JP2003301266A - アークイオンプレーティング用ロッド形蒸発源 - Google Patents

アークイオンプレーティング用ロッド形蒸発源

Info

Publication number
JP2003301266A
JP2003301266A JP2002109373A JP2002109373A JP2003301266A JP 2003301266 A JP2003301266 A JP 2003301266A JP 2002109373 A JP2002109373 A JP 2002109373A JP 2002109373 A JP2002109373 A JP 2002109373A JP 2003301266 A JP2003301266 A JP 2003301266A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cylindrical target
rod
evaporation source
ion plating
metal tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002109373A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4015874B2 (ja
Inventor
Hirobumi Fujii
博文 藤井
Katsuhiko Shimojima
克彦 下島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd filed Critical Kobe Steel Ltd
Priority to JP2002109373A priority Critical patent/JP4015874B2/ja
Publication of JP2003301266A publication Critical patent/JP2003301266A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4015874B2 publication Critical patent/JP4015874B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 大電流を投入しても温度ムラが起こりにくく
クラックが発生しにくい上に、万一クラックが発生して
も水などの冷媒漏れが生じることの無い、アークイオン
プレーティング用ロッド形蒸発源を提供する。 【解決手段】 円筒状ターゲット1の中空部に冷却媒体
を供給・排出することで円筒状ターゲット1を内部冷却
し得る構造を備えるアークイオンプレーティング用ロッ
ド形蒸発源である。円筒状ターゲット1が、円筒状ター
ゲット材4と、その円筒状ターゲット材4の中空部内に
挿入された金属管2と、円筒状ターゲット材4の中空部
内周面と金属管2の外周面との間に介在された伸縮自在
な伝熱特性に優れる金属製バネ(支承部材)3とを備え
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アークイオンプレ
ーティング(以下、AIPと称する)用ロッド形蒸発源
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ロッド形蒸発源を用いたAIP装置は、
例えばピストンリングへの成膜用として汎用されてい
る。
【0003】このロッド形蒸発源を用いたAIP装置で
は、真空チャンバの中に蒸発源であるロッド形ターゲッ
ト(陰極)を縦長に配置し、その周りに陽極を設け、陽
極の外側にワーク(例えばピストンリング)がセットさ
れる。そして、成膜に際しては、真空チャンバ内を排気
して真空(例えば10-4Pa程度)にした後、真空容器
内に窒素ガスや不活性ガスなどのプロセスガスを導入
し、そのプロセスガス雰囲気内で、ロッド形ターゲット
(陰極)と陽極に直流電源をつなぎ、両極間でアーク放
電を行う。このアーク放電によって、ロッド形ターゲッ
ト表面のターゲット材が蒸発し、負のバイアス電圧が印
加されたワークに成膜が行われる。
【0004】ロッド形蒸発源を用いたAIP装置による
AIPプロセスは大要上記の通りであるが、このAIP
プロセスにおいて用いられるロッド形蒸発源は、特開平
6−340968号公報に説明されているように、中空
円筒に形成された比較的長尺な(例えば外径80mm×
長さ800mm程度)ターゲット材と、このターゲット
材の中空内部に設けられた管材とを備えて構成され、こ
の管材はターゲット材の中空内部に冷媒を供給するため
の流路となるとともに、ターゲット材を保持するための
心棒としての役目も兼ねたものとなっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記AIP
プロセスでは成膜速度を確保するため例えば1000A
程度の大電流放電を行う。この大電流投入による発熱で
長尺なターゲット材内部に温度ムラが起こり、しばしば
クラックが発生する。クラックが発生すると、管材から
供給された冷媒が漏れたり、アークスポットがクラック
に入り込み集中放電となり、AIPプロセスの中断を余
儀なくされたり、ワークや装置の損傷を招くことにな
る。
【0006】このクラックに対処する1つの方法とし
て、特開平5−39566号公報に提案されているよう
