JP2003264208A - 半導体装置におけるウエハマーキング装置 - Google Patents

半導体装置におけるウエハマーキング装置

Info

Publication number
JP2003264208A
JP2003264208A JP2002065162A JP2002065162A JP2003264208A JP 2003264208 A JP2003264208 A JP 2003264208A JP 2002065162 A JP2002065162 A JP 2002065162A JP 2002065162 A JP2002065162 A JP 2002065162A JP 2003264208 A JP2003264208 A JP 2003264208A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
chip
marking
semiconductor wafer
heating elements
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2002065162A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Morita
宏 森田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
Priority to JP2002065162A priority Critical patent/JP2003264208A/ja
Publication of JP2003264208A publication Critical patent/JP2003264208A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体ウエハを検査した後に、そのチップに
良・不良のマークを付ける工程で工数削減を図る装置の
提供。 【解決手段】 複数の微細な発熱体1をウエハ上に配列
する。ウエハ検査終了後、そのデータに従って各発熱体
を発熱させて、マーキングを複数のチップ5に一度に行
う。半導体ウエハのインクマークの工程がバッチ処理で
行うことができ、従来の工数の半分以下で作業が可能と
なる。また、チップの大きさにより、インカーを変える
必要も無く、インカーの調整工程を無くすことができ
る。さらに、形の違うマークをチップごとに付けること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハの検
査装置に関し、特に半導体チップに良・不良のマークを
付けるマーキング装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のマーキング装置(以下、インカー
という)を図3(a)、図3(b)に示す。図3(a)
及び図3(b)に示すように、インクチューブ6にノズ
ル本体7を取付け、ノズル本体7に1本のノズル8を設
け、半導体ウエハ4上のチップ5を縦横(XY)に走査し
て、不良チップにノズル8を押しあてて不良マークをマ
ーキングする方式のものであった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この従来のインカーの
方式では、ウエハ上の全チップを走査するため、良品チ
ップに対しても走査することなり、時間の無駄が多い。
また、チップサイズの異なる半導体ウエハに不良マーク
を付けるために、チップの大きさにあった不良マークを
付けることのできる、インカーに交換しなければならな
く、チップサイズの異なる製品の半導体ウエハに交換す
るたびごとにインカーを交換する工程が必要になるとい
う問題点があった。本発明の目的は、チップの走査に要
する時間を極力短縮して、インカーを交換する工程を省
いて、ウエハのマーキングにかかる時間と工程を極力短
縮したウエハマーキング装置を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る半導体装置におけるウエハマーキング
装置は、検査後の半導体ウエハ上のチップに良・不良の
マークを付するウエハマーキング装置において、インク
シートと、インクシートを溶かす発熱体を複数有し、印
字ヘット上に、微細な発熱体を平面状にならべて配置し
たものである。
【0005】
【作用】インクシートを溶かす微細な発熱体は、ウエハ
上に平面状に配列されており、ウエハ検査後、そのデー
タに従って、ウエハ上のチップのマーキングに必要な個
所の微細な発熱体だけを発熱させて、1回のマーキング
により、ウエハ1枚のマーキングを行う。
【0006】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。(実施例1)図1(a)は、本発明の実施例1を示
す構成図、図1(b)は、半導体ウエハ4を示す正面図
である。印字ヘット2の先端に微細な複数の発熱体1を
装備している。印字ヘット2に配置された、微細な複数
の発熱体1は、半導体ウエハ4上のチップ5に比べてか
なり小さく、平面状に配列され、各々が別個独立に加熱
して、インクシート3を溶かして、チップ5上にマーキ
ングを行う。また、それぞれのチップ5に付けられるマ
ークは、複数の微細な発熱体1を、発熱させることによ
って付けられるので、それらの組み合わせを変えること
で、形の違うマークを付けることができる。したがっ
て、1枚の半導体ウエハ4上の各チップ5に対する電気
的特性を検査後に、そのデータに従って、不良チップ上
の複数の発熱体1を発熱させ、良品チップ上の複数の発
熱体1は発熱させないで、1回でマーキングを行う。
(実施例2)図2(a)は、本発明の実施例2を示す構
成図、(b)は、半導体ウエハ4を示す正面図である。
本実施例に係る半導体ウエハ4では、そのチップ5のサ
イズが小さく、1枚の半導体ウエハ4上に例えば100
00個以上のチップ5が形成されている。本実施例は、
半導体ウエハ4上のチップ5を複数の領域に区分けし、
その領域内をカバーする複数の微細な発熱体1を備えて
いるものである。本実施例では、複数の分割された領域
単位で走査することになるが、チップ5を1個ずつをそ
れぞれ走査する場合に比較してその走査に要する時間を
大幅に削減することができる。
【0007】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、半導体ウ
エハのチップに良・不良をマーキングする工程で、その
マーキングをバッチ処理で行うことにより、最高1枚の
ウエハにつき1回でマーキングが可能となる。よって、
この工程にかかっていた従来の工数を半分以下にするこ
とが可能となる。また、チップの大きさにより、インカ
ーを変える必要も無く、インカーの調整工程を無くすこ
とができる。さらに、チップごとに形の違うマークを付
けることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は、本発明の実施例1を示す構成図、
(b)は、半導体ウエハを示す正面図である。
【図2】(a)は、本発明の実施例2を示す構成図、
(b)は、半導体ウエハを示す正面図である。
【図3】(a)は、従来例を示す構成図、(b)は、半
導体ウエハを示す正面図である。
【符号の説明】
1 発熱体 2 印字ヘット 3 インクシート 4 ウエハ 5 チップ 6 インクチューブ 7 ノズル本体 8 ノズル

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 検査後の半導体ウエハ上のチップに良・
    不良のマークを付するウエハマーキング装置において、
    マーキング用のインクシートのインクを溶かす発熱体を
    複数有し、所望のチップに対応する前記発熱体を加熱し
    マークを付すことを特徴とする半導体装置におけるウエ
    ハマーキング装置。
  2. 【請求項2】 検査後の半導体ウエハ上の良品チップ
    に、電気的特性の違いによるランク分けの識別マークを
    付するウエハマーキング装置において、マーキング用の
    インクシートのインクを溶かす発熱体を複数有すること
    を特徴とする半導体装置におけるウエハマーキング装
    置。
JP2002065162A 2002-03-11 2002-03-11 半導体装置におけるウエハマーキング装置 Withdrawn JP2003264208A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002065162A JP2003264208A (ja) 2002-03-11 2002-03-11 半導体装置におけるウエハマーキング装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002065162A JP2003264208A (ja) 2002-03-11 2002-03-11 半導体装置におけるウエハマーキング装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003264208A true JP2003264208A (ja) 2003-09-19

Family

ID=29197611

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002065162A Withdrawn JP2003264208A (ja) 2002-03-11 2002-03-11 半導体装置におけるウエハマーキング装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003264208A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8783174B2 (en) Screen printing method
TWI464827B (zh) 晶圓定位裝置及晶圓定位方法
KR20090087803A (ko) 땜납 인쇄 검사 장치 및 부품 실장 시스템
JP4113786B2 (ja) チップスケールマーカー及びマーキング方法
JP2001281268A (ja) プローブの製造方法並びにプローブの取付方法及びプローブの取付装置
TWI492792B (zh) Substrate manufacturing method and substrate manufacturing apparatus
JP2003264208A (ja) 半導体装置におけるウエハマーキング装置
JP4180325B2 (ja) レーザーマーキング装置およびレーザーマーキング方法
CN110767552B (zh) 一种用于amb覆铜陶瓷基板图形制作的热刻蚀方法
CN116583030A (zh) 一种多功能精密焊盘修复方法及修复设备
US6954272B2 (en) Apparatus and method for die placement using transparent plate with fiducials
JP2002313853A (ja) 半導体装置のウェハーマーキング装置
CN104898378B (zh) 一种晶圆曝光顺序的优化方法
JP2006272625A (ja) 印刷位置制御装置
KR101762644B1 (ko) 인라인 방식으로 리워크를 수행하는 반도체 패키지 제조 시스템 및 방법
KR100247153B1 (ko) 웨이퍼 잉킹시 잉커 제어 방법
KR100232948B1 (ko) 잉킹시 웨이퍼 이동 방법
JP2000091275A (ja) 半導体素子の製造方法
JP5908315B2 (ja) 半導体ウェハマーキング装置とマーキング方法
JPH06216255A (ja) リダンダンシ回路を備えた半導体装置のウェーハ検査方法
JPH10233350A (ja) 半導体チップおよびそれを用いた半導体装置の製造システム
KR20090105569A (ko) 다이 어탯치 장치
TWI249801B (en) Method for identifying defective substrate
JPH10107098A (ja) 半導体ウエハーの特性マーク形成方法
KR20020075004A (ko) 불량 칩들에 대한 잉킹 방법

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20040304

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041021

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051124

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20051130

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20060317