JP2003289189A - 電子機器 - Google Patents

電子機器

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JP2003289189A
JP2003289189A JP2002090424A JP2002090424A JP2003289189A JP 2003289189 A JP2003289189 A JP 2003289189A JP 2002090424 A JP2002090424 A JP 2002090424A JP 2002090424 A JP2002090424 A JP 2002090424A JP 2003289189 A JP2003289189 A JP 2003289189A
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heat
heat sink
semiconductor element
heat transfer
substrate
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JP2002090424A
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Katsumi Kuno
勝美 久野
Kenji Hirohata
賢治 廣畑
Hideo Iwasaki
秀夫 岩崎
Noriyasu Kawamura
法靖 川村
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ドーターボードの表裏両面に半導体素子をそ
れぞれ備えかつ両半導体素子の発熱の放熱を効果的に行
うことのできる電子機器を提供する。 【解決手段】 電子部品を搭載した第1の基板1と前記
電子部品を搭載し前記第1の基板1と電気的に接続した
第2の基板5とを離隔して備えた電子機器において、前
記第2の基板5の表裏両面に取付けたそれぞれの半導体
素子23A、23Bを、伝熱パス33,45を介してヒ
ートシンク25,27にそれぞれ接続した構成であり、
前記第2の基板5の表面に取付けた第1の半導体素子2
3Aに伝熱パス33を介して接続した第1のヒートシン
ク25と、前記第2の基板5の裏面に取付けた第2の半
導体素子23Bに伝熱パス45を介して接続した第2の
ヒートシンク27とを別個に設け、前記第1のヒートシ
ンク25を、弾性支持機構35を介して前記第1の基板
1又は第2の基板5に支持した構成である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、CPU,ROM,
RAMなどの基本電子部品を搭載したマザーボードと、
このマザーボードに電気的に接続したドーターボードと
を備えた電子機器に係り、さらに詳細には、前記ドータ
ーボードの表裏両面に半導体素子を備えて、両素子間の
伝送速度の高速化を図り、かつ両素子の冷却を効果的に
行うことのできる電子機器に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、マザーボード(第1の基板)とド
ーターボード(第2の基板)を備えた電子機器において
は、例えば図14に示すごとき構成のものが知られてい
る。すなわち、電子部品(図示省略)を搭載した第1の
基板としてのマザーボード1と電子部品の1例として第
1,第2の半導体素子3A、3Bを表面に取付けた第2
の基板としてのドーターボード5は複数の支柱(図示省
略)を介して適宜に離隔して設けてあって、上記マザー
ボード1とドーターボード5はコネクタ7を介して電気
的に接続してある。
【0003】そして、前記第1,第2の半導体素子3
A、3Bから発生した熱を放熱するために、前記マザー
ボード1には、複数の放熱フィン9を備えたヒートシン
ク11が、前記ドーターボード5を覆うように取付けて
ある。前記第1,第2の半導体素子3A、3Bの発熱を
前記ヒートシンク11に伝達するために、上記第1,第
2の半導体素子3A、3Bの厚さに対応するように屈曲
して前記第1,第2の半導体素子3A、3Bの表面と面
接触したアルミニウム板13が設けてある。
【0004】上記アルミニウム板13は複数の支柱15