な、ターゲット材の内周側に円筒状の心金を入れること
も考えられるが、高温、高圧で固めるHIP処理による
製造方法では、ターゲット材と心金のなじみ(接合性)
によりその適用対象は限定される。例えば、Crターゲ
ット材の心金に銅系材やステンレス材を用いた場合、接
合ができない。このため、ターゲット材と心金との間に
中間材を入れ接合強度を上げる試みもあるが、完全なも
のは無く、製造コストも高くなる。また、製造できたと
しても長尺なためターゲット材と心金の熱膨張率の違い
からターゲット材に割れなどが生じることが懸念され
る。
【0007】一方、AIPで比較的投入電流が少ない場
合や、元々電流の少ないスパッタ装置用のロッド形ター
ゲットでは、ターゲット内部を直接水などの冷媒で冷却
するのではなく、ターゲットの中空内部に挿入した冷却
パイプの内部を冷却し、輻射によって間接的に冷却する
ことがある。このように構成した場合、ターゲット材に
クラックが生じてもクラックからの冷媒の漏れは無い
が、ターゲットの冷却が必ずしも十分とはならないた
め、ターゲットへの熱負荷が少ない場合に限られる。
【0008】本発明は、上述の如き事情に鑑みなしたも
のであって、その目的は、大電流を投入しても温度ムラ
が起こりにくくクラックが発生しにくい上に、万一クラ
ックが発生しても水などの冷媒漏れが生じることの無
い、アークイオンプレーティング用ロッド形蒸発源を提
供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明(請求項1)に係るアークイオンプレーテ
ィング用ロッド形蒸発源は、円筒状ターゲットの中空部
に冷却媒体を供給・排出することで円筒状ターゲットを
内部冷却し得る構造を備えるアークイオンプレーティン
グ用ロッド形蒸発源において、前記円筒状ターゲット
が、円筒状ターゲット材と、その円筒状ターゲット材の
中空部内に挿入された金属管と、円筒状ターゲット材の
中空部内周面と前記金属管の外周面との間に介在された
伸縮可能な伝熱特性に優れる支承部材と、を備えてなる
ものである。
【0010】上記の構成では、円筒状ターゲットが、円
筒状ターゲット材の中空部内周面と金属管の外周面との
間に伸縮可能な伝熱特性に優れる支承部材を介在させて
いるので、円筒状ターゲット材を金属管の外周面にしっ
かりと取付けることができる。また、この取付けと相俟
って、成膜の際、アーク放電によって昇温したターゲッ
ト材は、金属管内に供給された水などの冷却媒体によっ
て伝熱特性に優れる支承部材を介して直接的に効果的に
冷却される。これにより、ターゲット材を冷却ムラを起
こすことなく均一に冷却し得るので、冷却ムラによるク
ラックの発生を防止できる。また更に、金属管とターゲ
ット材の熱膨張率の違いによる不具合は支承部材によっ
て吸収されるので、直接密着させた場合に生じる熱膨張
率の差によるクラックの発生の懸念も無い。また、金属
管の外周面から伝熱特性に優れる支承部材を介してター
ゲット材へ給電することができるので、大電流の給電が
安全且つ容易にできる。
【0011】そして、支承部材は金属製バネであり、両
端部を残す円筒状部に、筒軸方向の複数のスリットを有
すると共に円弧状の膨大部を備えたものであってもよい
(請求項2)。円弧状の膨大部をターゲット材の内周面
に、両端部を金属管の外周面にそれぞれ接触させて取付
けることでバネとして取付けることができ、上記作用効
果を効果的に享受することができる。
【0012】また、金属管の外周面に筒軸方向の溝が形
成され、該溝が前記金属管の端部近傍に対応する部分で
円筒状ターゲットの外部に連通されてあってもよい(請
求項3)。このような溝を形成することで、真空引きす
る際に金属管と円筒状ターゲット材の間のガス溜まりを
無くし、真空排気を確実なものとすることができる。
【0013】また、円筒状ターゲット材は、短尺な円筒
状ターゲット材を複数個筒軸方向に連ねたものであって
もよい(請求項4)。このように構成することにより、
複数個の短尺な円筒状ターゲット材の内の、消耗した部
分の短尺な円筒状ターゲット材のみを交換することがで
きる。これにより、円筒状ターゲット材を経済的に効率
よく使用できる。また、短尺ターゲットを連ねることで
長大なターゲットを容易に作成することができる。
【0014】また、金属管は、一端が閉塞されており、
この一端近傍の外周にフランジが形成されているととも
に、前記フランジと他端との間で円筒状ターゲット材を
締付け可能に構成されたものであってもよい(請求項
5)。締付けを外して、ターゲットのみの交換が可能で
あり、特に請求項4のように短尺な円筒状ターゲットを
複数個筒軸方向に重ねたものでは部分的にターゲット材
を容易に交換できる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図1は、本発明に係るアークイオン
プレーティング用ロッド形蒸発源の断面図であって、金
属管が締結ロッドを兼ねる場合の例である。図におい
て、1は円筒状ターゲット、2は金属管、3は金属製バ
ネ(支承部材)である。
【0016】円筒状ターゲット1は、4本の短尺な円筒
状ターゲット材4を筒軸方向に連ねた構成のものであっ
て、内径は金属管2の外周に挿入し得る大きさに形成さ
れている。
【0017】金属管2は、一本の長尺な金属管であっ
て、一端が閉塞端に構成されるとともに外周にフランジ
5を有し、多端の外周には締結ナット6を取付ける雄ネ
ジが設けられている。また、円筒状ターゲット1に対応
する外周面には、後記する板状の金属製バネ3を装着す
るための周方向の溝と、円筒状ターゲット1の内周面側
のガス置換を容易にするための長手方向の溝2aとが設
けられている。
【0018】金属製バネ3は、伝熱性、導電性更にバネ
特性に優れる例えばベリリウム銅合金などを用いて図2
に示すような形態に構成される。すなわち、板状金属材
7の両端部8、9を除く中央部にスリット10を形成
し、スリット10を筒軸方向として円筒状に形成すると
ともに、スリット10を有する円筒状部11が円弧状の
膨大部12に形成されたものである。
【0019】上記部材(円筒状ターゲット1、金属管
2、金属製バネ3)を用いたAIP用ロッド形蒸発源の
組立ては、金属管2のフランジ5側にリング状のフラン
ジ13を装着し、次いで周方向の溝に金属製バネ3を装
着するとともに、この金属製バネ3の外周側に円筒状タ
ーゲット1を装着する。円筒状ターゲット1を装着後、
更に絶縁スリーブ14、15及びコイルバネ16を順に
装着したあと、締結ナット6を締付けて組立てられる。
なお、AIP装置への取付けは、絶縁スリーブ14と1
5の間でチャンバ17を挟み付けて取付けられる。この
場合、絶縁スリーブ14と15のいずれか一方又は両者
は、チャンバ17内を真空に保持するための図示省略す
るOリングなどのシール材を備える。また、フランジ1
3には、上記金属管2のガス置換を容易にするための長
手方向の溝2aに連通する連通孔13aが設けられてい
る。なお、この連通孔13aは、絶縁スリーブ14側に
設けてもよいし、あるいは両方に設けてあってもよい。
また、フランジ13も電気的な絶縁材を用いて構成して
もよい。また、コイルバネ16は、締結ナット6の締付
け力を調整することで、円筒状ターゲット1の熱膨張を
吸収するとともに初期の締付け力を保持することができ
る。
【0020】上記構成のAIP用ロッド形蒸発源は、A
IP操業時には、金属管2の内部に冷媒を供給するイン
ナパイプ18が装着され、上部のアダプタ(図示せず)
から冷媒が供給、排出される。従って、円筒状ターゲッ
ト1の熱は金属製バネ3、更に金属管2へと直接伝熱さ
れて冷媒へと抜熱されるので、AIP操業時(成膜時)
に円筒状ターゲット1に大電流を投入しても温度ムラが
起こりにくくクラックが発生しにくい。また、万一円筒
状ターゲット1にクラックが発生しても、金属管2を介
しているため水などの冷媒が漏れ出ることが無い。ま
た、円筒状ターゲット1は、金属製バネ3により金属管
2の外周面にしっかりと取付けることができる。
【0021】図3は、本発明に係るアークイオンプレー
ティング用ロッド形蒸発源の別の実施形態の断面図であ
って、締結ロッドを用いる場合の例である。図におい
て、21は円筒状ターゲット、22は金属管、23は金
属製バネであるが、円筒状ターゲット21と金属製バネ
23は、上記円筒状ターゲット1と金属製バネ3の構成
とそれぞれ同構成のものであり、説明を省略する。
【0022】金属管22は、両端が開放された一本の長
尺な金属管であって、外周面の両端部25、26にはO
リング27を設ける溝が設けられるとともに、円筒状タ
ーゲット21に対応する外周面には、板状の金属製バネ
23を装着するための周方向の溝と、円筒状ターゲット
21の内周面側のガス置換を容易にするための長手方向
の溝とが設けられている。
【0023】上記部材(円筒状ターゲット21、金属管
22、金属製バネ23)を用いたAIP用ロッド形蒸発
源の組立ては、金属管22の外周面の両端部25、26
にOリング27を設け、次いで周方向の溝に金属製バネ
23を装着するとともに、この金属製バネ23の外周側
に、4本の短尺な円筒状ターゲット材24からなる円筒
状ターゲット21を装着する。円筒状ターゲット21を
装着後、一方の端25の側のOリング27によるシール
部分に、他の金属をロー付けなどで補強した短尺な円筒
状ターゲット28を装着して組立てられる。なお、AI
P装置への取付けは、他方の端26の側の金属管22端
にシール材29を介してプラグ30を設け、そのプラグ
30を金属管22内を挿通させた締結ロッド31に固定
するとともに、締結ロッド31を真空チャンバ(図示せ
ず)に取付けて行われる。また、この短尺な円筒状ター
ゲット28には、図示省略したが、金属管22のガス置
換を容易にするための長手方向の溝に連通する孔が設け
られている。
【0024】なお、上記円筒状ターゲット28は、他方
の端26の側のOリング27によるシール部分にも装着
してもよい。また、上記円筒状ターゲット21が割れや
すい材料の場合、放電部分から外れたところに短尺な円
筒状ダミーターゲットを用いることがあるが、その円筒
状ダミーターゲットを、一方の端25の側の円筒状ター
ゲット28の位置に装着することもできる。
【0025】上記構成のAIP用ロッド形蒸発源は、A
IP操業時には、金属管22の内部に冷媒を供給するイ
ンナパイプ32が装着され、上部のアダプタ(図示せ
ず)から冷媒が供給、排出される。従って、円筒状ター
ゲット21の熱は金属製バネ23、更に金属管22へと
直接伝熱されて冷媒へと抜熱されるので、AIP操業時
(成膜時)に円筒状ターゲット21に大電流を投入して
も温度ムラが起こりにくくクラックが発生しにくい。ま
た、万一円筒状ターゲット21にクラックが発生して
も、金属管22を介しているため水などの冷媒が漏れ出
ることが無い。また、円筒状ターゲット21は、金属製
バネ23により金属管22の外周面にしっかりと取付け
ることができる。更に、放電不要部がある場合は、その
部分にダミーターゲットを装着してもよい。
【0026】なお、上記の例においては、金属製バネ
3、23を、図2に示す板状の金属製バネを例に説明し
たが、本発明はこの例に限定されるものではなく、例え
ば伝熱性、導電性更にバネ特性に優れる金属細線(例え
ば線径:0.3〜1mm程度)を、図4に示すようなコ
イル状(例えばコイル外径:3〜5mm程度)に形成した
金属製バネ33であってもよい。このコイル状金属製バ
ネ33の場合には金属管2、22の外周に形成した周方
向の溝内に所望間隔または密に寄せて巻きつけることで
バネ力を得る事ができる。また、バネである必要は無
く、伸縮可能で伝熱特性に優れたものであればよい。
【0027】また、上記の例では、円筒状ターゲット
1、21を、4本の短尺な円筒状ターゲット材4を筒軸
方向に連ねた構成を例に説明したが、1本の長尺な円筒
状ターゲット材としてもよい。
【0028】また、上記の例では、ターゲットより若干
短い金属管を用いたが、この金属管をターゲットから突
出するようにしてもよい。更に、円筒状ターゲットの端
面を平面としているが、オスメスの円錐台やテーパ形状
であってもよい。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るアー
クイオンプレーティング用ロッド形蒸発源によれば、大
電流を投入しても温度ムラが起こりにくくクラックが発
生しにくい上に、万一クラックが発生しても水などの冷
媒漏れが生じることが無く、大電流の給電が安全且つ容
易にできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るアークイオンプレーティング用ロ
ッド形蒸発源の説明図であって、aは全体断面図、bは
aのA部拡大図、cはaのB−B断面図、dはaのC−
C断面図である。
【図2】本発明に係る板状の金属製バネの斜視図であ
る。
【図3】本発明に係るアークイオンプレーティング用ロ
ッド形蒸発源の別の実施形態の断面図である。
【図4】本発明に係るコイル状の金属製バネの斜視図で
ある。
【符号の説明】
1:円筒状ターゲット 2:金属管
3:金属製バネ 4:円筒状ターゲット材 5:フランジ
6:締結ナット 7:板状金属材 8,9:両端部 1
0:スリット 11:円筒状部 12:円弧状の膨大部 1
3:リング状のフランジ 14,15:絶縁スリーブ 1
6:コイルバネ 17:チャンバ 18:インナパイプ 2
a:長手方向の溝 13a:連通孔 21:円筒状ターゲット 2
2:金属管 23:金属製バネ 24:円筒状ターゲット材 25,26:両端部 27:Oリング 2
8:円筒状ターゲット 29:シール材 30:プラグ 3
1:締結ロッド 32:インナパイプ 33:コイル状の金属製バネ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 円筒状ターゲットの中空部に冷却媒体を
    供給・排出することで円筒状ターゲットを内部冷却し得
    る構造を備えるアークイオンプレーティング用ロッド形
    蒸発源において、前記円筒状ターゲットが、円筒状ター
    ゲット材と、その円筒状ターゲット材の中空部内に挿入
    された金属管と、円筒状ターゲット材の中空部内周面と
    前記金属管の外周面との間に介在された伸縮可能な伝熱
    特性に優れる支承部材と、を備えてなることを特徴とす
    るアークイオンプレーティング用ロッド形蒸発源。
  2. 【請求項2】 前記支承部材が、両端部を残す円筒状部
    に、筒軸方向の複数のスリットを有すると共に円弧状の
    膨大部を備えてなる金属製バネである請求項1に記載の
    アークイオンプレーティング用ロッド形蒸発源。
  3. 【請求項3】 金属管の外周面に筒軸方向の溝が形成さ
    れ、該溝が前記金属管の端部近傍に対応する部分で円筒
    状ターゲットの外部に連通されてなる請求項1又は2に
    記載のアークイオンプレーティング用ロッド形蒸発源。
  4. 【請求項4】 円筒状ターゲット材が、短尺な円筒状タ
    ーゲット材を複数個筒軸方向に連ねたものである請求項
    1乃至3の何れかに記載のアークイオンプレーティング
    用ロッド形蒸発源。
  5. 【請求項5】 金属管が、一端が閉塞されており、この
    一端近傍の外周にフランジが形成されているとともに、
    前記フランジと他端との間で円筒状ターゲット材を締付
    け可能に構成されてなる請求項1乃至4の何れかに記載
    のアークイオンプレーティング用ロッド形蒸発源。
JP2002109373A 2002-04-11 2002-04-11 アークイオンプレーティング用ロッド形蒸発源 Expired - Fee Related JP4015874B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002109373A JP4015874B2 (ja) 2002-04-11 2002-04-11 アークイオンプレーティング用ロッド形蒸発源

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002109373A JP4015874B2 (ja) 2002-04-11 2002-04-11 アークイオンプレーティング用ロッド形蒸発源

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003301266A true JP2003301266A (ja) 2003-10-24
JP4015874B2 JP4015874B2 (ja) 2007-11-28

Family

ID=29392862

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002109373A Expired - Fee Related JP4015874B2 (ja) 2002-04-11 2002-04-11 アークイオンプレーティング用ロッド形蒸発源

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4015874B2 (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006104570A (ja) * 2004-09-30 2006-04-20 Applied Films Corp スパッタリング用の非接着式回転ターゲット
WO2007108313A1 (ja) 2006-03-22 2007-09-27 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho アークイオンプレーティング方法及びこれに用いられるターゲット
JP2010100930A (ja) * 2008-09-25 2010-05-06 Tosoh Corp 円筒形スパッタリングターゲット及びその製造方法
JP2011001616A (ja) * 2009-06-19 2011-01-06 Fujikura Ltd レーザー蒸着装置
EP2276055A1 (en) * 2009-07-13 2011-01-19 Applied Materials, Inc. Target backing tube, cylindrical target, and cylindrical target assembly
WO2011047891A1 (de) * 2009-10-23 2011-04-28 Sindlhauser Materials Gmbh Sputtertargetanordnung
JP2012046807A (ja) * 2010-08-30 2012-03-08 Solar Applied Materials Technology Corp 中空ターゲット組立体
CN106191788A (zh) * 2016-10-09 2016-12-07 北京帕托真空技术有限公司 用于电阻加热式蒸发镀膜机的有机蒸发源
CN107227445A (zh) * 2017-07-24 2017-10-03 曲士广 一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102338598B (zh) * 2010-07-19 2014-02-19 光洋应用材料科技股份有限公司 中空状靶材组件

