JP2003321775A - 巻取り式真空成膜装置 - Google Patents
巻取り式真空成膜装置Info
- Publication number
- JP2003321775A JP2003321775A JP2002125768A JP2002125768A JP2003321775A JP 2003321775 A JP2003321775 A JP 2003321775A JP 2002125768 A JP2002125768 A JP 2002125768A JP 2002125768 A JP2002125768 A JP 2002125768A JP 2003321775 A JP2003321775 A JP 2003321775A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- web
- film forming
- winding
- roll
- forming apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、化学蒸着法（ＣＶＤ）等により、合
成樹脂等のウェブ状シート表面に薄膜を形成する巻取り
式真空成膜装置において、脱ガスが発生した場合でもウ
ェブ状シートの温度分布を均一にすることであり、また
ウェブ状シートの伸縮を抑え、かつ反応の阻害要因であ
る水分の影響を抑える方法を提供する。 【解決手段】ウェブ状シート９の巻出し・巻取り室２２
と成膜する成膜室２３と、巻出し・巻取り室２２と成膜
室２３とを隔てる隔壁２１と、隔壁２１を跨いで巻出し
・巻取り室２２と成膜室２３の両室に周面が配置され
て、ウェブ状シート９と密着し、ウェブ状シート９の加
熱・冷却をする温調ロール１０とを備え、該ロールの表
面に溝部１０ａを有しており、且つ溝部１０ａが規則的
に配置されていることを特徴とする巻取り式真空成膜装
置２０である。
成樹脂等のウェブ状シート表面に薄膜を形成する巻取り
式真空成膜装置において、脱ガスが発生した場合でもウ
ェブ状シートの温度分布を均一にすることであり、また
ウェブ状シートの伸縮を抑え、かつ反応の阻害要因であ
る水分の影響を抑える方法を提供する。 【解決手段】ウェブ状シート９の巻出し・巻取り室２２
と成膜する成膜室２３と、巻出し・巻取り室２２と成膜
室２３とを隔てる隔壁２１と、隔壁２１を跨いで巻出し
・巻取り室２２と成膜室２３の両室に周面が配置され
て、ウェブ状シート９と密着し、ウェブ状シート９の加
熱・冷却をする温調ロール１０とを備え、該ロールの表
面に溝部１０ａを有しており、且つ溝部１０ａが規則的
に配置されていることを特徴とする巻取り式真空成膜装
置２０である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は真空中にてＰＥＴ
(ポリエチレンテレフタレート)などの合成樹脂フィルム
等ウェブ状シート表面などに化学蒸着法（ＣＶＤ）等の
方法により薄膜を形成する巻取り式真空成膜装置に関す
る。
(ポリエチレンテレフタレート)などの合成樹脂フィルム
等ウェブ状シート表面などに化学蒸着法（ＣＶＤ）等の
方法により薄膜を形成する巻取り式真空成膜装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＰＥＴなどの合成樹脂フィルム等
ウェブ状シート表面に化学蒸着法（ＣＶＤ）等の方法に
より薄膜を形成する場合の巻取り式真空成膜装置は、例
えば、図７に示すように、トルクモータ等の一定の張力
にて巻取り可能な巻取り手段を持つ巻取り軸１を有し、
かつパウダークラッチ等のトルク制御手段により一定の
バックテンションをかけつつ合成樹脂フィルム等のウェ
ブ状シート９の巻出しを可能にする巻出し軸２を有す
る。そして、この二軸１、２の間に前記ウェブ状シート
９の走行を規制する複数のアイドルロール３と４および
張力を検知して巻取り軸１又は巻出し軸２に適宜フィー
ドバックを行うための張力検出器５と６を具備したテン
ションロール７と８を備える。そして、前記ウェブ状シ
ート９の温度をコントロールし、ウェブ状シート９表面
に膜を形成するための温調ロール１０、複数のプロセス
ガス噴出管１７と１８及び、電極等からなる成膜手段１
１を配置している。
ウェブ状シート表面に化学蒸着法（ＣＶＤ）等の方法に
より薄膜を形成する場合の巻取り式真空成膜装置は、例
えば、図７に示すように、トルクモータ等の一定の張力
にて巻取り可能な巻取り手段を持つ巻取り軸１を有し、
