JP2003279503A - Ｘ線検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 Ｘ線検査装置の大きさを小型化し、価格を低
減し、また、材質及び被検査物の物を特定する。 【解決手段】 透過Ｘ線により被検査物を検査するＸ線
検査装置１であって、１つのＸ線源２と、被検査物４を
透過したＸ線を検出する２つのラインセンサ６と、何れ
か一方の検出器の前面に配置する特定エネルギーろ過フ
ィルタ７と、単純透過Ｘ線及び特定エネルギーろ過フィ
ルタ透過Ｘ線の各検出出力と対象物の厚みとの特性デー
タを元素別に格納する特性データメモリ１４を備え、１
個のＸ線源からのＸ線をエネルギーフィルタに通すこと
よりエネルギー特性が異なる少なくとも２つのＸ線を生
成し、このエネルギーの異なるＸ線の照射で得た少なく
とも２つの検出出力に対して、検出出力レベルに対応す
る厚みが一致する元素を求めることによって、被検査物
中に含まれる対象物の元素を特定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透過Ｘ線によって
被検査物を検出するＸ線検査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、各分野においてＸ線検査装置
を用いた非破壊検査が行われている。Ｘ線検査装置は、
Ｘ線源から被検査物にＸ線を照射し、被検査物を透過し
たＸ線を検出して透過画像を生成する。この透過画像
は、空港、郵便局、軍事産業、裁判所等の各種公共施設
や警備を要する施設において、刀剣砲等の取り締まり対
象物等の検査や、食品や医療品中の異物検査に利用する
ことができる。

【０００３】従来のＸ線検査装置は、単一エネルギーを
照射するＸ線源を用い、被検査物を透過したＸ線をＸ線
ラインセンサで撮像し表示することで検査を行ってい
る。単一エネルギーのＸ線照射で得られる画像は、被検
査物の形状の表示およびＸ線吸収の度合いに応じて濃淡
表示が行われる。この濃淡表示では、金属等の重元素を
含む被検査物の場合には、Ｘ線吸収量が多いために透過
量が少なくなって高い出力レベルで表示され、逆にプラ
スチック等の軽元素を含む被検査物の場合には、Ｘ線吸
収量が少ないために透過量が多くなって低い出力レベル
で表示されるため、爆発物や麻薬等の特徴的な形状を持
たない被検査物については、対象物の特定を行うことが
できないという問題点がある。

【０００４】また、エネルギーの異なるＸ線を用いるこ
とによって、重元素を含む物体と軽元素を含む物体とを
同時に検査するＸ線検査装置も提案されている。しかし
ながら、この場合においても、それぞれ異なるエネルギ
ーのＸ線で得られた画像を合成するものであり、対象物
に対して単ーエネルギーのＸ線により画像を得る点では
上記したＸ線検査装置と同様であるため、対象物の特定
を行うことができないという問題点は解決されていな
い。

【０００５】そこで、Ｘ線エネルギーの異なる２つのＸ
線源を用い、この２つのＸ線源により被検査物を照射
し、エネルギーの異なるＸ線の照射で得た２つの検出出
力に対して得られる対象物の厚みを同一とする元素を求
めることによって、被検査物中に含まれる対象物の元素
を特定するＸ線検査装置が提案されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このＸ
線検査装置では、Ｘ線源と検出器との対を２組使用する
ことが必要であるため、装置が大型化し、価格も高くな
るという問題がある。特に、Ｘ線源は大きいため、他の
装置部分を小型化した場合であっても装置全体を小型化
することには限界がある。また、Ｘ線源は寿命があり使
用可能な時間が限られているため、高価なＸ線源を２個
交換する場合には交換費用がかさむことになり、メンテ
ナンスの点でも問題がある。

【０００７】また、従来のＸ線検査装置では、被検査物
の材質のみを特定しているため、被検査物を特定するこ
とが困難であるという問題がある。刀剣や拳銃などの危
険物については、物が特定されることが望まれている。
そこで、本発明は従来の問題点を解決して、Ｘ線検査装
置の大きさを小型化し、価格を低減することを目的と
し、また、材質の特定の他に被検査物の物の特定が可能
となることを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、１個のＸ線源
からのＸ線をエネルギーフィルタに通すことよりエネル
ギー特性が異なる少なくとも２つのＸ線を生成し、この
エネルギーの異なるＸ線の照射で得た少なくとも２つの
検出出力に対して、検出出力レベルに対応する厚みが一
致する元素を求めることによって、被検査物中に含まれ
る対象物の元素を特定する。

【０００９】本発明のＸ線検査装置は、透過Ｘ線により
被検査物を検査するＸ線検査装置であって、１つのＸ線
源と、被検査物を透過したＸ線を検出する２つの検出器
と、何れか一方の検出器の前方に配置する特定エネルギ
ーろ過フィルタと、単純透過Ｘ線及び特定エネルギーろ
過フィルタ透過Ｘ線の各検出出力と対象物の厚みとの特
性データを元素別に格納する特性データ格納手段を備え
る。

【００１０】１つのＸ線源から発せられたＸ線の一方は
そのまま被検査物を照射する。一方の検出器はこの被検
査物のみを透過した単純透過Ｘ線を検出する。他方、同
じＸ線源から発せられたＸ線の他方は、特定エネルギー
ろ過フィルタを透過した後に被検査物を照射する。他方
の検出器は特定エネルギーろ過フィルタと被検査物とを
透過した特定エネルギーろ過フィルタ透過Ｘ線を検出す
る。

【００１１】単純透過Ｘ線及び特定エネルギーろ過フィ
ルタ透過Ｘ線の各検出出力と対象物の厚みとの関係を各
元素毎に予め特性データとして用意しておき、この特性
データを用いて単純透過Ｘ線の検出出力に対する対象物
の厚み、及び特定エネルギーろ過フィルタ透過Ｘ線の検
出出力に対する対象物の厚みを各元素毎に求める。ある
元素について求めた２つの厚みが一致する場合には、そ
の元素が被検査物に含まれる元素であり、これにより被
検査物中の元素を特定することができる。

【００１２】本発明のＸ線検査装置は、１つのＸ線源に
よって異なるエネルギーのＸ線照射による検出出力を得
ることができるため、従来のＸ線検査装置と比較してＸ
線源の個数を減少させることができ、装置を小型化し、
価格を下げることができる。また、本発明のＸ線検査装
置は、検出器としてＸ線ライン検出器を備える他、この
Ｘ線ライン検出器の画像信号を用いて、被検査物の面積
や、被検査物部分の平均濃淡レベルを求める演算手段を
備える構成とすることにより、求めた元素と面積及び／
又は平均濃淡レベルに基づいて被検査物を特定すること
ができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図を
参照しながら詳細に説明する。図１〜図３はそれぞれ、
本発明のＸ線検査装置による元素特定を説明するための
概略図、検出出力レベル−厚み特性を示す特性図、同一
対象物に対してエネルギー特性の異なるＸ線を照射した
ときの検出出力図である。

【００１４】図１（ｂ）は、従来のＸ線検査装置におけ
る透過Ｘ線の検出出力を説明する概略図である。Ｘ線エ
ネルギーの異なる２つのＸ線源２ｌ，２ｈは、それぞれ
被検査物４に対して低エネルギーＸ線と高エネルギーＸ
線を照射する。図１（ｂ）中のグラフは、このエネルギ
ーの異なる２つのＸ線照射によって得られる２つの検出
出力の透過Ｘ線スペクトルを示している。低エネルギー
Ｘ線の中心エネルギーは、高エネルギーＸ線の中心エネ
ルギーよりも低いエネルギー位置となる。

【００１５】一方、図１（ａ）は、本発明のＸ線検査装
置における透過Ｘ線の検出出力を説明する概略図であ
る。一つのＸ線源２が発するＸ線の一方は被検査物４を
直接照射し、他方は特定エネルギーろ過フィルタ７を透
過した後、被検査物４を照射する。図１（ａ）中のグラ
フは、被検査物４を直接照射して得られる単純透過Ｘ線
と、特定エネルギーろ過フィルタ７を透過した特定エネ
ルギーろ過フィルタ透過Ｘ線の２つの検出出力の透過Ｘ
線スペクトルを示している。

