JP2003318535A - Method of manufacturing printed wiring board - Google Patents

Method of manufacturing printed wiring board

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JP2003318535A
JP2003318535A JP2002116779A JP2002116779A JP2003318535A JP 2003318535 A JP2003318535 A JP 2003318535A JP 2002116779 A JP2002116779 A JP 2002116779A JP 2002116779 A JP2002116779 A JP 2002116779A JP 2003318535 A JP2003318535 A JP 2003318535A
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JP
Japan
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forming
hole
layer
via hole
reference mark
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Withdrawn
Application number
JP2002116779A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Usami
泰 宇佐見
Kenji Shima
健二 志摩
Junsuke Tanaka
淳介 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a printed wiring board by which the conductor sections for via holes of an inner layer and via holes formed in an insulating layer on the outside of the inner layer can be aligned with each other with high accuracy. <P>SOLUTION: An insulating layer 27 is formed on the outside of a conductor layer having first reference marks 24 and first bottom lands 23 for via holes, and a conductor layer 26 is formed on the outside of the insulating layer 27. Then holes 215 are formed in the conductor layer 26 at the positions corresponding to the first reference marks 24 and other holes 218 are formed in insulating layer 27 for exposing the marks 24. In addition, first via holes 217 are formed in the insulating layer 27 for exposing the first bottom lands 23 by laser beam machining by using the first reference marks 24 exposed through the holes 218 as the positioning references, and plated layers 219 are formed. Finally, circuits, conductor sections for second via holes, and second reference marks 224 are formed by selectively removing the conductor layer 26 and plated layer 219. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板の
製造方法に関し、特に、ビルドアップ法により多層プリ
ント配線板を製造する技術に関し、その中でも特に銅箔
積層を用いてコンフォーマルマスク法によりバイアホー
ルの形成を行う多層プリント配線板の製造方法に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board, and more particularly to a technology for manufacturing a multilayer printed wiring board by a build-up method, and in particular, a via is formed by a conformal mask method using a copper foil laminate. The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which holes are formed.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯電話・パソコン等の情報通信
機器を中心とした電子機器の軽薄短小化、高機能化の進
展に応じ、多層プリント配線板の製造技術の一つとし
て、ビルドアップ法と呼ばれる工法が急速に普及してい
る。このビルドアップ法には、多層プリント配線板のバ
イアホール形成に、レーザー加工機を用いるコンフォー
マルマスク法がある。
2. Description of the Related Art In recent years, the build-up method has been developed as one of the manufacturing technologies for multilayer printed wiring boards in response to the progress of lighter, thinner, smaller, and more sophisticated electronic devices such as information communication devices such as mobile phones and personal computers. The construction method called is rapidly spreading. This build-up method includes a conformal mask method that uses a laser processing machine to form a via hole in a multilayer printed wiring board.

【0003】このコンフォーマルマスク法は、ボトムラ
ンド等の内層パターンが設けられたコア材に、外層とな
る銅箔とプリプレグを積層し、この銅箔の銅の一部を、
コア材にあるボトムランドの位置に合わせて除去し、そ
の部分へレーザーを照射して樹脂を除去することでバイ
アホールを形成するものである。このレーザー加工する
部位の銅箔を除去する部分は、レーザーマスク形成用レ
ジストを被覆して、ボトムランド位置に相当する部分に
マーキングをするレーザーマスク用フィルムを載置し
て、レーザーマスク形成用レジストを露光・現像して作
られる。つまり、このレーザーマスク用フィルムを、ボ
トムランドの位置とズレがないように位置合わせしなけ
れば、レーザーによるバイアホール形成が行えないもの
である。
In this conformal mask method, an outer layer of copper foil and a prepreg are laminated on a core material provided with an inner layer pattern such as a bottom land, and a part of copper of this copper foil is
The via hole is formed by removing the resin according to the position of the bottom land in the core material and irradiating the portion with laser to remove the resin. The portion where the copper foil of the portion to be laser processed is covered with a laser mask forming resist, and a laser mask film for marking the portion corresponding to the bottom land position is placed, and the laser mask forming resist is placed. It is made by exposing and developing. That is, unless the laser mask film is aligned with the position of the bottom land, the via hole cannot be formed by the laser.

【0004】このコンフォーマルマスク法におけるレー
ザーマスク用フィルムの位置合わせは、一般に、銅箔と
プリプレグとコア材とを高温プレスにて積層したものに
貫通穴を形成し、その貫通穴を基準として行わている。
また、位置合わせために形成する貫通穴は、X線画像処
理方式のポザ穴加工機が使用されるか、或いはポザ穴加
工機により明けられた穴を基準にNC穴明け加工機によ
って、別途多数の穴を設けることなどで行われている。
The alignment of the laser mask film in the conformal mask method is generally performed by forming a through hole in a laminate of a copper foil, a prepreg and a core material by a high temperature press and using the through hole as a reference. ing.
In addition, for the through holes formed for alignment, an X-ray image processing type poza hole processing machine is used, or an NC boring machine is used with reference to the holes drilled by the poza hole processing machine. This is done by providing many holes separately.

【0005】ここで、従来より行われているコンフォー
マルマスク法によるレーザー加工を行うビルドアップ法
について、具体的な手順を、図3(A)〜(D)、図4
(E)〜(I)を参照しながら説明する。
Here, a concrete procedure of the conventional build-up method for performing laser processing by the conformal mask method will be described with reference to FIGS. 3 (A) to 3 (D) and FIG.
A description will be given with reference to (E) to (I).