を介して前記ドーターボード5に支持されており、この
アルミニウム板13と前記第1,第2の半導体素子3
A、3Bとの間には、一般的な熱伝導用グリス(図示省
略)が介在してある。そして、前記アルミニウム板13
から前記ヒートシンク11へ熱伝達を効率よく行うため
に、前記アルミニウム板13とヒートシンク11との間
には、一般的な熱伝導シート17が介在してある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前述のごとき従来の構
成においては、前記第1,第2の半導体素子3A、3B
の上面の高さ位置のばらつきにより、アルミニウム板1
3との接触圧が過大になると、第1,第2の半導体素子
3A、3Bの信頼性に悪影響を与えることがあるので、
前記第1,第2の半導体素子3A、3Bの上面と前記ア
ルミニウム板13との間には、製造誤差等を吸収し得る
間隙を設け、この間隙に熱伝導用グリスを介在する構成
が採用されている。
【0006】上記構成においては、アルミニウム板13
の熱伝導率に比較して前記熱伝導用グリスの熱伝導率が
低く、まして、熱伝導用グリスの塗布時に微小の気泡が
含まれることがあると、前記第1,第2の半導体素子3
A、3Bの放熱効率がさらに低下するという問題があ
る。
【0007】また、前記ヒートシンク11をマザーボー
ド1に取付ける際、ヒートシンク11とアルミニウム板
13との間に熱伝導シート17を介在して、製造誤差等
による過大な接触圧や過大な間隙を吸収する構成として
いるので、金属材料に比較して熱伝導率が低く、放熱性
能の向上を図る上において問題がある。
【0008】さらに、第1,第2の半導体素子3A、3
Bを接続する信号線の数が多くなると、ドーターボード
5上での信号線の引き回しが難しくなり、また第1,第
2の半導体素子3A、3B間において信号線の平面的な
引き回し距離が長くなると、両素子3A、3B間の伝送
速度のより高速化を図る上においてさらに改善が必要で
ある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述のごとき
従来の問題に鑑みてなされたもので、請求項1に係る発
明は、電子部品を搭載した第1の基板と前記電子部品を
搭載し前記第1の基板と電気的に接続した第2の基板と
を離隔して備えた電子機器において、前記第2の基板の
表面に取付けた第1の半導体素子及び前記第2の基板の
裏面に取り付けた第2の半導体素子を有し、前記第1の
半導体素子及び前記第2の半導体素子を伝熱パスを介し
てヒートシンクにそれぞれ接続した構成である。
【0010】請求項2に係る発明は、請求項1に記載の
電子機器において、前記第1の半導体素子に伝熱パスを
介して接続した第1のヒートシンクと、前記第2の半導
体素子に伝熱パスを介して接続した第2のヒートシンク
とを別個に設け、前記第1のヒートシンクを、弾性支持
機構を介して前記第1の基板または第2の基板に支持し
た構成である。
【0011】請求項3に係る発明は、請求項1に記載の
電子機器において、前記第1の半導体素子と前記第2の
半導体素子とを、それぞれ伝熱パスを介して前記第1の
基板に取付けた別個のヒートシンクにそれぞれ接続した
構成である。
【0012】請求項4に係る発明は、請求項1に記載の
電子機器において、前記第1の半導体素子と前記第2の
半導体素子とを、それぞれ伝熱パスを介して共通のヒー
トシンクに接続した構成である。
【0013】請求項5に係る発明は、請求項1に記載の
電子機器において、前記第1のヒートシンクと、前記第
2のヒートシンクとを、前記第1の基板を間にして互い
に反対側に配置してある構成である。
【0014】請求項6に係る発明は、請求項1,2,
3,4又は5に記載の電子機器において、伝熱パスは、
ヒートパイプ又は炭素繊維或は半導体素子に直接接触し
たヒートシンクのフィンベースを備えている構成であ
る。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
の形態について説明するに、前述した従来の構成と同一
機能を奏する構成部分には同一符号を付することとして
重複した説明は省略する。
【0016】図1を参照するに、電子部品(図示省略)