【００１６】一般に、透過Ｘ線のＸ線強度Ｉは、透過物
質のＸ線減弱係数をμとし、透過物質の厚みをｘとした
とき、Ｉ＝Ｉ_０・ｅｘｐ（−μｘ）で表される。Ｘ線減
弱係数μは、物質によって異なるが、Ｘ線エネルギーが
小さい場合には大きく、Ｘ線エネルギーが大きくなると
指数関数的に小さくなる。そのため、特定エネルギーろ
過フィルタを透過した透過Ｘ線の透過Ｘ線スペクトルの
中心エネルギーは、単純透過Ｘ線の透過Ｘ線スペクトル
よりも高エネルギー側に移動する。なお、図１（ａ）の
各透過Ｘ線スペクトルは、光子数が同数となるような相
対Ｘ線束で示している。

【００１７】したがって、本発明のＸ線検査装置によれ
ば、一方の検出器の前方に特定エネルギーろ過フィルタ
を配置することによって、１つのＸ線源によって、被検
査物に対して低エネルギーＸ線と高エネルギーＸ線の二
つのエネルギーの異なるＸ線を照射した場合と同様の透
過Ｘ線スペクトルを得ることができる。

【００１８】このＸ線による透過Ｘ線の検出出力レベル
は、対象物の厚みに対して、Ｘ線のエネルギー別及び対
象物の元素別に所定の特性を表す。図２は、この検出出
力レベル−厚み特性を表し、また、図３は同一対象物に
対してエネルギーの異なるＸ線を照射したときの検出出
力レベルを表している。同一元素で同一厚みの対象物に
対する検出出力レベルは照射したＸ線のエネルギーによ
って異なり、高エネルギーＸ線を照射した場合の検出出
力レベルはＬｈとなり、低エネルギーＸ線を照射した場
合の検出出力レベルはＬｌ（＜Ｌｈ）となる。

【００１９】そして、この特性は元素毎に異なり、検出
出力レベルに対応する厚みを求めると、同一の元素のと
きのみ、異なるエネルギーＸ線について同一の厚みが得
られる。従って、図３（ｂ），（ｃ）において、図３
（ａ）の対象物を透過した検出出力レベル（Ｌｈ，Ｌ
ｌ）に対応する厚みが等しくなる元素を求めることによ
って、被検査物中に含まれる対象物の元素を求めること
ができる。

【００２０】本発明のＸ線検査装置によって被検査物中
に対象物が含まれるか否かの検査を行うには、元素が既
知の対象物にＸ線を照射し、透過Ｘ線の厚みに対する検
出出力特性を求める処埋を、Ｘ線のエネルギーを異なら
せて行うことによって、透過Ｘ線の検出出力と対象物の
厚みとの特性データを、照射Ｘ線のエネルギー別及び元
素別に予め求め、特性データとして格納しておく。

【００２１】そして、被検査物に対して、Ｘ線源からＸ
線を被検査物に照射し、単純透過Ｘ線及び特定エネルギ
ーろ過フィルタＸ線を各検出器で検出して検出出力レベ
ルを求め、予め求めておいた特性データを用いて２つの
検出出力レベルに対応する対象物の厚みを求め、この厚
みが一致する元素を求める。二つの透過Ｘ線エネルギー
の検出出力レベルから求めた厚みが一致したとき、その
元素が被検査物中に含まれる対象物の元素となる。

【００２２】次に、本発明のＸ線検査装置の概略を図４
の概略ブロック図を用いて説明する。図４において、Ｘ
線検査装置１は、被検査物４に対してＸ線ビームを照射
する１つのＸ線源２と、Ｘ線源２から照射されたＸ線を
検出する第１ラインセンサ６ｈ及び第２ラインセンサ６
１と、透過Ｘ線の検出出力と対象物の厚みとの特性デー
タを、照射Ｘ線の工ネルギー別及び元素別に格納する特
性データ格納メモリ１４と、特性データ格納メモリ１４
から読みだしたデータに基づいて被検査物中に含まれる
元素を特定する判定手段とを備え、第１ラインセンサ６
ｈの前方には特定エネルギーろ過フィルタ７が配置され
る。

【００２３】特定エネルギーろ過フィルタ７は、銅等の
高い原子番号の材質で構成する。特定エネルギーろ過フ
ィルタ７は低エネルギー成分を高エネルギー成分よりも
多く吸収する。図６は、Ｘ線源からＸ線を照射した場合
に、第１ラインセンサ６ｈ及び第２ラインセンサ６ｌが
検出するＸ線スペクトルを示している。図中の破線スペ
クトルは第１ラインセンサ６ｈが検出するＸ線スペクト
ルであり、特定エネルギーろ過フィルタを透過した特定
エネルギーろ過フィルタＸ線を示している。一方、実線
スペクトルは第２ラインセンサ６ｌが検出するＸ線スペ
クトルであり、特定エネルギーろ過フィルタを透過する
ことなく被検査物を直接透過した単純透過Ｘ線を示して
いる。なお、図６では、光子の個数が合うような相対Ｘ
線束で示している。特定エネルギーろ過フィルタを設け
ることによって、特定エネルギーろ過フィルタＸ線の中
心エネルギーＴｈは、単純透過Ｘ線の中心エネルギーＴ
ｌよりも高いＸ線エネルギーを有することになる。

【００２４】第１ラインセンサ６ｈ及び第２ラインセン
サ６ｌは、例えば、Ｘ線エネルギー画像収集用の蛍光体
付きフオトダイオードアレイを用いることができ、照射
された透過エネルギーのＸ線エネルギーを収集して光信
号に変換し、光信号を電気信号に変換して画像処理回路
１１に送る。画像処理回路１１はラインセンサからの一
次元信号を二次画像に変換する信号処理を行い、それぞ
れ第１画像メモリ１２ｈ及び第２画像メモリ１２ｌに送
って画像データを格納する。画像メモリとしては、例え
ばＶＲＡＭ等を使用することができる。画像メモリ１２
に格納された画像データは表示回路１７によって表示装
置１８に表示したり、あるいは出力装置１９に出力する
ことができる。

【００２５】判定手段は、前記画像メモリ１２及び演
算，比較回路１３，制御回路１５等を備える。演算，比
較回路１３は、画像メモリ１２に格納されている画像デ
ータ及び特性データ格納メモリ１４を用いて、被検査物
中の対象物の厚みをＸ線の照射エネルギー別及び元素別
に演算して比較し、同一の厚みが得られる元素を求める
処理を行う回路である。制御回路１５は、画像データ及
び特性データのデータ制御や表示回路の制御等を行う回
路である。なお、前記した判定手段の各回路構成は、材
質特定手段の機能を概念的に示したものであり、ハード
あるいはソフトウェアのいずれで構成することもでき
る。

【００２６】また、Ｘ線検査装置１は、被検査物４を移
動させるベルト５を備え、該ベルト５の移動方向に沿っ
てＸ線源２及びラインセンサ６を照射Ｘ線が入射する位
置に配置して、走査像を得ることができる。また、この
とき、Ｘ線源２とラインセンサ６との間にＸ線絞り３を
配置して、照射したＸ線の千渉を防止する構成とするこ
とができる。次に、本発明のＸ線検査装置の動作につい
て図５のフローチャートを用いて説明する。

【００２７】はじめに、被検査物４に含まれる元素を特
定する前に、Ｘ線検査装置１によって複数の元素につい
て厚みを変えながら検出出力を求め、各元素について厚
み−検出出力特性を求めることで得た特性データをデー
タベースとして特性データ格納メモリ１４に格納してお
く（ステップＳ１）。

【００２８】次に、被検査物４のＸ線画像を求めて表示
装置１８に表示する。Ｘ線画像を走査像として求めるに
は、被検査物４をベルト５によって移動させながら、Ｘ
線源２からＸ線を照射し、被検査物４と特定エネルギー
ろ過フィルタ７を透過した特定エネルギーろ過フィルタ
Ｘ線像を第１ラインセンサ６ｈで検出し、被検査物４の
みを透過した単純透過Ｘ線像を第２ラインセンサ６１で
検出する。画像処理回路１１は、各ラインセンサ６ｈ，
６ｌで得られる一次元の検出出力を二次元信号に変換
し、それぞれ第１画像メモリ１２ｈ及び第２画像メモリ
１２ｌに格納して画像データとする。画像データは制御
回路１５の制御によって表示回路１７を介して表示装置
１８に表示される（ステップ２Ｓ）。

【００２９】次に、被検査物がない場合のホワイトレベ
ルに対応する背景出力を予め求めておく。この背景出力
は、例えば、トランク等の被検査物と共にＸ線が透過す
る物による吸収によるものであり、厚みに応じた値とな
る。そこで、予め、これらのＸ線厚みレベルを求めてテ
ーブルとしておき、装置動作時に最も多いと予想される
厚みレベルを入力して設定するか、最も一般的な被検査
物の厚みレベルを設定しておき、必要に応じて厚みレベ
ルを変更する。なお、このＸ線厚み情報は特性データ格
納メモリ１４等に格納しておくことができる。

【００３０】元素の特定は、二次元画像の全ての領域の
画素、あるいは離散的に選択した画素について行う。図
７は離散的に選択した画素例を示し、図７（ａ）に示す
Ｐ１〜Ｐ９のように荒く選択することも、図７（ｂ）に
示すＰ１１〜Ｐ２３，…のように細かく選択することも
できる。離散的に選択した画素について処理を行うこと
で、処理速度を高めることができる。

【００３１】この各画素について、第１ラインセンサ６
ｈが検出する高エネルギーＸ線の濃淡レベルから前記し
た厚みレベル（高エネルギー）を差し引いた値をＬｈ＊
として求め（ステップＳ３）、第２ラインセンサ６ｌが
検出する低エネルギーＸ線の濃淡レベルから前記した厚
みレベル（低エネルギー）を差し引いた値をＬｌ＊とし
て求める（ステップＳ４）。

【００３２】次に、求めた検出出力を用いて、以下のス
テップＳ５〜１０によって対象物の元素を特定する。図
８は各元素における厚み−検出出力特性を用いた元素特
定を説明する図である。図８（ａ）は原子番号Ｎ１の元
素において、高エネルギーＸ線と低エネルギーＸ線での
厚みに対する検出出力特性を示し、同様に図８（ｂ），
（ｃ）は原子番号Ｎ２，Ｎｎの元素における検出出力特
性を示している。

【００３３】図８において、前記工程で得られた検出出
力Ｌｈ＊，Ｌｌ＊に対する厚みＤｈ，Ｄｌを求めると、
原子番号Ｎ１，Ｎ２の厚みＤｈ，Ｄｌは異なり、原子番
号Ｎｎの厚みＤｈ，Ｄｌは一致している。測定した対象
物の厚みは高エネルギーＸ線及び低エネルギーＸ線では
同一であるから、測定した対象物の元素は原子番号Ｎ
１，Ｎ２ではないことが分かる。従って、厚みＤｈ，Ｄ
ｌが一致する原子番号Ｎｎを求めることよって、対象物
の元素を特定することができる。

【００３４】制御回路１５は、特性データ格納メモリ１
４から厚み−検出出力特性を読み出し（ステップＳ
６）、演算，比較回路１３において検出出力Ｌｈ＊，Ｌ
ｌ＊に対する厚みＤｈ，Ｄｌを求めて比較し（ステップ
Ｓ７，８）、厚みＤｈ，Ｄｌが一致する原子番号Ｎを求
め（ステップＳ９）、一致した原子番号Ｎから対象物の
元素を特定する（ステップＳ１０）。表示装置１８は、
特定した元素を元素毎に輝度あるいは色調で表示するこ
とができ、これによって、被検査物中に含まれる元素を
区別して表示することができる。なお、前記した実施形
態は、走査像を得る場合の構成及び動作を示している
が、静止像を得る構成とすることもできる。また、被検
査物の特定を、被検査物中に含まれる元素の他、この元
素が含まれる領域の面積やこの領域中の平均濃淡レベル
によって求めることができる。

【００３５】図９は、面積及び平均濃淡レベルによる被
検査物の特定を説明するための図である。図９（ａ）
は、Ｘ線検査装置によって得られるＸ線画像例であり、
トランクの境界線ａ、及び被検査物ｂ，ｃの画像が示さ
れている。この画像は、例えば、図９（ｂ）に示される
プロファイルをしきい値処理することで求めることがで
き、このしきい値処理は、二値化処理によって濃淡レベ
ル（例えば、０から２５５の２５６段階）を所定のしき
い値Ｂと比較して行うことができる。なお、図９（ｂ）
のプロファイルは図９（ａ）中のプロファイルを示して
いる。図９（ａ）のトランクの境界線ａ、及び被検査物
ｂ，ｃは、このしきい値処理によって得られた画素の内
で、連続する画素を連結して表示することで得ることが
できる。

【００３６】この連結した画素の面積を求める。面積
は、画素の総数で求めことができる。被検査物の面積が
予め既知である場合には、求めた面積と既知の面積とを
比較することにより、被検査物を特定することができ
る。また、面積の比較に加えて、被検査物に含まれる元
素を比較することで被検査物の特定精度を高めることも
できる。

【００３７】さらに、面積を求めるために用いた全ての
画素について、元の輝度レベルの総和を求める。この総
和に用いる輝度レベルは、トランク等の背景レベル（例
えば、レベル２００）から各濃淡レベルＢ１，Ｂ２，
…，Ｂｎを差し引いた値を求める。この値は、被検査物
の正味の厚みに対応する濃淡レベルとなる。この輝度レ
ベルの総和を面積で除した値を求める。この輝度レベル
の総和を面積で除した値は、被検査物の比重に相当する
値となる。求めた比重相当値と予め設定しておいた比重
相当値とを比較することにより、被検査物を特定するこ
とができる。

【００３８】被検査物を特定する要素として、前記した
元素種、被検査物の面積、被検査物の比重相当値を、そ
れぞれ単独であるいは組み合わせて用いることができ
る。画像上で特定した被検査物を表示する場合、例え
ば、ある元素を含む画素が見つかったとき、その画素が
含まれる面積を検索し、その面積を囲む領域を四角や丸
などの単純な形状で表示する他、非常に重い金属が存在
する場合には、比重相当値による判定を行い、特定の元
素を検出することなく、その面積領域を表示する。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のＸ線検査
装置によれば、Ｘ線検査装置の大きさを小型化し、価格
を低減することができる。また、材質の特定の他に被検
査物の物の特定が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のＸ線検査装置による元素特定を説明す
るための概略図である。

【図２】検出出力レベル−厚み特性を示す特性図であ
る。

【図３】同一対象物に対してエネルギー特性の異なるＸ
線を照射したときの検出出力図である。

【図４】本発明のＸ線検査装置の概略を説明するための
概略ブロック図である。

【図５】本発明のＸ線検査装置の動作を説明するための
フローチャートである。

【図６】Ｘ線源からＸ線を照射した場合に検出されるＸ
線スペクトルである。

【図７】離散的に選択した画素例を示す図である。

【図８】各元素における厚み−検出出力特性を用いた元
素特定を説明する図である。

【図９】面積及び平均濃淡レベルによる被検査物の特定
を説明するための図である。

【符号の説明】

１…X線検査装置、２…Ｘ線源、３…Ｘ線絞り、４…被
検査物、５…ベルト、６ｈ…第１ラインセンサ、６ｌ…
第２ラインセンサ、７…特定エネルギーろ過フィルタ、
１１…画像処理回路、１２ｈ…第１画像メモリ、１２ｌ
…第２画像メモリ、１３…演算，比較回路、１４…特性
データ格納メモリ、１５…制御回路、１７…表示回路、
１８…表示装置、１９…出力装置。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透過Ｘ線により被検査物を検査するＸ線
   検査装置において、一つのＸ線源と、被検査物を透過し
   たＸ線を検出する２つの検出器と、前記検出器の何れか
   一方の前方に配置する特定エネルギーろ過フィルタと、
   単純透過Ｘ線及び特定エネルギーろ過フィルタ透過Ｘ線
   の各検出出力と対象物の厚みとの特性データを元素別に
   格納する特性データ格納手段とを備え、Ｘ線照射により
   得られる単純透過Ｘ線の及び特定エネルギーろ過フィル
   タ透過Ｘ線の各検出出力に対する対象物の厚みが同一と
   なる元素を前記特性データから求めることにより元素を
   特定することを特徴とするＸ線検査装置。
2. 【請求項２】 前記検出器をＸ線ライン検出器とし、当
   該Ｘ線ライン検出器の画像信号を用いて、被検査物の面
   積、及び／又は被検査物部分の平均濃淡レベルを求める
   演算手段を備え、前記元素と前記面積及び／又は前記平
   均濃淡レベルとに基づいて被検査物を特定することを特
   徴とする請求項１に記載のＸ線検査装置。