JP2003262505A - 拡散板を使用した干渉計、及び、拡散板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 作成が容易で拡散光が被検面を均一に照明
し、被検面を正確に測定することができる拡散板干渉計
及びかかる拡散板の製造方法を提供する。 【解決手段】 光源からの光を回折散乱させてほぼラン
ダムな位相を与える点対称な拡散板と、干渉縞を検出す
る検出手段とを有し、前記拡散板で回折して被検面で反
射して前記拡散板を透過する光と、前記拡散板を透過し
て前記被検面で反射して前記拡散板で回折する光とを干
渉させる干渉計において、前記拡散板の対称点を軸に回
転可能に構成することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一般に干渉計に係
り、特に波面を測定する干渉計に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来技術としてバーチ（Ｂｕｒｃｈ）に
よる拡散板を使用した干渉計（以下、「拡散板干渉
計」）などがある（Ｊ．Ｍ．Ｂｕｒｃｈ， “Ｓｃａｔ
ｔｅｒ−Ｆｒｉｎｇｅ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒ
ｙ，” Ｊ． Ｏｐｔ．Ｓｏｃ．Ａｍ．５２，６００
（１９６２））。ここで、「拡散板」とは、光を拡散及
び散乱させる板をいう。以下、図５、６及び７を用いて
従来の拡散板干渉計を説明する。

【０００３】図５は、従来の拡散板干渉計の概略的な光
路図である。ここで光源１１からの光はピンホール１２
とレンズ１３を通り、ペリクルミラー１４で反射して拡
散板３０を照射する。拡散板３０で拡散する信号光２１
は被検物１６の被検面１７を広く照射し、反射して再度
拡散板３０に入射する。拡散板３０は被検面１７の曲率
中心近傍に位置している。一方、拡散板３０を透過する
参照光２２はレンズ１３の焦点距離を設定してあるた
め、被検面１７の中心点１８に集光する。参照光２２は
被検面１７の中心点１８で反射し、再度拡散板３０に入
射する。拡散板３０に入射した信号光と参照光は一度目
の入射とは逆に信号光は透過し、参照光は拡散して干渉
する。これらの干渉光がレンズ１９で集光され、干渉縞
となって観察面２０に現れる。

【０００４】図６は、拡散板３０の概略平面図である。
拡散板３０の上にはすりガラスなどからの拡散光で感光
し、エッチングなどで凹凸を付けた拡散パターン３２が
ある。但し、この拡散パターン３２は中心３４で完全に
点対称となっている。

【０００５】図７は、干渉光束の位相を説明するための
概略的な光路図である。ここでは簡単にするため光の伝
播と反射による位相は無視して説明する。

【０００６】まず、拡散板３０に入射する入射光１５の
初期位相をφｉとする。参照光２１は拡散板３０を透過
して特に位相に変化を受けないため、透過しても位相φ
ｉのままである。その後、被検面１７の中心で参照光２
２ａとして反射するが、位相変化を受けず位相φｉのま
ま再度拡散板３０に入射して参照光２２ｂとなる。

【０００７】一方、信号光２１は拡散板３０を通過した
際に拡散し、その際に入射した位置に依存する位相の変
化φ（ξ）を受ける。また、信号光２１は被検面１７で
信号光２１ａとして反射し、被検面１７の位置ｘに依存
する被検面１７の情報を含んだ位相φ（ｘ）を受ける。
このため、再度拡散板３０に入射する時には信号光２１
ａの位相はφｉ＋φ（ξ）＋φ（ｘ）である。再度拡散
板３０に入射して信号光２１ａは信号光２１ｂとなる。

【０００８】この系は中央の一点鎖線で回転対称である
ため、入射光１５が拡散板３０に入射した位置ξと、信
号光２１ａと参照光２２ａが再度拡散板３０に入射する
位置とは一点鎖線に対して対称な位置にあり、−ξの位
置に再入射する。図ではわかりやすくするためにわざと
２つの光束をずらして示しているが、実際は拡散板上で
重なっている。拡散板３０を通過する時、信号光２１ｂ
はそのまま透過し位相変化を受けずにφｉ＋φ（ξ）＋
φ（ｘ）の位相で観察面に到達する。一方、参照光２２
ｂは−ξの位置において拡散し、位置に応じた位相変化
φ（−ξ）を受けてφｉ＋φ（−ξ）となって観察面に
到達する。

【０００９】これらの信号光２１ｂと参照光２２ｂが重
なった時に二光束は干渉する。拡散板３０は中心で点対
称に作成されているため、信号光２１ｂが受ける位相φ
（ξ）と参照光２２ｂが受ける位相φ（−ξ）とは同じ
であり、以降は両方φ（ξ）とする。

【００１０】実際には信号光が再度拡散板３０で拡散し
た光や、参照光が再度透過する光などが存在するが、光
量としては微弱であったり、不要な方向へ進むため干渉
縞の観察には影響しない。

【００１１】参照光も信号光も１回拡散し、１回透過す
るため振幅は同じＥとすると、観察面での干渉光量は次
式で表される。

【００１２】

【数１】

【００１３】これを簡単にすると拡散板４１で付与され
る位相φ（ξ）がキャンセルされて次式となり、被検面
４２による位相変化を示す強度の関数となっている。

【００１４】

【数２】

【００１５】観察面２０と被検面１７とはレンズ１９に
よって結像関係にあり、数式２は被検面１７のある位置
ｘでの形状などが波面に与える位相を観察面２０のある
１点の強度分布として表している。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】拡散板干渉計は拡散板
を用いているために、観察される干渉縞にスペックルが
ノイズとして見られるという課題があった。次に、拡散
板が正確な点対称である必要があるため、拡散板を作成
するのが難しいという課題があった。また、拡散光が被
検面に均一に照射するように作成するのが難しいという
課題があった。

【００１７】そこで、本発明は、作成が容易で拡散光が
被検面を均一に照明し、被検面を正確に測定することが
できる拡散板干渉計及びかかる拡散板の製造方法を提供
することを例示的な目的とする。

【００１８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の一側面としての干渉計は、光源からの光を
回折散乱させてほぼランダムな位相を与える点対称な拡
散板と、干渉縞を検出する検出手段とを有し、前記拡散
板で回折して被検面で反射して前記拡散板を透過する光
と、前記拡散板を透過して前記被検面で反射して前記拡
散板で回折する光とを干渉させる干渉計において、前記
拡散板の対称点を軸に回転可能に構成することを特徴と
する。かかる干渉計は、拡散板を回転することによって
被検面上でのスペックルパターンを平均化し、干渉縞の
強度分布又は干渉条件を一定にすることができる。この
結果、かかる干渉計は干渉縞のスペックルを低減又は除
去することができる。

【００１９】本発明の別の側面としての被検面を測定す
るための干渉計は、光源からの光を回折散乱させてほぼ
ランダムな位相を与える点対称な拡散板と、当該拡散板
で回折して前記被検面で反射して前記拡散板を透過する
光と、前記拡散板を透過して前記被検面で反射して前記
拡散板で回折する光とを干渉させた結果としての干渉縞
を検出する検出手段と、前記干渉縞からスペックルを低
減するスペックル低減手段とを有することを特徴とす
る。かかる干渉計は、スペックル低減手段を利用してス
ペックルを低減又は除去することができる。

【００２０】本発明の更に別の側面としての干渉計は、
光源からの光を回折散乱させてほぼランダムな位相を与
える点対称な拡散板と、干渉縞を検出する検出手段とを
有し、前記拡散板で回折して被検面で反射して前記拡散
板を透過する光と、前記拡散板を透過して前記被検面で
反射して前記拡散板で回折する光とを干渉させる干渉計
において、前記拡散板をコンピュータジェネレーティッ
ドホログラム（以下、「ＣＧＨ」という。）で作成する
ことを特徴とする。かかる干渉計はＣＧＨを利用して容
易に拡散板を作成することができる。前記拡散板は、前
記被検面の全面にほぼ均一に回折散乱光が照射されるよ
うに最適化されていることが好ましい。これにより、干
渉計は最適化された波面関数を得ることができる。

【００２１】本発明の拡散板の製造方法は、コンピュー
タジェネレーティッドホログラムを利用して、光源から
の光を回折散乱させてほぼランダムな位相を与える点対
称な微細パターンを有する拡散板を設計するステップ
と、前記微細パターンを形成することによって前記拡散
板を形成するステップとを有することを特徴とする。か
かる方法はＣＧＨを使用して拡散板を簡単に作成するこ
とができる。前記拡散板形成ステップは、例えば、原版
を転写する露光装置、電子ビーム描画装置、プリンタな
どを使用する。干渉縞を検出する検出手段を有し、前記
拡散板で回折して被検面で反射して前記拡散板を透過す
る光と、前記拡散板を透過して前記被検面で反射して前
記拡散板で回折する光とを干渉させる干渉計に前記拡散
板は使用され、前記設計ステップは、前記拡散板の拡散
による回折散乱光が前記被検面の全面にほぼ均一に照射
されるように最適化することが好ましい。これにより、
干渉計は最適化された波面関数を得ることができる。

【００２２】本発明の他の目的及び更なる特徴は、以
下、添付図面を参照して説明される好ましい実施例によ
って明らかにされるであろう。

【００２３】

【発明の実施の形態】本発明の第１の実施形態を、図１
から図３を参照して説明する。ここで、図１は、本実施
形態の拡散板干渉計の概略的な光路図である。

【００２４】光源１０１からの光はピンホール１０２と
レンズ１０３を通り、ペリクルミラー１０４で反射して
拡散板１２０を照射する。拡散板１２０で拡散する信号
光１１１は被検物１０６の被検面１０７を広く照射し、
反射して再度拡散板１２０に入射する。拡散板１２０は
被検面１０７の曲率中心近傍に位置している。一方、拡
散板１２０を透過する参照光１１２はレンズ１０３の焦
点距離を設定してあるため、被検面１０７の中心点１０
８に集光する。この参照光１１２は被検面１０７の中心
点１０８で反射し、再度拡散板１２０に入射する。

【００２５】拡散板１２０に入射した信号光と参照光は
一度目の入射とは逆に信号光は透過し、参照光は拡散し
て干渉する。これらの干渉光がレンズ１０９で集光さ
れ、干渉縞となって観察面１１０に現れる。拡散板１２
０は中央に穴がある中空回転ステージ１３０に設置され
ており、干渉縞を観測する際はステージ１３０を回転さ
せ、ある時間平均での光量を観測する。時間平均の光量
パターンを観察する際、観察面１１０にＣＣＤを配置す
ることもある。

【００２６】図２は、拡散板１２０の概略平面図であ
る。拡散板１２０の上にはすりガラスなどからの拡散光
で感光し、エッチングなどで凹凸を付けた拡散パターン
１２２がある。但し、この拡散パターン１２２は中心１
２４で完全に点対称となっている。この拡散板１２０は
中央に穴がある中空回転ステージ１３０に設置されてお
り、中空回転ステージ１３０の回転中心と拡散パターン
１２２の対称軸とは一致している。中空回転ステージ１
３０はモーター１３２によって回転し、中空回転ステー
ジ１３０に適用可能である。

【００２７】図３は、干渉光束の位相を説明するための
概略的な光路図である。ここでは簡単にするため光の伝
播と反射による位相は無視して説明する。

【００２８】まず、拡散板１２０に入射する入射光１０
５の初期位相をφｉとする。参照光１１２は拡散板を透
過して特に位相に変化を受けないため、透過しても位相
φｉのままである。その後、被検面１０７の中心で参照
光１１２ａとして反射するが、位相変化を受けず位相φ
ｉのまま再度拡散板１２０に入射して参照光１１２ｂと
なる。

【００２９】一方、信号光１１１は拡散板１２０を通過
した際に拡散し、その際に入射した位置ξに依存する位
相の変化φ（ξ）を受ける。また、信号光１１１は被検
面１０７で信号光１１１ａとして反射する際、被検面１
０７の位置ｘに依存する被検面１０７の情報を含んだ位
相φ（ｘ）を受ける。このため、再度拡散板１２０に入
射する時には信号光１１１ｂの位相はφｉ＋φ（ξ）＋
φ（ｘ）である。

【００３０】この系は中央の一点鎖線で回転対称である
ため、入射光１０５が拡散板１２０に入射した位置ξ
と、信号光１１１ａと参照光１１２ａが再度拡散板１２
０に入射する位置とは対称な位置にあり、−ξの位置に
再入射する。図ではわかりやすくするためにわざと２つ
の光束はずらして示してあるが、実際は拡散板上で重な
っている。拡散板１２０を通過する時、信号光１１１ｂ
はそのまま透過し位相変化を受けずにφｉ＋φ（ξ）＋
φ（ｘ）の位相で観察面１１０に到達する。一方、参照
光１１２ｂは−ξの位置において拡散し、位置に応じた
位相変化φ（−ξ）を受けてφｉ＋φ（−ξ）となって
観察面１１０に到達する。

【００３１】これらの信号光１１１ｂと参照光１１２ｂ
が重なった時に二光束は干渉する。拡散板１２０は中心
１２４で点対称に作成されているため、信号光１１１ｂ
が受ける位相φ（ξ）と参照光１１２ｂが受ける位相φ
（−ξ）とは同じであり、以降は両方φ（ξ）とする。

【００３２】実際には信号光が再度拡散板で拡散した光
や、参照光が再度透過する光などが存在するが、光量と
しては微弱であったり、不要な方向へ進むため干渉縞の
観察には影響しない。

【００３３】参照光も信号光も２回拡散するため振幅は
同じＥとすると、観察面での干渉光量は上述の数式１で
表される。これを簡単にすると拡散板で付与される位相
φ（ξ）がキャンセルされて上述の数式２となり、被検
面による位相変化を示す強度の関数となっている。観察
面１１０と被検面１０７はレンズ１０９によって結像関
係にあるため、数式２は被検面１０７のある位置ｘで形
状などが波面に与える位相を観察面１１０のある１点に
て強度分布で表している。

【００３４】上記は拡散板１２０上の位置ξを通り、拡
散により被検面１０７上での位置ｘへ回折した光束につ
いての回折であるが、実際には拡散現象はランダムであ
るため、拡散板１２０上の様々な点から被検面１０７上
位置ｘへ回折する光がある。拡散板１２０を使っている
ため、被検面１０７上で光の強度分布は荒いスペックル
パターンとなり、観察面１１０でもスペックルパターン
の中で干渉で強め合う点があったり、弱め合う点が存在
する。拡散板１２０を中空回転ステージ１３０によって
回転することによって被検面１０７上でのスペックルパ
ターンも回転し、時間平均では荒い強度分布が平均化さ
れ、一様になる。上記干渉縞の強度分布の式にもξが入
っていないため、拡散板１２０の回転角度に依存せずに
干渉条件は常に一定である。スペックルによる強度分布
が除去された分、干渉縞はスペックルパターンなく一様
に観測される。

【００３５】本発明の第２の実施形態は、拡散板干渉計
において拡散板１２０をＣＧＨ（コンピュータージェネ
レーテッドホログラム）によって作成したものである。
ＣＧＨとは計算機によって計算し、種々の方法により縮
小作成された微細なパターンからなる光学素子で、これ
に光を照射することによって、所望の回折波面を生成す
る。本実施形態は、半導体デバイスなどを作成する際に
用いるステッパーを使用してＣＧＨ拡散板を作成する。
コンピューターによって設計した制御されたランダムパ
ターンを元にマスクを作成し、このマスクのパターンを
ステッパーを用いて感光レジストを塗布した石英基板、
蛍石基板、フッ素ドープ石英などの透明基板に転写す
る。レジストを現像し、エッチングを施すことで基板に
制御されたランダムパターンを凹凸として形成する。拡
散板干渉計に必要な位置の点対称性はマスク作製誤差と
ステッパーの収差内に抑えられる。位相の点対称性は凹
凸を作製するプロセスにも依存する。複数のパターンを
重ねて転写することで多段位相型のＣＧＨ拡散板を作製
している。ここで制御されたランダムパターンとは単に
ランダムなパターンではなく、回転対称性や、被検面を
全面照射する程度の拡散角を有するなど、少なくとも拡
散板干渉計に必要である条件を満たすランダムパターン
である。ステッパーの他のマスクを使う露光手段、例え
ばコンタクト露光やスキャナー露光でも同様のＣＧＨ拡
散板が作製できる。また基板にクロムなど遮光性のある
膜を塗布し、その上にレジストを塗布し、露光、現像、
エッチングのプロセスを経て選択的にＣｒ膜を除去する
ことで振幅型やバイナリ型のＣＧＨ拡散板が作製でき
る。

【００３６】本発明の第３の実施形態は、拡散板干渉計
において拡散板１２０をまた別の手法によるＣＧＨによ
って作成したものである。本実施形態は、半導体デバイ
スなどを作成する際に用いる電子ビーム描画装置などを
使用してＣＧＨ拡散板を作成する。コンピューターによ
って設計した制御されたランダムパターンを元に電子ビ
ームを制御し、パターンを感光レジストを塗布した石英
基板、蛍石基板、フッ素ドープ石英などの透明基板に転
写する。レジストを現像し、エッチングを施すことで基
板に制御されたランダムパターンを凹凸として形成す
る。拡散板干渉計に必要な位置の点対称性は電子ビーム
の制御誤差内に抑えられる。位相の点対称性は凹凸を作
製するプロセスにも依存する。複数のパターンを繰り返
し重ねて転写することで多段位相型のＣＧＨ拡散板を作
製している。グレートーンレジストを用いて描画の際の
強度を制御することで一度の露光で多段位相を作製する
ことが可能である。ここで制御されたランダムパターン
とは単にランダムなパターンではなく、少なくとも拡散
板干渉計に必要である条件を満たすランダムパターンで
ある。電子ビーム以外の電磁波、イオンビームなどでも
同様のＣＧＨ拡散板の作製は可能である。また基板にク
ロムなど遮光性のある膜を塗布し、その上にレジストを
塗布し、露光、現像、エッチングのプロセスを経て選択
的にＣｒ膜を除去することで振幅型やバイナリ型のＣＧ
Ｈ拡散板が作製することができる。

【００３７】本発明の第４の実施形態は、拡散板干渉計
において拡散板１２０をまた別の手法によるＣＧＨによ
って作成したものである。本実施形態は、プリンタなど
を使用してＣＧＨ拡散板を作成する。まず、コンピュー
ターによって設計した制御されたランダムパターンをプ
リンタかプロッターに出力する。図４にプリンタに出力
した拡散板の一例を示す。次に、出力結果をカメラなど
でフイルムや感光板に縮小撮影する。白黒の画像のまま
用いる振幅型のＣＧＨ拡散板や、撮影したフイルム感光
板をブリーチし、微少な凹凸によって位相型のＣＧＨ拡
散板としても使える。拡散板干渉計に必要な位置の点対
称性はプリンターのパターン描画精度とカメラの収差内
に抑えられる。複数のパターンを重ねて転写することで
多段位相型のＣＧＨ拡散板を作製している。ここで制御
されたランダムパターンとは単にランダムなパターンで
はなく、少なくとも拡散板干渉計に必要である、点対称
性等の条件を満たすランダムパターンである。図４は白
黒パターンの各セルに階調があるグレースケールパター
ンで、振幅の多段型である。撮影後のフイルムをブリー
チすることで多段位相型のＣＧＨにもなる。

【００３８】本発明の第５の実施形態はＣＧＨ拡散板の
設計の際に、拡散による回折散乱光が被検面の全面にほ
ぼ均一に照射するように最適化したものである。ＣＧＨ
の最適化には様々な手法のものがある。代表的な例がＧ
ｅｒｃｈｂｅｒｇ−Ｓａｘｔｏｎ法である。この手法を
例にとって解説する。

【００３９】まず初めに、図４に示すように上半分に完
全にランダムパターンにし、点対称になるように下半分
に転写したパターンを作る。このパターンは多段の階調
が位相を示しているものとし、位相の２次元関数φ
（ξ、η）を作る。この関数を位相とする波面の関数Ｈ
（ξ、η）＝ｅｘｐ｛ｉφ（ξ、η）｝を作る。関数Ｈ
をフーリエ変換し、角スペクトル関数を得る。拡散板か
ら被検面に伝播するまでの光の位相を角スペクトル関数
に付与し、逆フーリエ変換すると被検面での波面の関数
Ｇ（ｘ、ｙ）が得られる。Ｈの画素数は少なくともＧが
被検面をカバーするように充分小さい画素とする必要が
ある。得られた波面関数Ｇにおいて、被検面の外にあた
る部分は振幅を０とし、被検面にあたっている部分に関
しては振幅を１とする。こうして修正した波面関数Ｇ’
をフーリエ変換し、角スペクトル関数に被検面から拡散
板まで戻る伝播の光の位相を付与し、逆フーリエ変換す
ると、拡散板での波面関数Ｈ’が得られる。得られた波
面関数Ｈ’において、拡散板の外にあたる部分は振幅を
０とし、被検面にあたっている部分に関しては振幅を１
とする。ここで、さらに拡散板干渉計に適した拡散板の
波面となるよう、例えば上半分の関数を下半分に転写す
るなどして点対称な波面とする。また、得られた位相は
多段の階調に合わせるために量子化する。こうして得ら
れた新しい波面関数Ｈは元の波面関数Ｈよりも被検面に
光量が集中し、より一様になるよう改善されている。波
面関数Ｈから波面関数Ｇを求め、修正をかけて新しい波
面関数Ｈを得る演算工程を、例えば２０回繰り返し行う
ことで、最適化された波面関数Ｈが得られる。

【００４０】拡散板を通った光が、演算にて最適化され
た波面関数Ｈとなるように拡散板を形成する。ＣＧＨの
作製にも様々な手法があるが、所望の位相を発生させる
ため、基板を位相に応じた深さ分エッチングによって削
ることや、位相に応じた量だけ画素内にある透過する開
口の位置をずらすことでその画素の位相をエンコードす
るなどして拡散板を作製する。図４のように位相を透過
光量に置き換えて制御することでも同様の波面が得られ
ることが知られている。

【００４１】本実施形態によると拡散板を回転すること
によりスペックルノイズが除去される。また、本実施形
態によると拡散板をＣＧＨとして作成するため、高精度
に点対称な拡散板を作成している。更に、本実施形態に
よると拡散板をＣＧＨとして作成するため、拡散光を被
検面全面にほぼ均一に照射するように最適化しやすい。
こうして最適化した拡散板を用いることで、被検面全体
に渡ってコントラストが高い干渉縞を得ている。

【００４２】

【発明の効果】本発明は、このように、作成が容易で拡
散光が被検面を均一に照明し、被検面を正確に測定する
ことができる拡散板干渉計及びかかる拡散板の製造方法
を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施形態の干渉計の概略的な
光路図である。

【図２】 図１に示す干渉計に使用される拡散板の概略
平面図である。

【図３】 図１に示す干渉計の波面位相の説明図であ
る。

【図４】 本発明の第４及び第５の実施形態の拡散板を
説明するための図である。

【図５】 従来の拡散板干渉計の図である

【図６】 従来の拡散板の図である。

【図７】 従来の拡散板干渉計の干渉光束を説明するた
めの図である。

【符号の説明】

１０１ 光源 １０２ ピンホール １０３ レンズ １０４ ペリクルミラー １０６ 被検物 １０７ 被検面 １０８ 被検面の中心 １１０ 観察面 １２０ 拡散板 １２２ 拡散板の中心 １１１ 回折散乱光（拡散光、信号光） １１２ 透過光（参照光） １３０ 中空回転ステージ １３２ モーター

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源からの光を回折散乱させてほぼラン
   ダムな位相を与える点対称な拡散板と、干渉縞を検出す
   る検出手段とを有し、前記拡散板で回折して被検面で反
   射して前記拡散板を透過する光と、前記拡散板を透過し
   て前記被検面で反射して前記拡散板で回折する光とを干
   渉させる干渉計において、前記拡散板の対称点を軸に回
   転可能に構成することを特徴とする干渉計。
2. 【請求項２】 被検面を測定するための干渉計であっ
   て、 光源からの光を回折散乱させてほぼランダムな位相を与
   える点対称な拡散板と、 当該拡散板で回折して前記被検面で反射して前記拡散板
   を透過する光と、前記拡散板を透過して前記被検面で反
   射して前記拡散板で回折する光とを干渉させた結果とし
   ての干渉縞を検出する検出手段と、 前記干渉縞からスペックルを低減するスペックル低減手
   段とを有することを特徴とする干渉計。
3. 【請求項３】 光源からの光を回折散乱させてほぼラン
   ダムな位相を与える点対称な拡散板と、干渉縞を検出す
   る検出手段とを有し、前記拡散板で回折して被検面で反
   射して前記拡散板を透過する光と、前記拡散板を透過し
   て前記被検面で反射して前記拡散板で回折する光とを干
   渉させる干渉計において、前記拡散板をコンピュータジ
   ェネレーティッドホログラムで作成することを特徴とす
   る干渉計。
4. 【請求項４】 前記拡散板は、前記被検面の全面にほぼ
   均一に回折散乱光が照射されるように最適化されている
   ことを特徴とする請求項３記載の干渉計。
5. 【請求項５】 コンピュータジェネレーティッドホログ
   ラムを利用して、光源からの光を回折散乱させてほぼラ
   ンダムな位相を与える点対称な微細パターンを有する拡
   散板を設計するステップと、 前記微細パターンを形成することによって前記拡散板を
   形成するステップとを有することを特徴とする拡散板の
   製造方法。
6. 【請求項６】 前記拡散板形成ステップは、原版を転写
   する露光装置を使用することを特徴とする請求項５記載
   の方法。
7. 【請求項７】 前記拡散板形成ステップは、電子ビーム
   描画装置を使用することを特徴とする請求項５記載の方
   法。
8. 【請求項８】 前記拡散板形成ステップは、プリンタを
   使用することを特徴とする請求項５記載の方法。
9. 【請求項９】 干渉縞を検出する検出手段を有し、前記
   拡散板で回折して被検面で反射して前記拡散板を透過す
   る光と、前記拡散板を透過して前記被検面で反射して前
   記拡散板で回折する光とを干渉させる干渉計に前記拡散
   板は使用され、 前記設計ステップは、前記拡散板の拡散による回折散乱
   光が前記被検面の全面にほぼ均一に照射されるように最
   適化する請求項５記載の方法。