252とし
てレンズシフト補正を行った場合である。一方、破線
(B)は比較のために、βε=0としてレンズシフト補
正を行わなかった場合である。全波面収差はレンズシフ
ト補正の有無で変わらなかったものの、レンズシフト補
正を行ったものは、非点収差を大きく減少することがで
きた結果、光ディスクの信号品質を大幅に改善すること
ができた。
装置に搭載されている位相補正素子の、コマ収差補正用
電極または球面収差補正用電極との同一基板表面に非点
収差補正用電極を形成することにより、コマ収差または
球面収差を補正できるとともにに非点収差も低減できる
ため、レンズシフトが生じた場合においてもディスクチ
ルトの許容量を拡大できる。
一例を示す模式図。
概念的断面図。
図。
差を示す図。
一例を示す模式図。
差)のディスクチルト特性を示すグラフ。
Claims (4)
- 【請求項1】光源と、光源からの出射光を光記録媒体上
に集光させるための対物レンズと、光源と対物レンズと
の間に設けられた出射光の波面を変化させる位相補正素
子と、波面を変化させるための電圧を位相補正素子へ出
力する制御電圧発生手段とを備えた光ヘッド装置であっ
て、 位相補正素子はその表面に透明電極が形成された一対の
透明基板と、透明基板間に挟持された液晶層とを備え、
少なくとも一方の透明基板面には、コマ収差を補正する
ための透明電極であるコマ収差補正用電極または球面収
差を補正するための透明電極である球面収差補正用電極
と、非点収差を補正するための透明電極である非点収差
補正用電極とが形成されており、各々の透明電極はそれ
ぞれ複数個に分割されていることを特徴とする光ヘッド
装置。 - 【請求項2】前記非点収差補正用電極は、位相補正素子
の光軸と交差して横切りかつ複数個に分割された前記コ
マ収差補正用電極の並ぶ方向と直交する方向に沿って並
ぶように位相補正素子上に配された偶数個の電極である
請求項1記載の光ヘッド装置。 - 【請求項3】位相補正素子の光軸と対物レンズの光軸と
のズレにより発生した、光記録媒体の半径方向の位置ズ
レの量に応じて、補正用の位相差を前記非点収差補正用
電極と光軸が通過する光軸電極との間に発生させる位相
差発生手段を有する請求項1記載の光ヘッド装置。 - 【請求項4】前記位相差発生手段は、前記コマ収差補正
用電極と前記光軸電極との間において発生する位相差
と、前記位置ズレの量との積に比例する位相差を、前記
非点収差補正用電極と前記光軸電極との間において発生
する請求項3記載の光ヘッド装置。
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