かつパウダークラッチ等のトルク制御手段により一定の
バックテンションをかけつつ合成樹脂フィルム等のウェ
ブ状シート９の巻出しを可能にする巻出し軸２を有す
る。そして、この二軸１、２の間に前記ウェブ状シート
９の走行を規制する複数のアイドルロール３と４および
張力を検知して巻取り軸１又は巻出し軸２に適宜フィー
ドバックを行うための張力検出器５と６を具備したテン
ションロール７と８を備える。そして、前記ウェブ状シ
ート９の温度をコントロールし、ウェブ状シート９表面
に膜を形成するための温調ロール１０、複数のプロセス
ガス噴出管１７と１８及び、電極等からなる成膜手段１
１を配置している。
【０００３】そして、巻出し軸２から所定の張力を付与
されつつ巻き出される前記ウェブ状シート９が、温調ド
ラム１０上で、前記成膜手段１１により前記ウェブ状シ
ート９の表面に膜を形成された後、所定の張力を伴いつ
つ、巻取り軸１にて巻き取られ、表面に薄膜が形成され
たウェブ状成膜シート１３を得ることができる仕組みに
なっている。
されつつ巻き出される前記ウェブ状シート９が、温調ド
ラム１０上で、前記成膜手段１１により前記ウェブ状シ
ート９の表面に膜を形成された後、所定の張力を伴いつ
つ、巻取り軸１にて巻き取られ、表面に薄膜が形成され
たウェブ状成膜シート１３を得ることができる仕組みに
なっている。
【０００４】しかしながら、上記の図７にもとづいて説
明したような、従来の巻取り式真空成膜装置２０では、
以下のような問題を生じている。即ち、金属や合成樹脂
等の物質は、真空中においては脱ガスを発生するという
性質があり、特に合成樹脂フィルム等のウェブ状シート
からの脱ガスは非常に大きい値となる。そのため温調ロ
ールとウェブ状シートの間に脱ガスが溜まってしまい、
ウェブ状シートと温調ロールの密着性が損なわれ、ウェ
ブ状シート表面が均一な温度分布が得られないという問
題がある。
明したような、従来の巻取り式真空成膜装置２０では、
以下のような問題を生じている。即ち、金属や合成樹脂
等の物質は、真空中においては脱ガスを発生するという
性質があり、特に合成樹脂フィルム等のウェブ状シート
からの脱ガスは非常に大きい値となる。そのため温調ロ
ールとウェブ状シートの間に脱ガスが溜まってしまい、
ウェブ状シートと温調ロールの密着性が損なわれ、ウェ
ブ状シート表面が均一な温度分布が得られないという問
題がある。
【０００５】更に成膜時の温度変化等によりウェブ状シ
ートが幅方向で伸びたり、縮んだりするため薄膜が損傷
するなどの問題もある。
ートが幅方向で伸びたり、縮んだりするため薄膜が損傷
するなどの問題もある。
【０００６】脱ガス量は温度のみならず、ウェブ状シー
トの含水率に大きく依存するため一定ではなく、成膜室
の圧力が変動するといった問題があり、更に脱ガスの成
分としては水分がほとんどであるが、この水分により成
膜プロセスの条件が安定しない、若しくは反応の弊害に
なるという問題もある。
トの含水率に大きく依存するため一定ではなく、成膜室
の圧力が変動するといった問題があり、更に脱ガスの成
分としては水分がほとんどであるが、この水分により成
膜プロセスの条件が安定しない、若しくは反応の弊害に
なるという問題もある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の問題点を解決するものであり、その課題とするとこ
ろは、化学蒸着法（ＣＶＤ）等により、合成樹脂フィル
ム等のウェブ状シート表面に薄膜を形成する巻取り式真
空成膜装置において、脱ガスが発生した場合でもウェブ
状シートの温度分布を均一にすることであり、またウェ
ブ状シートの伸縮を抑え、かつ反応の阻害要因である水
分の影響を抑えることである。
術の問題点を解決するものであり、その課題とするとこ
ろは、化学蒸着法（ＣＶＤ）等により、合成樹脂フィル
ム等のウェブ状シート表面に薄膜を形成する巻取り式真
空成膜装置において、脱ガスが発生した場合でもウェブ
状シートの温度分布を均一にすることであり、またウェ
ブ状シートの伸縮を抑え、かつ反応の阻害要因である水
分の影響を抑えることである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記のような
課題を解決するためになされたもので、請求項１に係る
発明は、ウェブ状シート９の巻出し・巻取り室２２と成
膜する成膜室２３と、巻出し・巻取り室２２と成膜室２
３とを隔てる隔壁２１と、隔壁２１を跨いで巻出し・巻
取り室２２と成膜室２３の両室に周面が配置されて、ウ
