JP2003315709A - マルチビーム走査装置および画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数ビームの走査線間隔調整を可能とし、小
型化を実現できる光走査装置を提供する。 【解決手段】 第一の光源モジュール１３と第二の光源
モジュール２３から出射された光ビームは光ビーム合成
プリズム３１によって合成され、シリンドリカルレンズ
３２の作用により偏向器（ポリゴンスキャナ）３３の偏
向反射面上に主走査方向に長い線像として結像される。
偏向器３３によって偏向反射された４本の光ビームは走
査結像光学系３４の作用により、被走査面３５となる感
光体ドラム上を光スポットとして走査される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明のマルチビーム走査装
置に関し、特にレーザプリンタ、デジタル複写機、レー
ザファクシミリ等に含むマルチビーム走査装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】書込み系に用いられる光走査装置におい
て記録速度を向上させる手段として偏向手段であるポリ
ゴンミラーの回転速度を上げる方法がある。しかし、こ
の方法ではモータの耐久性や騒音、振動、およびレーザ
の変調スピード等が問題となり限界がある。そこで一度
に複数の光ビームを走査して複数ラインを同時に記録す
る提案がなされている。

【０００３】複数のレーザビームを出射するマルチビー
ム光源装置の方式として、例えば１パッケージ内に複数
の発光点（発光チャンネル）を有する半導体レーザアレ
イを用いる方式があるが、製造プロセス上チャンネル数
を増加することが困難であり、また熱的／電気的なクロ
ストークの影響を除去することが難しく、短波長化が困
難であるといった理由により、現在では高価な光源手段
である。

【０００４】一方シングルビーム半導体レーザは、現在
でも短波長化が比較的容易であり、低コストにて製造す
ることが可能であり、種々の工業分野にて汎用的に用い
られている。このシングルビーム半導体レーザ（あるい
はマルチビーム半導体レーザ）を光源とし、ビーム合成
手段を用いて複数のレーザビームを合成する光源装置及
び複数ビーム走査装置に関する提案が、従来から多数行
われている。しかし半導体レーザアレイを光源手段とし
て用いる方法と比較し、ビーム合成手段を用いて複数の
レーザビームを合成する方法の場合には、環境変動／経
時等の影響により、被走査面におけるビームスポット配
列（ビームピッチ；走査線間隔）が変動するといった問
題が発生しやすかった。

【０００５】上記問題を解決することを目的として、以
下のような従来技術が開示されている。特開２０００−
２２７５６３号公報の「マルチビーム走査光学装置」
は、複数の光源から出射される光ビームをビーム合成プ
リズムを用いて合成する走査装置である。ポリゴンミラ
ーの反射面上に線像を形成するためのシリンドリカルレ
ンズを副走査方向にシフトすることにより、光ビームの
出射方向を調整することで、被走査面上のビームスポッ
ト位置を調整する。

【０００６】特開平１０−２１５３５１号公報の「光ビ
ーム走査装置」は、複数の光源から出射される光ビーム
をビーム合成プリズムを用いて合成する走査装置であ
る。ポリゴンミラーの反射面上に線像を形成するための
シリンドリカルレンズを副走査方向にシフトすることに
より、光ビームの出射方向を調整することで、被走査面
上のビームスポット位置を調整する。

【０００７】特開平９−１８９８７３号公報の「マルチ
ビーム走査方法およびマルチビーム走査装置」は、複数
の光源から出射される光ビームをハーフミラーを用いて
合成する走査装置である。光路中に設けられたガルバノ
ミラーの傾き調整及び光源装置の傾き調整により、光ビ
ームの出射方向を調整することで被走査面上のビームス
ポット位置を調整する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記先願発明例のいず
れの発明も、ある半導体レーザからの出射ビームを他の
半導体レーザと合成する場合、合成される一つの半導体
レーザに対し一つのビーム合成手段を用いており、光走
査装置及び光源装置の小型化／簡略化、部品点数の低減
等を図ることが困難であった。本発明は係る問題に鑑み
てなされたものであり、複数ビームの走査線間隔調整が
可能であり、小型化を実現できるマルチビーム走査装置
を提供する。

【０００９】また本発明は、被走査面上の走査線間隔を
容易に調整することにより、環境変動／経時等の影響に
よる走査線間隔変動を抑制することを目的とする。

【００１０】また複数ビームの書込みよる画像形成装置
を用いることで、単一ビーム書込みの場合と比較してプ
リント速度の高速化／プリント密度の高密度化を実現
し、またポリゴンスキャナの回転数を低減することによ
り環境負荷の低減及び騒音、熱の発生を防止し、高品位
な出力画像が得られるカラー画像形成装置を提供すると
共に部品点数の低減及び装置の小型化を図る。

【００１１】なお、２つのレーザビームを出射する光源
モジュールを複数（Ｎ個）用い、この光源モジュールか
らの出射ビーム（２Ｎ本）を［（２Ｎ−１）］個のビー
ム合成手段にて合成する。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載のマルチビーム走査装置は、複数の２
本の光ビームを出射する光源モジュールと、複数の光源
モジュールから出射される光ビームを合成するためのビ
ーム合成手段から構成される光源装置において、光源装
置から出射される光ビームを、被走査面に光スポットと
して走査することを特徴とする。

【００１３】請求項２記載のマルチビーム走査装置は、
光源モジュールから出射される光ビームの光軸の副走査
方向を可変するための出射方向変更手段を有することを
特徴とする。

【００１４】請求項３記載のマルチビーム走査装置は、
出射方向変更手段は、ある光源モジュールから出射され
る２本の光ビームの光軸の副走査方向成分を相対的に可
変することを特徴とする。

【００１５】請求項４記載のマルチビーム走査装置は、
出射方向変更手段が、ある光源モジュールから出射され
る２本の光ビームの光軸の副走査方向成分を共通に可変
する（２本の光ビームの光軸の相対的な副走査方向成分
は変化させない）ことを特徴とする。

【００１６】請求項５記載のマルチビーム走査装置は、
被走査面における光スポット配列を検出し、その検出結
果に基づき出射方向変更手段を駆動する駆動手段を有す
ることを特徴とする。

【００１７】請求項６記載の画像形成装置は、光走査装
置によって静電像が形成される感光手段と、静電像をト
ナーで現像化する現像手段と現像化されたトナー像を記
録紙に転写する転写手段とを有することを特徴とする。

【００１８】請求項７記載の画像形成装置は、被走査面
となる感光手段を複数有することを特徴とする。

【００１９】請求項８記載の画像形成装置は、ビーム合
成手段を、異なるステーション間にて共通に使用できる
ことを特徴とする。

【００２０】

【発明の実施の形態】本発明の実施形態を、図を参照し
て説明する。図１は本発明の光走査装置の構成を示す。
光走査装置は、半導体レーザ（１１ａ、１１ｂ、２１
ａ、２１ｂ）とカップリングレンズ（１２ａ、１２ｂ、
２２ａ、２２ｂ）、ビーム合成プリズム３１、シリンド
リカルレンズ３２、偏向器（ポリゴンスキャナ）３３、
走査結像光学系３４、被走査面３５から構成されてい
る。

【００２１】第一の光源モジュール１３（半導体レーザ
１１ａ及び１１ｂとそれに対応するカップリングレンズ
１２ａ及び１２ｂ、及びそれらを保持する保持部材３６
から構成される）から出射した２本の光ビームと、第一
の光源モジュール１３と同様の構成からなる第二の光源
モジュール２３から出射した２本の光ビーム合成プリズ
ム３１により合成された後、副走査方向にパワーを有す
るシリンドリカルレンズ３２の作用により偏向器（ポリ
ゴンスキャナ）３３の偏向反射面上に主走査方向に長い
（副走査方向に結像した）線像として結像される。偏向
器３３にて偏向反射された４本の光ビームは、走査結像
光学系３４の作用により、被走査面３５となる感光体ド
ラム上を光スポットとして走査する。このとき４つの光
スポットは、走査密度に従い、副走査方向に所定の間隔
を有し配列される。

【００２２】図１１は、同一の光源モジュールから出射
した２本の光ビームは、ポリゴンスキャナ３３の偏向反
射面付近にて互いに交差する構成になっており、両光ビ
ーム間の被走査面３５での光学特性（例えば像面湾曲、
倍率誤差等）の際の発生を低減している。２本の光ビー
ムが交差する角度が小さいほど、光学特性の差異も小さ
くなるため、図１１に示すように各光源モジュールから
出射する２本の光ビームを、上述とは異なるビーム合成
プリズム３１Ａを用いて合成する構成を採用しても構わ
ない。

【００２３】また異なる光源モジュールから出射される
光ビームも、ポリゴンスキャナ３３の偏向反射面付近に
て交差させる構成としても構わない。

【００２４】また本図においては、光源モジュールは２
つとしたが、ビーム合成プリズム３１を複数（Ｍ個）用
意することで、［Ｍ−１］個の光源モジュールからの出
射ビーム（２×［Ｍ−１］本）を同時に走査することが
可能となる。

【００２５】このように複数の光源モジュールからの出
射ビームを、ビーム合成手段（ビーム合成プリズムやハ
ーフミラー等）により合成することで、光走査装置を大
型化することなく、複数の光ビームを同時に走査するこ
とが可能となり、この光走査装置を画像形成装置と組み
合わせた場合には、プリント枚数の高速化あるいはプリ
ント密度の高密度化を達成することが可能となる。

【００２６】２つの光源モジュールを一体化して１つの
光源装置を構成することにより、さらに小型化を図るこ
とができる。ただし、本発明のように２つのモジュール
として別体化しておくことにより、メカレイアウトの自
由度が拡大し、また半導体レーザの劣化等により部品交
換をする場合にも、交換点数を少なくすることができ
る。

【００２７】図２は第一の光源モジュール１３の構成を
示した図である。第一の光源モジュール１３は半導体レ
ーザ（１１ａ、１１ｂ、２１ａ、２１ｂ）とカップリン
グレンズ（１２ａ、１２ｂ、２２ａ、２２ｂ）、保持部
材３６から構成されている。

【００２８】２つの半導体レーザ（１１ａ、１１ｂ）は
圧入等の工法により保持部材３６に保持されている（あ
るいは、板ばね等を介してねじ等により固定しても構わ
ない）。２つのカップリングレンズ（１２ａ、１２ｂ）
は、以降の光学系の特性に応じ、出射ビームのコリメー
トおよび出射光軸が所望の値に設定されるように、各々
対応する半導体レーザの相対位置関係を調整された後、
紫外線硬化型接着剤により保持部材３６に固定されてい
る。なお一般に前記半導体レーザは、シングルビームを
出射するシングルビーム半導体レーザでも構わないし、
複数のレーザ光を出射するマルチビーム半導体レーザで
あっても構わない。第二の光源モジュール２３も同様の
構成を成す。

【００２９】図３は、本発明の光走査装置に具備された
出射方向調整手段によって光スポットの副走査方向位置
を調整ができることを示した図である。被走査面３５上
では複数のビームスポットは、その走査密度に応じ、所
定の間隔（ビームピッチ）を維持することが要求され
る。このビームピッチに設定するには、カップリングレ
ンズを出射する光ビームの出射角度の副走査方向成分を
調整すればよい。

【００３０】図３に示すようにカップリングレンズ２の
光学軸から副走査方向に微小変位δの位置に半導体レー
ザ１をずらすことにより、光ビームは被走査面３５上で
は光軸からΔｚだけ離れた位置に到達することになる。
このとき光学系全系の副走査横倍率をｍ、カップリング
レンズ２の焦点距離をｆｃｏｌ、カップリングレンズ出
射ビームの光軸方向（副走査方向成分）をβとすると、

【００３１】 Δｚ＝ｍ×δ＝ｍ×ｆｃｏｌ×ｔａｎβ

【００３２】となり、βを調整することで、被走査面３
５における光スポットの位置（副走査方向）Δｚを調整
することができることが分かる。光走査装置に、このよ
うな調整機構（出射方向調整手段）を付加することによ
り、被走査面（感光体ドラム）３５における光スポット
の副走査方向位置を調整することが可能となる。

【００３３】図４（ａ）、（ｂ）および図９（ａ）は、
出射方向変更手段が副走査方向成分を相対的に可変する
ことを示した図である。図４（ｂ）に示すように光源モ
ジュール３に設けられた突起部４５をリードスクリュー
４６を介してステッピングモータ４１により押圧するこ
とで、光源モジュール３は図中のγで示される矢印の方
向に回転することができる。これにより図４（ａ）に示
すように、２本の半導体レーザとカップリングレンズが
一体的に回転され、従って２本の光ビームの光軸の副走
査方向成分を相対的に可変することが可能となる。その
ため図９（ａ）に示すように、被走査面３５において、
２つの光スポットの間隔（副走査方向成分）を調整する
ことが可能となる。上記では、駆動手段としてステッピ
ングモータを用いたが、調整に必要な分解能／レンジに
より、あるいはメカレイアウト的な制限を考慮し、圧電
素子、電磁コイル、リニアモータ等適切なアクチュエー
タを用いればよい。

【００３４】図６（ａ）、（ｂ）および図７（ａ）、
（ｂ）を用いて、光走査装置５０の構成、動作を説明す
る。図６（ａ）は光走査装置を光学ハウジングに装備し
た図であり、図６（ｂ）は各光源モジュールから出射さ
れるレーザの様子を示した図である。図７（ａ）は出射
方向変更手段が設けられた第二の光源モジュール２３の
分解斜視図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）の断面を示
した図である。第一および第二の光源モジュール１３お
よび２３は、光学ハウジング３７の側壁に設けられた挿
入孔４０に挿入されている。図６（ｂ）に示すように各
光源モジュールからは２本の光ビームが出射される。４
本の光ビームは図１で説明の通り感光体ドラム３５上光
スポットとして走査する。

【００３５】図７（ａ）の分解斜視図に示すように、第
二の光源モジュール２３側には、出射方向変更手段が設
けられている。該出射方向変更手段は、テーパ付きねじ
３８と鋼球３９から構成され、図７（ｂ）にその断面図
が示されている。テーパ付きねじ３８をねじ込む／引き
抜くことにより、鋼球３９を左右に移動することがで
き、それに従って第二の光源モジュール２３を図中のβ
で示される矢印の方向に回転（傾斜）する。すなわち副
走査断面内で光源モジュールを傾けることが可能とな
る。これにより第二の光源モジュール２３を出射する２
本の光ビームの光軸（副走査方向成分）を同時に（一体
的に）可変することができる。このため、図９（ｂ）に
示すように、被走査面３５においては、２つの光スポッ
トを副走査方向に平行移動することができる。

【００３６】また、図６（ｂ）に示すように第一および
第二の光源モジュール（１３、２３）には、図４（ｂ）
と同様の構成をもつ出射方向変更手段が設けられてい
る。出射方向変更手段により各光源モジュールを図中の
γで示される矢印の方向に回転することで、各モジュー
ル内の光スポット（被走査面３５上）の間隔を調整する
ことができる。この調整と図７で説明した調整とによ
り、被走査面３５における４つの光スポットの間隔（副
走査方向）を所望の値に調整することが可能となる。

【００３７】出射方向変更手段の例として、 ・光源モジュールを光軸回りの回転軸回りに回転する方
法 ・三角プリズムを光軸回りの回転軸回りに回転する方法 ・光源モジュールを副走査断面内で傾ける方法 については説明したが、本構成の光走査装置のように比
較的メカレイアウト的に余裕がある場合には、以下の図
１２に示したような構造を設けてもよい。光路に配設さ
れた折り返しミラーを副走査断面内で傾ける（図１２
ａ）、可変頂角プリズムにより光ビームの角度を偏向す
る（図１２ｂ）、音響光学素子又は電気光学素子を用い
て光ビームの角度を偏向する（図１２ｃ）、半導体レー
ザとカップリングレンズの間に挿入された平行平板を傾
ける（図１２ｄ）等の方法を採用しても構わない。

【００３８】環境（温度、湿度等）の変化、あるいは経
時的な変化により、各半導体レーザとカップリングレン
ズの相対位置関係（調整値）が変動する、もしくは第一
および第二の光源モジュール（１３、２３）の取り付け
姿勢が変化するまたは、変形するなどの影響により、被
走査面３５における光スポットの配列制度が劣化するこ
とがある。

【００３９】このような場合でも、被走査面における光
スポット配列又は走査線間隔を検出する手段（光スポッ
ト配列検出手段）を光走査装置に設け、その検出結果に
基づき出射方向変更手段を駆動することで、光スポット
の間隔の変動を補正することが可能となる。

【００４０】光スポット配列に対する要求仕様（精度）
によっては、光源モジュールや光走査装置の構成により
上述の出射方向変更手段が不要な場合がある。例えば図
６（ａ）に示す光走査装置において、第一および第二の
光源モジュール内の光スポットの間隔の変動が、要求仕
様と比較して十分に小さいときには、図７（ａ）、
（ｂ）に示す出射方向調整手段に対してのみ、制御手段
を具備すればよい。

【００４１】例えば光スポット配列検出手段による検出
結果（出力信号等）に従い、手動にて出射方向変更手段
を駆動することができる。あるいは、光スポット配列検
出手段による検出結果に基づき出射方向変更手段を制御
する制御手段を備え、出射方向調整手段を駆動するステ
ッピングモータ等のアクチュエータを駆動することによ
り、オペレータ（操作者）がいない場合でも自動的に走
査線間隔の補正が可能となる。

【００４２】光走査装置を少なくとも、静電像が形成さ
れる感光手段（感光体）と、静電像をトナーで顕像化す
る現像器と、顕像化されたトナー像を記録紙に転写（お
よび定着）する転写装置とからなる電子写真プロセスを
利用した画像形成装置を光書込み装置として使用した場
合には、複数からなる電子写真プロセスを利用した画像
形成装置の光書込み装置として使用した場合には、複数
ビームを同時に走査することによりプリント速度の高速
化／高密度化を図ることが可能となる。また上述のよう
に被走査面（すなわち感光体）上の光スポット配列の変
動を抑制することができるため本画像形成装置により高
品位な出力画像を得ることが可能となる。

【００４３】このように本発明の光走査装置を画像形成
装置の光書込み装置として使用した場合には、本体の操
作パネルからオペレータ（サービスマン、ユーザ等）が
操作することにより、画像形成装置としては、例えば別
の先願発明例に示すパターンを用意しておけばよい。

【００４４】また、このようにオペレータが出力画像に
よりその画像品質を確認する構成にすることで、光走査
装置における走査線間隔の変動が出力画像に及ぼす影響
のみならず、現像、転写、定着などの工程が出力画像に
及ぼす影響を含めて、出力画像の劣化を補正することが
可能となる。さらにビームピッチ検出手段または制御手
段の一方あるいは両方を省略することも可能となり、光
走査装置の低コスト化を図ることができる。

【００４５】図１０は光走査装置の配列を示した図であ
る。図１０（ａ）は、各色に対応した光走査装置を別体
（１０Ｋ、１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ）に配置した図であ
り、図１０（ｂ）は各色に対応した光走査装置を共通体
（１０Ａ）にして配列した図である。図１０（ｃ）は１
０Ａ１、１０Ａ２、（ｄ）は１０Ｂ１、１０Ｂ２のよう
に光走査装置を二体化にして配列した図である。このよ
うな構成により、１感光体ドラム型の画像出力装置の場
合（４色に対応して４回の書込みが必要）と比較して、
４倍の出力画像を得ることが可能となる。

【００４６】各色に対応する光走査装置を１Ｋ、１Ｃ、
１Ｍ、１Ｙと呼ぶことにする。全ての光走査装置１Ｋ、
１Ｃ、１Ｍ、１Ｙから出射されるビームの本数が各々１
本の場合には、この光走査装置を適用した画像出力装置
によりフルカラー（４色）画像を得ることができる。そ
れに対し、４つの光走査装置の少なくとも一つ（例えば
ブラックに対応する光走査装置１Ｋ）を本発明の構成の
４ビーム光走査装置とし、この光走査装置のみで光走査
を行うことにより、フルカラー画像時と比較して４倍の
高密度化が可能となる。あるいは記録媒体の搬送速度
（およびプロセス速度）を４倍に変更すれば、画像出力
枚数を４倍に増加することが可能となる。またフルカラ
ー画像時においても、文字画像についてはブラックにて
書き込むことが多く高解像度も要求されることが多いた
め、上記の４ビーム光走査装置１Ｋ（ブラック）に付加
して、他の光走査装置（１Ｃ、１Ｍ、１Ｙ；１ビーム）
も同時に書き込むことにより、文字／写真／線画イメー
ジ等が混在した画像においてもより高品位な出力画像を
得ることが可能となる。

【００４７】さらに図１０（ｂ）から（ｄ）に示す光走
査装置（１０Ａ、１０Ａ１、１０Ａ２、１０Ｂ２）のよ
うに、共通の光走査装置が複数のステーションから構成
される場合には、ビーム合成プリズム３１を図８に示す
ように、各ステーションについて、共通化することがで
きる。これにより部品点数の低減および光走査装置の小
型化を図ることが可能となる。

【００４８】

【発明の効果】請求項１記載のマルチビーム走査装置
は、２本の光ビームを出射する光源モジュールを複数備
え、それらからの光ビームをビーム合成プリズムにより
合成する構成であるため、光走査装置の小型化を図るこ
とができる。またメカレイアウトの自由度が拡大される
ため、被走査面における光スポット配列の調整機構の設
計が容易になる。

【００４９】請求項２記載の発明は請求項１記載のマル
チビーム走査装置において、被走査面上の光スポット配
列（副走査方向）を所望の値に調整することができる。

【００５０】請求項３記載の発明は請求項２記載のマル
チビーム走査装置において、出射方向変更手段は、光源
モジュールから出射される２本の光ビームの光軸の副走
査方向成分を相対的に可変することができる。

【００５１】請求項４記載の発明は請求項２記載のマル
チビーム走査装置において、出射方向変更手段は、光源
モジュールから出射される２本の光ビームの光軸の副走
査方向成分を共通に可変することができる。

【００５２】請求項５記載の発明は請求項２から４記載
のマルチビーム走査装置において、光スポット配列を検
出した結果に基づき被走査面上の光スポット配列を調整
するため、環境変化／経時の影響により光スポット配列
が変動した場合にも、光スポット配列変動を抑制するこ
とができる。

【００５３】請求項６記載の画像形成装置は、光走査装
置を電子写真プロセスに用いた画像形成装置の光走査装
置として使用し、複数の光ビームを同時に走査すること
が可能となるため、プリント速度の高速化／高密度化を
図ることが可能となる。またシングルビーム光源装置と
同じプリント速度／走査密度を達成するには、ポリゴン
スキャナの回転数を低減することが可能となるため、消
費電力の低減／熱発生の低減に繋がり、環境に対する負
荷を低減することが可能となる。また騒音発生及び発熱
を抑制することができる。

【００５４】請求項７記載の発明は、電子写真プロセス
を用いたタンデム式の多色画像出力装置の光走査装置と
して使用したので、単色及び多色の出力画像の高密度化
／高速度化、および出力画像の高品位化を図ることがで
きる。

【００５５】請求項８記載の発明は、電子写真プロセス
を用いたタンデム式の多色画像出力装置の被光走査装置
として使用した場合に、ビーム合成手段をステーション
間で共通使用したので、部品数の低減および光走査装置
の小型化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光走査装置の構成を示す図である。

【図２】本発明の第一、第二の光源モジュールの構成を
示す図である。

【図３】本発明の出射方向調整手段によって光スポット
の副走査方向位置を調整できることを示した図である。

【図４】本発明の出射方向変更手段の動作を示した図で
ある。

【図５】本発明の光源モジュールから出射される光ビー
ムの光路内に三角プリズムを配置した図である。

【図６】本発明の光走査装置を光学ハウジングに設置し
た図である。

【図７】本発明の光源モジュールに出射方向変更手段を
設けた図であり、（ａ）は分解斜視図を示し、（ｂ）は
断面図を示す。

【図８】ビーム合成プリズムを各ステーションに対して
共通化したことを示した図である。

【図９】光スポットの間隔を示した図である。

【図１０】本発明の光走査装置の配置例を示した図であ
る。

【図１１】本発明の光走査装置にさらにビーム合成プリ
ズムを配置することにより、光学特性の差異を小さくす
ることを示した図である。

【図１２】本発明の出射方向変更手段の例を示した図で
ある。

【符号の説明】

１１ａ、１１ｂ、２１ａ、２１ｂ 半導体レーザ １２ａ、１２ｂ、２２ａ、２２ｂ カップリングレンズ １３ 第一の光源モジュール ２３ 第二の光源モジュール ３１ ビーム合成プリズム ３２ シリンドリカルレンズ ３３ 偏向器（ポリゴンスキャナ） ３４ 走査結像光学系 ３５ 被走査面

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の２本の光ビームを出射する光源モ
   ジュールと、 複数の前記光源モジュールから出射される光ビームを合
   成するためのビーム合成手段を有する光源装置におい
   て、 前記光源装置から出射される光ビームを、被走査面に光
   スポットとして走査することを特徴とするマルチビーム
   走査装置。
2. 【請求項２】 前記光源モジュールは、出射される光ビ
   ームの光軸の副走査方向を可変するための出射方向変更
   手段を有することを特徴とする請求項１記載のマルチビ
   ーム走査装置。
3. 【請求項３】 前記出射方向変更手段は、前記光源モジ
   ュールから出射される２本の光ビームの光軸の副走査方
   向成分を相対的に可変することを特徴とする請求項２記
   載のマルチビーム走査装置。
4. 【請求項４】 前記出射方向変更手段は、ある前記光源
   モジュールから出射される２本の光ビームの光軸の前記
   副走査方向成分を共通に可変する（２本の光ビームの光
   軸の相対的な副走査方向成分は変化させない）ことを特
   徴とする請求項２記載のマルチビーム走査装置。
5. 【請求項５】 被走査面における光スポット配列を検出
   し、その検出結果に基づき前記出射方向変更手段を駆動
   する駆動手段を有することを特徴とする請求項２から４
   のいずれか１項に記載のマルチビーム走査装置。
6. 【請求項６】 光走査装置によって静電像が形成される
   感光手段と、 静電像をトナーで顕像化する現像手段と、 顕像化されたトナー像を記録紙に転写する転写手段とを
   有することを特徴とする画像形成装置。
7. 【請求項７】 前記感光手段は、被走査面となる感光手
   段を複数有することを特徴とする請求項６記載の画像形
   成装置。
8. 【請求項８】 ビーム合成手段を、異なるステーション
   間にて共通使用することを特徴とする請求項７記載の画
   像形成装置。