JP2003316441A - 精密位置制御装置及びそれによる精密位置制御方法 - Google Patents
精密位置制御装置及びそれによる精密位置制御方法Info
- Publication number
- JP2003316441A JP2003316441A JP2002361286A JP2002361286A JP2003316441A JP 2003316441 A JP2003316441 A JP 2003316441A JP 2002361286 A JP2002361286 A JP 2002361286A JP 2002361286 A JP2002361286 A JP 2002361286A JP 2003316441 A JP2003316441 A JP 2003316441A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- moving body
- monitor
- screen
- moving
- actual
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
- H01L21/67265—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2886—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
- G01R31/2887—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks involving moving the probe head or the IC under test; docking stations
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学システムの光学特性の変化による誤差を
補正する精密位置制御装置及びそれを用いる精密位置制
御方法を提供する。 【解決手段】 移動体の移動量を制御するための制御部
と、前記移動体を撮影し画像信号を発生させる光学シス
テムと、前記画像信号を画面上に出力するモニタとから
精密位置制御装置を構成し、この装置を用いて、前記移
動体の実際移動距離及び前記実際移動距離に相当するピ
クセルの数を測定して前記モニタの画面上の単位ピクセ
ル当たり実際距離を算出し、前記移動体が一地点からほ
かの地点に移動するとき、前記単位ピクセル当たり実際
距離を用いて前記移動体の移動量を制御する。
補正する精密位置制御装置及びそれを用いる精密位置制
御方法を提供する。 【解決手段】 移動体の移動量を制御するための制御部
と、前記移動体を撮影し画像信号を発生させる光学シス
テムと、前記画像信号を画面上に出力するモニタとから
精密位置制御装置を構成し、この装置を用いて、前記移
動体の実際移動距離及び前記実際移動距離に相当するピ
クセルの数を測定して前記モニタの画面上の単位ピクセ
ル当たり実際距離を算出し、前記移動体が一地点からほ
かの地点に移動するとき、前記単位ピクセル当たり実際
距離を用いて前記移動体の移動量を制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学を用いる精密
位置制御に係り、より詳しくは光学を用いる精密位置制
御装置及びそれを用いる精密位置制御方法に関するもの
である。
位置制御に係り、より詳しくは光学を用いる精密位置制
御装置及びそれを用いる精密位置制御方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】光学を用いる精密位置制御は多くの産業
分野で多様に応用されている。特に、半導体製造分野に
おいて、プロバー（Prober）といわれる自動ウェーハ検
査装置などに、光学を用いる精密制御が非常に有用に用
いられている。図１は従来の自動ウェーハ検査装置を示
す図である。この自動ウェーハ検査装置は、ステージ上
に置かれたウェーハ上の回路が正常に動作するか否かを
検査するための装置である。同図に示すように、プロビ
ングカード１０２には、ウェーハ上のランド（図示せ
ず）と接触するための多数のプロビングピン１０４が付
着されている。このようなプロビングピン１０４がウェ
ーハ１１２上のランド上に１μｍ未満の精度で正確に位
置するようにすることが自動ウェーハ検査装置の役割で
ある。
分野で多様に応用されている。特に、半導体製造分野に
おいて、プロバー（Prober）といわれる自動ウェーハ検
査装置などに、光学を用いる精密制御が非常に有用に用
いられている。図１は従来の自動ウェーハ検査装置を示
す図である。この自動ウェーハ検査装置は、ステージ上
に置かれたウェーハ上の回路が正常に動作するか否かを
検査するための装置である。同図に示すように、プロビ
ングカード１０２には、ウェーハ上のランド（図示せ
ず）と接触するための多数のプロビングピン１０４が付
着されている。このようなプロビングピン１０４がウェ
ーハ１１２上のランド上に１μｍ未満の精度で正確に位
置するようにすることが自動ウェーハ検査装置の役割で
ある。
【０００３】従来の自動ウェーハ検査装置は、ステージ
１１０側のカメラ１１４とプロビングカード１０２側の
カメラ１０６が、相手の対象物である、自動ウェーハ検
査装置のプロビングピン１０４とウェーハ１１２のウェ
ーハパターンの画像情報を発生させる。制御装置は、前
記画像情報からプロビングピン１０４とウェーハパター
ンのＸ、Ｙ、Ｙ座標を求め、二つの座標の差を補正する
ため、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸にステージ１１０を移動させる
ことで、プロビングピン１０４とランドが正確に接触す
るようにする。
１１０側のカメラ１１４とプロビングカード１０２側の
カメラ１０６が、相手の対象物である、自動ウェーハ検
査装置のプロビングピン１０４とウェーハ１１２のウェ
ーハパターンの画像情報を発生させる。制御装置は、前
記画像情報からプロビングピン１０４とウェーハパター
ンのＸ、Ｙ、Ｙ座標を求め、二つの座標の差を補正する
ため、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸にステージ１１０を移動させる
ことで、プロビングピン１０４とランドが正確に接触す
るようにする。
【０００４】このような精密位置制御作業のための光学
システムにおいて、位置制御が行われる特定環境によっ
て光学特性が易しく変わる。代表的な光学特性の変化は
光学システムのレンズ特性の変化であるが、これは温
度、湿度、チャンバー内の化学的成分の変化により引き
起こされる。このような光学システムのレンズ特性が変
化すると、精密位置制御ができない。したがって、作業
の途中であっても、光学システムの光学特性の変化によ
る誤差を補正して精密な位置制御を行わなければならな
い。
システムにおいて、位置制御が行われる特定環境によっ
て光学特性が易しく変わる。代表的な光学特性の変化は
光学システムのレンズ特性の変化であるが、これは温
度、湿度、チャンバー内の化学的成分の変化により引き
起こされる。このような光学システムのレンズ特性が変
化すると、精密位置制御ができない。したがって、作業
の途中であっても、光学システムの光学特性の変化によ
る誤差を補正して精密な位置制御を行わなければならな
い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明は
前記のような従来の問題点に鑑みてなされたもので、そ
の目的は、画面上の単位ピクセル当たり実際距離を予め
計算し、後の実際作業の際、画面上のピクセル数による
正確な実際距離を獲得し、それによる精密な位置制御値
を発生させる精密位置制御装置及びそれを用いる精密位
置制御方法を提供することにある。また、本発明のほか
の目的は、単位ピクセル当たり実際距離の獲得段階を作
業の途中のいつでも行えるようにして光学システムの光
学特性の変化による誤差を補正する精密位置制御装置及
びそれを用いる精密位置制御方法を提供することにあ
る。
前記のような従来の問題点に鑑みてなされたもので、そ
の目的は、画面上の単位ピクセル当たり実際距離を予め
計算し、後の実際作業の際、画面上のピクセル数による
正確な実際距離を獲得し、それによる精密な位置制御値
を発生させる精密位置制御装置及びそれを用いる精密位
置制御方法を提供することにある。また、本発明のほか
の目的は、単位ピクセル当たり実際距離の獲得段階を作
業の途中のいつでも行えるようにして光学システムの光
学特性の変化による誤差を補正する精密位置制御装置及
びそれを用いる精密位置制御方法を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、移動体の移動量を制御するための制御部
と、前記移動体を撮影し画像信号を発生させる光学シス
テムと、前記画像信号を画面上に出力するモニタとを含
む精密位置制御装置において、前記制御部は、前記移動
体の実際移動距離及び前記実際移動距離に相当するピク
セルの数を測定して前記モニタの画面上の単位ピクセル
当たり実際距離を算出し、前記移動体が一地点からほか
の地点に移動するとき、前記単位ピクセル当たり実際距
離を用いて前記移動体の移動量を制御する精密位置制御
装置を提供する。
め、本発明は、移動体の移動量を制御するための制御部
と、前記移動体を撮影し画像信号を発生させる光学シス
テムと、前記画像信号を画面上に出力するモニタとを含
む精密位置制御装置において、前記制御部は、前記移動
体の実際移動距離及び前記実際移動距離に相当するピク
セルの数を測定して前記モニタの画面上の単位ピクセル
当たり実際距離を算出し、前記移動体が一地点からほか
の地点に移動するとき、前記単位ピクセル当たり実際距
離を用いて前記移動体の移動量を制御する精密位置制御
装置を提供する。
【０００７】また、本発明は、移動体の移動量を制御す
るための制御部と、前記移動体を撮影し画像信号を発生
させる光学システムと、前記画像信号を画面上に出力す
るモニタとを含む精密位置制御装置による精密位置制御
方法において、前記移動体の実際移動距離及び前記実際
移動距離に相当するピクセルの数を測定して前記モニタ
の画面上の単位ピクセル当たり実際距離を算出する段階
と、前記移動体が一地点からほかの地点に移動すると
き、前記単位ピクセル当たり実際距離を用いて前記移動
体の移動量を制御する段階とを含む精密位置制御方法を
提供する。
るための制御部と、前記移動体を撮影し画像信号を発生
させる光学システムと、前記画像信号を画面上に出力す
るモニタとを含む精密位置制御装置による精密位置制御
方法において、前記移動体の実際移動距離及び前記実際
移動距離に相当するピクセルの数を測定して前記モニタ
の画面上の単位ピクセル当たり実際距離を算出する段階
と、前記移動体が一地点からほかの地点に移動すると
き、前記単位ピクセル当たり実際距離を用いて前記移動
体の移動量を制御する段階とを含む精密位置制御方法を
提供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明による精密位置制御
装置及びそれを用いる精密位置制御方法の好ましい実施
例を図２ないし図６に基づいて詳細に説明する。図２
は、光学システムを用いる精密位置制御装置の構成を示
すブロック図である。同図に示すように、ウェーハなど
の被写体２０４が置かれるステージ２０２には、ウェー
ハ整列又は軸整列のための基準パターン２１６が形成さ
れる。カメラ２０６は、ステージ２０２の上部を撮影し
てアナログ画像信号２１８を生成する。カメラ２０６で
生成されたアナログ画像信号２１８は、画像入力部２０
８でデジタル画像信号２２０に変換され、画像処理部２
１０に伝達される。
装置及びそれを用いる精密位置制御方法の好ましい実施
例を図２ないし図６に基づいて詳細に説明する。図２
は、光学システムを用いる精密位置制御装置の構成を示
すブロック図である。同図に示すように、ウェーハなど
の被写体２０４が置かれるステージ２０２には、ウェー
ハ整列又は軸整列のための基準パターン２１６が形成さ
れる。カメラ２０６は、ステージ２０２の上部を撮影し
てアナログ画像信号２１８を生成する。カメラ２０６で
生成されたアナログ画像信号２１８は、画像入力部２０
８でデジタル画像信号２２０に変換され、画像処理部２
１０に伝達される。
【０００９】画像処理部２１０は、デジタル信号処理器
又はＣＰＵなどによりデジタル画像信号２２０を加工
し、モニタ２１２に出力されるようにする。制御部２１
４は、ステージ制御信号２２２、画像入力部制御信号２
２４、画像処理部制御信号２２６及びモニタ制御信号２
２８を発生させて各部を制御する。ステージ２０２は、
制御部２１４のステージ制御信号２２２によりＸ軸、Ｙ
軸及びＺ軸方向に移動することができる。ステージ２０
２には基準パターン２１６が形成されているので、この
基準パターンを用いてステージ２０２の軸と、モニタ２
１２の画面上の軸とを整列することができる。また、こ
の基準パターン２１６により、被写体が画面の特定領域
に位置するようにする。
又はＣＰＵなどによりデジタル画像信号２２０を加工
し、モニタ２１２に出力されるようにする。制御部２１
４は、ステージ制御信号２２２、画像入力部制御信号２
２４、画像処理部制御信号２２６及びモニタ制御信号２
２８を発生させて各部を制御する。ステージ２０２は、
制御部２１４のステージ制御信号２２２によりＸ軸、Ｙ
軸及びＺ軸方向に移動することができる。ステージ２０
２には基準パターン２１６が形成されているので、この
基準パターンを用いてステージ２０２の軸と、モニタ２
１２の画面上の軸とを整列することができる。また、こ
の基準パターン２１６により、被写体が画面の特定領域
に位置するようにする。
【００１０】図３は、本発明による精密位置制御装置を
用いる精密位置制御方法のフローチャートである。図２
に示す要素の符号は図３を説明するのにも用いることと
する。図３に示すように、ステージ２０２の座標軸と画
面上の座標軸が一致するように軸整列を行う（Ｓ３０
２）。軸整列が済むと、単位ピクセル当たり実際距離η
を求める（Ｓ３０４）。単位ピクセル当たり実際距離η
は画面上に一つのピクセルで表現される距離がステージ
２０２上でいくらの距離に相当するかを示す値である。
ηが求められると、このηを用いて、ステージ２０２の
移動距離を制御するためのステージ制御信号２２２を発
生して、ステージ２０２の移動を制御する。
用いる精密位置制御方法のフローチャートである。図２
に示す要素の符号は図３を説明するのにも用いることと
する。図３に示すように、ステージ２０２の座標軸と画
面上の座標軸が一致するように軸整列を行う（Ｓ３０
２）。軸整列が済むと、単位ピクセル当たり実際距離η
を求める（Ｓ３０４）。単位ピクセル当たり実際距離η
は画面上に一つのピクセルで表現される距離がステージ
２０２上でいくらの距離に相当するかを示す値である。
ηが求められると、このηを用いて、ステージ２０２の
移動距離を制御するためのステージ制御信号２２２を発
生して、ステージ２０２の移動を制御する。
【００１１】ステージ２０２が特定の距離だけ移動する
必要があると、モニタ２１２に出力される画像情報か
ら、その特定距離に相当するピクセルの数を制御部２１
４により検出し（Ｓ３０６参照）、前記ηを検出された
ピクセルの数に掛けることにより、実際距離が得られ
る。ステージ制御信号２２２は、制御部２１４により生
成され、この特定距離によってステージ２０２を移動さ
せることができる。
必要があると、モニタ２１２に出力される画像情報か
ら、その特定距離に相当するピクセルの数を制御部２１
４により検出し（Ｓ３０６参照）、前記ηを検出された
ピクセルの数に掛けることにより、実際距離が得られ
る。ステージ制御信号２２２は、制御部２１４により生
成され、この特定距離によってステージ２０２を移動さ
せることができる。
【００１２】図４Ａは、本発明の精密位置制御方法の座
標軸整列方法を示すフローチャートである。この座標軸
整列によりモニタ２１２の画面上の座標軸とステージ２
０２の座標軸が一致される。図２に示す要素の符号は図
４Ａを説明することにも用いることにする。図４Ａに示
すように、基準パターン２１６がモニタ２１２の画面の
中央に位置するようにステージを調節し（Ｓ４０２）、
現在位置で、基準パターン２１６を制御部２１４に登録
する（Ｓ４０４）。
標軸整列方法を示すフローチャートである。この座標軸
整列によりモニタ２１２の画面上の座標軸とステージ２
０２の座標軸が一致される。図２に示す要素の符号は図
４Ａを説明することにも用いることにする。図４Ａに示
すように、基準パターン２１６がモニタ２１２の画面の
中央に位置するようにステージを調節し（Ｓ４０２）、
現在位置で、基準パターン２１６を制御部２１４に登録
する（Ｓ４０４）。
【００１３】ステージ２０２をＸ軸方向に一定距離（Ｄ
１）だけ移動させ（Ｓ４０６）、登録された基準パター
ンと現在も似た２１２の画面上に観測される基準パター
ンとを比較するパターン認識を行う（Ｓ４０８）。観測
された基準パターンと登録された基準パターン間のピク
セル差（ΔＸ、ΔＹ）を求める（Ｓ４１０）。モニタ２
１２の画面上のＸ軸とステージ２０２のＸ軸が正確に整
列されていると、ΔＹは０とならなければならない。Δ
Ｙが０でないと（Ｓ４１２）、Δθ＝tan-１（ΔＹ／Δ
Ｘ）を求める（Ｓ４１４）。
１）だけ移動させ（Ｓ４０６）、登録された基準パター
ンと現在も似た２１２の画面上に観測される基準パター
ンとを比較するパターン認識を行う（Ｓ４０８）。観測
された基準パターンと登録された基準パターン間のピク
セル差（ΔＸ、ΔＹ）を求める（Ｓ４１０）。モニタ２
１２の画面上のＸ軸とステージ２０２のＸ軸が正確に整
列されていると、ΔＹは０とならなければならない。Δ
Ｙが０でないと（Ｓ４１２）、Δθ＝tan-１（ΔＹ／Δ
Ｘ）を求める（Ｓ４１４）。
【００１４】図４Ｂは、座標軸整列方法の原理を示す図
である。モニタ２１２の画面の座標軸とステージ２０２
の座標軸が整列されていないと、図４Ｂに示すように、
ΔＹは０でない。その後、Δθ＝（ΔＹ／ΔＸ）を求
め、ステージ２０２をΔθだけ回転させることにより、
モニタ２１２の画面の座標軸とステージ２０２の座標軸
を整列する（Ｓ４１６）。
である。モニタ２１２の画面の座標軸とステージ２０２
の座標軸が整列されていないと、図４Ｂに示すように、
ΔＹは０でない。その後、Δθ＝（ΔＹ／ΔＸ）を求
め、ステージ２０２をΔθだけ回転させることにより、
モニタ２１２の画面の座標軸とステージ２０２の座標軸
を整列する（Ｓ４１６）。
【００１５】図５Ａは、本発明の精密位置制御方法の単
位ピクセル当たり実際距離の獲得方法を示すフローチャ
ートである。前述したように、単位ピクセル当たり実際
距離ηはモニタ２１２の画面上の１ピクセルに相当する
実際距離である。図４Ａに示すような方法により座標軸
整列を行う（Ｓ５０２）。座標軸の整列が済むと、基準
パターン２１６を制御部２１４に登録する（Ｓ５０
４）。ステージ２０２をＸ軸方向に一定距離（Ｄ２）だ
け移動させ（Ｓ５０６）、登録された基準パターンとモ
ニタ２１２の画面上に観測される基準パターン２１６を
比較することにより、パターン認識を行う（Ｓ５０
８）。登録された基準パターンと観測された基準パター
ン間のピクセル差（ΔＸ、ΔＹ）を求める（Ｓ５１
０）。
位ピクセル当たり実際距離の獲得方法を示すフローチャ
ートである。前述したように、単位ピクセル当たり実際
距離ηはモニタ２１２の画面上の１ピクセルに相当する
実際距離である。図４Ａに示すような方法により座標軸
整列を行う（Ｓ５０２）。座標軸の整列が済むと、基準
パターン２１６を制御部２１４に登録する（Ｓ５０
４）。ステージ２０２をＸ軸方向に一定距離（Ｄ２）だ
け移動させ（Ｓ５０６）、登録された基準パターンとモ
ニタ２１２の画面上に観測される基準パターン２１６を
比較することにより、パターン認識を行う（Ｓ５０
８）。登録された基準パターンと観測された基準パター
ン間のピクセル差（ΔＸ、ΔＹ）を求める（Ｓ５１
０）。
【００１６】前記座標軸整列段階Ｓ５０２でステージ２
０２の座標軸とモニタ２１２の画面の座標軸を整列し、
ステージ２０２の移動段階Ｓ５０６でステージ２０２が
Ｘ軸方向に移動したので、ΔＹは０である。正確な軸整
列によりΔＹが０であると（Ｓ５１２）、単一ピクセル
に相当する実際距離η＝Ｄ２／ΔＸを計算する（Ｓ５１
４）。例えば、ステージ２０２の移動距離が１００μｍ
であり、この移動距離に相当するモニタ２１２の画面上
のピクセル数が４である場合、η＝１００μｍ／４＝２
５μｍとなる。目標位置はわかるが現在位置から前記目
標位置までの実際距離が分からない場合、前記取得した
ηにピクセル差の数をかける方式で実際距離を計算する
ことができる。
０２の座標軸とモニタ２１２の画面の座標軸を整列し、
ステージ２０２の移動段階Ｓ５０６でステージ２０２が
Ｘ軸方向に移動したので、ΔＹは０である。正確な軸整
列によりΔＹが０であると（Ｓ５１２）、単一ピクセル
に相当する実際距離η＝Ｄ２／ΔＸを計算する（Ｓ５１
４）。例えば、ステージ２０２の移動距離が１００μｍ
であり、この移動距離に相当するモニタ２１２の画面上
のピクセル数が４である場合、η＝１００μｍ／４＝２
５μｍとなる。目標位置はわかるが現在位置から前記目
標位置までの実際距離が分からない場合、前記取得した
ηにピクセル差の数をかける方式で実際距離を計算する
ことができる。
【００１７】図５Ｂは、単位ピクセル当たり実際距離の
獲得方法の原理を示す図である。図５Ｂに示すように、
ステージ２０２の現在位置がＡであり、ステージ２０２
の目標位置がＢである場合、位置Ａと位置Ｂ間の実際距
離（Ｄ３）はわかっていないので、ステージ２０２を制
御するための正確な値を発生することができない。しか
し、実際距離（Ｄ３）はモニタ２１２の画面上のピクセ
ル数に前記取得したηをかけると容易に求められる。前
述したように、本発明の精密位置制御方法においては、
光学システムの光学特性の変化が発生しても、単位ピク
セル当たり実際距離を用いて総実際距離を正確に計算し
て光学特性の変化を補償することができる。単位ピクセ
ル当たり実際距離を獲得する段階は工程の途中で実施す
ることができるので、工程中に光学特性の変化を補償す
ることができる。
獲得方法の原理を示す図である。図５Ｂに示すように、
ステージ２０２の現在位置がＡであり、ステージ２０２
の目標位置がＢである場合、位置Ａと位置Ｂ間の実際距
離（Ｄ３）はわかっていないので、ステージ２０２を制
御するための正確な値を発生することができない。しか
し、実際距離（Ｄ３）はモニタ２１２の画面上のピクセ
ル数に前記取得したηをかけると容易に求められる。前
述したように、本発明の精密位置制御方法においては、
光学システムの光学特性の変化が発生しても、単位ピク
セル当たり実際距離を用いて総実際距離を正確に計算し
て光学特性の変化を補償することができる。単位ピクセ
ル当たり実際距離を獲得する段階は工程の途中で実施す
ることができるので、工程中に光学特性の変化を補償す
ることができる。
【００１８】図６は、本発明の精密位置制御方法を用い
る実際位置制御を示すフローチャートである。同図に示
すように、Ａ地点からＢ地点に移動する場合（Ｓ６０
２）、Ａ地点とＢ地点間の画面上のピクセル数を検出す
る（Ｓ６０４）。検出したピクセルの数と単位ピクセル
当たり実際距離ηを用いて総実際距離（Ｄ４）を計算す
る（Ｓ６０６）。総実際距離（Ｄ４）を求めた後、この
総実際距離（Ｄ４）に対応する制御値を発生してステー
ジ２０２を制御する（Ｓ６０８及びＳ６１０）。
る実際位置制御を示すフローチャートである。同図に示
すように、Ａ地点からＢ地点に移動する場合（Ｓ６０
２）、Ａ地点とＢ地点間の画面上のピクセル数を検出す
る（Ｓ６０４）。検出したピクセルの数と単位ピクセル
当たり実際距離ηを用いて総実際距離（Ｄ４）を計算す
る（Ｓ６０６）。総実際距離（Ｄ４）を求めた後、この
総実際距離（Ｄ４）に対応する制御値を発生してステー
ジ２０２を制御する（Ｓ６０８及びＳ６１０）。
【００１９】このように、単位ピクセル当たり実際距離
の獲得段階を工程中に行うと、ステージを移動させるべ
き実際距離を正確に計算することができる。例えば、光
学システムの光学特性の変化により、モニタの画面上の
距離が普段より大きく出力されると、単位ピクセル当た
り実際距離が小さく計算される。しかし、単位ピクセル
当たり実際距離を用いて総実際距離を計算して光学シス
テムの光学特性の変化を補償することができる。
の獲得段階を工程中に行うと、ステージを移動させるべ
き実際距離を正確に計算することができる。例えば、光
学システムの光学特性の変化により、モニタの画面上の
距離が普段より大きく出力されると、単位ピクセル当た
り実際距離が小さく計算される。しかし、単位ピクセル
当たり実際距離を用いて総実際距離を計算して光学シス
テムの光学特性の変化を補償することができる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ピクセ
ル当たり実際距離ηを予め計算して精密位置制御に適用
する精密位置制御装置及び精密位置制御方法を提供す
る。したがって、光学システムの光学特性の変化を補償
して精密位置制御を行うことができる。また、別途の補
償装置及び費用増加なしに、光学特性変化の補償を作業
中に行うことができる。
ル当たり実際距離ηを予め計算して精密位置制御に適用
する精密位置制御装置及び精密位置制御方法を提供す
る。したがって、光学システムの光学特性の変化を補償
して精密位置制御を行うことができる。また、別途の補
償装置及び費用増加なしに、光学特性変化の補償を作業
中に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 従来の自動ウェーハ検査する値を示す概略図
である。
である。
【図２】 本発明の一実施例による精密位置制御装置の
ブロック図である。
ブロック図である。
【図３】 図２の精密位置制御装置を用いる精密位置制
御方法のフローチャートである。
御方法のフローチャートである。
【図４Ａ】 精密位置制御方法の座標軸整列方法を示す
フローチャートである。
フローチャートである。
【図４Ｂ】 前記座標軸整列方法の原理を示す図であ
る。
る。
【図５Ａ】 精密位置制御方法の単位ピクセル当たり実
際距離の獲得方法のフローチャートである。
際距離の獲得方法のフローチャートである。
【図５Ｂ】 単位ピクセル当たり実際距離の獲得方法を
示すフローチャートである。
示すフローチャートである。
【図６】 精密位置制御方法を用いる実際位置制御を示
すフローチャートである。
すフローチャートである。
２０２ ステージ
２０４ 被写体
２０６ カメラ
２０８ 入力部
２１０ 画像処理部
２１２ モニタ
２１４ 制御部
２１６ 基準パターン
２１８ 画像信号
２２０ 画像信号
２２２ ステージ制御信号
２２４ 画像入力部制御信号
２２６ 画像処理部制御信号
２２８ モニタ制御信号
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2F065 AA09 AA32 BB02 CC19 FF01
FF04 NN20 PP12 QQ31 RR05
UU02
5B057 AA03 BA19 CA12 CA16 DA07
DB02 DC32
5H303 AA06 BB02 BB07 BB12 CC01
EE03 EE07 FF14 GG14 HH02
HH07 LL03 QQ07
5L096 BA03 FA66 FA69 HA07
Claims (9)
- 【請求項１】 移動体の移動量を制御するための制御部
と、前記移動体を撮影し画像信号を発生させる光学シス
テムと、前記画像信号を画面上に出力するモニタとを含
む精密位置制御装置において、 前記制御部は、前記移動体の実際移動距離及び前記実際
移動距離に相当するピクセルの数を測定して前記モニタ
の画面上の単位ピクセル当たり実際距離を算出し、前記
移動体が一地点からほかの地点に移動するとき、前記単
位ピクセル当たり実際距離を用いて前記移動体の移動量
を制御することを特徴とする精密位置制御装置。 - 【請求項２】 移動体の移動量を制御するための制御部
と、前記移動体を撮影し画像信号を発生させる光学シス
テムと、前記画像信号を画面上に出力するモニタとを含
む精密位置制御装置による精密位置制御方法において、 前記移動体の実際移動距離及び前記実際移動距離に相当
するピクセルの数を測定して前記モニタの画面上の単位
ピクセル当たり実際距離を算出する段階と、 前記移動体が一地点からほかの地点に移動するとき、前
記単位ピクセル当たり実際距離を用いて前記移動体の移
動量を制御する段階とを含むことを特徴とする精密位置
制御方法。 - 【請求項３】 前記単位ピクセル当たり実際距離の算出
段階は、 前記移動体に形成された基準パターンを前記モニタの画
面の中央に位置させ、前記基準パターンを登録する段階
と、 前記登録された基準パターンと前記観測された基準パタ
ーン間のＸ軸及びＹ軸方向のピクセル差（ΔＸ、ΔＹ）
を算出して、前記モニタの画面の座標軸を前記移動体が
置かれているステージの座標軸と一致させる段階とをさ
らに含むことを特徴とする請求項２記載の精密位置制御
方法。 - 【請求項４】 前記モニタの画面の座標軸と前記ステー
ジの座標軸が一致しない場合、Δ＝tan-１（ΔＸ／Δ
Ｙ）を算出し、前記ステージをΔθだけ回転させること
により、モニタの画面の座標軸を前記ステージの座標軸
と一致させることを特徴とする請求項３記載の精密位置
制御方法。 - 【請求項５】 移動体の移動量を制御するための制御部
と、前記移動体を撮影し画像信号を発生させる光学シス
テムと、前記画像信号を画面上に出力するモニタとを含
む、光学システムの特性変化補償装置において、 前記制御部は、前記移動体の実際移動距離及び前記実際
移動距離に相当するピクセルの数を測定して前記モニタ
の画面上の単位ピクセル当たり実際距離を算出し、前記
単位ピクセル当たり実際距離を用いて前記移動体の移動
量を制御して前記光学システムの光学特性変化を補償す
ることを特徴とする光学システムの特性変化補償装置。 - 【請求項６】 移動体の移動量を制御するための制御部
と、前記移動体を撮影し画像信号を発生させる光学シス
テムと、前記画像信号を画面上に出力するモニタとを含
む、光学システムの特性変化補償装置による光学システ
ムの光学特性変化補償方法において、 前記移動体の実際移動距離及び前記実際移動距離に相当
するピクセルの数を測定して前記モニタの画面上の単位
ピクセル当たり実際距離を算出する段階と、 前記単位ピクセル当たり実際距離を用いて前記移動体の
移動量を制御することにより、前記光学システムの光学
特性変化を補償する段階とを含むことを特徴とする光学
システムの光学特性変化補償方法。 - 【請求項７】 前記単位ピクセル当たり実際距離の算出
段階は、 前記移動体に形成された基準パターンを前記モニタの画
面の中央に位置させ、前記基準パターンを登録する段階
と、 前記登録された基準パターンと前記観測された基準パタ
ーン間のＸ軸及びＹ軸方向のピクセル差（ΔＸ、ΔＹ）
を算出して、前記モニタの画面の座標軸を前記移動体が
置かれているステージの座標軸と一致させる段階とをさ
らに含むことを特徴とする請求項６記載の光学システム
の光学特性変化補償方法。 - 【請求項８】 前記モニタの画面の座標軸と前記ステー
ジの座標軸が一致しない場合、Δ＝tan-１（ΔＸ／Δ
Ｙ）を算出し、前記ステージをΔθだけ回転させること
により、モニタの画面の座標軸を前記ステージの座標軸
と一致させることを特徴とする請求項７記載の光学シス
テムの光学特性変化補償方法。 - 【請求項９】 前記光学システムの光学特性変化を補償
する段階は前記移動体が移動する前に行い、前記単位ピ
クセル当たり実際距離は前記移動体の移動量を算出する
のに用いられることを特徴とする請求項６記載の光学シ
ステムの光学特性変化補償方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2002-0019440A KR100428510B1 (ko) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | 광학 시스템을 이용한 정밀 위치 제어 장치 및 방법 |
| KR2002-019440 | 2002-04-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003316441A true JP2003316441A (ja) | 2003-11-07 |
Family
ID=28786913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002361286A Pending JP2003316441A (ja) | 2002-04-10 | 2002-12-12 | 精密位置制御装置及びそれによる精密位置制御方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20030193560A1 (ja) |
| JP (1) | JP2003316441A (ja) |
| KR (1) | KR100428510B1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101660895B (zh) * | 2008-08-29 | 2012-06-20 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 准确定位被测要素位置的计算机系统及方法 |
| KR101039495B1 (ko) * | 2009-07-14 | 2011-06-08 | 주식회사 테크노프린트 | 고 에너지 효율을 갖는 차선용 안전 규제봉 |
| KR101013435B1 (ko) * | 2010-08-12 | 2011-02-14 | (주)한동알앤씨 | 태양 전지와 ｌｅｄ를 이용한 경계석 |
| CN103162618A (zh) * | 2011-12-14 | 2013-06-19 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 光谱共焦量测系统及方法 |
| CN104916560B (zh) * | 2014-03-11 | 2018-05-25 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 晶片检测系统、反应腔室及晶片检测方法 |
| CN104820181A (zh) * | 2015-05-14 | 2015-08-05 | 中南大学 | 一种封装晶圆阵列微探针全自动测试系统及方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3899634A (en) * | 1971-05-26 | 1975-08-12 | Western Electric Co | Video controlled positioning method and apparatus |
| US4325077A (en) * | 1980-05-19 | 1982-04-13 | Gca Corporation | Automatic wafer alignment system |
| US4924304A (en) * | 1987-11-02 | 1990-05-08 | Mpm Corporation | Video probe aligning of object to be acted upon |
| US5617259A (en) * | 1994-03-07 | 1997-04-01 | Sony Corporation | Projection TV set apparatus |
-
2002
- 2002-04-10 KR KR10-2002-0019440A patent/KR100428510B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-08-05 US US10/211,531 patent/US20030193560A1/en not_active Abandoned
- 2002-12-12 JP JP2002361286A patent/JP2003316441A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20030080684A (ko) | 2003-10-17 |
| KR100428510B1 (ko) | 2004-04-29 |
| US20030193560A1 (en) | 2003-10-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4938600A (en) | Method and apparatus for measuring registration between layers of a semiconductor wafer | |
| US9390885B2 (en) | Superposition measuring apparatus, superposition measuring method, and superposition measuring system | |
| WO2010032857A1 (ja) | パターンの検査装置、及びパターンの検査方法 | |
| US20130194569A1 (en) | Substrate inspection method | |
| JP4652391B2 (ja) | パターン検査装置、及び、パターン検査方法 | |
| JPS6317523A (ja) | 電子ビ−ム描画装置 | |
| CN105719993B (zh) | 一种校正电子显微镜电子束与晶圆位置偏差的方法 | |
| KR20200047643A (ko) | 패턴 계측 장치 및 패턴 계측 방법 | |
| TW202109596A (zh) | 帶電粒子束系統，及疊合錯位量測定方法 | |
| TWI575645B (zh) | 採用雙攝像鏡頭為對位平台上的物件進行對位的方法、顯示面板之基板對位上膠的方法和顯示面板之上下基板的對位方法 | |
| JP2006276454A (ja) | 画像補正方法、およびこれを用いたパターン欠陥検査方法 | |
| JP2003316441A (ja) | 精密位置制御装置及びそれによる精密位置制御方法 | |
| US5978094A (en) | Alignment device and method based on imaging characteristics of the image pickup system | |
| JP5096852B2 (ja) | 線幅測定装置および線幅測定装置の検査方法 | |
| KR102216336B1 (ko) | 카메라 모듈의 능동정렬장치 및 능동정렬방법 | |
| JP4867219B2 (ja) | 検査装置及び検査装置の位置決め方法 | |
| US11862495B2 (en) | Monitor wafer measuring method and measuring apparatus | |
| JP2012133122A (ja) | 近接露光装置及びそのギャップ測定方法 | |
| JPH1183439A (ja) | 画像計測装置 | |
| JPH11185688A (ja) | 観察装置及びその倍率調整方法 | |
| US7154537B2 (en) | Camera system, control method thereof, device manufacturing apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| US8027528B2 (en) | Method for calculating height of chuck top and program storage medium for storing same method | |
| JP4261535B2 (ja) | マスク検査装置におけるアライメント方法および評価方法 | |
| TWI837655B (zh) | 用來處理藉由帶電粒子束裝置得到的圖像之圖像處理系統，疊合錯位量算出方法，及圖像處理程式 | |
| JPS6154622A (ja) | パタ−ン転写方法および装置並びにそれらに適用するプリアライナおよびマスクホルダ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050830 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051128 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060131 |