JP2003321478A - 不飽和カルボン酸シリルエステルの蒸留方法 - Google Patents
不飽和カルボン酸シリルエステルの蒸留方法Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】不飽和カルボン酸シリルエステルの新しい蒸留
方法の提供。 【解決手段】一般式(１) ［Ｒ１；水素原子、アルキル基または−（ＣＨ２）ｎＣ
ＯＯＲ７基（Ｒ７；水素原子、アルキル基またはシクロ
アルキル基、ｎ；１〜６の整数）Ｒ２およびＲ３；それ
ぞれ水素原子、メチル基あるいは−ＣＯＯＲ８基
（Ｒ８；水素原子、アルキル基またはシクロアルキル
基）Ｒ２およびＲ３の少なくとも一方は水素原子。ただ
し、Ｒ１がアルキル基または−（ＣＨ２）ｎＣＯＯＲ７
基のときは、Ｒ２およびＲ３はいずれも水素原子。
Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、互いに同一であるかあるいは
異なってもよく、アルキル基またはシクロアルキル基を
示す。］で表される不飽和カルボン酸シリルエステル
に、重合禁止剤としてニトロソ化合物を単独に添加する
か、あるいはニトロソ化合物とヒンダードフェノール化
合物とを併用して添加し、蒸留することを特徴とする。
方法の提供。 【解決手段】一般式(１) ［Ｒ１；水素原子、アルキル基または−（ＣＨ２）ｎＣ
ＯＯＲ７基（Ｒ７；水素原子、アルキル基またはシクロ
アルキル基、ｎ；１〜６の整数）Ｒ２およびＲ３；それ
ぞれ水素原子、メチル基あるいは−ＣＯＯＲ８基
（Ｒ８；水素原子、アルキル基またはシクロアルキル
基）Ｒ２およびＲ３の少なくとも一方は水素原子。ただ
し、Ｒ１がアルキル基または−（ＣＨ２）ｎＣＯＯＲ７
基のときは、Ｒ２およびＲ３はいずれも水素原子。
Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、互いに同一であるかあるいは
異なってもよく、アルキル基またはシクロアルキル基を
示す。］で表される不飽和カルボン酸シリルエステル
に、重合禁止剤としてニトロソ化合物を単独に添加する
か、あるいはニトロソ化合物とヒンダードフェノール化
合物とを併用して添加し、蒸留することを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、水中防汚塗料、機
能性高分子材料などの原料モノマーとして幅広く使用さ
れている、側鎖にシリル基を有するところの不飽和カル
ボン酸シリルエステルを、その合成後に精製の目的で蒸
留する方法に関するものである。
能性高分子材料などの原料モノマーとして幅広く使用さ
れている、側鎖にシリル基を有するところの不飽和カル
ボン酸シリルエステルを、その合成後に精製の目的で蒸
留する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】不飽和カルボン酸シリルエステルは、一
般に光や熱を受けることにより容易に重合することが知
られている。この種の重合しやすい化合物を蒸留する場
合には、通常、重合禁止剤としてハイドロキノンやｐ−
メトキシフェノールなどが使用されている。また、不飽
和カルボン酸シリルエステルの重合禁止剤として、２，
６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（特開平１０−１
９５０８４号公報）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−メチルフェノール(特開平３−５６４９３号公報)の
使用が提案されている。
般に光や熱を受けることにより容易に重合することが知
られている。この種の重合しやすい化合物を蒸留する場
合には、通常、重合禁止剤としてハイドロキノンやｐ−
メトキシフェノールなどが使用されている。また、不飽
和カルボン酸シリルエステルの重合禁止剤として、２，
６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（特開平１０−１
９５０８４号公報）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−メチルフェノール(特開平３−５６４９３号公報)の
使用が提案されている。
【０００３】しかしながら、前記の従来方法に使用され
る重合禁止剤には次のような問題点がある。すなわち、
高温下、長時間の蒸留工程では十分な重合抑制効果を
示さず、蒸留後の製品の収率が低下する。目的物より
も重合禁止剤の沸点が低い場合、目的物が蒸留缶内に残
っているのに、蒸留缶内から重合禁止剤が消失してしま
ったり、また目的物と重合禁止剤の沸点が同程度の場合
には、重合禁止剤が目的物とともに留出してしまう。こ
のため、製品へ重合禁止剤の不必要な混入による製品の
着色が生じたり、蒸留缶内の重合禁止剤が消失すること
で重合が起こりやすくなる。目的物よりも重合禁止剤
の沸点が高い場合には、蒸留塔内は重合禁止剤不在とな
り、蒸留塔内で目的物の重合が起こり、蒸留塔内や配管
を閉塞させる、などが挙げられる。
る重合禁止剤には次のような問題点がある。すなわち、
高温下、長時間の蒸留工程では十分な重合抑制効果を
示さず、蒸留後の製品の収率が低下する。目的物より
も重合禁止剤の沸点が低い場合、目的物が蒸留缶内に残
っているのに、蒸留缶内から重合禁止剤が消失してしま
ったり、また目的物と重合禁止剤の沸点が同程度の場合
には、重合禁止剤が目的物とともに留出してしまう。こ
のため、製品へ重合禁止剤の不必要な混入による製品の
着色が生じたり、蒸留缶内の重合禁止剤が消失すること
で重合が起こりやすくなる。目的物よりも重合禁止剤
の沸点が高い場合には、蒸留塔内は重合禁止剤不在とな
り、蒸留塔内で目的物の重合が起こり、蒸留塔内や配管
を閉塞させる、などが挙げられる。
【０００４】また、重合性ケイ素化合物の蒸留工程にお
いて、重合禁止剤を蒸留原液に添加するとともに、蒸留
塔の塔頂からも重合禁止剤を含む液を供給しながら行う
方法が、特開平９−２８６７９０号公報に開示されてい
る。
いて、重合禁止剤を蒸留原液に添加するとともに、蒸留
塔の塔頂からも重合禁止剤を含む液を供給しながら行う
方法が、特開平９−２８６７９０号公報に開示されてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
の方法の欠点を克服できる不飽和カルボン酸シリルエス
テルの新しい蒸留方法を提供することにある。つまり、
従来の方法で起きたポリマー状物質の形成がほとんどな
く、また長時間に及ぶ蒸留操作によっても、高い製品回
収率で不飽和カルボン酸シリルエステルを蒸留により精
製しうる新規な蒸留方法を提供することにある。
の方法の欠点を克服できる不飽和カルボン酸シリルエス
テルの新しい蒸留方法を提供することにある。つまり、
従来の方法で起きたポリマー状物質の形成がほとんどな
く、また長時間に及ぶ蒸留操作によっても、高い製品回
収率で不飽和カルボン酸シリルエステルを蒸留により精
製しうる新規な蒸留方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するため鋭意研究を行い、検討した。その結果、下
記の一般式（１）で表される不飽和カルボン酸シリルエ
ステルを合成した後の蒸留工程において、重合禁止剤と
して、ニトロソ化合物を単独で、あるいはニトロソ化合
物とヒンダードフェノール化合物を併用して添加し、そ
の存在下で蒸留することにより、重合を起こすことなく
不飽和カルボン酸シリルエステルが高収率で得られるこ
とを見出した。また、重合禁止剤を蒸留原液に添加する
とともに、蒸留塔の塔頂部の還流回路からも重合禁止剤
を含む液を供給しながら蒸留することで、より効果的に
重合を抑制できることも見出した。この知見に基づいて
本発明を完成するに至った。したがって、本発明は以下
のように要約される。
解決するため鋭意研究を行い、検討した。その結果、下
記の一般式（１）で表される不飽和カルボン酸シリルエ
ステルを合成した後の蒸留工程において、重合禁止剤と
して、ニトロソ化合物を単独で、あるいはニトロソ化合
物とヒンダードフェノール化合物を併用して添加し、そ
の存在下で蒸留することにより、重合を起こすことなく
不飽和カルボン酸シリルエステルが高収率で得られるこ
とを見出した。また、重合禁止剤を蒸留原液に添加する
とともに、蒸留塔の塔頂部の還流回路からも重合禁止剤
を含む液を供給しながら蒸留することで、より効果的に
重合を抑制できることも見出した。この知見に基づいて
本発明を完成するに至った。したがって、本発明は以下
のように要約される。
【０００７】一般式(１)
【化２】
［式中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基または−（ＣＨ
２）ｎＣＯＯＲ７基（ここで、Ｒ７は、水素原子、アル
キル基またはシクロアルキル基を示し、ｎは、１〜６の
整数を示す。）を示し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ水
素原子、メチル基あるいは−ＣＯＯＲ８基（ここで、Ｒ
８は、水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基を
示す。）を示し、Ｒ２およびＲ３の少なくとも一方は水
素原子である。ただし、Ｒ１がアルキル基または−（Ｃ
Ｈ２）ｎＣＯＯＲ７基のときは、Ｒ ２およびＲ３はいず
れも水素原子である。Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、互いに
同一であるかあるいは異なってもよく、アルキル基また
はシクロアルキル基を示す。］で表される不飽和カルボ
ン酸シリルエステルに、重合禁止剤としてニトロソ化合
物を単独に添加するか、あるいはニトロソ化合物とヒン
ダードフェノール化合物とを併用して添加し、添加され
た該化合物の存在下に蒸留することを特徴とする、一般
式（１）で表される不飽和カルボン酸シリルエステルの
蒸留方法。
２）ｎＣＯＯＲ７基（ここで、Ｒ７は、水素原子、アル
キル基またはシクロアルキル基を示し、ｎは、１〜６の
整数を示す。）を示し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ水
素原子、メチル基あるいは−ＣＯＯＲ８基（ここで、Ｒ
８は、水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基を
示す。）を示し、Ｒ２およびＲ３の少なくとも一方は水
素原子である。ただし、Ｒ１がアルキル基または−（Ｃ
Ｈ２）ｎＣＯＯＲ７基のときは、Ｒ ２およびＲ３はいず
れも水素原子である。Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、互いに
同一であるかあるいは異なってもよく、アルキル基また
はシクロアルキル基を示す。］で表される不飽和カルボ
ン酸シリルエステルに、重合禁止剤としてニトロソ化合
物を単独に添加するか、あるいはニトロソ化合物とヒン
ダードフェノール化合物とを併用して添加し、添加され
た該化合物の存在下に蒸留することを特徴とする、一般
式（１）で表される不飽和カルボン酸シリルエステルの
蒸留方法。
【０００８】不飽和カルボン酸シリルエステルに、重
合禁止剤としてニトロソ化合物とヒンダードフェノール
化合物とを併用して添加し、添加された該化合物の存在
下に蒸留することを特徴とする、上記に記載の蒸留方
法。
合禁止剤としてニトロソ化合物とヒンダードフェノール
化合物とを併用して添加し、添加された該化合物の存在
下に蒸留することを特徴とする、上記に記載の蒸留方
法。
【０００９】重合禁止剤を不飽和カルボン酸シリルエ
ステルの蒸留原液に添加し蒸留するか、あるいは重合禁
止剤を不飽和カルボン酸シリルエステルの蒸留原液に添
加し、さらに精留塔の塔頂部の還流回路からも添加しな
がら蒸留することを特徴とする、上記、に記載の蒸
留方法。
ステルの蒸留原液に添加し蒸留するか、あるいは重合禁
止剤を不飽和カルボン酸シリルエステルの蒸留原液に添
加し、さらに精留塔の塔頂部の還流回路からも添加しな
がら蒸留することを特徴とする、上記、に記載の蒸
留方法。
【００１０】重合禁止剤を不飽和カルボン酸シリルエ
ステルの蒸留原液に添加し、さらに精留塔の塔頂部の還
流回路からも添加しながら蒸留することを特徴とする、
上記〜に記載の蒸留方法。
ステルの蒸留原液に添加し、さらに精留塔の塔頂部の還
流回路からも添加しながら蒸留することを特徴とする、
上記〜に記載の蒸留方法。
【００１１】一般式（１）で表される不飽和カルボン
酸シリルエステルが、トリイソプロピルシリル（メタ）
アクリレートあるいはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
（メタ）アクリレートであることを特徴とする、上記
〜に記載の蒸留方法。
酸シリルエステルが、トリイソプロピルシリル（メタ）
アクリレートあるいはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
（メタ）アクリレートであることを特徴とする、上記
〜に記載の蒸留方法。
【００１２】ニトロソ化合物が、Ｎ−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩であることを特徴
とする、上記〜に記載の蒸留方法。
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩であることを特徴
とする、上記〜に記載の蒸留方法。
【００１３】ヒンダードフェノール化合物が、２，６
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールである
ことを特徴とする、上記〜に記載の蒸留方法。
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールである
ことを特徴とする、上記〜に記載の蒸留方法。
【００１４】上記した一般式（１）において、Ｒ１がア
ルキル基である場合、Ｒ１で示されるアルキル基として
は、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ
ｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル
基、ｎ−オクチル基などが挙げられる。
ルキル基である場合、Ｒ１で示されるアルキル基として
は、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ
ｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル
基、ｎ−オクチル基などが挙げられる。
【００１５】一般式（１）において、Ｒ1が−（Ｃ
Ｈ２）ｎＣＯＯＲ７である場合、Ｒ７で示されるアルキ
ル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチ
ル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘ
キシル基、ｎ−オクチル基などが挙げられる。また、Ｒ
７で示されるシクロアルキル基としては、具体的にはシ
クロプロピル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
Ｈ２）ｎＣＯＯＲ７である場合、Ｒ７で示されるアルキ
ル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチ
ル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘ
キシル基、ｎ−オクチル基などが挙げられる。また、Ｒ
７で示されるシクロアルキル基としては、具体的にはシ
クロプロピル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
【００１６】一般式（１）において、Ｒ２またはＲ３が
−ＣＯＯＲ８である場合、Ｒ８で示されるアルキル基と
しては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、
ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル
基、ｎ−オクチル基などが挙げられる。また、シクロア
ルキル基としては、具体的には、シクロプロピル基、シ
クロヘキシル基などが挙げられる。
−ＣＯＯＲ８である場合、Ｒ８で示されるアルキル基と
しては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、
ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル
基、ｎ−オクチル基などが挙げられる。また、シクロア
ルキル基としては、具体的には、シクロプロピル基、シ
クロヘキシル基などが挙げられる。
【００１７】一般式（１）において、Ｒ４、Ｒ５および
Ｒ６で示されるアルキル基としては、具体的には、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基などが
挙げられる。また、シクロアルキル基としては、具体的
には、シクロプロピル基、シクロヘキシル基などが挙げ
られる。
Ｒ６で示されるアルキル基としては、具体的には、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基などが
挙げられる。また、シクロアルキル基としては、具体的
には、シクロプロピル基、シクロヘキシル基などが挙げ
られる。
【００１８】本発明で使用される重合禁止剤としては、
ニトロソ化合物の単独使用でもよいが、ニトロソ化合物
とヒンダードフェノール化合物との併用が特に好まし
い。
ニトロソ化合物の単独使用でもよいが、ニトロソ化合物
とヒンダードフェノール化合物との併用が特に好まし
い。
【００１９】これらのうちのニトロソ化合物としては、
具体的には、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン
アンモニウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルア
ミンナトリウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシル
アミンカリウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシル
アミンアルミニウム塩、２−メチル−４−ニトロソフェ
ノール、ニトロソトルエン、ニトロソベンゼン、ｐ−ニ
トロソフェノール、ニトロソレゾルシノール、１−ニト
ロソ−２−ナフトール、２−ニトロソー１−ナフトー
ル、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ
−メチルアニリン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルアニリ
ンなどが挙げられる。
具体的には、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン
アンモニウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルア
ミンナトリウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシル
アミンカリウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシル
アミンアルミニウム塩、２−メチル−４−ニトロソフェ
ノール、ニトロソトルエン、ニトロソベンゼン、ｐ−ニ
トロソフェノール、ニトロソレゾルシノール、１−ニト
ロソ−２−ナフトール、２−ニトロソー１−ナフトー
ル、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ
−メチルアニリン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルアニリ
ンなどが挙げられる。
【００２０】また、上記のニトロソ化合物と併用される
ヒンダードフェノール化合物としては、具体的には、
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェ
ノールなどが挙げられる。
ヒンダードフェノール化合物としては、具体的には、
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェ
ノールなどが挙げられる。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明は次のように実施される。
すなわち、蒸留しようとする一般式（１）で表される不
飽和カルボン酸シリルエステルを製造した後に、重合禁
止剤として上記したニトロソ化合物を単独で、またはニ
トロソ化合物とヒンダートフェノール化合物とを併用し
て添加する。こうした後に蒸留操作を行えばよい。ま
た、重合禁止剤は蒸留原液に添加するのみで蒸留する
か、あるいは蒸留原液に添加するとともに精留塔の塔頂
部の還流回路からも添加して蒸留するかのいずれでもよ
いが、後者の方法がより好ましい。
すなわち、蒸留しようとする一般式（１）で表される不
飽和カルボン酸シリルエステルを製造した後に、重合禁
止剤として上記したニトロソ化合物を単独で、またはニ
トロソ化合物とヒンダートフェノール化合物とを併用し
て添加する。こうした後に蒸留操作を行えばよい。ま
た、重合禁止剤は蒸留原液に添加するのみで蒸留する
か、あるいは蒸留原液に添加するとともに精留塔の塔頂
部の還流回路からも添加して蒸留するかのいずれでもよ
いが、後者の方法がより好ましい。
【００２２】蒸留前に蒸留原液に加えるニトロソ化合物
の添加量、またはニトロソ化合物とヒンダードフェノー
ル化合物の合計添加量は、蒸留される一般式（１）で表
される不飽和カルボン酸シリルエステルに対し、１０〜
１００，０００ｐｐｍ（重量換算）、好ましくは１０〜
１，０００ｐｐｍ（重量換算）の範囲である。
の添加量、またはニトロソ化合物とヒンダードフェノー
ル化合物の合計添加量は、蒸留される一般式（１）で表
される不飽和カルボン酸シリルエステルに対し、１０〜
１００，０００ｐｐｍ（重量換算）、好ましくは１０〜
１，０００ｐｐｍ（重量換算）の範囲である。