ェブ状シート９と密着し、ウェブ状シート９の加熱・冷
却をする温調ロール１０とを備え、該ロール１０の表面
に溝部１０ａを有しており、且つ溝部１０ａが規則的に
配置されていることを特徴とする巻取り式真空成膜装置
２０である。
課題を解決するためになされたもので、請求項１に係る
発明は、ウェブ状シート９の巻出し・巻取り室２２と成
膜する成膜室２３と、巻出し・巻取り室２２と成膜室２
３とを隔てる隔壁２１と、隔壁２１を跨いで巻出し・巻
取り室２２と成膜室２３の両室に周面が配置されて、ウ
ェブ状シート９と密着し、ウェブ状シート９の加熱・冷
却をする温調ロール１０とを備え、該ロール１０の表面
に溝部１０ａを有しており、且つ溝部１０ａが規則的に
配置されていることを特徴とする巻取り式真空成膜装置
２０である。
【０００９】本発明の請求項２に係る発明は、請求項１
記載の巻取り式真空成膜装置２０において、前記溝部１
０ａが等間隔に配置された溝であることを特徴とする巻
取り式真空成膜装置２０である。
記載の巻取り式真空成膜装置２０において、前記溝部１
０ａが等間隔に配置された溝であることを特徴とする巻
取り式真空成膜装置２０である。
【００１０】本発明の請求項３に係る発明は、請求項１
記載の巻取り式真空成膜装置２０において、前記溝部１
０ａが等間隔の螺旋状の溝であることを特徴とする巻取
り式真空成膜装置２０である。
記載の巻取り式真空成膜装置２０において、前記溝部１
０ａが等間隔の螺旋状の溝であることを特徴とする巻取
り式真空成膜装置２０である。
【００１１】本発明の請求項４に係る発明は、請求項３
記載の巻取り式真空成膜装置２０において、前記螺旋状
の溝が右回りと左回りで交差していることを特徴とする
巻取り式真空成膜装置２０である。
記載の巻取り式真空成膜装置２０において、前記螺旋状
の溝が右回りと左回りで交差していることを特徴とする
巻取り式真空成膜装置２０である。
【００１２】本発明の請求項５に係る発明は、請求項３
記載の巻取り式真空成膜装置２０ににおいて、前記螺旋
状の溝がロール長手方向の中央部を境界として対称的に
配置されていることを特徴とする巻取り式真空成膜装置
２０である。
記載の巻取り式真空成膜装置２０ににおいて、前記螺旋
状の溝がロール長手方向の中央部を境界として対称的に
配置されていることを特徴とする巻取り式真空成膜装置
２０である。
【００１３】本発明の請求項６に係る発明は、請求項１
乃至５のいずれか１項記載の巻取り式真空成膜装置２０
において、前記溝部１０ａのロール１０表面付近のエッ
ジが角丸形状であることを特徴とする巻取り式真空成膜
装置２０である。
乃至５のいずれか１項記載の巻取り式真空成膜装置２０
において、前記溝部１０ａのロール１０表面付近のエッ
ジが角丸形状であることを特徴とする巻取り式真空成膜
装置２０である。
【００１４】本発明の請求項７に係る発明は、請求項１
乃至６のいずれか１項記載の巻取り式真空成膜装置２０
において、前記ロール１０周面に密着したウェブ状シー
ト９との間に前記溝部１０ａに沿ってガスを流すことが
可能な機構１９を持つことを特徴とする巻取り式真空成
膜装置２０である。
乃至６のいずれか１項記載の巻取り式真空成膜装置２０
において、前記ロール１０周面に密着したウェブ状シー
ト９との間に前記溝部１０ａに沿ってガスを流すことが
可能な機構１９を持つことを特徴とする巻取り式真空成
膜装置２０である。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明を図１から図６に示す実施
の形態にもとづいて詳細に説明する。
の形態にもとづいて詳細に説明する。
【００１６】図１に示すように温調ロール１０に等間隔
の溝部１０ａを温調ロール１０の長手幅方向に対してつ
けることで、脱ガスの排気用通路が形成され、真空成膜
装置２０内が常に１０Ｔｏｒｒから１０-2 Ｔｏｒｒの
真空度に排気されているのでウェブ状シート９と温調ロ
ール１０間の脱ガスも排気することが可能となり、前記
ウェブ状シート９と温調ロール１０の密着性が向上し、
前記ウェブ状シート９の温度分布を均一化することがで
きる。この溝部１０ａの幅、深さ及び間隔は前記ウェブ
状シート９の熱伝導率とプロセス条件により適宜決定す
る。
の溝部１０ａを温調ロール１０の長手幅方向に対してつ
けることで、脱ガスの排気用通路が形成され、真空成膜
装置２０内が常に１０Ｔｏｒｒから１０-2 Ｔｏｒｒの
真空度に排気されているのでウェブ状シート９と温調ロ
ール１０間の脱ガスも排気することが可能となり、前記
ウェブ状シート９と温調ロール１０の密着性が向上し、
前記ウェブ状シート９の温度分布を均一化することがで
きる。この溝部１０ａの幅、深さ及び間隔は前記ウェブ
状シート９の熱伝導率とプロセス条件により適宜決定す
る。
【００１７】また、図２に示すように溝部１０ａを螺旋
状に配置した場合、前記ウェブ状シート９の幅方向での
温度分布の均一化を向上させることが可能となる。
状に配置した場合、前記ウェブ状シート９の幅方向での
温度分布の均一化を向上させることが可能となる。
【００１８】更に、図３に示すように螺旋状の溝形状を
左回り、右回りを重ね合わせることで排気効率を向上さ
せ、前記ウェブ状シート９と温調ロール１０の密着性を
更に向上させることで温度分布の均一性をより一層向上
させることが出来る。
左回り、右回りを重ね合わせることで排気効率を向上さ
せ、前記ウェブ状シート９と温調ロール１０の密着性を
更に向上させることで温度分布の均一性をより一層向上
させることが出来る。
【００１９】次に、図４、図５に示すように温調ロール
１０周面の螺旋状の溝部１０ａがロール１０長手方向の
中央部を境界として左右対称的に配置することで前記ウ
ェブ状シート９に幅方向の伸縮の力を加えることが可能
となり、成膜時の前記ウェブ状シート９の伸縮変化を抑
えることが可能となる。
１０周面の螺旋状の溝部１０ａがロール１０長手方向の
中央部を境界として左右対称的に配置することで前記ウ
ェブ状シート９に幅方向の伸縮の力を加えることが可能
となり、成膜時の前記ウェブ状シート９の伸縮変化を抑
えることが可能となる。
【００２０】更に、図６に示すように、ガス導入機構１
９により、前記溝部１０ａに沿って前記温調ロール１０
周面に密着した前記ウェブ状シート９との間にアルゴン
等の希ガス１０ｂを幅方向に均一に分布するように流す
ことで排ガスの主な成分である水分の分圧を下げること
ができ成膜プロセスを安定化できる。
９により、前記溝部１０ａに沿って前記温調ロール１０
周面に密着した前記ウェブ状シート９との間にアルゴン
等の希ガス１０ｂを幅方向に均一に分布するように流す
ことで排ガスの主な成分である水分の分圧を下げること
ができ成膜プロセスを安定化できる。
【００２１】
【発明の効果】本発明により、巻取り式真空成膜装置に
おいて、温調ロール表面の溝部から効率よく脱ガスを排
気することで温調ロールと合成樹脂フィルム等のウェブ
状シートの密着性を上げ、前記ウェブ状シートの温度分
布を均一にすることが可能となり、螺旋状の溝形状を左
右対称にすることで前記ウェブ状シートの伸縮を抑える
ことができ、更に前記の溝部にアルゴン等の反応に寄与
しない希ガスを流すことで圧力を一定とし、加えて脱ガ
ス等に起因する水の分圧を下げ反応の阻害要因を排し、
均一で高品質な薄膜を提供することができる。
おいて、温調ロール表面の溝部から効率よく脱ガスを排
気することで温調ロールと合成樹脂フィルム等のウェブ
状シートの密着性を上げ、前記ウェブ状シートの温度分
布を均一にすることが可能となり、螺旋状の溝形状を左
右対称にすることで前記ウェブ状シートの伸縮を抑える
ことができ、更に前記の溝部にアルゴン等の反応に寄与
しない希ガスを流すことで圧力を一定とし、加えて脱ガ
ス等に起因する水の分圧を下げ反応の阻害要因を排し、
均一で高品質な薄膜を提供することができる。
【図１】本発明に係る巻取式真空成膜装置において、等
間隔の溝付温調ロールの部分拡大図である。
間隔の溝付温調ロールの部分拡大図である。
【図２】本発明に係る巻取式真空成膜装置において、螺
旋状の溝付温調ロールの一事例を示す部分拡大図であ
る。
旋状の溝付温調ロールの一事例を示す部分拡大図であ
る。
【図３】本発明に係る巻取式真空成膜装置において、螺
旋状の溝付温調ロールの溝を左回りと右回りを交差させ
たときの一事例を示す部分拡大図である。
旋状の溝付温調ロールの溝を左回りと右回りを交差させ
たときの一事例を示す部分拡大図である。
【図４】本発明に係る巻取式真空成膜装置において、温
調ロールの表面に螺旋状の溝があり、その溝がロールの
長手方向の中央部を境界として対称的に等間隔に配置さ
れているときの前記ウェブ状シートが縮む場合に設置す
る一事例を示す部分拡大図である。
調ロールの表面に螺旋状の溝があり、その溝がロールの
長手方向の中央部を境界として対称的に等間隔に配置さ
れているときの前記ウェブ状シートが縮む場合に設置す
る一事例を示す部分拡大図である。
【図５】本発明に係る巻取式真空成膜装置において、温
調ロールの表面に螺旋状の溝があり、その溝がロールの
長手方向の中央部を境界として対称的に等間隔に配置さ
れているときの前記ウェブ状シートが伸びる場合に設置
する一事例を示す部分拡大図である。
調ロールの表面に螺旋状の溝があり、その溝がロールの
長手方向の中央部を境界として対称的に等間隔に配置さ
れているときの前記ウェブ状シートが伸びる場合に設置
する一事例を示す部分拡大図である。
【図６】本発明に係る巻取式真空成膜装置において、前
記ロール周面に密着したウェブ状シートとの間に前記溝
部に沿ってガスを流すことが可能なガス導入機構を配置
した場合の部分拡大図である。
記ロール周面に密着したウェブ状シートとの間に前記溝
部に沿ってガスを流すことが可能なガス導入機構を配置
した場合の部分拡大図である。
【図７】従来技術における巻取り式真空成膜装置の全体
図を示す概略説明図である。
図を示す概略説明図である。
１・・・巻取り軸
２・・・巻出し軸
３、４・・・アイドルロール
５、６・・・張力検出器
７、８・・・テンションロール
９・・・合成樹脂フィルム等のウェブ状シート
１０・・・温調ロール １０ａ…溝部 １０ｂ…アルゴン
等の希ガス １１・・・成膜手段（電極、等） １２・・・合成樹脂フィルム等のウェブ状シート原反 １３・・・合成樹脂フィルム等のウェブ状成膜済みシート １４、１５・・・ニップロール １６・・・ダンサロール １７、１８・・・ガス噴出管 １９…ガス導入機構 ２０…真空成膜装置 ２１…隔壁 ２２…巻出し・巻取り室 ２３…成膜室
等の希ガス １１・・・成膜手段（電極、等） １２・・・合成樹脂フィルム等のウェブ状シート原反 １３・・・合成樹脂フィルム等のウェブ状成膜済みシート １４、１５・・・ニップロール １６・・・ダンサロール １７、１８・・・ガス噴出管 １９…ガス導入機構 ２０…真空成膜装置 ２１…隔壁 ２２…巻出し・巻取り室 ２３…成膜室
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 武田 晃
東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印
刷株式会社内
(72)発明者 宇山 晴夫
東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印
刷株式会社内
Ｆターム(参考） 4K030 CA07 CA12 EA06 GA14 KA23
KA26
Claims (7)
- 【請求項１】ウェブ状シートの巻出し・巻取り室と成膜
する成膜室と、巻出し・巻取り室と成膜室とを隔てる隔
壁と、隔壁を跨いで巻出し・巻取り室と成膜室の両室に
周面が配置されて、ウェブ状シートと密着し、ウェブ状
シートの加熱・冷却をする温調ロールとを備え、該ロー
ルの表面に溝部を有しており、且つ溝部が規則的に配置
されていることを特徴とする巻取り式真空成膜装置。 - 【請求項２】請求項１記載の巻取り式真空成膜装置にお
いて、前記溝部が等間隔に配置された溝であることを特
徴とする巻取り式真空成膜装置。 - 【請求項３】請求項１記載の巻取り式真空成膜装置にお
いて、前記溝部が等間隔の螺旋状の溝であることを特徴
とする巻取り式真空成膜装置。 - 【請求項４】請求項３記載の巻取り式真空成膜装置にお
いて、前記螺旋状の溝が右回りと左回りで交差している
ことを特徴とする巻取り式真空成膜装置。 - 【請求項５】請求項３記載の巻取り式真空成膜装置にお
いて、前記螺旋状の溝がロール長手方向の中央部を境界
として対称的に配置されていることを特徴とする巻取り
式真空成膜装置。 - 【請求項６】請求項１乃至５のいずれか１項記載の巻取
り式真空成膜装置において、前記溝部のロール表面付近
のエッジが角丸形状であることを特徴とする巻取り式真
空成膜装置。 - 【請求項７】請求項１乃至６のいずれか１項記載の巻取
り式真空成膜装置において、前記ロール周面に密着した
ウェブ状シートとの間に前記溝部に沿ってガスを流すこ
とが可能な機構を持つことを特徴とする巻取り式真空成
膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002125768A JP4265147B2 (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | 巻取り式真空成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002125768A JP4265147B2 (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | 巻取り式真空成膜装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003321775A true JP2003321775A (ja) | 2003-11-14 |
