JP2003262508A - 半導体測定装置 - Google Patents
半導体測定装置Info
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- JP2003262508A JP2003262508A JP2002064175A JP2002064175A JP2003262508A JP 2003262508 A JP2003262508 A JP 2003262508A JP 2002064175 A JP2002064175 A JP 2002064175A JP 2002064175 A JP2002064175 A JP 2002064175A JP 2003262508 A JP2003262508 A JP 2003262508A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 微細な観察領域を再現性よく、しかも、倍率
切換えを高速で行い、かつクリーンルームなど超清浄な
環境においても使用することのできる半導体測定装置を
提供すること。 【解決手段】 サンプル２としての半導体の拡大画像を
画像処理装置３０に取り込むようにした半導体測定装置
において、前記サンプル２に対向して設けられる対物レ
ンズ２２の後段に複数の互いに独立した光路２７ａ〜２
７ｃを形成し、これらの光路２７ａ〜２７ｃのそれぞれ
にレンズ群２８ａ〜２８ｃおよびディテクタ手段２９ａ
〜２９ｃを設けて、拡大倍率が互いに異なる複数の顕微
鏡光路を形成するとともに、前記ディテクタ手段２９ａ
〜２９ｃを切換え制御する画面切換手段３１を設け、前
記各顕微鏡光路によって得られる画像を前記画面切換手
段３１によって適宜選択して前記画像処理装置３０に取
り込むことができるようにした。
切換えを高速で行い、かつクリーンルームなど超清浄な
環境においても使用することのできる半導体測定装置を
提供すること。 【解決手段】 サンプル２としての半導体の拡大画像を
画像処理装置３０に取り込むようにした半導体測定装置
において、前記サンプル２に対向して設けられる対物レ
ンズ２２の後段に複数の互いに独立した光路２７ａ〜２
７ｃを形成し、これらの光路２７ａ〜２７ｃのそれぞれ
にレンズ群２８ａ〜２８ｃおよびディテクタ手段２９ａ
〜２９ｃを設けて、拡大倍率が互いに異なる複数の顕微
鏡光路を形成するとともに、前記ディテクタ手段２９ａ
〜２９ｃを切換え制御する画面切換手段３１を設け、前
記各顕微鏡光路によって得られる画像を前記画面切換手
段３１によって適宜選択して前記画像処理装置３０に取
り込むことができるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体ウ
ェハやレティクル／マスクなどの表面の薄膜の厚みなど
を測定するための半導体測定装置に関する。
ェハやレティクル／マスクなどの表面の薄膜の厚みなど
を測定するための半導体測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】上記半導体測定装置の一つに、膜厚測定
装置がある。この膜厚測定装置は、物質の表面で光が反
射する際の偏光状態の変化を観測して、その物質の光学
定数（屈折率、消衰係数）を、また、物質の表面に薄膜
層が存在する場合は、その膜厚や光学定数を測定するも
ので、例えば図２に示すように構成されている。
装置がある。この膜厚測定装置は、物質の表面で光が反
射する際の偏光状態の変化を観測して、その物質の光学
定数（屈折率、消衰係数）を、また、物質の表面に薄膜
層が存在する場合は、その膜厚や光学定数を測定するも
ので、例えば図２に示すように構成されている。
【０００３】すなわち、図２において、１は測定ステー
ジで、例えばウェハなどのサンプル２を真空吸着などの
手段で吸着し、これを水平な状態に保持するとともに、
図示していないステージ保持機構によって、３つの互い
に直交するＸ方向（紙面に平行な左右方向）、Ｙ方向
（紙面に垂直な方向）、Ｚ方向に（紙面に平行な上下方
向）にそれぞれ直線的に移動するように構成されてい
る。
ジで、例えばウェハなどのサンプル２を真空吸着などの
手段で吸着し、これを水平な状態に保持するとともに、
図示していないステージ保持機構によって、３つの互い
に直交するＸ方向（紙面に平行な左右方向）、Ｙ方向
（紙面に垂直な方向）、Ｚ方向に（紙面に平行な上下方
向）にそれぞれ直線的に移動するように構成されてい
る。
【０００４】３は測定ステージ１の上方の一方の側に設
けられる入射光学系で、例えば１９０〜８３０ｎｍの広
い波長領域の光を発する例えばキセノンランプからなる
白色光源４と、この白色光源４から発せられる光を絞る
ためのスリット５と、例えば二つの凹面鏡６ａ，６ｂか
らなるビーム縮小光学系６と、偏光子７とから構成さ
れ、光源４からの多波長光を縮小し、所定の方向に偏光
された直線偏光８をサンプル２の表面２ａに照射するも
のである。
けられる入射光学系で、例えば１９０〜８３０ｎｍの広
い波長領域の光を発する例えばキセノンランプからなる
白色光源４と、この白色光源４から発せられる光を絞る
ためのスリット５と、例えば二つの凹面鏡６ａ，６ｂか
らなるビーム縮小光学系６と、偏光子７とから構成さ
れ、光源４からの多波長光を縮小し、所定の方向に偏光
された直線偏光８をサンプル２の表面２ａに照射するも
のである。
【０００５】９は測定ステージ１の上方の他方の側に設
けられる検出光学系で、サンプル２の表面２ａに直線偏
光８を照射したときにサンプル表面２ａで反射した楕円
偏光１０の偏光変化量を例えば分光器１１に出力するも
ので、位相変調素子１２と、検光子１３と、二つの凹面
鏡１４ａ，１４ｂからなるビーム縮小光学系１４と、分
光器１１への信号取り出し用の光ファイバー１５とを備
えるとともに、ビーム縮小光学系１４と光ファイバー１
５との間に、ビーム縮小光学系１４を出射した光を光フ
ァイバー１５に入射させるためのピンホール１６ａを形
成したピンホール板１６が設けられている。
けられる検出光学系で、サンプル２の表面２ａに直線偏
光８を照射したときにサンプル表面２ａで反射した楕円
偏光１０の偏光変化量を例えば分光器１１に出力するも
ので、位相変調素子１２と、検光子１３と、二つの凹面
鏡１４ａ，１４ｂからなるビーム縮小光学系１４と、分
光器１１への信号取り出し用の光ファイバー１５とを備
えるとともに、ビーム縮小光学系１４と光ファイバー１
５との間に、ビーム縮小光学系１４を出射した光を光フ
ァイバー１５に入射させるためのピンホール１６ａを形
成したピンホール板１６が設けられている。
【０００６】１７は測定ステージ１の上方に設けられる
光学顕微鏡で、倍率の異なる対物レンズ１７ａを複数個
備え、これら複数の対物レンズ１７ａをモータによって
駆動されるレボルバー方式のレンズ切換え機構１７ｂに
よって切換え、サンプル表面２ａの異なる適宜の倍率で
観察することができるように構成されている。１８は光
学顕微鏡１７の上方に設けられるディテクタ手段として
のＣＣＤカメラである。
光学顕微鏡で、倍率の異なる対物レンズ１７ａを複数個
備え、これら複数の対物レンズ１７ａをモータによって
駆動されるレボルバー方式のレンズ切換え機構１７ｂに
よって切換え、サンプル表面２ａの異なる適宜の倍率で
観察することができるように構成されている。１８は光
学顕微鏡１７の上方に設けられるディテクタ手段として
のＣＣＤカメラである。
【０００７】１９は例えば画像処理機能を有するパソコ
ンで、分光器１１からの測定データ、すなわち、サンプ
ル表面２ａで反射した光の偏光変化量の測定データや、
光学顕微鏡１７やＣＣＤカメラ１８からの信号が入力さ
れる。そして、このパソコン１９においては、前記測定
データが適宜演算処理および画像処理され、サンプル表
面２ａの光学定数（屈折率や消衰係数）とサンプル表面
２ａの薄膜の膜厚が測定され、光学顕微鏡１７やＣＣＤ
カメラ１８からの信号は演算処理および画像処理され、
測定結果は数値および画像の形態で、パソコン１９に接
続されたカラーディスプレイ２０の表示画面２０ａに表
示される。
ンで、分光器１１からの測定データ、すなわち、サンプ
ル表面２ａで反射した光の偏光変化量の測定データや、
光学顕微鏡１７やＣＣＤカメラ１８からの信号が入力さ
れる。そして、このパソコン１９においては、前記測定
データが適宜演算処理および画像処理され、サンプル表
面２ａの光学定数（屈折率や消衰係数）とサンプル表面
２ａの薄膜の膜厚が測定され、光学顕微鏡１７やＣＣＤ
カメラ１８からの信号は演算処理および画像処理され、
測定結果は数値および画像の形態で、パソコン１９に接