【００２３】精留塔の塔頂部の還流回路に加えるニトロ
ソ化合物の添加量、またはニトロソ化合物とヒンダード
フェノール化合物の合計添加量は、蒸留される一般式
（１）で表される不飽和カルボン酸シリルエステルに対
し、１０〜１００，０００ｐｐｍ（重量換算）、好まし
くは１０〜１，０００ｐｐｍ（重量換算）の範囲であ
り、適当な溶媒に溶解させた溶液として供給される。こ
の溶液は不飽和カルボン酸シリルエステルの留出開始か
ら終了まで、精留塔の塔頂部の還流回路から少量ずつ断
続的または連続的に供給される。
ソ化合物の添加量、またはニトロソ化合物とヒンダード
フェノール化合物の合計添加量は、蒸留される一般式
（１）で表される不飽和カルボン酸シリルエステルに対
し、１０〜１００，０００ｐｐｍ（重量換算）、好まし
くは１０〜１，０００ｐｐｍ（重量換算）の範囲であ
り、適当な溶媒に溶解させた溶液として供給される。こ
の溶液は不飽和カルボン酸シリルエステルの留出開始か
ら終了まで、精留塔の塔頂部の還流回路から少量ずつ断
続的または連続的に供給される。
【００２４】上記の重合禁止剤を溶解させる溶媒として
は、目的物である不飽和カルボン酸シリルエステルその
ものか、あるいは目的物である不飽和カルボン酸シリル
エステルよりも沸点の高い有機溶媒が好ましい。
は、目的物である不飽和カルボン酸シリルエステルその
ものか、あるいは目的物である不飽和カルボン酸シリル
エステルよりも沸点の高い有機溶媒が好ましい。
【００２５】本発明で重合禁止剤を併用する場合、ニト
ロソ化合物とヒンダードフェノール化合物の混合比率
（重量換算）は特に限定されないが、好ましくは１：
０．１〜１０、特に好ましくは１：０．５〜２の範囲で
ある。
ロソ化合物とヒンダードフェノール化合物の混合比率
（重量換算）は特に限定されないが、好ましくは１：
０．１〜１０、特に好ましくは１：０．５〜２の範囲で
ある。
【００２６】本発明の蒸留は、０．００１〜１００ｍｍ
Ｈｇ、好ましくは０．００１〜２０ｍｍＨｇの減圧下で
行われ、蒸留温度は通常２０〜１８０℃、好ましくは４
０〜１６０℃の範囲である。
Ｈｇ、好ましくは０．００１〜２０ｍｍＨｇの減圧下で
行われ、蒸留温度は通常２０〜１８０℃、好ましくは４
０〜１６０℃の範囲である。
【００２７】
【実施例】以下に実施例に基づいて本発明をより詳細に
説明するが、これらの実施例により、本発明は何ら限定
されるものではない。
説明するが、これらの実施例により、本発明は何ら限定
されるものではない。
【００２８】実施例１
コンデンサー付き精留管を取り付けた１リットル容量の
四頚フラスコに、特開平４−３４２５９３号公報の方法
で合成したトリイソプロピルシリルアクリレート１ｋｇ
（ガスクロマトグラフィー分析による純度９８．０％）
に重合禁止剤としてＮ−ニトロソフェニルヒドロキシル
アミンアルミニウム塩０．５ｇ（５００ｐｐｍ相当）お
よび２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノ
ール０．５ｇ（５００ｐｐｍ相当）を添加してなる蒸留
原液を装入した。この蒸留原液を１２時間減圧蒸留し
て、沸点１０７〜１０９℃／１０ｍｍＨｇの留分を９２
５．８ｇ得た。この留分をガスクロマトグラフィーで分
析し、トリイソプロピルシリルアクリレート（純度９
９．５％）であることを確認した。フラスコ底部には約
７４ｇの高粘稠性の液状物質が蒸留されずに残留した。
蒸留で留出し、回収されたトリイソプロピルシリルアク
リレートの回収率（％）を次式により計算した。
四頚フラスコに、特開平４−３４２５９３号公報の方法
で合成したトリイソプロピルシリルアクリレート１ｋｇ
（ガスクロマトグラフィー分析による純度９８．０％）
に重合禁止剤としてＮ−ニトロソフェニルヒドロキシル
アミンアルミニウム塩０．５ｇ（５００ｐｐｍ相当）お
よび２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノ
ール０．５ｇ（５００ｐｐｍ相当）を添加してなる蒸留
原液を装入した。この蒸留原液を１２時間減圧蒸留し
て、沸点１０７〜１０９℃／１０ｍｍＨｇの留分を９２
５．８ｇ得た。この留分をガスクロマトグラフィーで分
析し、トリイソプロピルシリルアクリレート（純度９
９．５％）であることを確認した。フラスコ底部には約
７４ｇの高粘稠性の液状物質が蒸留されずに残留した。
蒸留で留出し、回収されたトリイソプロピルシリルアク
リレートの回収率（％）を次式により計算した。
【００２９】
【数１】
【００３０】得られた回収率（％）を後記の表１に示
す。
す。
【００３１】実施例２
実施例１で用いたトリイソプロピルシリルアクリレート
に代えてｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアクリレート
（純度９８．０％）を用いた以外は、実施例１と同様に
蒸留操作を行い、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアク
リレート留分９２３．８ｇ（沸点９２〜９６℃／１０ｍ
ｍＨｇ、純度９９．４％）を得た。回収率（％）を表１
に示す。
に代えてｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアクリレート
（純度９８．０％）を用いた以外は、実施例１と同様に
蒸留操作を行い、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアク
リレート留分９２３．８ｇ（沸点９２〜９６℃／１０ｍ
ｍＨｇ、純度９９．４％）を得た。回収率（％）を表１
に示す。
【００３２】実施例３
滴下ロートを塔頂に装着したコンデンサー付き精留管を
取り付けた１リットル容量の四頚フラスコに、特開平４
−３４２５９３号公報の方法で合成したトリイソプロピ
ルシリルアクリレート１ｋｇ（ガスクロマトグラフィー
分析による純度９８．０％）に重合禁止剤としてＮ−ニ
トロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩０．
５ｇ（５００ｐｐｍ相当）を添加してなる蒸留原液を装
入した。この蒸留原液を１２時間減圧蒸留した。またト
リイソプロピルシリルアクリレート５０ｇ（純度９８．
０％）に、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンア
ルミニウム塩０．５ｇ（５００ｐｐｍ相当）を添加して
なる液を、精留管塔頂に取り付けた滴下ロートから、ト
リイソプロピルシリルアクリレートの留出開始から終了
まで滴下した。この蒸留操作により、沸点１１０〜１１
２℃／１２ｍｍＨｇの留分を９５９．８ｇ得た。この留
分をガスクロマトグラフィーで分析し、トリイソプロピ
ルシリルアクリレート（純度９９．６％）であることを
確認した。フラスコ底部には約９０ｇの高粘稠性の液状
物質が蒸留されずに残留した。蒸留で留出し、回収され
たトリイソプロピルシリルアクリレートの回収率（％）
を実施例１と同様に計算した。その結果を表１に示す。
取り付けた１リットル容量の四頚フラスコに、特開平４
−３４２５９３号公報の方法で合成したトリイソプロピ
ルシリルアクリレート１ｋｇ（ガスクロマトグラフィー
分析による純度９８．０％）に重合禁止剤としてＮ−ニ
トロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩０．
５ｇ（５００ｐｐｍ相当）を添加してなる蒸留原液を装
入した。この蒸留原液を１２時間減圧蒸留した。またト
リイソプロピルシリルアクリレート５０ｇ（純度９８．
０％）に、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンア
ルミニウム塩０．５ｇ（５００ｐｐｍ相当）を添加して
なる液を、精留管塔頂に取り付けた滴下ロートから、ト
リイソプロピルシリルアクリレートの留出開始から終了
まで滴下した。この蒸留操作により、沸点１１０〜１１
２℃／１２ｍｍＨｇの留分を９５９．８ｇ得た。この留
分をガスクロマトグラフィーで分析し、トリイソプロピ
ルシリルアクリレート（純度９９．６％）であることを
確認した。フラスコ底部には約９０ｇの高粘稠性の液状
物質が蒸留されずに残留した。蒸留で留出し、回収され
たトリイソプロピルシリルアクリレートの回収率（％）
を実施例１と同様に計算した。その結果を表１に示す。
【００３３】実施例４
実施例３で用いたトリイソプロピルシリルアクリレート
に代えてｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアクリレート
（純度９８．０％）を用いた以外は、実施例３と同様に
蒸留操作を行い、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアク
リレート留分９５３．４ｇ（沸点９３〜９８℃／１２ｍ
ｍＨｇ、純度９９．４％）を得た。回収率（％）を表１
に示す。
に代えてｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアクリレート
（純度９８．０％）を用いた以外は、実施例３と同様に
蒸留操作を行い、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアク
リレート留分９５３．４ｇ（沸点９３〜９８℃／１２ｍ
ｍＨｇ、純度９９．４％）を得た。回収率（％）を表１
に示す。
【００３４】実施例５
実施例３で用いた重合禁止剤であるＮ−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩の単独使用に代え
てＮ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウ
ム塩０．５ｇ（５００ｐｐｍ相当）および２，６−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．５ｇ（５
００ｐｐｍ相当）を併用した以外は、実施例３と同様に
蒸留操作を行い、トリイソプロピルシリルアクリレート
留分９９０．９ｇ（沸点１１０〜１１２℃／１２ｍｍＨ
ｇ、純度９９．６％）を得た。回収率（％）を表１に示
す。
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩の単独使用に代え
てＮ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウ
ム塩０．５ｇ（５００ｐｐｍ相当）および２，６−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．５ｇ（５
００ｐｐｍ相当）を併用した以外は、実施例３と同様に
蒸留操作を行い、トリイソプロピルシリルアクリレート
留分９９０．９ｇ（沸点１１０〜１１２℃／１２ｍｍＨ
ｇ、純度９９．６％）を得た。回収率（％）を表１に示
す。
【００３５】実施例６
実施例５で用いたトリイソプロピルシリルアクリレート
に代えてｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアクリレート
（純度９８．０％）を用いた以外は、実施例５と同様に
蒸留操作を行い、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアク
リレート留分９８６．６ｇ（沸点９３〜９８℃／１２ｍ
ｍＨｇ、純度９９．６％）を得た。回収率（％）を表１
に示す。
に代えてｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアクリレート
（純度９８．０％）を用いた以外は、実施例５と同様に
蒸留操作を行い、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアク
リレート留分９８６．６ｇ（沸点９３〜９８℃／１２ｍ
ｍＨｇ、純度９９．６％）を得た。回収率（％）を表１
に示す。
【００３６】実施例７
実施例５で用いたトリイソプロピルシリルアクリレート
に代えてトリイソプロピルシリルメタクリレート（純度
９８．０％）を用いた以外は、実施例５と同様に蒸留操
作を行い、トリイソプロピルシリルメタクリレート留分
９９０．７ｇ（沸点１１０〜１１３℃／１０ｍｍＨｇ、
純度９９．５％）を得た。回収率（％）を表１に示す。
に代えてトリイソプロピルシリルメタクリレート（純度
９８．０％）を用いた以外は、実施例５と同様に蒸留操
作を行い、トリイソプロピルシリルメタクリレート留分
９９０．７ｇ（沸点１１０〜１１３℃／１０ｍｍＨｇ、
純度９９．５％）を得た。回収率（％）を表１に示す。
【００３７】実施例８
実施例５で用いたトリイソプロピルシリルアクリレート
に代えてｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルメタクリレー
ト（純度９８．０％）を用いた以外は、実施例５と同様
に蒸留操作を行い、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルメ
タクリレート留分９８１．５ｇ（沸点１００〜１０２℃
／１２ｍｍＨｇ、純度９９．６％）を得た。回収率
（％）を表１に示す。
に代えてｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルメタクリレー
ト（純度９８．０％）を用いた以外は、実施例５と同様
に蒸留操作を行い、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルメ
タクリレート留分９８１．５ｇ（沸点１００〜１０２℃
／１２ｍｍＨｇ、純度９９．６％）を得た。回収率
（％）を表１に示す。
【００３８】比較例１
実施例１で用いた重合禁止剤であるＮ−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩および２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールの併用に代
えて、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェ
ノール１．０ｇ（１０００ｐｐｍ相当）を単独使用した
以外は、実施例１と同様に蒸留操作を行い、トリイソプ
ロピルシリルアクリレート留分８４４．４ｇ（沸点１０
７〜１０９℃／１０ｍｍＨｇ、純度９９．０％）を得
た。回収率（％）を表１に示す。
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩および２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールの併用に代
えて、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェ
ノール１．０ｇ（１０００ｐｐｍ相当）を単独使用した
以外は、実施例１と同様に蒸留操作を行い、トリイソプ
ロピルシリルアクリレート留分８４４．４ｇ（沸点１０
７〜１０９℃／１０ｍｍＨｇ、純度９９．０％）を得
た。回収率（％）を表１に示す。
【００３９】比較例２
実施例２で用いた重合禁止剤であるＮ−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩および２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールの併用に代
えて、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェ
ノール１．０ｇ（１０００ｐｐｍ相当）を単独使用した
以外は、実施例２と同様に蒸留操作を行い、ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルアクリレート留分８４９．３ｇ
（沸点９２〜９６℃／１０ｍｍＨｇ、純度９９．０％）
を得た。回収率（％）を表１に示す。
ルヒドロキシルアミンアルミニウム塩および２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールの併用に代
えて、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェ
ノール１．０ｇ（１０００ｐｐｍ相当）を単独使用した
以外は、実施例２と同様に蒸留操作を行い、ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルアクリレート留分８４９．３ｇ
（沸点９２〜９６℃／１０ｍｍＨｇ、純度９９．０％）
を得た。回収率（％）を表１に示す。
【００４０】
【表１】
【００４１】
【発明の効果】本発明方法を実施すると、次のような効
果がもたらされる。すなわち、蒸留工程において効果
的に重合を抑制でき、高い回収率で不飽和カルボン酸
シリルエステルを得ることができる。したがって、本発
明による不飽和カルボン酸シリルエステルの蒸留方法
は、従来の蒸留方法が有していた諸問題を解決し、工業
的な方法として有用性が高い。
果がもたらされる。すなわち、蒸留工程において効果
的に重合を抑制でき、高い回収率で不飽和カルボン酸
シリルエステルを得ることができる。したがって、本発
明による不飽和カルボン酸シリルエステルの蒸留方法
は、従来の蒸留方法が有していた諸問題を解決し、工業
的な方法として有用性が高い。
Claims (7)
- 【請求項１】 一般式(１) 【化１】 ［式中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基または−（ＣＨ
２）ｎＣＯＯＲ７基（ここで、Ｒ７は、水素原子、アル
キル基またはシクロアルキル基を示し、ｎは、１〜６の
整数を示す。）を示し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ水
素原子、メチル基あるいは−ＣＯＯＲ８基（ここで、Ｒ
８は、水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基を
示す。）を示し、Ｒ２およびＲ３の少なくとも一方は水
素原子である。ただし、Ｒ１がアルキル基または−（Ｃ
Ｈ２）ｎＣＯＯＲ７基のときは、Ｒ ２およびＲ３はいず
れも水素原子である。Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、互いに
同一であるかあるいは異なってもよく、アルキル基また
はシクロアルキル基を示す。］で表される不飽和カルボ
ン酸シリルエステルに、重合禁止剤としてニトロソ化合
物を単独に添加するか、あるいはニトロソ化合物とヒン
ダードフェノール化合物とを併用して添加し、添加され
た該化合物の存在下に蒸留することを特徴とする、一般
式（１）で表される不飽和カルボン酸シリルエステルの
蒸留方法。 - 【請求項２】不飽和カルボン酸シリルエステルに、重合
禁止剤としてニトロソ化合物とヒンダードフェノール化
合物とを併用して添加し、添加された該化合物の存在下
に蒸留することを特徴とする、請求項１に記載の蒸留方
法。 - 【請求項３】重合禁止剤を不飽和カルボン酸シリルエス
テルの蒸留原液に添加し蒸留するか、あるいは重合禁止
剤を不飽和カルボン酸シリルエステルの蒸留原液に添加
し、さらに精留塔の塔頂部の還流回路からも添加しなが
ら蒸留することを特徴とする、請求項１および２に記載
の蒸留方法。 - 【請求項４】重合禁止剤を不飽和カルボン酸シリルエス
テルの蒸留原液に添加し、さらに精留塔の塔頂部の還流
回路からも添加しながら蒸留することを特徴とする、請
求項１〜３に記載の蒸留方法。 - 【請求項５】一般式（１）で表される不飽和カルボン酸
シリルエステルが、トリイソプロピルシリル（メタ）ア
クリレートあるいはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
（メタ）アクリレートであることを特徴とする、請求項
１〜４に記載の蒸留方法。 - 【請求項６】ニトロソ化合物が、Ｎ−ニトロソフェニル
ヒドロキシルアミンアルミニウム塩であることを特徴と
する、請求項１〜５に記載の蒸留方法。 - 【請求項７】ヒンダードフェノール化合物が、２，６−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールであるこ
とを特徴とする、請求項１〜６に記載の蒸留方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002131066A JP2003321478A (ja) | 2002-05-07 | 2002-05-07 | 不飽和カルボン酸シリルエステルの蒸留方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002131066A JP2003321478A (ja) | 2002-05-07 | 2002-05-07 | 不飽和カルボン酸シリルエステルの蒸留方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003321478A true JP2003321478A (ja) | 2003-11-11 |
Family
ID=29543844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002131066A Pending JP2003321478A (ja) | 2002-05-07 | 2002-05-07 | 不飽和カルボン酸シリルエステルの蒸留方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003321478A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103709190A (zh) * | 2014-01-08 | 2014-04-09 | 浙江胡涂硅有限公司 | 一种三异丙基硅基丙烯酸酯的制备方法 |
-
2002
- 2002-05-07 JP JP2002131066A patent/JP2003321478A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103709190A (zh) * | 2014-01-08 | 2014-04-09 | 浙江胡涂硅有限公司 | 一种三异丙基硅基丙烯酸酯的制备方法 |
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