| JP4265147B2 JP4265147B2 (ja) | 2009-05-20 |
Family
ID=29540395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002125768A Expired - Fee Related JP4265147B2 (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | 巻取り式真空成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4265147B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102014109872A1 (de) * | 2014-07-15 | 2016-01-21 | Von Ardenne Gmbh | Transporteinrichtung für den Transport eines bandförmigen Substrates, Vakuumkammer sowie Substratbehandlungsanlage |
| JP2016069693A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 住友金属鉱山株式会社 | 長尺フィルムの搬送および冷却用ロール、ならびに該ロールを搭載した長尺フィルムの処理装置 |
| JP2016117938A (ja) * | 2014-12-23 | 2016-06-30 | 住友金属鉱山株式会社 | 長尺フィルムの搬送および冷却用ロール、ならびに該ロールを搭載した長尺フィルムの処理装置 |
-
2002
- 2002-04-26 JP JP2002125768A patent/JP4265147B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102014109872A1 (de) * | 2014-07-15 | 2016-01-21 | Von Ardenne Gmbh | Transporteinrichtung für den Transport eines bandförmigen Substrates, Vakuumkammer sowie Substratbehandlungsanlage |
| JP2016069693A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 住友金属鉱山株式会社 | 長尺フィルムの搬送および冷却用ロール、ならびに該ロールを搭載した長尺フィルムの処理装置 |
| JP2016117938A (ja) * | 2014-12-23 | 2016-06-30 | 住友金属鉱山株式会社 | 長尺フィルムの搬送および冷却用ロール、ならびに該ロールを搭載した長尺フィルムの処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4265147B2 (ja) | 2009-05-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7526878B2 (en) | Method and apparatus for drying coating film and method for producing optical film | |
| TW201820948A (zh) | 卷對卷方式之表面處理裝置及使用其之成膜方法及成膜裝置 | |
| US20030084991A1 (en) | Apparatus for sealing and creating a thermal perforation | |
| US8999062B2 (en) | Film depositing apparatus | |
| JP3795518B2 (ja) | 巻取式真空蒸着装置及び巻取式真空蒸着方法 | |
| JP2017502172A (ja) | 真空処理装置用の基板スプレッディングデバイス、基板スプレッディングデバイスを有する真空処理装置、及びそれを動作させる方法 | |
| JPH0251982B2 (ja) | ||
| JP2003321775A (ja) | 巻取り式真空成膜装置 | |
| US3124476A (en) | Method of coating an oriented | |
| EP3743539A1 (en) | Evaporator for evaporating a source material, material deposition source, deposition apparatus and methods therefor | |
| JP3871735B2 (ja) | 金属箔基材への膜形成装置 | |
| JPH0688236A (ja) | シートを真空コーティングするための装置 | |
| US20090217874A1 (en) | Film depositing apparatus | |
| JP4956876B2 (ja) | 真空成膜装置及びそれを用いた成膜方法 | |
| JP5014243B2 (ja) | 機能性フィルム製造方法および機能性フィルム製造装置 | |
| JP2023538027A (ja) | 少なくとも１つの加熱アセンブリを有する材料堆積装置並びに基板を予加熱及び／又は後加熱するための方法 | |
| JP4074672B2 (ja) | スパッタリング方法 | |
| JP4114345B2 (ja) | 真空成膜装置 | |
| JP4568994B2 (ja) | ロールコーター式連続スパッタリング装置 | |
| KR20180083926A (ko) | 진공 프로세싱 챔버 내에서 가요성 기판을 지지하기 위한 장치, 가요성 기판 상의 층 증착을 위해 구성된 프로세싱 장치, 및 코팅 드럼 상에 가요성 기판을 지지하기 위한 방법 | |
| JP5320934B2 (ja) | 真空成膜装置 | |
| JP2009275251A (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
| JP2009179446A (ja) | 巻取装置および巻取部材の作製方法 | |
| JP4604331B2 (ja) | 薄膜付き基材の製造方法 | |
| EP3655719A1 (en) | Heat treatment apparatus for a vacuum chamber, deposition apparatus for depositing material on a flexible substrate, method of heat treatment of a flexible substrate in a vacuum chamber, and method for processing a flexible substrate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050314 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071026 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071030 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071212 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080715 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080912 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090127 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090209 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120227 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130227 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140227 Year of fee payment: 5 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |