JP2003311228A - 炭酸ガススノーを用いた水晶振動子の洗浄方法 - Google Patents

炭酸ガススノーを用いた水晶振動子の洗浄方法

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JP2003311228A
JP2003311228A JP2002123562A JP2002123562A JP2003311228A JP 2003311228 A JP2003311228 A JP 2003311228A JP 2002123562 A JP2002123562 A JP 2002123562A JP 2002123562 A JP2002123562 A JP 2002123562A JP 2003311228 A JP2003311228 A JP 2003311228A
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cleaning
crystal oscillator
carbon dioxide
snow
quartz oscillator
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JP2002123562A
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Hiroaki Iida
浩章 飯田
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Kyocera Crystal Device Corp
Original Assignee
Kyocera Crystal Device Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の目的は、ウェット洗浄において乾燥
装置を用いた乾燥工程の際水晶振動子にシミが発生した
り、乾燥工程にて水晶振動子に加えられる熱衝撃で水晶
振動子の特性が変化する問題やウェット洗浄に用いた洗
浄液の使用後にその廃液廃棄の際、産業廃棄物とも成り
得、また引火性物質であるアルコールを使用する場合に
は安全防災上洗浄装置に防爆構造を持たせることが必要
なため洗浄装置のコストが高くなるといった問題を解決
する炭酸ガススノーを用いた水晶振動子の洗浄方法を提
供することである。 【解決手段】 本発明は水晶振動子の洗浄方法であっ
て、水晶振動子の電極形成の工程と組み立ての工程及び
この組み立ての工程と封止の工程のあいだの少なくとも
一方に炭酸ガススノーを使用した洗浄工程を有すること
により課題を解決する。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術の分野】本発明は水晶振動子の製造
工程において、炭酸ガススノーを用いた水晶振動子の洗
浄方法に関する。 【0002】 【従来の技術】従来は水晶振動子の電極形成の工程から
封止工程のあいだの工程で行われる洗浄の方法はウェッ
ト(湿式)洗浄により行われていた。これらのウェット
洗浄はアルコールやフロンや代替フロン純水などの液中
で水晶振動子を洗浄するのが一般的であった。 【0003】先述のウェット洗浄には、オーブンやリフ
ロー炉などを用いた水晶振動子の乾燥工程及び乾燥装置
を必要とするのが一般的であった。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年電
子部品は搭載して使用される機器の小型化に伴って極め
て急激なその容器形状の外形サイズの小型化、及び低背
化の市場からの要求がありその結果として水晶振動子や
アルミナセラミックなどの材質から成る基板や壁の厚さ
も極力薄くなっており、それらに囲まれた容器のサイズ
も小さく薄くなっているのが現状である。 【0005】ここで、先述のウェット洗浄では乾燥装置
を用いた乾燥工程の際に水晶振動子にシミが発生した
り、乾燥工程において水晶振動子に加えられる熱衝撃に
より水晶振動子の特性が変化してしまうといった問題が
あった。 【0006】また、先述のウェット洗浄に用いた洗浄液
は使用後の廃液廃棄の際には産業廃棄物とも成り得、洗
浄液に引火性物質であるアルコールを使用する場合には
安全防災上洗浄装置に防爆構造を持たせることを必要と
し、その結果洗浄装置のコストが高くなるといった問題
があった。 【0007】本発明は、このような技術背景のもとでな
されたものである。したがって、本発明の目的は先述の
問題を解決する炭酸ガススノーを用いた水晶振動子の洗
浄方法を提供することである。 【0008】 【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は水晶振動子の洗浄方法であって、水晶振動
子の電極形成の工程と組み立ての工程及びこの組み立て
の工程と封止の工程とのあいだの少なくとも一方に炭酸
ガススノーを使用した洗浄工程を有することを特徴とす
る。 【0009】 【本発明の実施の形態】以下、添付の図面に従がってこ
の発明の実施例を説明する。なお各図においての、同一
の符号は同じ対象を示すものとする。 【0010】図1は本発明をマスク9に装填された水晶
振動子3に使用する場合の模式図である。ノズル4の先
端の噴出口5から吹き出す炭酸ガススノー1を洗浄用の
マスク9に装填された水晶振動子3の洗浄面に吹き付け
る。水晶振動子3の洗浄面に付着している除去を行う微
細物は、炭酸ガススノー1の粒子6の衝突により弾き飛
ばされるように剥ぎ取られる。水晶振動子3の洗浄面か
ら弾き飛ばされるように剥ぎ取られた微細物は、液化す
ることなく炭酸ガススノー1の粒子6とともに、適当な
場所に設置してあるダクト7を通して吸引され外部に排
出される。図1のダクト7後方の矢印は、水晶振動子3
の洗浄面から弾き飛ばされるように剥ぎ取られた微細物
が炭酸ガススノー1の粒子6とともに吸引され外部に排
出される流れを示すものである。 【0011】図2は本発明を容器2に載置した水晶振動
子3に使用した別の実施例を側面からみた模式図であ
る。すなわち、ノズル4の先端の噴出口5から吹き出す
炭酸ガススノー1を接着剤8により容器2に載置された
水晶振動子3の洗浄を行いたい部分に吹き付ける。水晶
振動子3の洗浄を行いたい部分に付着している除去する
微細物は、炭酸ガススノー1の粒子6の衝突により弾き
飛ばされるように剥ぎ取られる。 【0012】炭酸ガススノー1の粒子6は水晶振動子3
と容器2の間の隙間10にも回り込み、水晶振動子3の
裏面に付着している微細物も炭酸ガススノー1の粒子6
の衝突により弾き飛ばされるように剥ぎ取られる。 【0013】図3は本発明を容器2に載置した水晶振動
子3に使用した別の実施例を斜めからみた模式図であ
る。図2における水晶振動子3と容器2の間の隙間10
以外にも水晶振動子3はその周囲に容器2との間に隙間
を持つ構造となっているために噴出された炭酸ガススノ
ー1の粒子6は容易に水晶振動子3の裏面などに付着し
ている微細物にまで到達し、除去を行う微細物は炭酸ガ
ススノー1の粒子6の衝突により弾き飛ばされるように
剥ぎ取られる。なお、微細物を除去する程度は炭酸ガス
スノー1の噴出圧とノズル4の位置の調整により容易に
決めることが出来る。 【0014】水晶振動子3の洗浄を行いたい部分から弾
き飛ばされるように剥ぎ取られた微細物は、液化するこ
となく炭酸ガススノー1の粒子6とともに、容器2との
間の隙間10を経て適当な場所に設置してあるダクト7
を通して吸引され外部に排出される。図2及び図3のダ
クト7後方の矢印は、水晶振動子3の洗浄を行いたい部
分から弾き飛ばされるように剥ぎ取られた微細物が炭酸
ガススノー1の粒子6とともにダクト7口から吸引され
外部に排出される流れを示すものである。吸引する程度
は容易に調整することが出来、洗浄を行いたい部分から
弾き飛ばされるように剥ぎ取られた微細物は炭酸ガスス
ノー1の粒子6とともに確実に外部に排出される。 【0015】図4は本発明である炭酸ガススノー1を使
用した洗浄工程を、水晶振動子3への電極形成の工程と
組み立ての工程及びこの組み立ての工程と封止の工程と
のあいだに有する場合のフローチャートである。まず、
水晶振動子3の小片であるブランクを洗浄し、水晶振動
子3に電極を形成する。電極が形成された水晶振動子の
それぞれの小片はマスク9に電極面が露出するように装
填される。マスク9を先述の図1の説明にあるように炭
酸ガススノー1を用いて洗浄する。フローチャートのな
かで炭酸ガススノー1を用いた洗浄の工程の名称は、CO
2洗浄としている。CO2洗浄を行った水晶振動子3のそれ
ぞれの小片は、容器2に接着剤8を介して載置され、電
極面に更に電極の形成を行うことにより所望の周波数で
水晶振動子が振動するようにする工程である周波数調整
を行う。従来は図5の従来のフローチャートにあるよう
に、水晶振動子の特性を調べる工程を周波数調整の工程
の後にもっていたが、本発明においては炭酸ガススノー
1を用いた洗浄であるCO2洗浄を行うために従来行って
いた先の特性を調べる工程を省くことが出来る。従って
CO2洗浄の後には容器2に蓋をかぶせ気密封止する工程
を行う。 【0016】なお、図4に示す本実施例では電極形成の
すぐ後と組み立て工程より後の工程にCO2洗浄を行った
例を示したが、電極形成後または組み立て工程後のいず
れかにおいてのみCO2洗浄の工程をもっても十分な効果
が得られる。 【0017】図5は従来の工程を示すフローチャートで
ある。水晶振動子3の小片であるブランクを洗浄し、電
極形成用のマスクに装填された水晶振動子3に電極を形
成する。電極が形成された水晶振動子3のそれぞれの小
片はマスク9に電極面が露出するように装填されてウェ
ット(湿式)洗浄された後、水晶振動子3のそれぞれの
小片は、容器2に接着剤8を介して載置される組み立て
工程を経て、電極面に更に電極の形成を行うことにより
所望の周波数で水晶振動子が振動するようにする工程で
ある周波数調整を行う。その後水晶振動子の特性を調べ
る工程を持つ。その後容器2に蓋をかぶせ気密封止する
封止の工程を行う。 【0018】 【発明の効果】炭酸ガススノーを用いて水晶振動子を洗
浄するために、一例を挙げればチリ状の粒子をふくんだ
洗浄する部分に付着する微細物を粒子状の炭酸ガススノ
ーで弾き飛ばしながら剥ぎ取るように洗浄し、かつ粒子
状の炭酸ガススノーが液体とはならず気化するために、
洗浄しながら吸引するだけで先のチリ状の粒子をふくん
だ微細物と気化した粒子状の炭酸ガススノーを除去でき
る。 【0019】従来のウェット(湿式)洗浄では5ミクロ
ン以上のチリ状の粒子をふくんだ洗浄する部分に付着す
る微細物を除去する効果があったが、本発明による洗浄
の工程によれば5ミクロンよりも小さな1ミクロン以上
のチリ状の粒子をふくんだ洗浄する部分に付着する微細
物を除去する効果を有し、特に1から5ミクロンの大き
さのチリ状の粒子をふくんだ洗浄する部分に付着する微
細物を除去する高い効果を有する。 【0020】また、洗浄(ウェット)工程及びその装置
及び洗浄工程後の乾燥工程に使用する装置を必要としな
いために大幅に設備コストと工数の低減が実現でき、か
つ産業廃棄物とも成り得るウェット洗浄の場合に必要な
洗浄液の使用後の廃液廃棄がなくなる。 【0021】また、炭酸ガススノー洗浄により除去され
た微細物や不要な粒子の回収は、吸引用のダクトの適当
な場所に設置してあるフィルターにより容易に行なうこ
とが出来る。
【図面の簡単な説明】 【図1】 発明をマスクに装填された水晶振動子に使用
する場合の模式図である。 【図2】本発明を容器に載置した水晶振動子に使用する
場合の側面からみた模式図である。 【図3】本発明を容器に載置した水晶振動子に使用する
場合の斜めからみた模式図である。 【図4】本発明の一例の洗浄の工程を示すフローチャー
トである。 【図5】従来の工程を示すフローチャートである。 【符号の説明】 1 炭酸ガススノー 2 容器 3 水晶振動子 4 ノズル 5 噴射口 6 粒子 7 ダクト 8 接着剤 9 マスク 10 隙間
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】 【提出日】平成14年4月26日(2002.4.2
6) 【手続補正1】 【補正対象書類名】図面 【補正対象項目名】図2 【補正方法】変更 【補正内容】 【図2】【手続補正2】 【補正対象書類名】図面 【補正対象項目名】図3 【補正方法】変更 【補正内容】 【図3】 【手続補正3】 【補正対象書類名】図面 【補正対象項目名】図4 【補正方法】変更 【補正内容】 【図4】 【手続補正4】 【補正対象書類名】図面 【補正対象項目名】図5 【補正方法】変更 【補正内容】 【図5】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】水晶振動子の洗浄方法であって、該水晶振
    動子の電極形成の工程と組み立ての工程及び該組み立て
    の工程と封止の工程とのあいだの少なくともいずれか一
    方に炭酸ガススノーを使用した洗浄工程を有することを
    特徴とする炭酸ガススノーを用いた水晶振動子の洗浄方
    法。
JP2002123562A 2002-04-25 2002-04-25 炭酸ガススノーを用いた水晶振動子の洗浄方法 Pending JP2003311228A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015518415A (ja) * 2012-03-30 2015-07-02 デュール システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 塗装設備用ドライアイス洗浄手段

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015518415A (ja) * 2012-03-30 2015-07-02 デュール システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 塗装設備用ドライアイス洗浄手段
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