続されたカラーディスプレイ２０の表示画面２０ａに表
示される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の膜厚測定装置においては、サンプル表面２ａを異な
った倍率で観察するのにレボルバー方式の光学顕微鏡１
７を用いており、このような光学顕微鏡１７を用いて、
サンプル表面２ａにおける微小な観察領域を所定の倍率
で観察する場合、複数の対物レンズ１７ａのうちの一つ
を選んで機械的に切換える必要があるが、位置決めの再
現性が問題となり、ミクロン（μｍ）オーダーの精度で
位置決めを行う場合、高精度の再現性に欠けるととも
に、モータなど機械的な駆動部分は、その寿命や耐久性
に問題があるとともに切換え速度にも欠けるといった課
題がある。さらに、サンプル表面２ａの上方には、機械
的駆動を行うためのモータなど機械的に磨耗する部材が
設けられており、このような部材において発生する微粒
子（パーッティクル）がサンプル表面２ａに付着し、サ
ンプル２を汚損したり、所望の観察に支障を来すおそれ
もある。
成の膜厚測定装置においては、サンプル表面２ａを異な
った倍率で観察するのにレボルバー方式の光学顕微鏡１
７を用いており、このような光学顕微鏡１７を用いて、
サンプル表面２ａにおける微小な観察領域を所定の倍率
で観察する場合、複数の対物レンズ１７ａのうちの一つ
を選んで機械的に切換える必要があるが、位置決めの再
現性が問題となり、ミクロン（μｍ）オーダーの精度で
位置決めを行う場合、高精度の再現性に欠けるととも
に、モータなど機械的な駆動部分は、その寿命や耐久性
に問題があるとともに切換え速度にも欠けるといった課
題がある。さらに、サンプル表面２ａの上方には、機械
的駆動を行うためのモータなど機械的に磨耗する部材が
設けられており、このような部材において発生する微粒
子（パーッティクル）がサンプル表面２ａに付着し、サ
ンプル２を汚損したり、所望の観察に支障を来すおそれ
もある。
【０００９】上述の課題は、膜厚測定装置のみならず、
他の半導体測定装置においても同様に生じているところ
である。
他の半導体測定装置においても同様に生じているところ
である。
【００１０】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、微細な観察領域を再現性よく、
しかも、倍率切換えを高速で行い、かつクリーンルーム
など超清浄な環境においても使用することのできる半導
体測定装置を提供することである。
たもので、その目的は、微細な観察領域を再現性よく、
しかも、倍率切換えを高速で行い、かつクリーンルーム
など超清浄な環境においても使用することのできる半導
体測定装置を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明は、サンプルとしての半導体の拡大画像を
画像処理装置に取り込むようにした半導体測定装置にお
いて、前記サンプルに対向して設けられる対物レンズの
後段に複数の互いに独立した光路を形成し、これらの光
路のそれぞれにレンズ群およびディテクタ手段を設け
て、拡大倍率が互いに異なる複数の顕微鏡光路を形成す
るとともに、前記ディテクタ手段を切換え制御する画面
切換手段を設け、前記各顕微鏡光路によって得られる画
像を前記画面切換手段によって適宜選択して前記画像処
理装置に取り込むことができるようにしている（請求項
１）。
め、この発明は、サンプルとしての半導体の拡大画像を
画像処理装置に取り込むようにした半導体測定装置にお
いて、前記サンプルに対向して設けられる対物レンズの
後段に複数の互いに独立した光路を形成し、これらの光
路のそれぞれにレンズ群およびディテクタ手段を設け
て、拡大倍率が互いに異なる複数の顕微鏡光路を形成す
るとともに、前記ディテクタ手段を切換え制御する画面
切換手段を設け、前記各顕微鏡光路によって得られる画
像を前記画面切換手段によって適宜選択して前記画像処
理装置に取り込むことができるようにしている（請求項
１）。
【００１２】上記半導体測定装置において、サンプルか
らの光を複数の互いに独立した光路に対して分割するた
めの光分割手段を設けてあってもよい（請求項２）。
らの光を複数の互いに独立した光路に対して分割するた
めの光分割手段を設けてあってもよい（請求項２）。
【００１３】上記半導体測定装置においては、機械的な
手段によることなく、画像切換えを行うようにしている
ので、倍率切換えを高速かつ再現性よく行うことがで
き、サンプル表面を所望の倍率で確実に観察することが
できる。
手段によることなく、画像切換えを行うようにしている
ので、倍率切換えを高速かつ再現性よく行うことがで
き、サンプル表面を所望の倍率で確実に観察することが
できる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、この発明の詳細を、図を参
照しながら説明する。図１は、この発明の一つの実施の
形態を示すもので、半導体測定装置としての膜厚測定装
置の要部の構成を概略的に示すものである。この図にお
いて、図２に示した符号と同一符号は同一物であり、そ
の説明は省略する。
照しながら説明する。図１は、この発明の一つの実施の
形態を示すもので、半導体測定装置としての膜厚測定装
置の要部の構成を概略的に示すものである。この図にお
いて、図２に示した符号と同一符号は同一物であり、そ
の説明は省略する。
【００１５】前記図１において、２１は対物部で、その
下端には測定ステージ１上のサンプル２に対向するよう
に対物レンズ２２が設けられるとともに、この対物レン
ズ２２の後段（上方側）には、ハーフミラー２３が水平
な方向と４５°の角度で設けられている。このハーフミ
ラー２３の水平方向側部には、サンプル２を照明するた
めの例えばハロゲンランプよりなる照射光源２４が設け
られている。なお、２５はハーフミラー２３の鉛直方向
上方に設けられるレンズである。
下端には測定ステージ１上のサンプル２に対向するよう
に対物レンズ２２が設けられるとともに、この対物レン
ズ２２の後段（上方側）には、ハーフミラー２３が水平
な方向と４５°の角度で設けられている。このハーフミ
ラー２３の水平方向側部には、サンプル２を照明するた
めの例えばハロゲンランプよりなる照射光源２４が設け
られている。なお、２５はハーフミラー２３の鉛直方向
上方に設けられるレンズである。
【００１６】２６は対物部２１のレンズ２５の後段（図
示例では上方）に設けられる光分割手段としての光路分
割部で、レンズ２５を上方側の光路２７を複数（図示例
では３つ）の光路（顕微鏡光路）２７ａ，２７ｂ，２７
ｃに分割するもので、図示例では、４つの直角プリズム
２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄによって構成されてい
る。前記３つの顕微鏡光路２７ａ〜２７ｃは互いに独立
しており、それぞれ、レンズ群２８ａ，２８ｂ，２８ｃ
およびディテクタ手段としてのＣＣＤカメラ２９ａ，２
９ｂ，２９ｃをこの順で備えており、拡大倍率がそれぞ
れ例えば３倍、６倍、１５倍になるように構成されてい
る。
示例では上方）に設けられる光分割手段としての光路分
割部で、レンズ２５を上方側の光路２７を複数（図示例
では３つ）の光路（顕微鏡光路）２７ａ，２７ｂ，２７
ｃに分割するもので、図示例では、４つの直角プリズム
２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄによって構成されてい
る。前記３つの顕微鏡光路２７ａ〜２７ｃは互いに独立
しており、それぞれ、レンズ群２８ａ，２８ｂ，２８ｃ
およびディテクタ手段としてのＣＣＤカメラ２９ａ，２
９ｂ，２９ｃをこの順で備えており、拡大倍率がそれぞ
れ例えば３倍、６倍、１５倍になるように構成されてい
る。
【００１７】なお、上記構成の顕微鏡光路２７ａ〜２７
ｃにおいては、画像倍率が互いに異なり、したがって、
ＣＣＤカメラ２９ａ〜２９ｃに入射する光量が、倍率の
大きいものほど小さくなる。そこで、直角プリズム２６
ａ〜２６ｄにおける光の透過面または反射面に適宜の蒸
着を施して、光の透過率および反射率を調整し、ＣＣＤ
カメラ２９ａ〜２９ｃにおける面積比光量が互いに等し
くなるようにするのが好ましい。
ｃにおいては、画像倍率が互いに異なり、したがって、
ＣＣＤカメラ２９ａ〜２９ｃに入射する光量が、倍率の
大きいものほど小さくなる。そこで、直角プリズム２６
ａ〜２６ｄにおける光の透過面または反射面に適宜の蒸
着を施して、光の透過率および反射率を調整し、ＣＣＤ
カメラ２９ａ〜２９ｃにおける面積比光量が互いに等し
くなるようにするのが好ましい。
【００１８】３０は画像処理装置で、例えばパソコンよ
りなる。この画像処理装置３０は、図１に示したパソコ
ン１９が備える機能に加えて、前記ＣＣＤカメラ２９ａ
〜２９ｃにおいてそれぞれ得られる画像信号を選択的に
取り込む機能を備えている。すなわち、この画像処理装
置３０内には、画面切換手段としてのビデオキャプチャ
ーボード（以下、ＶＣＢという）３１が設けられてい
る。
りなる。この画像処理装置３０は、図１に示したパソコ
ン１９が備える機能に加えて、前記ＣＣＤカメラ２９ａ
〜２９ｃにおいてそれぞれ得られる画像信号を選択的に
取り込む機能を備えている。すなわち、この画像処理装
置３０内には、画面切換手段としてのビデオキャプチャ
ーボード（以下、ＶＣＢという）３１が設けられてい
る。
【００１９】３２は画像処理装置３０に接続されたカラ
ーディスプレイで、図２のカラーディスプレイ２０と同
様の機能を備えている。また、３３はモニター装置で、
ＶＣＢ３１からのアナログ出力に基づいてＣＣＤカメラ
２９ａ〜２９ｃにおいてそれぞれ得られる画像信号を選
択して画像として表示することができる。
ーディスプレイで、図２のカラーディスプレイ２０と同
様の機能を備えている。また、３３はモニター装置で、
ＶＣＢ３１からのアナログ出力に基づいてＣＣＤカメラ
２９ａ〜２９ｃにおいてそれぞれ得られる画像信号を選
択して画像として表示することができる。
【００２０】上記構成の半導体測定装置においては、例
えばサンプル２の膜厚測定に先立って行われるサンプル
２を観察する場合、照射光源２４から照明光３４を照射
すると、この照明光３４はハーフミラー２３および対物
レンズ２２を経てサンプル２を照射する。そして、この
照射によるサンプル２における反射光３５が対物レンズ
２２およびハーフミラー２３を経てレンズ２５に入射す
る。このレンズ２５を経た光３６は、光路分割部２６に
おいて３つ顕微鏡光路２７ａ〜２７ｃに分割される。３
つ顕微鏡光路２７ａ〜２７ｃを進んだ光は、リレーレン
ズ２８ａ〜２８ｃを経てＣＣＤカメラ２９ａ〜２９ｃに
おいて、３倍、６倍、１５倍の像を形成する。
えばサンプル２の膜厚測定に先立って行われるサンプル
２を観察する場合、照射光源２４から照明光３４を照射
すると、この照明光３４はハーフミラー２３および対物
レンズ２２を経てサンプル２を照射する。そして、この
照射によるサンプル２における反射光３５が対物レンズ
２２およびハーフミラー２３を経てレンズ２５に入射す
る。このレンズ２５を経た光３６は、光路分割部２６に
おいて３つ顕微鏡光路２７ａ〜２７ｃに分割される。３
つ顕微鏡光路２７ａ〜２７ｃを進んだ光は、リレーレン
ズ２８ａ〜２８ｃを経てＣＣＤカメラ２９ａ〜２９ｃに
おいて、３倍、６倍、１５倍の像を形成する。
【００２１】そして、画像処理装置３０の入力操作部
（図示していない）における入力キーを操作することに
より、ＣＣＤカメラ２９ａ〜２９ｃにおける一つの画像
（例えば３倍画像）が選択されて、その画像信号がＶＣ
Ｂ３１を介して画像処理装置３０内に取り込まれる。そ
して、６倍あるいは１５倍の画像に切換えたいときは、
前記入力キーを操作することにより、所望倍率の画像信
号が画像処理装置３０内に取り込まれる。この取り込ま
れた画像信号は、画像処理装置３０およびＶＣＢ３１内
において画像処理され、カラーディスプレイ３２および
モニター装置３３において表示される。
（図示していない）における入力キーを操作することに
より、ＣＣＤカメラ２９ａ〜２９ｃにおける一つの画像
（例えば３倍画像）が選択されて、その画像信号がＶＣ
Ｂ３１を介して画像処理装置３０内に取り込まれる。そ
して、６倍あるいは１５倍の画像に切換えたいときは、
前記入力キーを操作することにより、所望倍率の画像信
号が画像処理装置３０内に取り込まれる。この取り込ま
れた画像信号は、画像処理装置３０およびＶＣＢ３１内
において画像処理され、カラーディスプレイ３２および
モニター装置３３において表示される。
【００２２】上述のように、上記半導体測定装置におい
ては、図２に示したような従来の半導体測定装置におけ
る場合と異なり、機械的な手段によることなく、複数の
倍率の異なる画像を選択的に取り込むことができるの
で、クリーン度が要求されるウェハなど半導体の各種測
定を行う場合に好適に用いることができる。そして、倍
率切換えは、画像処理装置３０などパソコンからの電気
的切換え指令によって行われ、機械的駆動を伴うもので
はないので、倍率の異なる画像切換えを高速かつ再現性
よく行うことができる。したがって、サンプル２の表面
２ａを所望の倍率で確実に観察することができる。
ては、図２に示したような従来の半導体測定装置におけ
る場合と異なり、機械的な手段によることなく、複数の
倍率の異なる画像を選択的に取り込むことができるの
で、クリーン度が要求されるウェハなど半導体の各種測
定を行う場合に好適に用いることができる。そして、倍
率切換えは、画像処理装置３０などパソコンからの電気
的切換え指令によって行われ、機械的駆動を伴うもので
はないので、倍率の異なる画像切換えを高速かつ再現性
よく行うことができる。したがって、サンプル２の表面
２ａを所望の倍率で確実に観察することができる。
【００２３】なお、上記プリズム２６ａ〜２６ｄに代え
てハーフミラーなどの他の光分割・透過手段を用いても
よい。この場合においてもハーフミラーの表面上に適宜
の蒸着を施して光の透過率および反射率を調整すること
により、ＣＣＤカメラ２９ａ〜２９ｃにおける面積比光
量が互いに等しくなるようにするのが好ましい。また、
ＣＣＤカメラ２９ａ〜２９ｃに代えて、他のディテクタ
手段を用いてもよい。
てハーフミラーなどの他の光分割・透過手段を用いても
よい。この場合においてもハーフミラーの表面上に適宜
の蒸着を施して光の透過率および反射率を調整すること
により、ＣＣＤカメラ２９ａ〜２９ｃにおける面積比光
量が互いに等しくなるようにするのが好ましい。また、
ＣＣＤカメラ２９ａ〜２９ｃに代えて、他のディテクタ
手段を用いてもよい。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、この発明では、サ
ンプルに対向して設けられる対物レンズの後段に複数の
互いに独立した光路を形成し、これらの光路のそれぞれ
にレンズ群およびディテクタ手段を設けて、拡大倍率が
互いに異なる複数の顕微鏡光路を形成するとともに、前
記ディテクタ手段を切換え制御する画面切換手段を設
け、前記各顕微鏡光路によって得られる画像を前記画面
切換手段によって適宜選択して前記画像処理装置に取り
込むことができるようにしたので、微細な観察領域を再
現性よく、しかも、倍率の切換えを高速で行うことので
きるようになり、所望のサンプル画像を精度よく確実に
得ることができる。
ンプルに対向して設けられる対物レンズの後段に複数の
互いに独立した光路を形成し、これらの光路のそれぞれ
にレンズ群およびディテクタ手段を設けて、拡大倍率が
互いに異なる複数の顕微鏡光路を形成するとともに、前
記ディテクタ手段を切換え制御する画面切換手段を設
け、前記各顕微鏡光路によって得られる画像を前記画面
切換手段によって適宜選択して前記画像処理装置に取り
込むことができるようにしたので、微細な観察領域を再
現性よく、しかも、倍率の切換えを高速で行うことので
きるようになり、所望のサンプル画像を精度よく確実に
得ることができる。
【図１】この発明の半導体測定装置の要部の構成の一例
を概略的に示す図である。
を概略的に示す図である。
【図２】従来の半導体測定装置の構成を概略的に示す図
である。
である。
２…サンプル、２２…対物レンズ、２７ａ，２７ｂ，２
７ｃ…複数の光路（顕微鏡光路）、２８ａ，２８ｂ，２
８ｃ…レンズ群、２９ａ，２９ｂ，２９ｃ…ディテクタ
手段、３０…画像処理装置、３１…画面切換手段。
７ｃ…複数の光路（顕微鏡光路）、２８ａ，２８ｂ，２
８ｃ…レンズ群、２９ａ，２９ｂ，２９ｃ…ディテクタ
手段、３０…画像処理装置、３１…画面切換手段。
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フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2F065 AA03 AA30 CC20 DD06 DD13
DD16 FF04 FF49 GG03 GG24
HH04 JJ05 JJ26 LL00 LL02
LL12 LL19 LL28 LL33 MM03
MM04 PP12 PP24 QQ31 SS02
Claims (2)
- 【請求項１】 サンプルとしての半導体の拡大画像を画
像処理装置に取り込むようにした半導体測定装置におい
て、前記サンプルに対向して設けられる対物レンズの後
段に複数の互いに独立した光路を形成し、これらの光路
のそれぞれにレンズ群およびディテクタ手段を設けて、
拡大倍率が互いに異なる複数の顕微鏡光路を形成すると
ともに、前記ディテクタ手段を切換え制御する画面切換
手段を設け、前記各顕微鏡光路によって得られる画像を
前記画面切換手段によって適宜選択して前記画像処理装
置に取り込むことができるようにしたことを特徴とする
半導体測定装置。 - 【請求項２】 サンプルからの光を複数の互いに独立し
た光路に対して分割するための光分割手段が設けられて
いる請求項１に記載の半導体測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002064175A JP3857934B2 (ja) | 2002-03-08 | 2002-03-08 | 半導体測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002064175A JP3857934B2 (ja) | 2002-03-08 | 2002-03-08 | 半導体測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003262508A true JP2003262508A (ja) | 2003-09-19 |
| JP3857934B2 JP3857934B2 (ja) | 2006-12-13 |
Family
ID=29197093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002064175A Expired - Lifetime JP3857934B2 (ja) | 2002-03-08 | 2002-03-08 | 半導体測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3857934B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20060106256A (ko) * | 2005-04-07 | 2006-10-12 | 범광기전(주) | 영상획득장치 |
| WO2008062651A1 (fr) * | 2006-11-22 | 2008-05-29 | Nikon Corporation | Dispositif de mesure d'image |
| KR100955626B1 (ko) | 2007-06-08 | 2010-05-03 | 가부시키가이샤 신가와 | 본딩 장치용 촬상 장치 및 촬상 방법 |
| JP2013104860A (ja) * | 2011-11-17 | 2013-05-30 | Toray Eng Co Ltd | 自動外観検査装置 |
-
2002
- 2002-03-08 JP JP2002064175A patent/JP3857934B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US8120844B2 (en) | 2006-11-22 | 2012-02-21 | Nikon Corporation | Image measuring apparatus |
| JP5012810B2 (ja) * | 2006-11-22 | 2012-08-29 | 株式会社ニコン | 画像測定器 |
| KR101376632B1 (ko) | 2006-11-22 | 2014-03-19 | 가부시키가이샤 니콘 | 화상 측정기 |
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| JP2013104860A (ja) * | 2011-11-17 | 2013-05-30 | Toray Eng Co Ltd | 自動外観検査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3857934B2 (ja) | 2006-12-13 |
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