を搭載した第1の基板としてのマザーボード1は、シャ
ーシ等の筐体壁面19から突出した複数のボス等21に
より撓みを生じ難いように支持されている。このマザー
ボード1には、電子部品(図示省略)を搭載した第2の
基板としてのドーターボード5が複数の支柱又は脚部材
(図示省略)を介し適宜に離隔して支持されている。そ
して、前記マザーボード1とドーターボード5は従来の
構成と同様にコネクタ7を介して電気的に接続してあ
る。
【0017】前記ドーターボード5の表面中央部付近に
は、例えばマイクロプロセッサやチップセットあるいは
キャッシュメモリ等のごとき適宜の第1の半導体素子2
3Aが取付けてあり、上記ドーターボード5の裏面には
第2の半導体素子23Bが対向して取付けてある。
【0018】したがって、第1,第2の半導体素子23
A,23Bを複数の信号線(図示省略)によって接続す
るとき、前記ドーターボード5を貫通する配線でもって
接続することができる。したがって、前述した従来の構
成のごとくドーターボード5の上面に複数の半導体素子
を配置した構成に比較して、前記配線長を極めて短くす
ることができ、両素子23A,23B間の伝送速度をよ
り高めることができるものである。
【0019】前記第1,第2の半導体素子23A,23
Bには、当該第1,第2の半導体素子23A,23Bに
おいて発生した熱を放熱するために、第1,第2のヒー
トシンク25,27がそれぞれ接続してある。
【0020】より詳細には、前記第1のヒートシンク2
5は、フィンベース29に複数の放熱フィン31を適宜
間隔に備えた構成であって、前記フィンベース29が前
記第1の半導体素子23Aと対向した部分は、当該第1
の半導体素子23Aの表面(図1においての上面)と直
接面接触するように、下面を平面に形成した伝熱パス3
3が形成してある。
【0021】図1において伝熱パス33はヒートシンク
25のフィンベース29からの突起として図示されてい
るが、伝熱パス33と半導体素子23Aが接触する面が
フィンベース29の下面と同一あるいは窪んだ形状であ
ってもよい。また、伝熱パス33は図1の実施形態に示
すようにフィンベース29と一体に成形されていてもよ
いし、例えばアルミニウム合金で形成されたフィンベー
ス29に銅合金製の伝熱パス33が取り付けられた形態
とすることにより、ヒートシンク25の大部分を軽いア
ルミニウム合金、半導体素子23A近傍の熱流束の大き
い、すなわち熱の流れが集中している部分にアルミニウ
ム合金よりも比重が大きいが熱伝導性の高い銅合金を用
い、ヒートシンク25や伝熱パス33で構成される放熱
構造の質量を大幅に増加させること無しに、放熱性能を
向上させることもできる。
【0022】なお、上記第1の半導体素子23Aとヒー
トシンク25の伝熱パス33とが直接接触した面接触部
には、接触熱抵抗を低減するために、例えば熱伝導グリ
スを膜状に、または膜状の熱伝導シート、或はやわらか
い金属箔などの伝熱部材(図示省略)を配置することが
望ましい。この場合、前記伝熱パス33と第1の半導体
素子23Aは直接面接触するものであるから、この面接
触部における微小間隙を埋めるように前記伝熱部材を配
置して、前記面接触部分の熱伝導率を大きくするもので
ある。
【0023】前記第1のヒートシンク25は、複数の弾
性支持機構35を介して、前記ドーターボード5に対
し、図1において僅かに上下動可能、すなわちドーター
ボード5に対して接近離反する方向へ僅かに移動可能に
支持されており、かつ前記ドーターボード5に対する近
接距離を規制自在のリミッタ37が前記フィンベース2
9の下面に取付けてある。
【0024】前記ドーターボード5の1部分に応力が集
中すること及びドーターボード5の反り(湾曲)を抑制
するために、前記ドーターボード5の裏面には、図1
(B)に示すように環状のバックアッププレート39が
配置してあり、このバックアッププレート39によって
前記弾性支持機構35を支持している。
【0025】前記第2のヒートシンク27は、前記第1
のヒートシンク25の側方位置において、複数の弾性支
持機構35を介して前記マザーボード1に支持されてい
る。この第2のヒートシンク27におけるフィンベース
41は前記第1のヒートシンク25におけるフィンベー
ス29より厚肉に形成してある。また、このフィンベー
ス29に適宜間隔に備えた複数の放熱フィン43の先端
部は、前記第1のヒートシンク25における複数の放熱
フィン31の先端部とほぼ同一レベルに設けてある。
【0026】そして、前記第1,第2のヒートシンク2
5,27における放熱フィン31,43のピッチをほぼ
等しく設け、この放熱フィン31,43部分を、図1に
おいて紙面に対して垂直方向に移動する空気流の同一面
積での圧力損失がほぼ同一となるように構成してある。
したがって、圧力損失の小さい方すなわち通風抵抗の小
さい一方のヒートシンクに空気の流れが片寄るようなこ
とがなく、第1,第2のヒートシンク25,27に対し
て空気の流れが均等的に得られるものである。
【0027】前記第2の半導体素子23Bでの発熱を第
2のヒートシンク27において放熱するために、第2の
半導体素子23Bと第2のヒートシンク27との間に
は、第2の半導体素子23Bの発熱を第2のヒートシン
ク27へ伝達するための伝熱パス45が設けてある。上
記伝熱パス45を構成するために、本例においては、前
記第2の半導体素子23Bの表面(図1においては下
面)に直接面接触した金属製の伝熱ブロック47が設け
てあり、この伝熱ブロック47と前記マザーボード1と
の間には、前記第2の半導体素子23Bに対して過大な
接触圧となることなく前記伝熱ブロック47の面接触を
保持するための、例えばゴム、スプリングなどのごとき
適宜の弾性体49が設けてある。
【0028】そして、前記伝熱ブロック47から前記第
2のヒートシンク27へ効率良く熱伝導を行うために、
前記伝熱ブロック47と前記第2のヒートシンク27の
フィンベース41との間にはヒートパイプ等のごとき熱
伝導部材51が適宜に掛け渡してある。すなわち、本例
においては、伝熱パス45を構成するために、基端部を
伝熱ブロック47に貫通固定したヒートパイプ51の先
端部がヒートシンクのフィンベース41に貫通固定して
ある。
【0029】なお、前記第2の半導体素子23Bと前記
伝熱ブロック47との面接触部分にも、第1の半導体素
子23Aと前記伝熱パス33との両接触部分同様に伝熱
部材が配置してある。
【0030】前記構成において、第1,第2の半導体素
子23A,23Bの動作によって発熱すると、第1,第
2の半導体素子23A,23Bの発熱はそれぞれ第1,
第2のヒートシンク25,27に伝達され、第1,第2
のヒートシンク25,27において放熱されるので、第
2の基板としてのドーターボード5の表裏両面に設けた
第1,第2の半導体素子23A,23Bを効果的に冷却
することができるものである。
【0031】したがって、ドーターボード5の両面に第
1,第2の半導体素子23A,23Bを設けた構成であ
っても、ドーターボード5の表裏両面の温度差を小さく
抑制することができ、ドーターボード5の表裏両面の温
度差に起因する反り等を抑制することができるものであ
る。すなわち、ドーターボード5の表裏両面に半導体素
子23A,23Bを配置した構成であっても問題を生じ
るようなことがないものである。
【0032】なお、図1より理解されるように、マザー
ボードがドーターボード5や第2のヒートシンク27等
を支持することによって力を受ける部分は、筐体壁面1
9に設けた前記ボス21によって支持してあるので、マ
ザーボード1の撓みや反り等を抑制することができるも
のである。
【0033】前記ドーターボード5に対して前記第1の
ヒートシンク25を支持する前記弾性支持機構35の構
成としては、図2に示すごとき構成とすることが望まし
い。
【0034】すなわち、第1のヒートシンク25におけ
るフィンベース29に備えた複数の位置決めピン29P
を、ドーターボード5に設けた複数の位置決め孔5Hに
移動可能に嵌入して、ドーターボード5とフィンベース
29との位置的関係を一定に保持する。そして、前記フ
ィンベース29の表面(放熱フィン31側の面)に配置
した円筒形状の第1規制部材53及び前記フィンベース
29を相対的に移動自在に貫通した規制ピン55の先端
部を、前記ドーターボード5と前記フィンベース29と
の間に配置した円筒形状の第2規制部材57及びドータ
ーボード5を貫通して前記バックアッププレート39に
設けた螺子孔39Sに螺着固定する。
【0035】この際、前記規制ピン55の頭部55Hと
前記第1規制部材53との間に微小クリアランスCL1
を保持し、また、第2の規制部材57と前記フィンベー
ス29との間に微小クリアランスCL2を保持した状態
に、前記規制ピン55に備えたフランジ55Fによって
前記第2規制部材57を前記ドーターボード5に固定す
る。そして、前記規制ピン55の頭部55Hと第1規制
部材53の底部との間に、例えばコイルスプリング等の
ごとき適宜の弾性部材59を弾装して設ける。
【0036】上記弾性部材59は、前記フィンベース2
9を前記ドーターボード5方向へ押圧付勢して、前記第
1の半導体素子23Aとフィンベース29の伝熱パス3
3との面接触を保持するように作用する。前記弾性部材
59の付勢力に起因する第1の半導体素子23Aと前記
伝熱パス33との接触圧は、前記第1の半導体素子23
Aに悪影響を与えることのない適正の接触圧に保持され
ている。
【0037】そして、前記規制ピン55の頭部55Hと
第1規制部材53との間の微小クリアランスCL1及び
フィンベース29と第2の規制部材57との間の微小ク
リアランスCL2は、前記ドーターボード5に対して前
記フィンベース29が相対的に接近離反する方向へ振動
的、衝撃的に移動したようなときに、前記フィンベース
29の相対的な移動を規制して、前記第1の半導体素子
23Aと前記伝熱パス33との接触圧が過大になって前
記第1の半導体素子23Aに悪影響を与えることのない
ような微小クリアランスに保持されている。
【0038】ところで、前述したように、第1ヒートシ
ンク25におけるフィンベース29の中央部に設けた伝
熱パス33が第1の半導体素子23Aに直接接触して押
圧し、前記構成の弾性支持機構35によって前記フィン
ベース29を支持すると、図3に示すように、前記ドー
ターボード5の中央部を下方向へ押圧し、ドーターボー
ド5の周縁部の複数個所を上方向に引張る態様となり、
前記ドーターボード5に、図3(B)に示すように反り
を生じる傾向にある。
【0039】そこで、前記ドーターボード5の反りを規
制し抑制するために、前記複数の弾性支持機構35に対
応して前記フィンベース29に反り規制部材61が設け
てある。
【0040】より詳細には、図4に示すように、前記弾
性支持機構35に近接してフィンベース29に係合孔6
3が形成してあり、この係合孔63には、ピン状の反り
規制部材61が嵌入固定してある。上記反り規制部材6
1を前記係合孔63に嵌入固定するに際しては、前記係
合孔63に反り規制部材61の基部を嵌入し、上記反り
規制部材61の先端部を前記ドーターボード5に当接し
た状態において、係合孔63内に樹脂製の充填材65又
は接着剤を充填して前記反り規制部材61を係合孔63
に嵌入固定する。
【0041】前記充填材65が硬化するとき、充填材6
5の体積が僅かに減少するので、係合孔63に反り規制
部材61を嵌入固定したときには、上記反り規制部材6
1の端面とドーターボード5との間に微小間隙が生じる
ことになる。したがって、ドーターボード5とフィンベ
ース29との相対的な僅かな接近移動が可能な状態にあ
り、前記第1の半導体素子23Aとフィンベース29の
伝熱パス33との面接触は適正に保持されているもので
ある。
【0042】なお、上記反り規制部材61は係合孔63
に対して位置調節可能に螺入する構成とすることや、前
記フィンベース29に一体成形した構成とすることも可
能である。また、前記反り規制部材61と前記リミッタ
37とを兼用した構成とすることも可能である。
【0043】図5は第2の実施の形態の主要部分を示す
もので、この第2の実施の形態においては、第1のヒー
トシンク25におけるフィンベース29の周縁部付近に
設けたL字形状の脚部67を、複数の弾性支持機構35
を介してマザーボード1によって支持した構成である。
【0044】なお、前述した実施の形態と同一機能を奏
する構成部分には同一符合を付することとして重複した
説明は省略する。
【0045】前記第2の実施の形態においては、前記脚
部67に対応する部分をボス21によって支持すること
ができるので、マザーボード1の反りや撓みを抑制して
ドーターボード5に作用する負荷を軽減でき、ヒートシ
ンク25の負荷によるドーターボード5の反り等をなく
すことができるものである。
【0046】図6は、本発明の第3の実施の形態の主要
部分のみを示すものである。この第3の実施の形態にお
いて、前述した実施の形態と同一機能を奏する部分には
同一符号を付することとして重複した説明は省略する。
【0047】この第3の実施の形態においては、第2の
ヒートシンク27を第1のヒートシンク25の両側方に
配置した構成であり、かつ第2の半導体素子23Bに面
接触した伝熱ブロック47と両側の第2のヒートシンク
27との間にそれぞれヒートパイプ等の熱伝導部材51
を掛け渡した構成である。そしてマザーボード1の裏面
の必要箇所にバックアッププレート69を配置してマザ
ーボード1の補強を行った構成である。
【0048】この第3の実施の形態によれば、第2のヒ
ートシンク27が2分割した構成であることにより、伝
熱を行うためのヒートパイプ51を細くすることがで
き、延いては伝熱ブロック47及び第2ヒートシンク2
7におけるフィンベース41をより薄くすることがで
き、全体的構成の薄型化を図ることができるものであ
る。
【0049】図7は、本発明の第4の実施の形態を示す
もので、この実施の形態においては、第2のヒートシン
ク27を止めねじ等の固定具71によってマザーボード
1に固定し、かつ前記伝熱ブロック47と第2ヒートシ
ンク27のフィンベース41とを、伝熱パス45として
炭素繊維でできた薄い板状あるいは布状の熱伝導部材を
用いて接続した構成であり、その他の構成は前述した実
施の形態と同様の構成である。
【0050】上記構成においては伝熱パス45の熱伝導
部材を薄くかつ柔軟性を有する構成とすることができる
ので、例えばマザーボード1やドーターボード5に適宜
の部品73が取りつけてある場合であっても、上記部品
73を回避して伝熱パス45を配置することができる。
また、第2ヒートシンク27をマザーボード1に一体的
に固定できることとなり、取付け構成の信頼性の向上を
図ることができるものである。
【0051】図8は本発明の第5の実施の形態の主要部
分を示すもので、この第5の実施の形態においては、前
記伝熱ブロック47と同様の構成の伝熱ブロック75を
第1の半導体素子23Aの表面に面接触してある。そし
て、上記面接触を保持するために、ドーターボード5に
立設した複数の支柱77に支持された板バネ等のごとき
弾性部材79によって前記伝熱ブロック75を第1の半
導体素子23Aの方向へ押圧付勢してある。
【0052】さらに、前記マザーボード1に固定したブ
ラケット81と前記伝熱ブロック75との間に例えばヒ
ートパイプ等のごとき熱伝導部材83が掛け渡したあ
り、かつこの熱伝導部材83には複数の放熱フィン85
が適宜に設けられている。
【0053】上記構成によれば第1,第2のヒートシン
クがドーターボード5の両側方に配置される構成であっ
て全体的構成の薄型化を図ることができる。
【0054】図9は第5の実施の形態を示すもので、こ
の第5の実施の形態は、図8に示した第4の実施形態の
変更例であって、第2の半導体素子23Bに面接触した
伝熱ブロック47に相当する伝熱ブロック87を大型化
して立上り部87Aの部分でもって前記熱伝導部材83
を支持し、かつ前記放熱フィン85に伝熱する構成とし
たものである。
【0055】この第5の実施の形態においては、前記立
上り部87Aを支点として前記熱伝導部材83が撓み得
る構成であり、第1,第2の半導体素子23A,23B
の厚さに製造誤差等による変化がある場合であっても容
易に対応反応である。また第1,第2の半導体素子23
A,23Bの発熱の放熱を行うためのヒートシンクを共
通化でき、構成の簡素化を図ることができるものであ
る。
【0056】図10は第6の実施形態を示すもので、こ
の第6の実施の形態においては、第1のヒートシンク2
5と同様構成の第2のヒートシンク89を前記マザーボ
ード1を間にして第1ヒートシンク27の反対側に配置
し、バックアッププレート91及び前記弾性支持機構3
5に準じた弾性支持機構93を介してマザーボード1に
前記ヒートシンク91が支持されている。
【0057】そして、前記ヒートシンク89において複
数の放熱フィン95を備えたフィンベース97の中央部
に突出して備えた伝熱パス99が前記マザーボード1に
形成した穴1Hを貫通して前記第2の半導体素子23B
の表面に直接面接触してある。
【0058】この構成によれば、第1,第2の半導体素
子23A,23Bにそれぞれヒートシンクに形成した伝
熱パス33,99の部分が直接面接触してあるので、伝
熱距離が短くなり、第1,第2の半導体素子23A,2
3Bの発熱を効率良く伝達して放熱することができるも
のである。
【0059】図11は第7の実施の形態を示すもので、
図10に示した第6の実施形態の変更例を示すものであ
る。すなわち、この実施の形態においては、マザーボー
ド1から垂設したガイドピン101によって下側の第2
のヒートシンク89を上下動自在に案内し、かつ上記ガ
イドピン101に備えたコイルスプリングのごとき弾性
部材103によって下側の第2のヒートシンク89を上
方向へ付熱して弾性支持している。
【0060】そして、前記マザーボード1を貫通して下
側のヒートシンク89のフィンベース97に立設したガ
イドピン105によって上側の第1のヒートシンク25
を上下動可能に支持し、かつ上記ガイドピン105に備
えたコイルスプリングのごとき弾性部材107によって
下方向へ付勢して支持している。
【0061】上記構成によれば、上下の第1,第2の半
導体素子23A,23Bは上下の弾性部材103,10
7の付勢力により上下の第1,第2のヒートシンク2
5,87によって挟まれた態様となる。したがって、第
1,第2の半導体素子23A,23Bの製造誤差等によ
って厚さが変化する場合であっても容易に対応すること
ができ、適性の接触圧に保持できるものである。
【0062】図12は第8の実施の形態を示すもので、
第2の半導体素子23Bに面接触した板状の伝熱パス部
材109の周縁部とドーターボード5との間及びドータ
ーボード5の周縁部と上側の第1のヒートシンク25の
フィンベース29との間に熱伝導シート111を介在し
て設けた構成である。
【0063】この構成においては、第1の半導体素子2
3Aの発熱はフィンベース29へ直接伝達され、第2の
半導体素子23Bの発熱は、伝熱パス部材109、熱伝
導シト111、ドーターボード5の周縁部及び熱伝導シ
ート111を介して前記フィンベース29へ伝達される
ものである。
【0064】図13は放熱フィンの構成を示すもので、
図13(A)は、フィンベース113に対してコルゲー
トフィンのように波型のフィン板115をロー付けした
構成であり、図13(B)は、フィンベース113の表
面に形成した係合溝117にフィン板119を係合して
カシメ等によって一体的に固定したものである。すなわ
ちヒートシンクに用いる放熱フィンの構成としては種々
の構成を採用可能である。
【0065】
【発明の効果】以上のごとき説明より理解されるよう
に、本発明によれば、ドーターボードの表裏両面にそれ
ぞれ半導体素子を取付けて、両半導体素子の発熱を効果
的に放熱することができる。したがって、ドーターボー
ドの表裏両面に半導体素子を取付けた場合であってもド
ーターボードの表裏両面の温度差に起因する反り等を抑
制することができる。すなわち、ドーターボードの表裏
両面に半導体素子を配置しても問題がないものである。
【0066】よって、複数の半導体素子がドーターボー
ドの一面に配置してある場合に比較して信号線の距離を
短くすることができ、伝送速度のより高速化を図ること
ができ、前述したごとき従来の問題を解消し得るもので
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る電子機器の構
成を概略的に示した説明図である。
【図2】弾性支持機構の構成を示す説明図である。
【図3】ドーターボードの反り発生の1例の説明図であ
る。
【図4】反り規制部材の構成を示す説明図である。
【図5】本発明の第2の実施の形態を示す概略的な説明
図である。
【図6】本発明の第3の実施の形態を示す概略的な説明
図である。
【図7】本発明の第4の実施の形態を示す概略的な説明
図である。
【図8】本発明の第5の実施の形態を示す概略的な説明
図である。
【図9】本発明の第6の実施の形態を示す概略的な説明
図である。
【図10】本発明の第7の実施の形態を示す概略的な説
明図である。
【図11】本発明の第8の実施の形態を示す概略的な説
明図である。
【図12】本発明の第9の実施の形態を示す概略的な説
明図である。
【図13】放熱フィンの説明図である。
【図14】従来の構成を示す説明図である。
【符号の説明】
1…マザーボード(第1の基板) 5…ドーターボード(第2の基板) 5H…位置決め孔 7…コネクタ 23A…第1の半導体素子 23B…第2の半導体素子 25…第1のヒートシンク 27…第2のヒートシンク 29…フィンベース 29P…位置決めピン 31…放熱フィン 33…伝熱パス 35…弾性支持機構 41…フィンベース 43…放熱フィン 45…伝熱パス 47…伝熱ブロック 51…熱伝導部材(ヒートパイプ) 53…第1規制部材 55…規制ピン 55F…フランジ 55H…頭部 57…第2規制部材 61…反り規制部材 75…伝熱ブロック 83…熱伝導部材(ヒートパイプ) 87…伝熱ブロック 87A…立上り部 89…第2のヒートシンク 93…弾性支持機構 95…放熱フィン 97…フィンベース 99…伝熱パス 109…伝熱パス部材
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/40 H01L 23/36 D 23/427 Z 23/46 B (72)発明者 岩崎 秀夫 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 (72)発明者 川村 法靖 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 Fターム(参考) 5E322 AA01 AB04 AB07 AB09 DB10 FA04 5F036 AA01 BA23 BB05 BB60 BC33

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子部品を搭載した第1の基板と前記電
    子部品を搭載し前記第1の基板と電気的に接続した第2
    の基板とを離隔して備えた電子機器において、前記第2
    の基板の表面に取付けた第1の半導体素子及び前記第2
    の基板の裏面に取り付けた第2の半導体素子を有し、前
    記第1の半導体素子及び前記第2の半導体素子を伝熱パ
    スを介してヒートシンクにそれぞれ接続した構成である
    ことを特徴とする電子機器。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の電子機器において、前
    記第1の半導体素子に伝熱パスを介して接続した第1の
    ヒートシンクと、前記第2の半導体素子に伝熱パスを介
    して接続した第2のヒートシンクとを別個に設け、前記
    第1のヒートシンクを、弾性支持機構を介して前記第1
    の基板または第2の基板に支持した構成であることを特
    徴とする電子機器。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の電子機器において、前
    記第1の半導体素子と前記第2の半導体素子とを、それ
    ぞれ伝熱パスを介して前記第1の基板に取付けた別個の
    ヒートシンクにそれぞれ接続した構成であることを特徴
    とする電子機器。
  4. 【請求項4】 請求項1に記載の電子機器において、前
    記第1の半導体素子と前記第2の半導体素子とを、それ
    ぞれ伝熱パスを介して共通のヒートシンクに接続した構
    成であることを特徴とする電子機器。
  5. 【請求項5】 請求項1に記載の電子機器において、前
    記第1のヒートシンクと、前記第2のヒートシンクと
    を、前記第1の基板を間にして互いに反対側に配置して
    あることを特徴とする電子機器。
  6. 【請求項6】 請求項1,2,3,4又は5に記載の電
    子機器において、伝熱パスは、ヒートパイプ又は炭素繊
    維或は半導体素子に直接接触したヒートシンクのフィン
    ベースであることを特徴とする電子機器。
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