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1650321A2 (en) * 2004-09-30 2006-04-26 Applied Films Corporation A sputtering system
JP2006104570A (ja) * 2004-09-30 2006-04-20 Applied Films Corp スパッタリング用の非接着式回転ターゲット
JP2011117078A (ja) * 2004-09-30 2011-06-16 Applied Materials Inc スパッタリング用の非接着式回転ターゲット
US8133365B2 (en) 2006-03-22 2012-03-13 Kobe Steel, Ltd. Method of arc ion plating and target for use therein
WO2007108313A1 (ja) 2006-03-22 2007-09-27 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho アークイオンプレーティング方法及びこれに用いられるターゲット
KR101027879B1 (ko) * 2006-03-22 2011-04-07 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 아크 이온 플레이팅 방법 및 이것에 사용되는 타겟
JP2010100930A (ja) * 2008-09-25 2010-05-06 Tosoh Corp 円筒形スパッタリングターゲット及びその製造方法
JP2011001616A (ja) * 2009-06-19 2011-01-06 Fujikura Ltd レーザー蒸着装置
EP2276055A1 (en) * 2009-07-13 2011-01-19 Applied Materials, Inc. Target backing tube, cylindrical target, and cylindrical target assembly
WO2011006802A1 (en) * 2009-07-13 2011-01-20 Applied Materials, Inc. Target backing tube, cylindrical target, and cylindrical target assembly
WO2011047891A1 (de) * 2009-10-23 2011-04-28 Sindlhauser Materials Gmbh Sputtertargetanordnung
JP2012046807A (ja) * 2010-08-30 2012-03-08 Solar Applied Materials Technology Corp 中空ターゲット組立体
CN106191788A (zh) * 2016-10-09 2016-12-07 北京帕托真空技术有限公司 用于电阻加热式蒸发镀膜机的有机蒸发源
CN106191788B (zh) * 2016-10-09 2019-03-05 北京帕托真空技术有限公司 用于电阻加热式蒸发镀膜机的有机蒸发源
CN107227445A (zh) * 2017-07-24 2017-10-03 曲士广 一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备
CN107227445B (zh) * 2017-07-24 2019-01-25 曲士广 一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备

Also Published As

Publication number Publication date
JP4015874B2 (ja) 2007-11-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4015874B2 (ja) アークイオンプレーティング用ロッド形蒸発源
TW201423904A (zh) 靜電卡盤以及等離子體加工設備
JP2010021510A (ja) 基板保持装置およびプラズマ処理装置
JP2007311613A (ja) 試料台及びそれを備えたプラズマ処理装置
US3274429A (en) High frequency electron discharge device with heat dissipation means
CN110970278B (zh) 一种用于辐冷型空间行波管的收集极散热结构
KR100796830B1 (ko) 기판코팅방법 수행용 반응실
KR20150140665A (ko) 방전 램프
US4750186A (en) Sealed gas laser
JP3034714B2 (ja) ジョイント装置
JP2003324095A (ja) 半導体製造装置用基板の冷却回路とその冷却回路を備えた半導体製造装置
US1993724A (en) Demountable electron tube
US5841221A (en) Collector for an electron beam tube
JP2001057177A (ja) ショートアークランプ
JP3067699B2 (ja) 輻射冷却形進行波管
JP7175228B2 (ja) 放電ランプおよびその製造方法
KR102580368B1 (ko) 방전 램프 및 방전 램프의 제조 방법
JP3334694B2 (ja) 進行波管
US10378097B2 (en) Film forming apparatus
JP2006100078A (ja) プラズマトーチ
JP2000343217A (ja) 溶接または切断用トーチ
JP2004273637A (ja) プラズマ処理装置
JP2004273638A (ja) プラズマ処理装置
JP2022173546A (ja) 放電ランプ
JPS5918696Y2 (ja) イオンレ−ザ管

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040922

A977 Report on retrieval

Effective date: 20070523

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070612

A521 Written amendment

Effective date: 20070810

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070911

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20070914

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100921

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100921

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110921

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110921

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120921

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 5

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120921

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 6

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130921

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees