JPH11185688A - 観察装置及びその倍率調整方法 - Google Patents

観察装置及びその倍率調整方法

Info

Publication number
JPH11185688A
JPH11185688A JP9353956A JP35395697A JPH11185688A JP H11185688 A JPH11185688 A JP H11185688A JP 9353956 A JP9353956 A JP 9353956A JP 35395697 A JP35395697 A JP 35395697A JP H11185688 A JPH11185688 A JP H11185688A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnification
observation
display
sample
displayed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9353956A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshihiro Ishizuka
俊弘 石塚
Tetsuya Muku
哲也 椋
Genji Taniguchi
元始 谷口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP9353956A priority Critical patent/JPH11185688A/ja
Publication of JPH11185688A publication Critical patent/JPH11185688A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、電子顕微鏡等の観察装置の倍率を
校正する際に標準試料を用いた倍率調整処理を行うこと
なく、観察対象の試料の観察中にも倍率の校正を行うこ
とができる観察装置及びその倍率調整方法を提供するこ
とを課題とする。 【解決手段】 観察装置は、観察試料を任意の倍率で観
察する顕微鏡と、電子顕微鏡に対する観察試料の相対的
な位置関係を任意に変化させるステージと、観察試料が
搭載されたステージの位置を検出するスケールと、電子
顕微鏡により観察された試料を所定の倍率で拡大表示す
るモニターと、電子顕微鏡の走査偏向器を調整すること
により、ステージ上の観察試料に対する観察倍率を任意
に設定する倍率調整部と、観察試料の画像情報のモニタ
ーへの拡大表示、ステージの移動制御、スケールによる
ステージ位置の変化量の計測、電子顕微鏡の倍率制御倍
率調整のための演算処理を実行するコントローラと、を
有して構成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、観察装置及びその倍率
調整方法に関し、特に、電子顕微鏡、電子ビーム検査装
置等において、観察された試料画像を、予め設定した任
意の倍率でモニター上に正確に表示するための校正方法
及びその構成に関する。通常、電子顕微鏡や電子ビーム
検査装置等においては、任意の試料を観察する場合、事
前に光学系の倍率の校正を行う必要がある。すなわち、
光学系に設定した倍率と、現実に拡大表示された画像の
倍率が一致しているか否かを検定する必要があり、この
ような倍率の校正により観察された試料の寸法を正確に
把握することができる。特に、近年の半導体集積回路
(LSI)の高集積化、高機能化に伴い、サブミクロン
単位の配線幅を正確に捉えることは、LSIの製造、検
査工程において、極めて重要である。
【0002】
【従来の技術】一般に、電子顕微鏡や電子ビーム検査装
置等の観察装置における倍率の校正は、予め寸法が判明
している標準試料を観察し、標準試料の実際の寸法とモ
ニター上に表示された画像の大きさに基づいて実際の表
示倍率(以下、実倍率という)を算出して、観察装置に
設定された倍率(以下、設定倍率という)とのずれを補
正することにより行われている。
【0003】具体的には、標準試料として、予め所定の
寸法で形成されたメッシュ形状のものや球形状の高分子
ポリマーを、顕微鏡の試料搭載台(ステージ)上に搭載
し、例えば、モニター上に表示されたメッシュや標準試
料の大きさにより顕微鏡の実倍率を算出する方法が採用
されている。このような方法によれば、例えば、1/1
0μmオーダーの精度で倍率の検定を行うことができ、
倍率の校正を高い精度で実現することができる。
【0004】これに対して、光学顕微鏡の場合には、接
眼レンズと対物レンズの組み合わせにより倍率が決定さ
れ、上述した電子顕微鏡等のように連続的な倍率の設定
を行うことはできないため、実倍率と設定倍率のずれを
校正することはできない。そこで、予め実倍率と設定倍
率のずれを考慮して、設定倍率Mで観察したときの実倍
率をm(≠M)と換算することにより補正を行ってい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の倍率の
校正方法においては、既知の寸法の標準試料を観察し、
表示手段上に拡大表示された画像が何倍になっているか
を判別し、観察装置の設定倍率と実倍率とのずれを補正
するという、一連の倍率調整処理を観察対象となる試料
の観察前に行わなければならないという問題があった。
【0006】また、電子顕微鏡等の電子ビームを用いた
観察装置においては、電気的な動作条件等の変動により
簡単に、しかも著しく倍率が変わるという問題を有して
いる。さらに、倍率の調整処理時に用いられる標準試料
との高さと観察対象となる試料の高さが正確に一致して
いないと、顕微鏡と観察対象との離間距離(焦点距離)
が異なって倍率が変化することとなり、校正された倍率
の精度が劣化するため、再度調整処理を行う必要があっ
た。
【0007】また、光学顕微鏡においても、観察対象を
光学系を介して拡大した後、カメラ等用いてモニタ上に
表示するような場合には、倍率の換算の精度が劣るとい
う問題があった。本発明は、上記問題点を解決し、電子
顕微鏡等の観察装置の倍率を校正する際に標準試料を用
いた倍率調整処理を行うことなく、観察対象の試料の観
察中にも倍率の校正を行うことができる観察装置及びそ
の倍率調整方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の発明は、前記観察対象物の形状を画
像情報として認識する観察手段と、前記観察対象物と前
記観察手段との相対的な位置関係を任意に変化させる移
動手段と、前記移動手段による前記位置関係を計測する
計測手段と、前記観察手段により観察された前記観察対
象物の画像情報を表示する表示手段と、前記観察手段を
操作して前記表示手段に表示される前記観察対象物の倍
率を任意に設定する倍率調整手段と、前記表示手段上に
表示された任意の画像の座標間寸法と、前記計測手段に
より計測された、該画像の座標間寸法に相当する前記位
置関係とに基づいて、前記表示手段に表示された前記観
察対象物の表示倍率を算出する演算手段と、前記演算手
段により算出された表示倍率と、前記倍率調整手段によ
り設定された倍率とを比較して、一致させる制御手段
と、を具備することを特徴としている。
【0009】また、請求項2記載の発明は、請求項1記
載の観察装置において、前記計測手段は、前記表示手段
に表示された画像の複数の任意の点を、所定の基準位置
に合致させたときの前記位置関係を変化量として計測
し、前記演算手段は、該変化量に対する前記画像の任意
の点の座標間寸法を前記表示倍率として算出することを
特徴としている。
【0010】さらに、請求項3記載の発明は、請求項1
又は2記載の観察装置において、前記観察手段は、電子
ビームを前記観察対象物に照射して発生する2次電子を
検出することにより、前記観察対象物の形状を画像情報
として認識することを特徴としている。そして、請求項
4記載の発明は、観察手段により観察された観察対象物
の形状を任意の倍率で表示手段に表示する観察装置の倍
率調整方法において、前記観察対象物の形状を前記表示
手段に表示する際の倍率を任意に設定する処理と、前記
表示手段上に表示された前記観察対象物の画像から複数
の任意の点を座標情報として抽出する処理と、前記複数
の任意の点を、前記表示手段上の所定の基準位置に順次
合致させたときの前記観察対象物と前記観察手段との相
対的な位置関係を変化量として計測する処理と、前記複
数の任意の点の座標情報と前記位置関係の変化量に基づ
いて、前記表示手段に表示される前記観察対象物の表示
倍率を算出する処理と、該表示倍率及び前記設定倍率を
比較して、一致させる処理と、を含むことを特徴として
いる。
【0011】すなわち、本発明によれば、観察対象の試
料の任意のパターンについての表示手段上での座標間寸
法と、この座標間寸法に対応する観察手段と試料との位
置関係の変位量とに基づいて実倍率が算出され、設定倍
率との差が補正される。したがって、観察対象の試料を
用いて倍率の調整処理を実行することができるため、既
知の寸法の標準試料を用いた一連の倍率調整処理を事前
に行うことなく、適時倍率の的確な校正を実現すること
ができる。
【0012】特に、観察手段と試料との位置関係を計測
する計測手段として、マグネスケールやレーザ測長器な
どのように分解能が1/100μmオーダーの高精度の
ものを使用することにより、近年のICパターン寸法と
して一般的な1/10μmオーダーの寸法測定を精度良
く行うことができ、より正確な倍率の校正を実現するこ
とができる。
【0013】
【本発明の実施態様】以下、本発明に係る観察装置及び
その倍率調整方法について、実施例を示して説明する。
本発明に係る観察装置の一実施例について、図1を参照
して説明する。図1において、観察装置10は、観察手
段を構成する顕微鏡1と、移動手段を構成するステージ
2と、計測手段を構成するスケール3と、表示手段を構
成するモニター4と、倍率調整手段を構成する倍率調整
部5と、演算手段及び制御手段を構成するコントローラ
6と、を有して構成されている。
【0014】顕微鏡1は、例えば、周知の電子顕微鏡で
あって、走査偏向器によりステージ上に搭載された観察
対象の試料(以下、観察試料という)11を任意の走査
範囲及び倍率で観察する。ステージ2は、X−Yステー
ジ等の移動機構上に試料搭載部を有し、固定された電子
顕微鏡1に対する観察試料11の相対的な位置関係を任
意に変化させる。
【0015】スケール3は、観察試料11が搭載された
ステージ2の位置、すなわち、相対的な位置関係をx、
y方向の変化量として検出する計測器であって、例え
ば、周知のマグネスケール、レーザスケール、レーザ干
渉を利用したレーザ測長器等を適用することができる。
モニター4は、電子顕微鏡1により観察された試料11
を所定の倍率で拡大表示することにより、マウスやキー
ボード等を介してステージ2の移動や倍率の変更、調整
等の操作を行う際のインターフェースとしての役割を果
たす。
【0016】倍率調整部5は、電子顕微鏡1の鏡筒に設
けられた走査偏向器を調整することにより、ステージ2
上の観察試料11に対する観察倍率を任意に設定する。
コントローラ6は、電子顕微鏡1の走査、倍率制御、ス
テージ2の移動制御、スケール3によるステージ位置の
変化量の計測、電子顕微鏡1により観察された試料11
の画像情報のモニター4への拡大表示、オペレータによ
る種々の命令の処理等に加え、後述する倍率調整のため
の演算処理を実行する。具体的な動作については、倍率
調整方法の説明において詳述する。
【0017】なお、電子顕微鏡1の鏡筒の電子ビームの
経路、観察試料11は、周知のように、真空状態下に保
持されなければならない。次に、上述した観察装置10
における倍率調整方法について、図2のフローチャート
に従い、図3から図6を参照して説明する。まず、観察
試料11に対する表示倍率(設定倍率)Mが任意に設定
される。これにより、電子顕微鏡1により観察されたス
テージ2上の観察試料11、あるいは、観察試料11の
任意のパターン11aが、図3に示すように、見かけ上
M倍に拡大されてモニター4に画像パターン12aとし
て表示される(S11)。
【0018】ここで、観察試料11のパターンのうち、
モニター4も画面に全体形状が入る大きさを有する矩形
パターン11aを任意に選択し(S12)、その頂点を
R1、R2、R3、R4とすると、モニター4の画面4
aには、図4に示すように、各点が対応する頂点D1、
D2、D3、D4を有する画像パターン12aとして表
示される。
【0019】次いで、モニター4に表示された画像パタ
ーン12aの各頂点D1、D2、D3、D4のうち、頂
点D1、D2、D3をマウス等により指示することによ
り、座標情報としてコントローラ6に保持される(S1
3)。すなわち、モニター4に表示された画像パターン
12aの大きさを算出するために必要な数の座標情報を
保持すればよい。そのため、後述する基準点を構成する
クロスカーソルに対して画像パターン12aが平行に表
示され、回転方向の変位を生じていない場合には、コン
トローラ6は画像パターン12aの2つの頂点D1、D
3のみを保持すればよい。
【0020】そして、モニター4の画面表示範囲の実寸
法とドット数から、単位ドット当たりの寸法をあらかじ
めを求めておくことにより、3点の座標情報から画像パ
ターン12aのx−y各方向の表示寸法(D1−D2、
D2−D3)が算出される。次いで、図5に示すよう
に、モニター4の画面4aに縦横方向、すなわち、x−
y方向に直交するライン(以下、クロスカーソルとい
う)13を表示し、このラインの交点を基準点13aと
する(S14)。この基準点13a画面4a上での表示
位置は、どの位置でも構わないが、本発明の倍率調整処
理が終了するまでは、基準点13aの位置を固定する必
要がある。なお、図5においては、基準点13aをクロ
スカーソル13により表示する例を示したが、小さな十
字カーソル等で表示してもよい。
【0021】次いで、図6(a)に示すように、観察試
料11が搭載されたステージ2をx−y方向に移動し、
モニター4に表示された画像パターン12aの頂点D1
を基準点13aに一致させる。このとき、ステージ2に
隣接して設けられたスケール3によりステージ2のx−
y方向の位置を計測して、コントローラ6に保持する
(S15)。
【0022】このような操作を画像パターンの頂点D
2、D3についても順次繰り返し、計測されたステージ
2の位置から画像パターン12aのD1−D2、D2−
D3の寸法に対応する観察試料11の実寸法R1−R
2、R2−R3が算出される。次いで、観察試料11の
実寸法と画像パターン12aの表示寸法から表示倍率、
すなわち観察装置10に倍率Mを設定した場合の実倍率
mを算出する(S16)。
【0023】次いで、設定倍率Mと実倍率mとを比較し
(S17)、実倍率mを設定倍率Mに一致させるために
必要な調整量を算出する。本実施例においては、電子顕
微鏡1を適用した例を示しているので、実倍率mを設定
倍率Mに一致させるために必要な調整量は、走査偏向器
への印加電圧の補正量として求められる(S18)。次
いで、算出された補正量の分だけ走査偏向器への印加電
圧を補正して、実倍率mを設定倍率Mに一致させる(S
19)。
【0024】上述したような観察装置の倍率調整方法に
よれば、観察試料の観察中に倍率の校正を適時実行する
ことができるため、従来技術として示したように、事前
に既知の寸法の標準試料を用いた倍率調整処理を行う必
要がない。なお、本実施例においては、特定(一つ)の
設定倍率に対する倍率調整方法について説明したが、倍
率調整の精度を一層向上させるためには、複数の異なる
設定倍率について同様の処理を行えばよい。
【0025】また、本実施例においては、モニター4に
表示された画像パターン12aの各頂点の座標情報をコ
ントローラ6に保持した後、スケール3により観察試料
11の実寸法を計測したが、この順序を逆にしてもよ
い。さらに、設定倍率Mと実倍率mを一致させる方法と
して、上述したように実倍率mを設定倍率Mに一致させ
るように補正量を算出する方法の他に、観察装置におけ
る設定倍率Mの表示を実倍率mに一致させるように修正
する方法を適用してもよい。
【0026】次に、観察装置として光学顕微鏡を適用し
た場合について説明する。この場合、顕微鏡としてカメ
ラ付きの光学鏡筒を設けることにより、上述した実施例
と同様に、設定倍率Mに対する実倍率mを算出すること
ができる。しかしながら、光学顕微鏡においては、その
構成上、連続的な任意の倍率を設定することができない
ため、図2に示した倍率調整方法のうち、設定倍率Mと
実倍率mとを比較して、補正量を算出し、実倍率mを設
定倍率Mに一致させる処理を実行することはできない。
【0027】そのため、図2に示すように、観察試料の
実寸法とモニター上での表示寸法から算出された実倍率
mを、モニターあるいは専用のディスプレイ上に実倍率
mとして表示することにより(S20)、オペレータは
見かけ上の倍率Mに囚われることなく正確な倍率を認識
することができる。ところで、上述した実施例において
は、モニター4の画面4aに単にクロスカーソル13を
表示して基準点13aとすることを説明したが、実際に
は、画像パターン12aの明るさに応じてクロスカーソ
ル13の明るさを変更する必要がある。
【0028】そのためのクロスカーソルの表示方法とし
て、次のような方法を適用することができる。 観察対象(画像パターン)の明るさ(輝度)が、輝度
データ範囲の1/2よりも明るい場合には、クロスカー
ソルを黒で表示し、1/2より暗い場合には、クロスカ
ーソルを白で表示する。 モニターに表示されている全画像データの中から輝度
データの最小値及び最大値を抽出し、(最小値+最大
値)/2の明るさとなるようにクロスカーソルを表示す
る。
【0029】このようなクロスカーソルの表示方法によ
れば、白黒表示機能しか持たないモニターの場合、画像
パターン12a等の観察対象の明るさとクロスカーソル
13の明るさが近似して、画像パターン12aの頂点と
基準点13aとの一致状況が認識しづらくなるという問
題を解決することができる。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
観察対象の試料の任意のパターンについての表示手段上
での座標間寸法と、この座標間寸法に対応する観察手段
と試料との位置関係の変位量とに基づいて実倍率が算出
され、設定倍率との差を補正することにより倍率の調整
処理が実行されるため、既知の寸法の標準試料を用いた
一連の倍率調整処理を事前に行うことなく、適時倍率の
的確な校正を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る観察装置の一実施例を示す概略構
成図である。
【図2】本発明に係る観察装置の倍率調整方法を示すフ
ローチャートである。
【図3】観察試料の拡大表示と倍率の関係を説明する概
念図である。
【図4】モニターに表示された画像パターンの例を示す
図である。
【図5】モニターに表示された基準点の一例を示す図で
ある。
【図6】ステージ位置を計測するためのモニター上での
操作例を示す図である。
【符号の説明】
1 顕微鏡 2 ステージ 3 スケール 4 モニター 4a 画面 5 倍率調整部 6 コントローラ 10 観察装置 11 観察試料 11a 矩形パターン 12a 画像パターン 13 クロスカーソル 13a 基準点

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】前記観察対象物の形状を画像情報として認
    識する観察手段と、 前記観察対象物と前記観察手段との相対的な位置関係を
    任意に変化させる移動手段と、 前記移動手段による前記位置関係を計測する計測手段
    と、 前記観察手段により観察された前記観察対象物の画像情
    報を表示する表示手段と、 前記観察手段を操作して前記表示手段に表示される前記
    観察対象物の倍率を任意に設定する倍率調整手段と、 前記表示手段上に表示された任意の画像の座標間寸法
    と、前記計測手段により計測された、該画像の座標間寸
    法に相当する前記位置関係とに基づいて、前記表示手段
    に表示された前記観察対象物の表示倍率を算出する演算
    手段と、 前記演算手段により算出された表示倍率と、前記倍率調
    整手段により設定された倍率とを比較して、一致させる
    制御手段と、を具備することを特徴とする観察装置。
  2. 【請求項2】前記計測手段は、前記表示手段に表示され
    た画像の複数の任意の点を、所定の基準位置に合致させ
    たときの前記位置関係を変化量として計測し、 前記演算手段は、該変化量に対する前記画像の任意の点
    の座標間寸法を前記表示倍率として算出することを特徴
    とする請求項1記載の観察装置。
  3. 【請求項3】前記観察手段は、電子ビームを前記観察対
    象物に照射して発生する2次電子を検出することによ
    り、前記観察対象物の形状を画像情報として認識するこ
    とを特徴とする請求項1又は2記載の観察装置。
  4. 【請求項4】観察手段により観察された観察対象物の形
    状を任意の倍率で表示手段に表示する観察装置の倍率調
    整方法において、 前記観察対象物の形状を前記表示手段に表示する際の倍
    率を任意に設定する処理と、 前記表示手段上に表示された前記観察対象物の画像から
    複数の任意の点を座標情報として抽出する処理と、 前記複数の任意の点を、前記表示手段上の所定の基準位
    置に順次合致させたときの前記観察対象物と前記観察手
    段との相対的な位置関係を変化量として計測する処理
    と、 前記複数の任意の点の座標情報と前記位置関係の変化量
    に基づいて、前記表示手段に表示される前記観察対象物
    の表示倍率を算出する処理と、 該表示倍率及び前記設定倍率を比較して、一致させる処
    理と、を含むことを特徴とする観察装置の倍率調整方
    法。
JP9353956A 1997-12-24 1997-12-24 観察装置及びその倍率調整方法 Pending JPH11185688A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9353956A JPH11185688A (ja) 1997-12-24 1997-12-24 観察装置及びその倍率調整方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9353956A JPH11185688A (ja) 1997-12-24 1997-12-24 観察装置及びその倍率調整方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11185688A true JPH11185688A (ja) 1999-07-09

Family

ID=18434354

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9353956A Pending JPH11185688A (ja) 1997-12-24 1997-12-24 観察装置及びその倍率調整方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11185688A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003156427A (ja) * 2001-11-21 2003-05-30 Mauntekku:Kk 粒子形状解析方法および装置
WO2004109793A1 (ja) * 2003-05-30 2004-12-16 Ebara Corporation 試料検査装置及び方法並びに該試料検査装置及び方法を用いたデバイス製造方法
JP2005017270A (ja) * 2003-06-06 2005-01-20 Ebara Corp 欠陥検査方法及びデバイス製造方法
JP2005164611A (ja) * 2000-03-27 2005-06-23 Palm Microlaser Technologies Ag 生物学的または非生物学的物体を操作する方法及び操作する装置の制御システム
JP2006058210A (ja) * 2004-08-23 2006-03-02 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線顕微方法、荷電粒子線顕微装置、測長方法及び測長装置
JP2012015029A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Keyence Corp 拡大観察装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005164611A (ja) * 2000-03-27 2005-06-23 Palm Microlaser Technologies Ag 生物学的または非生物学的物体を操作する方法及び操作する装置の制御システム
JP2003156427A (ja) * 2001-11-21 2003-05-30 Mauntekku:Kk 粒子形状解析方法および装置
WO2004109793A1 (ja) * 2003-05-30 2004-12-16 Ebara Corporation 試料検査装置及び方法並びに該試料検査装置及び方法を用いたデバイス製造方法
US7248353B2 (en) 2003-05-30 2007-07-24 Ebara Corporation Method and apparatus for inspecting samples, and method for manufacturing devices using method and apparatus for inspecting samples
US7408643B2 (en) 2003-05-30 2008-08-05 Ebara Corporation Method and apparatus for inspecting samples, and method for manufacturing devices using method and apparatus for inspecting samples
JP2005017270A (ja) * 2003-06-06 2005-01-20 Ebara Corp 欠陥検査方法及びデバイス製造方法
JP2006058210A (ja) * 2004-08-23 2006-03-02 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線顕微方法、荷電粒子線顕微装置、測長方法及び測長装置
JP2012015029A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Keyence Corp 拡大観察装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8767038B2 (en) Method and device for synthesizing panorama image using scanning charged-particle microscope
JP5180428B2 (ja) 走査型電子顕微鏡用撮像レシピ作成装置及びその方法並びに半導体パターンの形状評価装置
JP4365854B2 (ja) Sem装置又はsemシステム及びその撮像レシピ及び計測レシピ生成方法
US7164127B2 (en) Scanning electron microscope and a method for evaluating accuracy of repeated measurement using the same
US8502141B2 (en) Graphical user interface for use with electron beam wafer inspection
US8134697B2 (en) Inspection apparatus for inspecting patterns of substrate
US11562882B2 (en) Scanning electron microscope
JP5393797B2 (ja) 荷電粒子線装置の信号処理方法、及び信号処理装置
US20120290990A1 (en) Pattern Measuring Condition Setting Device
US7800060B2 (en) Pattern measurement method and pattern measurement system
WO2014077303A1 (ja) 画像処理装置、自己組織化リソグラフィ技術によるパターン生成方法、及びコンピュータープログラム
US9053904B2 (en) Image quality adjusting method, non-transitory computer-readable recording medium, and electron microscope
WO2010089959A9 (ja) 吸収電流像を利用した半導体検査方法及び装置
WO2012029220A1 (ja) 半導体製造装置の管理装置、及びコンピュータプログラム
JPH11185688A (ja) 観察装置及びその倍率調整方法
JP5043741B2 (ja) 半導体パターンの検査方法及び検査装置
KR20100034039A (ko) 미소 치수 측정 방법 및 측정 장치
JP6001945B2 (ja) パターン計測装置及び方法
JP5241697B2 (ja) アライメントデータ作成システム及び方法
JP5491817B2 (ja) 電子顕微鏡における薄膜試料位置認識装置
JP2003316441A (ja) 精密位置制御装置及びそれによる精密位置制御方法
JP2008060505A (ja) 半導体検査方法及び装置
JPH0375507A (ja) パターン検査方法およびその装置
JPH05101166A (ja) パターンマツチング装置
JPH1097983A (ja) 位置検出方法

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060117

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060627