【0006】はじめに、図3(A)及び(B)に示すよ
うに、例えば、ガラスエポキシ材(層間絶縁材)1に積
層された銅箔をエッチングにより、内層パターン2、バ
イアホール用のボトムランド3、及び円形状に銅を残存
した基準ランド4が設けられたコア材5を準備する。そ
して、このコア材5に銅箔6およびプリプレグ7を高温
プレス成形により積層する。
First, as shown in FIGS. 3A and 3B, for example, a copper foil laminated on a glass epoxy material (interlayer insulating material) 1 is etched to form an inner layer pattern 2 and a bottom land for a via hole. 3 and a core material 5 provided with a reference land 4 in which copper remains in a circular shape is prepared. Then, the copper foil 6 and the prepreg 7 are laminated on the core material 5 by high temperature press molding.

【0007】次に、銅箔6を透過して基準ランド4を検
出することができるX線画像を確認することによって、
基準ランド4位置へ、ポザ穴加工機で貫通穴8を形成す
る(図3(C)参照)。そして、図3(D)に示すよう
に、その表面へレーザーマスク形成用レジスト9を被覆
して、位置決め部10及びバイアホール形成部11が設
けられているレーザーマスク用フィルム12を、貫通穴
8に透過光を照射してCCDカメラ13で確認しなが
ら、レーザーマスク形成用レジスト9上に載置する。
Next, by confirming an X-ray image capable of detecting the reference land 4 through the copper foil 6,
A through hole 8 is formed at the position of the reference land 4 by a poza hole drilling machine (see FIG. 3C). Then, as shown in FIG. 3D, the surface thereof is covered with a laser mask forming resist 9, and a laser mask film 12 provided with a positioning portion 10 and a via hole forming portion 11 is provided with a through hole 8 It is placed on the resist 9 for forming a laser mask while irradiating it with transmitted light and checking it with the CCD camera 13.

【0008】その後、レーザーマスク形成用レジスト1
2を露光、現像処理し、銅のエッチング処理を行うこと
で、貫通穴形成部18、バイアホール形成部111を設
ける(図4(E)参照)。レーザー加工機によってバイ
アホール形成部111の樹脂を除去することで、バイア
ホール14の形成をする(図4(F)参照)。
Then, a resist 1 for forming a laser mask is formed.
2 is exposed and developed, and a copper etching process is performed to provide the through hole forming portion 18 and the via hole forming portion 111 (see FIG. 4E). The via hole 14 is formed by removing the resin in the via hole forming portion 111 with a laser processing machine (see FIG. 4F).

【0009】このような穴加工に続いて、デスミア処
理、及びメッキ処理による銅メッキ層15の形成を行う
(図4(G)参照)。そして、その表面へ、今度は回路
の形成のためのエッチングレジスト16を被覆して、回
路を形成するパターン用フィルム17を載置する。
Subsequent to such hole processing, desmearing and plating are performed to form the copper plating layer 15 (see FIG. 4G). Then, the surface is covered with an etching resist 16 for forming a circuit, and a patterning film 17 for forming a circuit is placed.

【0010】さらに、エッチングレジスト16の露光、
現像処理を行い、銅のエッチング処理を行うことによっ
て所定の回路形成を行う(図4(H)、(I)参照)。
このようにして形成された多層板をコア材5として、上
記図3(A)〜(D)、図4(E)〜(I)で説明した
手順を繰り返し、多層プリント配線板を形成するもので
ある。
Further, the etching resist 16 is exposed,
A predetermined circuit is formed by performing development processing and copper etching processing (see FIGS. 4H and 4I).
A multilayer printed wiring board is formed by repeating the procedure described above with reference to FIGS. 3A to 3D and 4E to 4I, using the multilayer board thus formed as the core material 5. Is.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】この、従来におけるコ
ンフォーマルマスク法では、上記説明の通り、積層した
際に内層側にあるコア材の位置が、銅箔の存在により直
接確認できない。そのため、そのコア材の位置を確認す
る方法としてX線画像を利用して基準ランド部分に貫通
穴を形成するのである。このX線画像処理による基準ラ
ンドの確認は、ある程度の精度では行えるものの、X線
が銅箔を透過して確認される画像を用いるため、得られ
る位置決め用の貫通穴の位置が若干ずれることもある。
そのため、レーザーマスク用フィルムをコア材のボトム
ランドへ精確に合わて配置することが難しく、より高い
精度でレーザーマスク用フィルムの位置合わせが可能な
技術を要求されているのが現状である。
In the conventional conformal mask method, as described above, the position of the core material on the inner layer side cannot be directly confirmed by the presence of the copper foil when laminated. Therefore, as a method of confirming the position of the core material, a through hole is formed in the reference land portion using an X-ray image. Although the confirmation of the reference land by this X-ray image processing can be performed with a certain degree of accuracy, the position of the obtained through hole for positioning may be slightly shifted because the image confirmed by the X-ray passing through the copper foil is used. is there.
Therefore, it is difficult to accurately arrange the laser mask film on the bottom land of the core material, and there is a demand for a technique capable of aligning the laser mask film with higher accuracy.

【0012】また、コア材の両面へ、即ち、コア材の片
面ごとに別々のパターンを形成する場合においては、さ
らに位置合わせ用の貫通穴を多く設ける必要がある。こ
の場合、ポザ穴加工又はNC穴明け加工が増えるため、
製造行程が複雑になり、積層する毎に異なる位置へ貫通
穴を形成しなければならず、プリント配線板における貫
通穴の占有する面積が広くなり、高密度化が必須とされ
る多層プリント配線板の製造方法としては好ましいもの
とはいえないものである。
Further, in the case where different patterns are formed on both surfaces of the core material, that is, on each one surface of the core material, it is necessary to provide more through holes for alignment. In this case, since poza hole processing or NC drilling processing increases,
The manufacturing process is complicated, through holes must be formed at different positions for each stack, the area occupied by the through holes in the printed wiring board becomes large, and high-density multilayer wiring boards are essential. However, it is not preferable as a manufacturing method of.

【0013】従って、本発明の主な目的は、内層のボト
ムランド等のバイアホール用導体部とその外層の樹脂層
等の絶縁層に形成するバイアホールとの位置合わせが高
精度に行えるプリント配線板の製造方法を提供すること
にある。
Therefore, a main object of the present invention is to provide a printed wiring in which a via hole conductor portion such as an inner bottom land and a via hole formed in an insulating layer such as a resin layer which is an outer layer thereof can be accurately aligned. It is to provide a method for manufacturing a plate.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の好ましい態様では、銅箔およびプリプレグ
を用いたビルドアップ法による多層プリント配線板の製
造方法において、第1の基準マークおよびボトムランド
が設けられたコア材の両面に銅箔及びプリプレグを高温
プレス成形により積層し、貫通穴を形成し、その表面へ
レーザーマスク形成用レジストを被覆する。位置決め
部、基準穴明け部、バイアホール形成部が設けられたレ
ーザーマスク用フィルムを、上記貫通穴を透過した透過
光を検出し、レーザーマスク形成用フィルムの位置決め
部と位置合わせすることによって位置決めしてレーザー
マスク形成用レジスト上に載置し、レーザーマスク形成
用レジストを露光、現像処理して、エッチングにより基
準穴明け部及びバイアホール形成部に対応する銅箔の銅
を除去する。次にレーザー加工により、基準穴明け部を
被覆する樹脂をコア上に有する第1の基準マークが十分
確認できるように、樹脂部を除去する。コア上に有する
第1の基準マークを反射光で確認して、その第1の基準
マークを位置合わせの基準として、コアのボトムランド
上へのバイアホールの形成をレーザー加工によって行
う。メッキ処理によって銅メッキ層を形成し、さらに、
その表面へ回路を形成するためのエッチングレジストを
被覆し、位置決め部、第2の基準マークを形成するため
の基準マーク形成部、ボトムランド形成部および回路形
成部が設けられたパターン用フィルムを、上記貫通穴を
透過した透過光の検出によって上記位置決め部と位置合
わせすることにより位置決めしてエッチングレジスト上
に載置し、エッチングレジストを露光、現像処理して、
エッチングによりボトムランド、回路及び第2の基準マ
ークの形成をし、この第2の基準マークが設けられた多
層板をコア材として、上記工程を繰り返すことによって
多層プリント配線板を形成するものとした。
In order to solve the above problems, in a preferred embodiment of the present invention, in a method for manufacturing a multilayer printed wiring board by a build-up method using a copper foil and a prepreg, a first reference mark and a bottom are provided. A copper foil and a prepreg are laminated on both sides of a core material provided with lands by high temperature press molding to form a through hole, and the surface thereof is covered with a laser mask forming resist. The laser mask film provided with the positioning portion, the reference hole forming portion, and the via hole forming portion is positioned by detecting the transmitted light transmitted through the through hole and aligning with the positioning portion of the laser mask forming film. Then, the laser mask forming resist is exposed to light and developed, and the copper of the copper foil corresponding to the reference hole forming part and the via hole forming part is removed by etching. Next, the resin portion is removed by laser processing so that the first reference mark having the resin for covering the reference hole portion on the core can be sufficiently confirmed. The first fiducial mark on the core is confirmed by reflected light, and the first fiducial mark is used as a reference for alignment to form a via hole on the bottom land of the core by laser processing. Form a copper plating layer by plating, and further
A pattern film, which is coated with an etching resist for forming a circuit on the surface thereof and provided with a positioning portion, a reference mark forming portion for forming a second reference mark, a bottom land forming portion, and a circuit forming portion, Positioned by positioning the positioning portion by detecting the transmitted light transmitted through the through hole and placed on the etching resist, exposing and developing the etching resist,
The bottom land, the circuit, and the second reference mark are formed by etching, and the multilayer printed wiring board is formed by repeating the above steps using the multilayer board provided with the second reference mark as a core material. .

【0015】本発明によれば、第1の基準マークを覆う
樹脂をレーザー加工によって除去することにより、反射
光を認識できる部分が形成される。そして、この部分に
反射光を照射することで、第1の基準マークを基準とし
て、レーザー加工用の位置合わせを行うものである。従
って、X線画像処理により基準となるべき貫通穴の形成
する場合に比べ、非常に高い精度で、コア材とバイアホ
ールとの位置合わせが可能となるのである。
According to the present invention, the resin covering the first reference mark is removed by laser processing to form a portion where the reflected light can be recognized. Then, by irradiating this portion with reflected light, alignment for laser processing is performed using the first reference mark as a reference. Therefore, the core material and the via hole can be aligned with extremely high accuracy as compared with the case where the through-hole to be the reference is formed by the X-ray image processing.

【0016】そして、第1の基準マークの上、即ち外層
側に第2の基準マークを形成する際、第1の基準マーク
に対応する位置にあると共に第1の基準マークよりも小
さな面積のものを形成し、この第2の基準マークを使っ
てさらに積層を繰り返すことになるため、非常に高い精
度で繰り返し位置決めを行うことができる。このような
基準マークの形成は、コア材の平面方向における同一の
場所で、かつ、その場所の同一ポイントに、反射光を検
出できる基準マークを順次設けることになるので、従来
のように、複数の場所に基準の貫通穴を設けて位置決め
を行うのに比べ、遙かに高い精度で位置決めすることが
できるのである。このことは、積層総数が増えるほど、
又コア材の両面へ別々な回路形成しながら積層を行う場
合ほど、高い精度で位置決めしながら多層プリント配線
板を製造することを可能とする。
When the second fiducial mark is formed on the first fiducial mark, that is, on the outer layer side, the second fiducial mark is located at a position corresponding to the first fiducial mark and has an area smaller than that of the first fiducial mark. Is formed and the stacking is further repeated by using the second reference mark, so that the positioning can be repeated with extremely high accuracy. Since such reference marks are formed at the same position in the plane direction of the core material and at the same point at that position, reference marks capable of detecting reflected light are sequentially provided. It is possible to perform positioning with much higher accuracy than the case where positioning is performed by providing a reference through hole at the position. This means that as the total number of layers increases,
Further, when the circuits are laminated on both surfaces of the core material while forming separate circuits, it is possible to manufacture the multilayer printed wiring board while positioning with high accuracy.

【0017】本発明は以上のような知見に基づくもので
あり、本発明によれば、少なくとも第1の基準マークと
第1のバイアホール用導体部とを有する第1の導体層の
外側に第1の絶縁層を形成する工程と、前記第1の絶縁
層の外側に第2の導体層を形成する工程と、前記第2の
導体層に、前記第1の基準マークに相当する位置に第1
の穴を形成し、前記第1のバイアホール用導体部に相当
する位置に第2の穴を形成する工程と前記第1の絶縁層
に前記第1の基準マークを露出する第3の穴を形成する
工程と、前記第3の穴に露出する前記第1の基準マーク
を位置決めの基準として前記第1の絶縁層に前記第1の
バイアホール用導体部を露出する第1のバイアホールを
レーザ加工により形成する工程と、を備えることを特徴
とするプリント配線板の製造方法が提供される。
The present invention is based on the above knowledge. According to the present invention, the first conductor layer having at least the first fiducial mark and the first via-hole conductor portion is provided outside the first conductor layer. Forming a first insulating layer, forming a second conductor layer outside the first insulating layer, and forming a second conductor layer on the second conductor layer at a position corresponding to the first fiducial mark. 1
And forming a second hole at a position corresponding to the first via hole conductor portion, and forming a third hole in the first insulating layer to expose the first reference mark. And a step of forming the first via hole exposing the first via hole conductor portion in the first insulating layer using the first reference mark exposed in the third hole as a positioning reference. A method of manufacturing a printed wiring board, comprising: a step of forming by processing.

【0018】好ましくは、前記第1のバイアホールを形
成した後、メッキ処理により、第1のメッキ層を形成す
る工程と、前記第2の導体層および前記第1のメッキ層
を選択的に除去して、少なくとも第1の回路と第2のバ
イアホール用導体部と第2の基準マークとを形成する工
程と、をさらに備える。
Preferably, after forming the first via hole, a step of forming a first plating layer by a plating process, and selectively removing the second conductor layer and the first plating layer. And forming at least the first circuit, the second via-hole conductor portion, and the second fiducial mark.

【0019】また、好ましくは、前記少なくとも第1の
回路と第2のバイアホール用導体部と第2の基準マーク
とを有する前記第2の導体層の外側に第2の絶縁層を形
成する工程と、前記第2の絶縁層の外側に第3の導体層
を形成する工程と、前記第3の導体層に、前記第2の基
準マークに相当する位置に第4の穴を形成し、前記第2
のバイアホール用導体部に相当する位置に第5の穴を形
成する工程と前記第2の絶縁層に前記第2の基準マーク
を露出する第6の穴を形成する工程と、前記第6の穴に
露出する前記第2の基準マークを位置決めの基準として
前記第2の絶縁層に前記第2のバイアホール用導体部を
露出する第2のバイアホールをレーザ加工により形成す
る工程と、をさらに備える。
Further, preferably, a step of forming a second insulating layer outside the second conductor layer having at least the first circuit, the second via hole conductor portion and the second reference mark. And a step of forming a third conductor layer outside the second insulating layer, and forming a fourth hole in the third conductor layer at a position corresponding to the second reference mark, Second
Forming a fifth hole at a position corresponding to the via hole conductor portion, forming a sixth hole in the second insulating layer to expose the second reference mark, and Forming a second via hole exposing the second via hole conductor portion in the second insulating layer by laser processing using the second reference mark exposed in the hole as a positioning reference. Prepare

【0020】また、好ましくは、前記第2の基準マーク
は前記第1の基準マークに対応する位置に前記第1の基
準マークと重ねて設ける。
Preferably, the second reference mark is provided at a position corresponding to the first reference mark so as to overlap the first reference mark.

【0021】また、好ましくは、前記第2の基準マーク
の面積は前記第1の基準マークの面積よりも小さい。
Preferably, the area of the second reference mark is smaller than the area of the first reference mark.

【0022】また、本発明によれば、銅箔積層を用いた
ビルドアップ法による多層プリント配線板の製造方法で
あって、、第1の基準マークを設けた内層コア材の両面
にプリプレグと銅箔を高温フ゜レスにより圧着し、レーザー
マスク形成用レジストを露光、現像処理して、エッチン
グにより基準穴明け部及びバイアホール形成部に対応す
る銅箔の銅を除去し、内層コア材上に有する基準マーク
が確認できるよう樹脂部をレーザー加工により取り除
き、基準マークを露出させ、その基準マークを位置決め
部としてレーザー加工によりバイアホールの形成をし、
メッキ処理によって銅メッキ層を形成し、さらに、その
表面へ回路を形成するためのエッチングレジストを被覆
し、回路形成とともに第2の基準マークを形成し、その
後この工程を繰り返すことを特徴とするプリント配線板
の製造方法が提供される。
Further, according to the present invention, there is provided a method for manufacturing a multilayer printed wiring board by a build-up method using copper foil lamination, wherein the prepreg and the copper are provided on both surfaces of the inner core material provided with the first fiducial mark. The foil is pressure-bonded with a high-temperature press, the resist for forming a laser mask is exposed and developed, and the copper of the copper foil corresponding to the reference hole forming portion and the via hole forming portion is removed by etching. The resin part is removed by laser processing so that the mark can be confirmed, the reference mark is exposed, and the via hole is formed by laser processing with the reference mark as the positioning portion.
A print characterized in that a copper plating layer is formed by a plating treatment, an etching resist for forming a circuit is further covered on the surface, a second reference mark is formed together with the circuit formation, and then this step is repeated. A method for manufacturing a wiring board is provided.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態について説明する。図1(A)〜(D)、図2(E)
〜(I)は、本発明の一実施の形態に係る製造工程の手
順を概略縦断面図によって工程順に示したものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention will be described below. 1 (A) to (D) and FIG. 2 (E)
(I) shows the procedure of the manufacturing process according to one embodiment of the present invention in the order of the process by the schematic vertical sectional view.

【0024】まず、図1(A)に示すように、ポリイミ
ド材(三井化学(株)製BN300C)21に積層され
た銅箔をエッチングにより、内層パターン22、バイア
ホール用ボトムランド23、及び円形状に銅を残存した
第1の基準ランド24、貫通用基準ランド28が設けら
れたコア材25を準備する。この第1の基準ランド24
は、銅箔がφ0.20mmの円形に除かれた状態のもの
であり、この円形の穴は位置合わせの基準穴として用い
られる。
First, as shown in FIG. 1 (A), a copper foil laminated on a polyimide material (BN300C manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) 21 is etched to form an inner layer pattern 22, a via hole bottom land 23, and a circle. The core material 25 provided with the first reference land 24 and the penetrating reference land 28 in which copper remains in the shape is prepared. This first reference land 24
Shows a state in which the copper foil is removed into a circle of φ0.20 mm, and this circular hole is used as a reference hole for alignment.

【0025】次に、図1(A)、(B)に示すように、
このコア材25に銅箔26(古河サーキット製GTS−
STD18um)およびプリプレグ27(三井化学
(株)製BN300P)を高温プレス成形により積層す
る。高温プレスは、それをSUS板で挟み込み、熱間圧
縮プレス成形するものである。
Next, as shown in FIGS. 1 (A) and 1 (B),
Copper foil 26 (Furukawa Circuit GTS-
STD18um) and prepreg 27 (BN300P manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) are laminated by high temperature press molding. The high temperature press is to sandwich it with SUS plates and perform hot compression press molding.

【0026】次に、銅箔26を透過して基準ランド28
を検出することができるX線画像を利用して、ポザ穴加
工機で基準ランド28部分に貫通穴29を形成する(図
1(C)参照)。図1(D)に示すように、その後、積
層したものの表面全面に、レーザーマスク形成用レジス
ト210(旭化成製 2536)を被覆した。このレー
ザーマスク形成用レジスト210は、ドライフィルムと
呼ばれる紫外線硬化型のレジストで、熱圧着することに
より被覆するものである。その後、位置決め部211、
基準穴明け部212、バイアホール形成部213が設け
られたレーザーマスク用フィルム214を、貫通穴29
に透過光を照射してCCDカメラ222で確認しなが
ら、レーザーマスク形成用レジスト210上に載置し
た。バイアホール形成部213は、コア材25に設けら
れているボトムランド23の位置に相当するようフィル
ム214に形成されたものである。
Next, the reference land 28 is transmitted through the copper foil 26.
The through hole 29 is formed in the reference land 28 portion by the Poser hole machine by using the X-ray image capable of detecting (see FIG. 1C). After that, as shown in FIG. 1D, the entire surface of the layered product was coated with a laser mask forming resist 210 (2536, manufactured by Asahi Kasei). The laser mask forming resist 210 is an ultraviolet curable resist called a dry film, and is covered by thermocompression bonding. Then, the positioning unit 211,
The laser mask film 214 provided with the reference hole forming part 212 and the via hole forming part 213 is formed in the through hole 29.
It was placed on the laser mask forming resist 210 while irradiating it with transmitted light and confirming it with the CCD camera 222. The via hole forming portion 213 is formed on the film 214 so as to correspond to the position of the bottom land 23 provided on the core material 25.

【0027】このようにしてレーザーマスク用フィルム
214を載置した後、レーザーマスク形成用レジスト2
10を露光(アドテック製ACP600C)、現像し、
塩化第二鉄系のエッチング液により、基準穴明け部21
2及びバイアホール形成部213に対応する銅箔26を
除去した。そして、残存するレーザーマスク形成用レジ
スト210を剥離すると、図2(E)に示すように、基
準穴明け部マスク215とバイアホール形成部マスク2
16が得られる。
After placing the laser mask film 214 in this manner, the laser mask forming resist 2 is formed.
10 (exposure ACP600C manufactured by ADTEC), developed,
With the ferric chloride-based etching solution, the reference hole forming part 21
2 and the copper foil 26 corresponding to the via hole forming portion 213 was removed. Then, when the remaining laser mask forming resist 210 is peeled off, as shown in FIG. 2E, the reference hole forming portion mask 215 and the via hole forming portion mask 2 are formed.
16 is obtained.

【0028】続いて、図2(F)に示すように、この基
準穴明け部マスク215に対応する樹脂27が露出した
部分へ、炭酸ガスレーザー(三菱電機製:MEL605
GTX−II レーザー加工条件:出力5600v、周
波数100Hz、パルス幅8μsec、大口径加工用)
を照射して樹脂27を除去することにより、基準穴21
8を形成する。この場合の基準穴218はφ8mmであ
る。
Then, as shown in FIG. 2 (F), a carbon dioxide gas laser (MEL605 manufactured by Mitsubishi Electric Corp.) is applied to a portion where the resin 27 corresponding to the reference hole mask 215 is exposed.
GTX-II laser processing conditions: output 5600v, frequency 100Hz, pulse width 8μsec, for large diameter processing)
By irradiating the resin 27 to remove the resin 27,
8 is formed. The reference hole 218 in this case has a diameter of 8 mm.

【0029】上記加工によって露出したコア上の基準マ
ーク24を反射光によってCCDカメラ223で確認
し、炭酸ガスレーザー(三菱電機製:MEL605GT
X−II レーザー加工条件:出力5600v、周波数
100Hz、パルス幅6μsec)によって、この基準
マーク24を位置合わせの基準として、バイアホール2
17を形成した。このバイアホール217はφ0.1m
mである。
The reference mark 24 on the core exposed by the above-mentioned processing is confirmed by a CCD camera 223 by reflected light, and a carbon dioxide gas laser (MEL605GT manufactured by Mitsubishi Electric Corp.)
X-II laser processing conditions: output 5600 v, frequency 100 Hz, pulse width 6 μsec), with the reference mark 24 as a reference for alignment, the via hole 2
Formed 17. This via hole 217 is φ0.1 m
m.

【0030】そして、炭酸ガスレーザーの照射により形
成した穴217、218内のスミアを除去するために、
過マンガン酸カリウム溶液に浸漬してデスミア処理を行
い、その後、図2(G)に示すように、無電解銅メッキ
処理及び電解メッキ処理をすることで、所定厚みの銅メ
ッキ層219を形成した。この無電解メッキ処理前に
は、いわゆるキャタライズ処理と呼ばれる無電解メッキ
の析出核となるパラジウムの沈着処理を行っている。無
電解銅メッキ処理の条件は、硫酸銅・五水和物3g/
L、水酸化ナトリウム5g/L、ホルムアルデヒド9g
/Lの溶液に20分間浸漬するもので、次いで電解メッ
キ処理条件は、硫酸銅50g/L、硫酸220g/L溶
液中、1.5A/dmの電流密度で60分間メッキ処
理を行うものである。
Then, in order to remove the smear in the holes 217, 218 formed by the irradiation of the carbon dioxide gas laser,
A desmear treatment was performed by immersing in a potassium permanganate solution, and then, as shown in FIG. 2G, an electroless copper plating treatment and an electrolytic plating treatment were performed to form a copper plating layer 219 having a predetermined thickness. . Prior to this electroless plating treatment, a so-called catalyzing treatment is performed to deposit palladium, which serves as a deposition nucleus for electroless plating. The conditions for electroless copper plating are 3 g of copper sulfate pentahydrate /
L, sodium hydroxide 5g / L, formaldehyde 9g
/ L solution for 20 minutes, and then electrolytic plating conditions are as follows: copper sulfate 50 g / L, sulfuric acid 220 g / L solution, plating at a current density of 1.5 A / dm 2 for 60 minutes. is there.

【0031】次に、図2(H)に示すように、このメッ
キ処理が施されたものに、回路を形成するためのエッチ
ングレジスト220を被覆した。このエッチングレジス
ト220はレーザーマスク形成用レジスト210と同じ
ものを使用した。このエッチングレジスト220が被覆
されたものに、位置決め部211、第2の基準マーク形
成部212、ボトムランド形成部230および回路形成
部231が設けられているパターン用フィルム221を
載置した。この第2の基準マーク形成部212は、第1
の基準マーク24に相当する位置である。このパターン
用フィルム221の位置合わせは、貫通穴29に向けて
光を照射し、CCDカメラ223で透過光を検出するこ
とにより、パターン用フィルム221の位置決め部21
1が精確に貫通穴29と重なるようにフィルム221を
移動させて行った。
Next, as shown in FIG. 2H, the plated product was coated with an etching resist 220 for forming a circuit. The same etching resist 220 as the laser mask forming resist 210 was used. The patterning film 221 provided with the positioning part 211, the second reference mark forming part 212, the bottom land forming part 230, and the circuit forming part 231 was placed on the one covered with the etching resist 220. The second fiducial mark forming portion 212 is
It is a position corresponding to the reference mark 24. The positioning of the pattern film 221 is performed by irradiating the through hole 29 with light and detecting the transmitted light by the CCD camera 223 to determine the position of the pattern film 221.
The film 221 was moved so that 1 exactly overlaps the through hole 29.

【0032】このようにして、パターン用フィルム22
1を載置した後、図2(I)に示すように、エッチング
レジスト220を露光、現像し、塩化第二鉄系のエッチ
ング液により、第2の基準マーク224、ボトムランド
232及び回路233の形成を行った。
In this way, the pattern film 22
2 (I), the etching resist 220 is exposed and developed, and the second fiducial mark 224, the bottom land 232 and the circuit 233 are etched with a ferric chloride-based etching solution. Formed.

【0033】以上のようにして、第二基準ランド224
が形成された多層板は、図1(A)に示したコア材25
と同様に、上記図2(A)〜(D)、図3(E)〜
(I)まで工程を繰り返して、多層プリント配線板の製
造を行った。
As described above, the second reference land 224
The multilayer board on which the core is formed is the core material 25 shown in FIG.
2 (A) to (D) and FIG. 3 (E) to
The process was repeated up to (I) to manufacture a multilayer printed wiring board.

【0034】本実施形態で示した製造方法によって得ら
れた多層プリント配線板では、ボトムランド23とレー
ザー加工によるバイアホール217の穴明けのズレは、
殆ど生じることなく、非常に高い位置精度でバイアホー
ル217の形成をすることができた。
In the multilayer printed wiring board obtained by the manufacturing method shown in this embodiment, the misalignment between the bottom land 23 and the via hole 217 caused by laser processing is
The via hole 217 could be formed with very high positional accuracy with almost no occurrence.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明によれば、内層のボトムランド等
のバイアホール用導体部とその外層の樹脂層等の絶縁層
に形成するバイアホールとの位置合わせが高精度に行え
るプリント配線板の製造方法が提供される。
According to the present invention, a printed wiring board can be accurately aligned with a via hole conductor such as an inner bottom land and a via hole formed in an outer insulating layer such as a resin layer. A manufacturing method is provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態におけるビルドアップ法
による多層プリント配線板の製造手順を示したフロー
図。
FIG. 1 is a flowchart showing a manufacturing procedure of a multilayer printed wiring board by a build-up method according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態におけるビルドアップ法
による多層プリント配線板の製造手順を示したフロー
図。
FIG. 2 is a flowchart showing a manufacturing procedure of a multilayer printed wiring board by a build-up method according to an embodiment of the present invention.

【図3】従来のビルドアップ法による多層プリント配線
板の製造手順を示したフロー図。
FIG. 3 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a multilayer printed wiring board by a conventional build-up method.

【図4】従来のビルドアップ法による多層プリント配線
板の製造手順を示したフロー図。
FIG. 4 is a flowchart showing a manufacturing procedure of a multilayer printed wiring board by a conventional build-up method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…層間絶縁材 2…内層パターン 3…バイアホール用ボトムランド 4…第一基準ランド 5…コア材 6…銅箔 7…プリプレグ 8…貫通穴 9…レーザーマスク形成用レジスト 10…位置決め部 11…バイアホール形成部 12…レーザーマスク形成フィルム 13…透過光用CCDカメラ 14…バイアホール(レーザー加工によって形成された
層間接続用の穴) 15…銅メッキ 16…パターン形成用レシ゛スト 17…パターン形成用フィルム 18…貫通穴形成部 21…層間絶縁材 22…内層パターン 23…バイアホール用ボトムランド 24…第一基準ランド 25…コア材 26…銅箔 27…プリプレグ 28…貫通用基準ランド 29…貫通穴 111…バイアホール形成部 210…レーザーマスク形成用レジスト 211…位置決め部 212…基準穴形成部 213…バイアホール形成部 215…基準穴形成部マスク:エッチングにより銅が除
去されている 216…バイアホール形成部マスク:エッチングにより
銅が除去されている 217…バイアホール(レーザー加工によって形成され
た層間接続用の穴) 218…基準穴:第1の基準ランドを認識するために、
レーザー加工によって形成された穴 219…銅メッキ 220…パターン形成用レジスト 221…パターン形成用フィルム 222…透過光用CCDカメラ 223…反射光CCDカメラ 224…第2の基準ランド : 第2の基準ランドは第1
の基準ランドと同じ役割を有し、第1の基準ランドがL
2、L3層に有るのに対し第2の基準ランドはL1、L
4層に形成されさらに多層化される際にレーザー加工の
基準となる。(図2(I)参照) 230…ボトムランド形成部 231…回路形成部 232…ボトムランド 233…回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Interlayer insulating material 2 ... Inner layer pattern 3 ... Via hole bottom land 4 ... First reference land 5 ... Core material 6 ... Copper foil 7 ... Prepreg 8 ... Through hole 9 ... Laser mask forming resist 10 ... Positioning part 11 ... Via-hole forming part 12 ... Laser mask forming film 13 ... Transmitted light CCD camera 14 ... Via holes (holes for interlayer connection formed by laser processing) 15 ... Copper plating 16 ... Pattern forming resist 17 ... Pattern forming film Reference numeral 18 ... Through hole forming portion 21 ... Interlayer insulating material 22 ... Inner layer pattern 23 ... Via hole bottom land 24 ... First reference land 25 ... Core material 26 ... Copper foil 27 ... Prepreg 28 ... Penetration reference land 29 ... Through hole 111 ... Via hole forming part 210 ... Laser mask forming resist 211 ... Positioning part 212 ... Reference hole forming part 2 13 ... Via hole forming part 215 ... Reference hole forming part mask: Copper is removed by etching 216 ... Via hole forming part mask: Copper is removed by etching 217 ... Via hole (interlayer formed by laser processing Connection hole) 218 ... Reference hole: In order to recognize the first reference land,
Hole 219 formed by laser processing ... Copper plating 220 ... Pattern forming resist 221 ... Pattern forming film 222 ... Transmitted light CCD camera 223 ... Reflected light CCD camera 224 ... Second reference land: Second reference land First
Has the same role as the first reference land, and the first reference land is L
The second reference land is L1 and L
It becomes a reference for laser processing when it is formed into four layers and further laminated. (See FIG. 2 (I)) 230 ... bottom land forming part 231 ... circuit forming part 232 ... bottom land 233 ... circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 淳介 神奈川県厚木市戸室5丁目32−1 三井化 学株式会社内 Fターム(参考) 5E338 AA03 DD21 EE42 5E346 AA43 AA60 CC32 DD12 FF04 GG15 HH32    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Junsuke Tanaka             Mitsui 5-32, Tomuro, Atsugi City, Kanagawa Prefecture             Gaku Co., Ltd. F-term (reference) 5E338 AA03 DD21 EE42                 5E346 AA43 AA60 CC32 DD12 FF04                       GG15 HH32

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも第1の基準マークと第1のバイ
アホール用導体部とを有する第1の導体層の外側に第1
の絶縁層を形成する工程と、 前記第1の絶縁層の外側に第2の導体層を形成する工程
と、 前記第2の導体層に、前記第1の基準マークに相当する
位置に第1の穴を形成し、前記第1のバイアホール用導
体部に相当する位置に第2の穴を形成する工程と 前記第1の絶縁層に前記第1の基準マークを露出する第
3の穴を形成する工程と、 前記第3の穴に露出する前記第1の基準マークを位置決
めの基準として前記第1の絶縁層に前記第1のバイアホ
ール用導体部を露出する第1のバイアホールをレーザ加
工により形成する工程と、 を備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
1. A first outside of a first conductor layer having at least a first fiducial mark and a first via-hole conductor portion.
Forming an insulating layer, forming a second conductor layer outside the first insulating layer, and forming a second conductor layer on the second conductor layer at a position corresponding to the first fiducial mark. And forming a second hole at a position corresponding to the first via hole conductor portion, and forming a third hole in the first insulating layer to expose the first reference mark. A step of forming the first via hole that exposes the first via hole conductor portion in the first insulating layer using the first reference mark exposed in the third hole as a positioning reference. A method of manufacturing a printed wiring board, comprising: a step of forming by processing.
【請求項2】前記第1のバイアホールを形成した後、メ
ッキ処理により、第1のメッキ層を形成する工程と、 前記第2の導体層および前記第1のメッキ層を選択的に
除去して、少なくとも第1の回路と第2のバイアホール
用導体部と第2の基準マークとを形成する工程と、 をさらに備えることを特徴とする請求項1記載のプリン
ト配線板の製造方法。
2. A step of forming a first plating layer by plating after forming the first via hole, and selectively removing the second conductor layer and the first plating layer. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, further comprising: a step of forming at least a first circuit, a second via hole conductor portion, and a second fiducial mark.
【請求項3】前記少なくとも第1の回路と第2のバイア
ホール用導体部と第2の基準マークとを有する前記第2
の導体層の外側に第2の絶縁層を形成する工程と、 前記第2の絶縁層の外側に第3の導体層を形成する工程
と、 前記第3の導体層に、前記第2の基準マークに相当する
位置に第4の穴を形成し、前記第2のバイアホール用導
体部に相当する位置に第5の穴を形成する工程と前記第
2の絶縁層に前記第2の基準マークを露出する第6の穴
を形成する工程と、 前記第6の穴に露出する前記第2の基準マークを位置決
めの基準として前記第2の絶縁層に前記第2のバイアホ
ール用導体部を露出する第2のバイアホールをレーザ加
工により形成する工程と、 をさらに備えることを特徴とする請求項2記載のプリン
ト配線板の製造方法。
3. The second circuit having the at least first circuit, second via hole conductor portion, and second reference mark.
Forming a second insulating layer on the outer side of the second conductive layer, forming a third conductive layer on the outer side of the second insulating layer, and forming a second reference layer on the third conductive layer. Forming a fourth hole at a position corresponding to the mark and forming a fifth hole at a position corresponding to the second via-hole conductor; and the second reference mark on the second insulating layer Forming a sixth hole exposing the second via hole, and exposing the second via hole conductor portion in the second insulating layer with the second reference mark exposed in the sixth hole as a positioning reference. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 2, further comprising a step of forming the second via hole by laser processing.
【請求項4】前記第2の基準マークは前記第1の基準マ
ークに対応する位置に前記第1の基準マークと重ねて設
けることを特徴とする請求項3記載のプリント配線板の
製造方法。
4. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 3, wherein the second reference mark is provided at a position corresponding to the first reference mark so as to overlap the first reference mark.
【請求項5】前記第2の基準マークの面積は前記第1の
基準マークの面積よりも小さいことを特徴とする請求項
4記載のプリント配線板の製造方法。
5. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 4, wherein the area of the second reference mark is smaller than the area of the first reference mark.
【請求項6】銅箔積層を用いたビルドアップ法による多
層プリント配線板の製造方法であって、、第1の基準マ
ークを設けた内層コア材の両面にプリプレグと銅箔を高
温フ゜レスにより圧着し、レーザーマスク形成用レジストを
露光、現像処理して、エッチングにより基準穴明け部及
びバイアホール形成部に対応する銅箔の銅を除去し、内
層コア材上に有する基準マークが確認できるよう樹脂部
をレーザー加工により取り除き、基準マークを露出さ
せ、その基準マークを位置決め部としてレーザー加工に
よりバイアホールの形成をし、メッキ処理によって銅メ
ッキ層を形成し、さらに、その表面へ回路を形成するた
めのエッチングレジストを被覆し、回路形成とともに第
2の基準マークを形成し、その後この工程を繰り返すこ
とを特徴とするプリント配線板の製造方法。
6. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board by a build-up method using copper foil lamination, comprising: prepreg and copper foil are pressure-bonded to both sides of an inner core material provided with a first fiducial mark by high-temperature press. Then, the resist for laser mask formation is exposed and developed, and the copper of the copper foil corresponding to the reference hole forming part and the via hole forming part is removed by etching, and the reference mark on the inner core material can be confirmed. To remove the part by laser processing, expose the reference mark, form a via hole by laser processing using the reference mark as a positioning part, form a copper plating layer by plating, and further form a circuit on the surface The second fiducial mark is formed with the formation of the circuit, and then this step is repeated. Method for producing a printed wiring board.
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