JP2003306322A - 脂質被覆不溶性無機粒子 - Google Patents
脂質被覆不溶性無機粒子Info
- Publication number
- JP2003306322A JP2003306322A JP2002107382A JP2002107382A JP2003306322A JP 2003306322 A JP2003306322 A JP 2003306322A JP 2002107382 A JP2002107382 A JP 2002107382A JP 2002107382 A JP2002107382 A JP 2002107382A JP 2003306322 A JP2003306322 A JP 2003306322A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insoluble inorganic
- group
- medium
- inorganic particles
- long chain
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
脂質被覆不溶性無機粒子を提供する。 【解決手段】 不溶性無機粒子の表面に、(a)金属原
子へ結合した少なくとも1つのアルコキシ基と、連結基
を介して結合した2つの中長鎖アルキル基を持つ、該金
属原子へ結合したアミノアルキル基とを有する有機金属
化合物の中長鎖アルキル基が外側に配向した第1の膜
層、および(b)2つの中長鎖脂肪酸残基もしくは中長
鎖アルキル基と親水基を有する両親媒性分子の親水基が
外側に配向した第2の膜層が第1の膜層の上に被覆され
ている脂質被覆不溶性無機粒子。
Description
脂質を被覆した無機粒子およびその調製方法に関する。
ッキング防止剤、流動性向上剤などの多様な用途があ
り、多くの合成樹脂成形品、合成樹脂フィルム、塗料、
化粧品、電子写真トナー、消火器粉末などに広く配合さ
れている。
種々の粒子が選択され、使用されているが、それらが有
する特性を更に向上させる、あるいは別の特性を付与す
るために、粒子表面に有機・無機種々の化合物で表面被
覆処理が行われ、活用されている。
う事例については、例えば、表面が酸化物で被覆された
無機化合物微粒子を片末端官能性ポリジメチルシロキサ
ン中に分散後、熱処理を行なう方法(特開平4-36370)
や、コロイダルシリカにビニルハイドロジェンポリシロ
キサンを乳化重合により被覆する方法(特開平3-28153
6)、無機化合物粉末に直接オルガノポリシロキサンを
被覆し、硬化させる方法(特開平2-243667)、オルガノ
シランと無機化合物粉末を混合後アンモニア水などで加
水分解する方法(特開平3-12460)、コロイダルシリカ
に縮重合性オルガノポリシロキサンを乳化縮重合させる
方法、などが知られている。
多種多様な用途で活用されている、表面被覆処理された
無機粒子において、従来とは異なった新しい被覆構造を
有し、そしてその構造故に特異的な特性を制御・発現で
きる粒子およびその調製方法を提供する。
子の表面に、(a)金属原子へ結合した少なくとも1つ
のアルコキシ基と、連結基を介して結合した2つの中長
鎖アルキル基を持つ、該金属原子へ結合したアミノアル
キル基とを有する有機金属化合物の中長鎖アルキル基が
外側に配合した膜層、および(b)2つの中長鎖脂肪酸
基もしくは中長鎖アルキル基と親水基を有する両親媒性
分子の親水基が外側に配向した第2の膜層が第1の膜層
の上に被覆されている脂質被覆不溶性無機粒子を提供す
る。
も関する。この方法は、(a)非プロトン性有機溶媒に
分散した不溶性無機粒子を前記有機金属化合物で処理
し、(b)処理した不溶性無機粒子を分散液から分離
し、(c)処理し分離した不溶性無機粒子の存在下前記
両親媒体分子を水中に分散し、(d)分散液から固体粒
子を分離する各ステップを含んでいる。
を付与することが可能になる。例えば第2層の両親媒性
分子に電荷を持たせることにより粒子の表面電荷の極性
を厳密に調節することが可能となり、例えばトナー用電
荷調整剤に応用することができる。また第1層と第2層
の層間および/または第2層自体に種々の機能性分子を
保持させることができ、これを用いて例えば徐放性化粧
料の機能性粒子とし活用することができる。
性無機粒子は多種類のものを選択することができる。そ
れらは酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化アル
ミニウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、三酸化アンチモ
ンのような金属酸化物、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、炭
酸マグネシウム、炭酸鉛、炭酸ニッケル、炭酸バリウ
ム、炭酸マンガンなどの金属炭酸塩、硫酸カルシウム、
硫酸バリウムなどの金属硫酸塩、カオリン、タルク、セ
リサイト、ろう石クレー、マイカ、ベントナイト、ケイ
酸カルシウム、ケイ酸アルミニウムなどの鉱物を含む。
化亜鉛、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、三
酸化アンチモンなどの酸化物が好ましい。
選択し得る。例えば合成樹脂、塗料、化粧品、電子写真
トナー、消火器粉末などに配合される場合は基質の強度
低下を招来しないように通常100μm以下、好ましく
は20μm以下サブミクロンのオーダーである。なお粒
子サイズが小さくなればなる程粒子同士の凝集傾向が大
きくなるため、各粒子がどの程度分散できるかによって
最小粒子径が制限されるので、もし分散が可能であれば
数10nm以下であってもよい。粒子の形状は任意であ
り、例えば球形、不定形、針状、鱗片状などである。
のアルコキシ基と反応性の官能基を表面に持っているこ
とが特に好ましい。例えばテトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシランなどのテトラアルコキシシランからゾ
ル−ゲル法(加水分解縮合)によって調製したシリカ粒
子は表面にシラノール基を有し、このシラノール基が有
機金属化合物のアルコキシ基と反応してそれをシリカ粒
子へ化学的に結合する。同様な反応性無機粒子はチタン
アルコキシドからゾル−ゲル法によって調製することが
できる。反応性無機粒子の使用は、第1層の有機金属化
合物がその金属原子を頭にして粒子へ強固に結合するこ
とを確実にする。
長鎖アルキル基を有する有機金属化合物から形成され
る。有機金属化合物の金属種はケイ素、チタン、ジルコ
ニウム、アルミニウム、亜鉛またはスズから選ぶことが
できるが、ケイ素化合物が合成し易く、特に好ましい。
N−〔N−(3−トリエトキシシリル)プロピルスクシ
ンアモイル〕ジヘキサデシルアミン〔(EtO)3 Si
C3Suc2C16〕の合成法について説明する。最初ジ
ヘキサデシルアミンで無水コハク酸を開環し、ハーフア
ミドすなわちN,N−ジヘキサデシルスクシンアミド酸
を合成する。この化合物のカルボキシル基を活性化した
後3−アミノプロピルトリエトキシシランと反応させる
ことにより所望の化合物が得られる。この方法において
3−アミノプロピルトリエトキシシランおよびジヘキサ
デシルアミンの代りにそれらの同族体を用い、無水コハ
ク酸の代りに無水マレイン酸のような他のジカルボン酸
無水物を用いてもよい。ケイ素以外の他の金属種を有す
る同様な金属化合物も当業者には自明な方法によって合
成することができる。
覆(第1の膜層の形成)は、無機粒子を非プロトン性有
機溶媒例えばトルエン中に分散し、これへ有機金属化合
物を加えて処理することによって行われる。その際ゾル
−ゲル法によって調製した粒子の場合は一次粒子として
分散するように超音波を印加するのが好ましい。非プロ
トン性有機溶媒の使用は有機金属化合物のアルコキシ基
を保存し、疎水性炭化水素鎖の外側への配向を助ける。
ここで中長鎖とは、鎖に含まれる炭素数が10以上30
以下であることを意味する。
るため、このような系においては有機金属化合物は金属
原子を頭にし、疎水性の二つの中長鎖アルキル基を反対
側としてコア粒子の上に単分子膜を形成する。特にコア
粒子の表面がシラノール基のようなアルコキシ基と反応
する官能基を持っている場合には、コア粒子と第1の膜
層の間には化学結合による強固な接着が形成される。そ
のような化学反応を促進するため、処理は加熱下例えば
溶媒の還流下に行うことが好ましい。
より分散媒から分離し、コア粒子へ結合しなかった有機
金属化合物を除去するための処理を行った後乾燥する。
の上に第2の膜層を形成する。第2の膜層は2つの中長
鎖脂肪酸残基もしくは中長鎖アルキル基と親水基を有す
る両親媒性分子で形成される。そのような両親媒性分子
の第1の例はリン脂質、例えばホスファチジルコリン
(レシチン)である。天然物起源のホスファチジルコリ
ン(PC)は、高級脂肪酸ジグリセリド混合物の残った
ヒドロキシル基へコリンリン酸エステルが結合した化合
物である。ホスファチジルエタノールアミン(PE)
は、コリンリン酸エステルの代りにエタノールアミンリ
ン酸エステルがジグリセリドへ結合している。中長鎖脂
肪酸残基を有する合成リン脂質も市販されている。
することもできる。例えばアミノ酸のカルボキシル基へ
アミド結合によって2本の中長鎖アルキル基を結合し、
アミノ基を親水基を有するアルカン酸でアシル化した構
造の両親媒性化合物がその例である。
N,N−ジヘキサデシル−Nα−〔6−(トリメチルア
ンモニオ)ヘキサノイル〕−(S)−アラニンアミドブ
ロミド(N+ C5 Ala2C16)およびN,N−ジヘキ
サデシル−Nα−(6−スルホヘキサノイル)−(S)
−アラニンアミド〔(SO3 - )C5 Ala2C16〕の
合成法を述べる。
うな保護基でアミノ基を保護したアラニンのカルボキシ
ル基を活性化し、これにジヘキサデシルアミンを反応さ
せてN,N−ジヘキサデシルBOCアラニンアミドを合
成する。常法によりBOCを脱離させた後、6−ブロモ
ヘキサン酸クロリドでα位のアミノ基をアシル化し、
N,N−ジヘキサデシル−Nα−(6−ブロモヘキサノ
イル)−(S)−アラミンアミド(BrC5 Ala2C
16)を合成する。この化合物にトリメチルアミンを反応
させると臭化物の形でN+ C5 Ala2C16が得られ、
亜硫酸ナトリウムを反応させるとナトリウム塩の形で
(SO3 - )C5 Ala2C16が得られる。アラニン以
外のα−アミノカルボン酸を用いてもよく、ジヘキサデ
シルアミンおよび6−ブロモヘキサン酸クロリドの代り
にそれぞれの同族体を用いてもよい。
よって最終被覆粒子の電荷の極性および電位が支配され
る。例えばリン脂質はリン酸残基によって負の電荷を有
し、4級アンモニウム基を有する上の両親媒性分子は正
の電荷を有し、スルホ基を有する両親媒性分子は負の電
荷を有する。親水基はカルボキシル基、アンモニウム以
外の他のオニウム基、またはアミド基およびヒドロキシ
ル基のような他の陰性基、陽性基および中性基でもよ
い。
た第1の被覆層の上に両親媒性分子の第2の被覆層を形
成するステップは、第1の被覆層を有する無機粒子の存
在下、水中において両親媒性分子を分散(乳化)するこ
とを含む。水の存在下では両親媒性分子の親水基が水と
接触する外側に、疎水性の炭化水素鎖が第1の被覆層の
露出した疎水性炭化水素鎖と接触するように内側に配向
して膜を形成する。この配向を助けるため、第1の被覆
層を有する無機粒子と両親媒性分子を一旦有機溶媒中で
混合し、有機溶媒を除去してから混合物を水に分散する
ことが好ましい。その際超音波を印加して分散を助ける
のが好ましい。有機溶媒による前処理は水を内包した両
親媒性分子の二分子膜ベシクルの副生を減らす効果があ
る。
子の被覆層を形成しなかったベシクルを分離するため水
に再分散し、超音波を印加して洗浄する操作を繰り返し
た後乾燥する。
とができる。例えば出発コア粒子は親水性であるが、第
1の被覆層は疎水性炭素水素鎖が外側に露出しているの
で撥水性であり、第2の被覆層が施された粒子は再び親
水性になるので、処理前後の粒子の水や有機溶媒に対す
る親和性を比較することによって被覆の状態を確認する
ことができる。また第1の被覆層の有無は、IR(赤外
分光測定)やDTA−TG、DSC等で確かめることが
できる。
透過型電子顕微鏡により直接観察することができ、各被
覆層の膜厚は例えば光散乱法による粒子径測定値の変化
から知ることが可能であり、また有機金属化合物および
両親媒性分子の疎水性炭化水素鎖の鎖長から算出するこ
ともできる。
定して確かめることができる。
調製 テトラエトキシシラン、エタノール、1重量%アンモニ
ア水を、0.2:10:10のモル比で、総量が100
gとなるように混合した。この際、シリカ粒子の粒径調
節のため、総量に対し0.02重量%のSDS(ドデシ
ル硫酸ナトリウム:界面活性剤)を加え、25℃で12
時間攪拌した。得られた粒子を遠心分離し、残留テトラ
エトキシシランモノマーとアンモニア除去のため、さら
にエタノール分散、超音波処理、遠心分離の操作を3回
繰り返し、50℃で5時間真空乾燥した。操作の結果得
られたシリカ粒子について、大塚電子社製ダイナミック
光散乱光度計(DLS−7000)により動的光散乱
(DLS)測定を行ったところ、粒径は240nm、多
分散指数は3.4×10-3であった。なお、多分散指数
とはその分散系における粒子の分散性を示す指標であ
り、その値が0.1以下であれば、ほぼ均一に分散され
ていることを示している。
シリル)プロピル]−スクシンアモイルジヘキサデシル
アミン[(EtO)3SiC3Suc2C16] の合成 無水テトラヒドロフラン(THF)50ml中にジヘキサデ
シルアミン3g(6.44mmol)と無水コハク酸1.29g(1
2.9mmol)を加え、加熱溶解を行い、室温で24時間攪拌
した。溶媒を減圧下で留去し、残渣を塩化メチレン50
mlに溶解した。これを飽和食塩水50ml、10%ク
エン酸水溶液50ml、飽和食塩水50mlの順で、そ
れぞれ3回ずつ洗浄を行った後、液相分離濾紙で水分を
除去し、溶媒を留去して白色固体を得た。これをアセト
ニトリルから再結晶し、N,N−ジヘキサデシルスクシ
ンアミド酸(Suc2C16) の白色固体を得た。上記で合成し
たN,N−ジヘキサデシルスクシンアミド酸(Suc2C16)
2.4g(4.24mmol)を、無水塩化メチレン50mlに溶
解し、氷冷下で撹拌しながら、N,N’−ジシクロヘキ
シルカルボジイミド(DCC)1.01g(4.9mmol)を加え
た。15分後に、3−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン(APTEOS)1.22g(5.51mmol)を加え、0℃で4時
間、次いで室温にて12時間撹拌した。生じた白色の
N,N’−ジシクロヘキシル尿素の沈澱を濾別した。濾
液から溶媒を減圧下で留去した。得られた油状物を酢酸
エチル50mlに溶解し、冷蔵庫で一晩放置して、さら
に析出したN,N’−ジシクロヘキシル尿素の沈澱を濾
別した。濾液から減圧下で溶媒を留去して得られた油状
物を、ワコーゲルC−300を用いてカラムクロマトグ
ラフ法により精製した。カラムクロマトグラフの具体的
方法としては、まず、展開溶媒として酢酸エチル−クロ
ロホルム(1:9 v/v)の混合溶媒を用いて不純物を溶出さ
せ、その後に展開溶媒を酢酸エチルに変えて目的物を溶
出し、溶媒を留去して減圧乾燥を行い、無色透明の油状
物を得た。得られた化合物は、元素分析やNMRによる
構造特定などから、N−[N−(3−トリエトキシシリ
ル)プロピル]−スクシンアモイルジヘキサデシルアミ
ン[(EtO)3SiC3Suc2C16] であることを確認した。
−[6−(トリメチルアンモニオ)ヘキサノイル]−
(S)−アラニンアミドブロミド(N+ C5Ala2C16)の合成 N−t−ブトキシカルボニル−(S)−アラニン、4.
5g(26mmol)を無水塩化メチレン40mlに溶解し、氷
冷下で撹拌しながら、ジシクロヘキシルカルボジイミド
(DCC)5.9g(30mmol)を加え、15分後に、ジヘキサ
デシルアミン12g(26mmol)を加え、0℃で5時間、次
いで室温にて12時間撹拌した。生じたジシクロヘキシ
ル尿素の沈澱を濾別した後、得られた濾液から溶媒を減
圧下で留去した。残留物を酢酸エチル100mlに溶解
し、10%クエン酸水溶液30ml、飽和食塩水30m
l、4%炭酸水素ナトリウム水溶液30ml、飽和食塩
水30mlの順で、それぞれ3回ずつ洗浄を行った後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去し
て得られた油状物について、ワコーゲルC−300を用
いてカラムクロマトグラフ法により精製した。得られた
淡黄色油状物について、元素分析やNMRによる構造特
定などから、N,N−ジヘキサデシル−Nα−t−ブト
キシカルボニル−(S)−アラニンアミド(BocAla2C16)
であることを確認した。上記で得られたBocAla2
C16、2.9g(4.4mmol) を無水塩化メチレン20ml
に溶解し、これにトリフルオロ酢酸25g(220mmol)を
加えて2時間攪拌した。攪拌後、溶媒と過剰のトリフル
オロ酢酸を減圧下で完全に留去し、得られた無色透明の
油状物について、元素分析やIR、NMRによる構造特
定などを行い、BocAla2C16からt−ブトキシカ
ルボニル(Boc) 基が完全に除去されていることを確認し
た。この無色透明の油状物4.7gを無水塩化メチレン
20mlに溶解し、トリエチルアミン3g(30mmol)を加
えて、氷冷下で撹拌しながら、6−ブロモヘキサン酸ク
ロリド1.9g(8.9mmol)を含有した無水塩化メチレン
溶液15mlを20分で滴下し、0℃で5時間、次いで
室温にて12時間撹拌した。攪拌後の反応混合物に塩化
メチレン100mlを加え、飽和食塩水50ml、5%
クエン酸水溶液50ml、飽和食塩水50ml、5%炭
酸水素ナトリウム水溶液50ml、飽和食塩水50ml
の順で、それぞれ2回ずつ洗浄を行った後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去した後の残留
物をメタノールで再結晶すると、m.p.41.5〜42.5℃の無
色の固体2.8gが得られた。得られた固体について、
元素分析やNMRによる構造特定などから、N,N−ジ
ヘキサデシル−Nα−(6−ブロモヘキサノイル)−
(S)−アラニンアミド(BrC5Ala2C16) であることを確
認した。上記で得られたBrC5 Ala2C16、950
mg(1.3mmol) を無水ベンゼン30mlに溶解し、乾燥
トリメチルアミンガスを3時間吹き込んで飽和させ、室
温で一夜攪拌した。溶媒を減圧下で留去した後に、残留
物をメタノールに溶解し、不純物を濾別した。濾液から
溶媒を留去して得られる残留物について、Sephadex LH-
20を用いたゲルクロマトグラフ法により精製を行った。
さらに充填剤をToyopearl HW-40Fに替え、ゲルクロマト
グラフ法による精製を繰り返すことにより、m.p.226 ℃
の無色の固体を480mg得た。得られた固体につい
て、元素分析やNMRによる構造特定などを行ったとこ
ろ、N,N−ジヘキサデシル−Nα−[6−(トリメチ
ルアンモニオ)ヘキサノイル]−(S)−アラニンアミ
ドブロミド(N+ C5Ala2C16)であることを確認した。
−(6−スルホヘキサノイル)−(S)−アラニンアミ
ドナトリウム((SO3 - )C5Ala2C16) の合成 製造例3の工程中において得たBrC5 Ala2C16、
1.5g(2mmol) をエタノール100mlに溶解し、環
流下で攪拌しながら、亜硫酸ナトリウム5g(40mmol)を
含有する水溶液100mlを1時間で滴下した。その
後、環流下で6昼夜攪拌を続けた。攪拌後、溶媒を減圧
下で留去した後に残留物をクロロホルムに溶解し、不溶
物を濾別した。濾液から溶媒を留去して得られた固体に
ついて、Sephadex LH-20を用いたゲルクロマトグラフ法
により精製を行うことにより、m.p.147 ℃の無色の固体
を590mg得た。得られた固体について、元素分析や
NMRによる構造特定などを行ったところ、N,N−ジ
ヘキサデシル−Nα−(6−スルホヘキサノイル)−
(S)−アラニンアミドナトリウム((SO3 )C5Ala2C16)
であることを確認した。
(3−トリエトキシシリル)プロピルスクシンアモイ
ル]ジヘキサデシルアミン、トルエンをそれぞれ5:
1:500のモル比で総量が5.0gとなるように秤量
した。25mlナスフラスコ中にトルエンを入れ、そこ
へシリカ粒子を加えた後、超音波印加によって分散さ
せ、その後N−[N−(3−トリエトキシシリル)プロ
ピルスクシンアモイル]ジヘキサデシルアミンを加え
た。ナスフラスコをシリコンオイルバス中に設置して加
熱し、24時間環流することによって反応させた後、室
温まで冷却した。遠心分離により反応液から粒子を分離
した。シリカ粒子に直接結合せず、物理的吸着している
上記有機ケイ素化合物を除去するために、有機溶媒添
加、超音波印加、遠心分離という操作を、有機溶媒をト
ルエンとして2回、メタノールとして2回行った。操作
後の粒子は、減圧下で3時間乾燥した。得られた粒子に
ついて、KBr錠剤法によるFT−IR測定の結果、原
料に用いたシリカ粒子からは観察できなかったアルキル
鎖のメチレン基による対称・逆対称伸縮に帰属するピー
クが確認された。また、粒子の疎水化による水に対する
分散性の低下も確認されたが、このことは、比較的親水
性であるシリカ粒子表面において、有機ケイ素による表
面処理によって有機鎖が粒子表面に露出するようになっ
たため、と考えられる。
媒性化合物をそれぞれ用いて、上記で得られた有機ケイ
素化合物処理シリカ粒子について、さらなる表面処理操
作を施した。 (1) 製造例3で得たN+ C5 Ala2C16 (2) 製造例4で得た(SO3 - )C5 Ala2C16 (3) DMPC 〔SIGMA−ALDRICH社製
試薬、rac−1,2−ジミリストイル−グリセロ−3
−ホスホコリン〕
子8mg、上記両親媒性化合物1.3mgを秤量し、ク
ロロホルム中に超音波処理にて分散させた。これを窒素
気流下で薄膜とし、減圧乾燥した。無菌化処理を施した
純水2mlを加えてミキサーで分散させ、さらにバス型
ソニケーターで超音波処理を1時間行い、得られたサス
ペンジョン(乳濁液)を遠心分離した。粒子表面以外で
ベシクルを形成している成分を除去するため、固形分を
上記無菌純水に分散して30分の超音波処理を行ってか
ら遠心分離する、という操作を3回繰り返して行い、本
発明の粒子を得た。
した手法でDLS測定を行い、粒径と単分散性を評価し
た。また、大塚電子社製、レーザーゼータ電位計ELS
−8000を用いてゼータ電位測定を行うことにより表
面荷電状態を、MicroCal社VP−DSCを用いて示差走
査熱量分析を行うことにより被覆層において形成されて
いると考えられる有機層がゲル−液晶相転移を起こす挙
動について評価を行った。結果を表1に示す。なお、得
られた粒子は、いずれも水に対して高い分散性を示し
た。このことは、疎水性となって水に対する分散性が悪
化していた最初の有機ケイ素化合物処理を行ったシリカ
粒子の表面へ、さらに2回目の両親媒性化合物処理によ
って、親水基が粒子表面に露出したものと考えられる。
る。 1.DLS測定による粒子直径の長さは、2回の表面処
理によって、出発原料のシリカ粒子よりも15〜30n
m程度大きくなっている。このことと分散性を示す指数
から、単分散したシリカ粒子表面上に使用した有機ケイ
素化合物および両親媒性化合物の有機層二層分が被覆さ
れている。なお、上記のことはまた、透過型電子顕微鏡
による観察において、本発明の粒子には、未処理のシリ
カ粒子表面上には見られない粒子表面での層を観察する
ことができることからもあきらかである。 2.DSC測定による相転移温度の存在、並びにその温
度が、表面処理した化合物の有機層におけるゲル−液晶
相転移温度である、と推察される。 3.そして、ゼータ電位の測定結果から、二回目に被覆
する両親媒性化合物の種類と比率を調節することによ
り、得られる本発明品の表面電荷状態を自由にコントロ
ール可能である。
180nmの酸化チタン(テイカ社製JA−1、結晶
形:アナタース形)を無機粒子基材として用い、実施例
1と同様の操作を行った。得られた粒子について、実施
例1と同様に測定を行ったところ、二層被覆構造を確認
することができた。
Claims (12)
- 【請求項1】不溶性無機粒子の表面に、 (a)金属原子へ結合した少なくとも1つのアルコキシ
基と、連結基を介して結合した2つの中長鎖アルキル基
を持つ、該金属原子へ結合したアミノアルキル基とを有
する有機金属化合物の中長鎖アルキル基が外側に配向し
た第1の膜層、および(b)2つの中長鎖脂肪酸残基も
しくは中長鎖アルキル基と親水基を有する両親媒性分子
の親水基が外側に配向した第2の膜層が第1の膜層の上
に被覆されている脂質被覆不溶性無機粒子。 - 【請求項2】前記不溶性無機粒子は、シリカ、酸化チタ
ン、アルミナ、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化ジルコニ
ウムまたは酸化鉄から選ばれる請求項1の脂質被覆不溶
性無機粒子。 - 【請求項3】前記不溶性無機粒子は、前記有機金属化合
物のアルコキシ基と反応性の表面を持っている請求項2
の脂質被覆不溶性無機粒子。 - 【請求項4】前記有機金属化合物の金属種は、ケイ素、
チタン、ジルコニウム、アルミニウム、亜鉛またはスズ
から選ばれる請求項1の脂質被覆不溶性無機粒子。 - 【請求項5】前記有機金属化合物は、アミノアルキルト
リアルコキシシランのアミノ基をN,N−ジ中長鎖アル
キルスクシンアミド酸でアシル化した化合物である請求
項1の脂質被覆不溶性無機粒子。 - 【請求項6】前記両親媒性分子は、アミノ酸のジ中長鎖
アルキルアミドのアミノ基を4級アンモニウム基もしく
はスルホ基を有するアルカン酸でアシル化した化合物ま
たはリン脂質から選ばれる請求項1の脂質被覆不溶性無
機粒子。 - 【請求項7】(a)非プロトン性有機溶媒に分散した不
溶性無機粒子を、金属原子へ結合した少なくとも1つの
アルコキシ基と、連結基を介して結合した2つの中長鎖
アルキル基を持つ該金属原子へ結合したアミノアルキル
基とを有する有機金属化合物を分散液へ加えて処理する
ステップ、 (b)処理した不溶性無機粒子を分散液から分離するス
テップ、 (c)処理し分離した不溶性無機粒子の存在下、2つの
中長鎖脂肪酸残基もしくは中長鎖アルキル基と親水基を
有する両親媒性分子を水中に分散するステップ、 (d)分散液から固体粒子を分離するステップ、を含む
脂質被覆不溶性無機粒子の製造法。 - 【請求項8】前記不溶性無機粒子は、シリカ、酸化チタ
ン、アルミナ、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化ジリコニ
ウムまたは酸化鉄から選ばれる請求項7の方法。 - 【請求項9】前記不溶性無機粒子は、前記有機金属化合
物のアルコキシ基と反応性の表面を持っている請求項8
の方法。 - 【請求項10】前記有機金属化合物の金属種は、ケイ
素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、亜鉛または
スズから選ばれる請求項7の方法。 - 【請求項11】前記有機金属化合物は、アミノアルキル
トリアルコキシシランのアミノ基をN,N−ジ中長鎖ア
ルキルスクシンアミド酸でアシル化した化合物である請
求項7の方法。 - 【請求項12】前記両親媒性分子は、アミノ酸のジ中長
鎖アルキルアミドのアミノ基を4級アンモニウム基もし
くはスルホ基を有するアルカン酸でアシル化した化合物
またはリン脂質から選ばれる請求項7の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002107382A JP4048416B2 (ja) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | 脂質被覆不溶性無機粒子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002107382A JP4048416B2 (ja) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | 脂質被覆不溶性無機粒子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003306322A true JP2003306322A (ja) | 2003-10-28 |
JP4048416B2 JP4048416B2 (ja) | 2008-02-20 |
Family
ID=29391412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002107382A Expired - Fee Related JP4048416B2 (ja) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | 脂質被覆不溶性無機粒子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4048416B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008280404A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Fujifilm Corp | 組成物、フィルム、及びレターデーション制御剤 |
JP2010503232A (ja) * | 2006-09-05 | 2010-01-28 | キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション | 水に可溶性酸化剤を使用する炭化ケイ素の研磨方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02243667A (ja) * | 1987-12-14 | 1990-09-27 | Ethyl Corp | 酸化アミンの製造方法 |
JPH0312460A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-01-21 | Teijin Ltd | 複合体微粒子の製造方法 |
JPH03281536A (ja) * | 1990-02-23 | 1991-12-12 | Toshiba Silicone Co Ltd | エマルジョン型シリコーン組成物およびシリコーン微粒子の製造方法 |
JPH0436370A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-06 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ポリジメチルシロキサン被覆微粒子 |
JPH051238A (ja) * | 1990-07-27 | 1993-01-08 | Kowa Kagaku Kogyo Kk | 両親媒性粒子及びその製造方法 |
JPH0731871A (ja) * | 1993-05-18 | 1995-02-03 | Canon Inc | 膜構造物 |
JPH08500700A (ja) * | 1992-06-08 | 1996-01-23 | バイオクエスト インコーポレイテッド | 分離、磁気分子スイッチ、および医療用途の無機リポソームとして使用する粒径を制御した無機粒子の製造 |
JP2000044226A (ja) * | 1998-05-18 | 2000-02-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シラン表面処理シリカ系微粒子、その製造方法およびそれを含有する有機樹脂組成物 |
JP2000319128A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-21 | Fuji Shikiso Kk | 変性シリカ被覆金属酸化物、その製法およびそれを含有する組成物 |
JP2003149855A (ja) * | 2001-11-14 | 2003-05-21 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 疎水性シリカ微粉体、その製造方法および用途 |
-
2002
- 2002-04-10 JP JP2002107382A patent/JP4048416B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02243667A (ja) * | 1987-12-14 | 1990-09-27 | Ethyl Corp | 酸化アミンの製造方法 |
JPH0312460A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-01-21 | Teijin Ltd | 複合体微粒子の製造方法 |
JPH03281536A (ja) * | 1990-02-23 | 1991-12-12 | Toshiba Silicone Co Ltd | エマルジョン型シリコーン組成物およびシリコーン微粒子の製造方法 |
JPH0436370A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-06 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ポリジメチルシロキサン被覆微粒子 |
JPH051238A (ja) * | 1990-07-27 | 1993-01-08 | Kowa Kagaku Kogyo Kk | 両親媒性粒子及びその製造方法 |
JPH08500700A (ja) * | 1992-06-08 | 1996-01-23 | バイオクエスト インコーポレイテッド | 分離、磁気分子スイッチ、および医療用途の無機リポソームとして使用する粒径を制御した無機粒子の製造 |
JPH0731871A (ja) * | 1993-05-18 | 1995-02-03 | Canon Inc | 膜構造物 |
JP2000044226A (ja) * | 1998-05-18 | 2000-02-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シラン表面処理シリカ系微粒子、その製造方法およびそれを含有する有機樹脂組成物 |
JP2000319128A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-21 | Fuji Shikiso Kk | 変性シリカ被覆金属酸化物、その製法およびそれを含有する組成物 |
JP2003149855A (ja) * | 2001-11-14 | 2003-05-21 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 疎水性シリカ微粉体、その製造方法および用途 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010503232A (ja) * | 2006-09-05 | 2010-01-28 | キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション | 水に可溶性酸化剤を使用する炭化ケイ素の研磨方法 |
JP2008280404A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Fujifilm Corp | 組成物、フィルム、及びレターデーション制御剤 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4048416B2 (ja) | 2008-02-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4118637B2 (ja) | シリカのシラノール基含有率が低いシリカ | |
US6660780B2 (en) | Molecularly-imprinted material made by template-directed synthesis | |
US9968898B2 (en) | Amphiphilic nanosheets and methods of making the same | |
JP4090836B2 (ja) | アミノ基で表面変性された固体物質 | |
JP3787593B2 (ja) | 均一なシリル化剤層を有する珪酸 | |
Park et al. | Polyimide/silica hybrid-clay nanocomposites | |
JP2008521980A (ja) | 広範囲のpHで永久的な正の表面電荷を有する金属酸化物 | |
CA2536709A1 (en) | Organosilane-modified polysiloxanes and their use for surface modification | |
JP2006008987A (ja) | 素材の表面改質方法 | |
Galdino et al. | Effect of particle functionalization and solution properties on the adsorption of bovine serum albumin and lysozyme onto silica nanoparticles | |
JP2603291B2 (ja) | 第4級アンモニウム基含有シリコーン樹脂微粉末 | |
JP4048416B2 (ja) | 脂質被覆不溶性無機粒子 | |
EP0671220B1 (en) | Surface reforming agent, surface reforming method and cone-type calix resorcinarene compounds | |
JP2003515621A (ja) | 疎水性の無機酸化物顔料を調製するためのプロセス | |
Jesionowski et al. | Electrokinetic properties of hybrid pigments obtained via adsorption of organic dyes on the silica support | |
Gorbachuk et al. | Silica nanoparticles with proton donor and proton acceptor groups: synthesis and aggregation | |
JPH0953023A (ja) | シリコーン処理粉体及びそれを含有する組成物 | |
JPH09295809A (ja) | 粘土複合体及びその製造方法 | |
JP6028255B2 (ja) | N−アシルアミノ酸、n−アシルジペプチド及びn−アシルトリペプチドのアルコキシシラン誘導体、並びにそれを用いた粒子及び安定な水中油型配合物 | |
JP2015135376A (ja) | トナー用外添剤及びトナー用外添剤の製造方法 | |
JP5132888B2 (ja) | pH応答性シランカップリング剤およびそれで処理した表面処理物 | |
JP2008100894A (ja) | ポリマーグラフトコロイダルシリカ、ポリマーグラフトコロイダルシリカ分散体およびその製造方法 | |
JP5949985B2 (ja) | 粉体処理剤及び処理粉体 | |
JPH0953022A (ja) | シリコーン処理粉体及びそれを含有する組成物 | |
JPS6317972A (ja) | 新規な顔料組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050209 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070712 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070724 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070912 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071016 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071022 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071113 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071114 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101207 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131207 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |