JP2003258641A - 電流セル型da変換器 - Google Patents

電流セル型da変換器

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JP2003258641A
JP2003258641A JP2002051686A JP2002051686A JP2003258641A JP 2003258641 A JP2003258641 A JP 2003258641A JP 2002051686 A JP2002051686 A JP 2002051686A JP 2002051686 A JP2002051686 A JP 2002051686A JP 2003258641 A JP2003258641 A JP 2003258641A
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cell transistors
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Yasuhiro Fujimori
靖弘 藤盛
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高精度化が図られた電流セル型DA変換器を
提供する。 【解決手段】 基準電流生成回路10で生成された相互
に同一電流値の3つの基準電流ISに基づいて、各電流
セルブロック41,51,61それぞれに対応して備え
られた各電流―電圧変換回路21,22,23で、各電
流セルブロック41,51,61における各電流セルト
ランジスタ41_1,41_2,…,51_1,51_
2,…,61_1,61_2,…を流れる電流を制御す
るための制御電圧VG1,VG2,VG3を生成する。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、ディジタルデータ
に応じた数の電流セルトランジスタを流れる電流を合流
させることによりアナログ信号を生成する電流セル型D
A変換器に関する。 【0002】 【従来の技術】従来より、複数の電流セルトランジスタ
が配置された電流セル配置領域を有し、これら複数の電
流セルトランジスタのうちの、ディジタルデータに応じ
た数の電流セルトランジスタを流れる電流を合流させる
ことにより、そのディジタルデータに応じたアナログ信
号を生成する電流セル型DA変換器が知られている。 【0003】図3は、従来の電流セル型DA変換器の回
路を示す図である。 【0004】図3に示す電流セル型DA変換器100
は、3チャンネル用の電流セル型DA変換器であり、こ
の電流セル型DA変換器100には、電流制御回路11
0と、第1チャンネル用の電流セル配置領域120と、
第2チャンネル用の電流セル配置領域130と、第3チ
ャンネル用の電流セル配置領域140とが備えられてい
る。 【0005】電流制御回路110には、参照電圧VRE
Fが入力される端子111と、その端子111に逆相入
力側(−)が接続されたオペアンプ112と、そのオペ
アンプ112の出力側にゲートが接続されるとともにソ
ースが電源Vddに接続されたPMOSトランジスタ1
13と、そのPMOSトランジスタ113のドレインに
ソースが接続されるとともにゲートに参照電圧VREF
が入力されるPMOSトランジスタ114と、そのPM
OSトランジスタ114のドレインおよびオペアンプ1
12の正相入力側(+)に接続された外付け抵抗用の端
子115とが備えられている。端子115とグラウンド
GNDの間には、抵抗116が接続されている。 【0006】第1チャンネル用の電流セル配置領域12
0には、電流セルブロックを構成する複数の電流セルト
ランジスタ121_1,121_2,…と、電流セルト
ランジスタ121_1とグラウンドGNDとの間に配置
されたPMOSトランジスタ122_1(実際には、複
数の電流セルトランジスタ121_1,121_2,…
に対応して複数のPMOSトランジスタが配置されてい
るが、ここでは例示的に1つのPMOSトランジスタ1
22_1を示す)と、電流セルトランジスタ121_1
とPMOSトランジスタ122_1の接続点に接続され
たPMOSトランジスタ123と、電流出力用の端子1
24とが備えられている。複数の電流セルトランジスタ
121_1,121_2,…のゲートには、オペアンプ
112からのゲート電圧VGが入力され、またPMOS
トランジスタ122_1のゲートにはディジタルデータ
DATAが入力され、さらにPMOSトランジスタ12
3のゲートには参照電圧VREFが入力される。 【0007】また、第2チャンネル用の電流セル配置領
域130には、電流セルブロックを構成する複数の電流
セルトランジスタ131_1,131_2,…と、電流
セルトランジスタ131_1とグラウンドGNDとの間
に配置されたPMOSトランジスタ132_1と、電流
セルトランジスタ131_1とPMOSトランジスタ1
32_1の接続点に接続されたPMOSトランジスタ1
33と、電流出力用の端子134とが備えられている。
複数の電流セルトランジスタ131_1,131_2,
…のゲートには、オペアンプ112からのゲート電圧V
Gが入力され、またPMOSトランジスタ132_1の
ゲートにはディジタルデータDATAが入力され、さら
にPMOSトランジスタ133のゲートには参照電圧V
REFが入力される。 【0008】さらに、第3チャンネル用の電流セル配置
領域140には、電流セルブロックを構成する複数の電
流セルトランジスタ141_1,141_2,…と、電
流セルトランジスタ141_1とグラウンドGNDとの
間に配置されたPMOSトランジスタ142_1と、電
流セルトランジスタ141_1とPMOSトランジスタ
142_1の接続点に接続されたPMOSトランジスタ
143と、電流出力用の端子144とが備えられてい
る。複数の電流セルトランジスタ141_1,141_
2,…のゲートには、オペアンプ112からのゲート電
圧VGが入力され、またPMOSトランジスタ142_
1のゲートにはディジタルデータDATAが入力され、
さらにPMOSトランジスタ143のゲートには参照電
圧VREFが入力される。 【0009】このように構成された電流セル型DA変換
器100では、電流制御回路110を構成するPMOS
トランジスタ113に流れる電流が抵抗116によりモ
ニタ電圧に変換されてオペアンプ112の正相入力側
(+)に入力される。オペアンプ112は、正相入力側
(+)に入力されたモニタ電圧が逆相入力側(−)に入
力されている参照電圧VREFと等しくなるように、P
MOSトランジスタ113のゲート電圧VGを制御す
る。ここで、第1チャンネル用の電流セルトランジスタ
121_1に対応するPMOSトランジスタ122_1
がディジタルデータDATAの論理に応じてオン,オフ
し、これによりディジタルデータDATAに応じた電流
IOUT1がPMOSトランジスタ123を経由して端
子124から流出する。実際には、複数の電流セルトラ
ンジスタ121_1,121_2,…のうちの、ディジ
タルデータDATAに応じた数の電流セルトランジスタ
を流れる電流がPMOSトランジスタ123を経由して
合流されて、図示しない抵抗でアナログ信号に変換され
る。このようにして、第1チャンネルにおけるD/A変
換が行なわれる。同様にして、第2チャンネル,第3チ
ャンネルにおけるD/A変換も行なわれる。 【0010】 【発明が解決しようとする課題】上述した電流セル型D
A変換器100では、電流セル配置領域120,13
0,140に配置された全ての電流セルトランジスタ1
21_1,121_2,…,131_1,131_2,
…,141_1,141_2,…のゲートに、オペアン
プ112で生成されたゲート電圧VGが印加される。こ
こで、電流セルトランジスタ121_1,121_2,
…,131_1,131_2,…,141_1,141
_2,…のレイアウト的な配置の差により、それらの電
流セルトランジスタ121_1,121_2,…,13
1_1,131_2,…,141_1,141_2,…
の特性に製造上のバラツキが発生する場合がある。その
場合、電流セルトランジスタ121_1,121_2,
…,131_1,131_2,…,141_1,141
_2,…に同一のゲート電圧VGが印加されても、それ
らの電流セルトランジスタ121_1,121_2,
…,131_1,131_2,…,141_1,141
_2,…に流れる電流にバラツキが発生する。すると、
電流セル型DA変換器100の、入力されたディジタル
データDATAの変化に対して出力されるアナログ信号
の変化の直線性(線形性)に誤差が生じる。また、各チ
ャンネル間での特性のバラツキ(フルスケール誤差等)
も生じる。このため、高精度なDA変換を行なうことは
困難であるという問題がある。 【0011】本発明は、上記事情に鑑み、高精度化が図
られた電流セル型DA変換器を提供することを目的とす
る。 【0012】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の電流セル型DA変換器は、複数の電流セルトランジ
スタが配置された電流セル配置領域を有し、これら複数
の電流セルトランジスタのうちの、ディジタルデータに
応じた数の電流セルトランジスタを流れる電流を合流さ
せることにより、そのディジタルデータに応じたアナロ
グ信号を生成する電流セル型DA変換器において、相互
に同一電流値の複数の基準電流を生成して、それら複数
の基準電流それぞれを、上記電流セル配置領域が複数に
分割されてなる各電流セルブロックに伝える基準電流生
成回路と、上記各電流セルブロックそれぞれに対応して
備えられ、各分割領域に伝えられた各基準電流に基づい
て、各電流セルブロックにおける電流セルトランジスタ
を流れる電流を制御するための各制御電圧を生成する複
数の電流―電圧変換回路とを備えたことを特徴とする。 【0013】本発明の電流セル型DA変換器は、相互に
同一電流値の複数の基準電流それぞれに基づいて生成さ
れた各制御電圧で、各電流セルブロックにおける電流セ
ルトランジスタを流れる電流を制御するものであるた
め、各電流セルブロックごとに電流セルトランジスタの
特性がばらついていた場合であっても、各電流セルブロ
ックにおける電流セルトランジスタそれぞれに流れる電
流をほぼ同等にすることができる。従って、従来の、複
数の電流セルトランジスタのゲートに同一のゲート電圧
を印加してそれら複数の電流セルトランジスタの電流を
制御する技術と比較し、複数の電流セルトランジスタ
の、レイアウト的な配置の差による特性のバラツキによ
り生じる電流のバラツキが軽減され、入力されたディジ
タルデータの変化に対するアナログ信号の変化の直線性
(線形性)の誤差が低減されて高精度なDA変換が行な
われる。 【0014】 【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。 【0015】図1は、本発明の一実施形態の電流セル型
DA変換器の回路を示す図である。 【0016】図1に示す電流セル型DA変換器1は、3
チャンネル用の電流セル型DA変換器であり、この電流
セル型DA変換器1には、基準電流生成回路10と、3
つの電流―電圧変換回路21,22,23と、電流セル
配置領域30とが備えられている。電流セル配置領域3
0は、第1チャンネル用の分割領域40と、第2チャン
ネル用の分割領域50と、第3チャンネル用の分割領域
60とを有する。これら分割領域40,50,60は、
レイアウト的に、互いに比較的離れた位置(場所)に配
置されている。 【0017】基準電流生成回路10には、参照電圧VR
EFが入力される端子11と、その端子11に逆相入力
側(−)が接続されたオペアンプ12と、そのオペアン
プ12の出力側にゲートが接続されるとともにソースが
電源Vddに接続されたPMOSトランジスタ13と、
そのPMOSトランジスタ13のドレインにソースが接
続されるとともにゲートに参照電圧REFが入力される
PMOSトランジスタ14と、そのPMOSトランジス
タ14のドレインおよびオペアンプ12の正相入力側
(+)に接続された外付け抵抗用の端子15とが備えら
れている。端子15とグラウンドGNDの間には、抵抗
16が接続されている。また、基準電流生成回路10に
は、オペアンプ12の出力側にゲートが接続されるとと
もにソースが電源Vddに接続された3つのPMOSト
ランジスタ17_1,17_2,17_3が備えられて
いる。これらのPMOSトランジスタ17_1,17_
2,17_3は、PMOSトランジスタ13とカレント
ミラー構成されている。 【0018】第1の電流―電圧変換回路21は、PMO
Sトランジスタ17_1とグラウンドGNDとの間に配
置されたカレントミラー構成されてなるNMOSトラン
ジスタ21_1,21_2およびPMOSトランジスタ
21_3から構成されている。また、第2の電流―電圧
変換回路22は、PMOSトランジスタ17_2とグラ
ウンドGNDとの間に配置されたカレントミラー構成さ
れてなるNMOSトランジスタ22_1,22_2およ
びPMOSトランジスタ22_3から構成されている。
さらに、第3の電流―電圧変換回路23は、PMOSト
ランジスタ17_3とグラウンドGNDとの間に配置さ
れたカレントミラー構成されてなるNMOSトランジス
タ23_1,23_2およびPMOSトランジスタ23
_3から構成されている。 【0019】分割領域40には、電流セルブロック41
を構成する複数の電流セルトランジスタ41_1,41
_2,…が備えられている。また、分割領域50には、
電流セルブロック51を構成する複数の電流セルトラン
ジスタ51_1,51_2,…が備えられている。さら
に、分割領域60には、電流セルブロック61を構成す
る複数の電流セルトランジスタ61_1,61_2,…
が備えられている。ここで、第1の電流―電圧変換回路
21は分割領域40に隣接して備えられており、また第
2の電流―電圧変換回路22は分割領域50に隣接して
備えられており、さらに第3の電流―電圧変換回路23
は分割領域60に隣接して備えられている。 【0020】このように構成された電流セル型DA変換
器1では、PMOSトランジスタ13に流れる電流が抵
抗16によりモニタ電圧に変換されてオペアンプ12の
正相入力側(+)に入力される。オペアンプ12は、正
相入力側(+)に入力されたモニタ電圧が逆相入力側
(−)に入力されている参照電圧VREFと等しくなる
ように、PMOSトランジスタ13のゲート電圧を制御
する。また、PMOSトランジスタ13とPMOSトラ
ンジスタ17_1,17_2,17_3はカレントミラ
ー構成されているため、PMOSトランジスタ17_
1,17_2,17_3には、PMOSトランジスタ1
3を流れる電流に対応する相互にほぼ同一な電流値の電
流(基準電流)ISが流れる。これらの基準電流ISは、
第1,第2,第3の電流―電圧変換回路21,22,2
3に向けて出力される。 【0021】第1の電流―電圧変換回路21は、PMO
Sトランジスタ17_1からの基準電流ISに対応する
電流をカレントミラー構成されてなるNMOSトランジ
スタ21_1,21_2を経由してPMOSトランジス
タ21_3に流すことにより、電流セルブロック41に
おける電流セルトランジスタ41_1,41_2,…に
流す電流を制御するための制御電圧VG1を生成する。
また、第2の電流―電圧変換回路22は、PMOSトラ
ンジスタ17_2からの基準電流ISに対応する電流を
カレントミラー構成されてなるNMOSトランジスタ2
2_1,22_2を経由してPMOSトランジスタ22
_3に流すことにより、電流セルブロック51における
電流セルトランジスタ51_1,51_2,…に流す電
流を制御するための制御電圧VG2を生成する。さら
に、第3の電流―電圧変換回路23は、PMOSトラン
ジスタ17_3からの基準電流ISに対応する電流をカ
レントミラー構成されてなるNMOSトランジスタ23
_1,23_2を経由してPMOSトランジスタ23_
3に流すことにより、電流セルブロック61における電
流セルトランジスタ61_1,61_2,…に流す電流
を制御するための制御電圧VG3を生成する。このよう
にすることにより、互いに比較的離れて配置されて特性
にバラツキがある電流セルトランジスタ41_1,41
_2,…;電流セルトランジスタ51_1,51_2,
…;電流セルトランジスタ61_1,61_2,…にほ
ぼ同等の電流を流すことができる。ここで、第1,第
2,第3の電流―電圧変換回路21,22,23は、前
述したように、電流セルブロック41,51,61に隣
接して備えられているため、制御電圧VG1,VG2,
VG3の電圧降下分は小さくて済み、従って全ての電流
セルトランジスタ41_1,41_2,…,51_1,
51_2,…,61_1,61_2,…にわたり高い精
度でほぼ同等の電流を流すことができる。また、本実施
形態では、第1,第2,第3の電流―電圧変換回路2
1,22,23それぞれの特性を均一に揃えるために、
カレントミラー構成されてなるNMOSトランジスタ2
1_1,21_2同士,NMOSトランジスタ22_
1,22_2同士,NMOSトランジスタ23_1,2
3_2同士を、それぞれ、レイアウト的に隣接配置ある
いは対称配置するという工夫が施されている。 【0022】このように構成された電流セル型DA変換
器1では、複数の電流セルトランジスタ41_1,41
_2,…のうちの、ディジタルデータDATAに応じた
数の電流セルトランジスタを流れる電流が合流されて、
第1チャンネルにおけるD/A変換が行なわれる。ま
た、複数の電流セルトランジスタ51_1,51_2,
…のうちの、ディジタルデータDATAに応じた数の電
流セルトランジスタを流れる電流が合流されて、第2チ
ャンネルにおけるD/A変換が行なわれる。さらに、複
数の電流セルトランジスタ61_1,61_2,…のう
ちの、ディジタルデータDATAに応じた数の電流セル
トランジスタを流れる電流が合流されて、第3チャンネ
ルにおけるD/A変換が行なわれる。 【0023】本実施形態の電流セル型DA変換器1は、
基準電流生成回路10で生成された相互に同一電流値の
3つの基準電流ISそれぞれに基づいて生成された制御
電圧VG1,VG2,VG3で、各電流セルブロック4
1,51,61における各電流セルトランジスタ41_
1,41_2,…,51_1,51_2,…,61_
1,61_2,…を流れる電流を制御するものであるた
め、各電流セルブロック41,51,61ごとに電流セ
ルトランジスタの特性がばらついていた場合であって
も、各電流セルブロック41,51,61における電流
セルトランジスタ41_1,41_2,…,51_1,
51_2,…,61_1,61_2,…に流れる電流を
ほぼ同等にすることができる。従って、各チャンネル間
におけるフルスケール誤差等を小さく抑えることができ
る。 【0024】図2は、電流セルブロックとその詳細を示
す図である。 【0025】図2には、図1に示す電流セルブロック4
1,51,61が示されている。図1では、各電流セル
ブロック41,51,61ごとに電流セルトランジスタ
に流れる電流をほぼ同等にする例で説明したが、各電流
セルブロック41,51,61それぞれを、例えば、こ
の図2に示す電流セルブロック41のように、16個の
分割領域部40_1,…,40_16に分割し、分割さ
れた16個の分割領域部40_1〜40_16における
電流セルトランジスタそれぞれに流れる電流をほぼ同等
にしてもよい。このようにすると、例えば分割領域部4
0_1において、その分割領域部40_1における電流
セルトランジスタ41_1,41_2,…と、それら電
流セルトランジスタ41_1,41_2,…とカレント
ミラーの関係にあるPMOSトランジスタ21_3と
を、より隣接して配置することができるため、製造上の
バラツキの影響を受けにくくなり、またこれら分割領域
部40_1〜40_16同士の電流値のバラツキも小さ
く抑えることができる。従って、1つのチャンネルの、
D/A変換における直線性誤差を低減することができ
る。 【0026】尚、本実施形態では、電流セル配置領域を
3つの部分領域に分割した例で説明したが、これに限ら
れるものではなく、本発明は、電流セル配置領域が複数
に分割されていればよい。 【0027】 【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高精度化が図られた電流セル型DA変換器を提供するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の一実施形態の電流セル型DA変換器の
回路を示す図である。 【図2】電流セルブロックとその詳細を示す図である。 【図3】従来の電流セル型DA変換器の回路を示す図で
ある。 【符号の説明】 1 電流セル型DA変換器 10 基準電流生成回路 11,15 端子 12 オペアンプ 13,14,17_1,17_2,17_3,21_
3,22_3,23_3PMOSトランジスタ 16 抵抗 21,22,23 電流―電圧変換回路 21_1,21_2,22_1,22_2,23_1,
23_2 NMOSトランジスタ 30 電流セル配置領域 40,50,60 分割領域 41,51,61 電流セルブロック 41_1,41_2,…,51_1,51_2,…,6
1_1,61_2,…電流セルトランジスタ(PMOS
トランジスタ) 40_1,…,40_16 分割領域部

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 複数の電流セルトランジスタが配置され
    た電流セル配置領域を有し、これら複数の電流セルトラ
    ンジスタのうちの、ディジタルデータに応じた数の電流
    セルトランジスタを流れる電流を合流させることによ
    り、該ディジタルデータに応じたアナログ信号を生成す
    る電流セル型DA変換器において、 相互に同一電流値の複数の基準電流を生成して、該複数
    の基準電流それぞれを、前記電流セル配置領域が複数に
    分割されてなる各電流セルブロックに伝える基準電流生
    成回路と、 前記各電流セルブロックそれぞれに対応して備えられ、
    各分割領域に伝えられた各基準電流に基づいて、各電流
    セルブロックにおける電流セルトランジスタを流れる電
    流を制御するための各制御電圧を生成する複数の電流―
    電圧変換回路とを備えたことを特徴とする電流セル型D
    A変換器。
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