JP2003257349A - 走査像観察装置用画像調整標準試料台 - Google Patents
走査像観察装置用画像調整標準試料台Info
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- JP2003257349A JP2003257349A JP2002052564A JP2002052564A JP2003257349A JP 2003257349 A JP2003257349 A JP 2003257349A JP 2002052564 A JP2002052564 A JP 2002052564A JP 2002052564 A JP2002052564 A JP 2002052564A JP 2003257349 A JP2003257349 A JP 2003257349A
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Abstract
度)まで広範にわたってひとつの標準試料でSEM調整
を行うために、一つの標準試料で画像調整が可能かつサ
ンプルの大きさ(高さ)に応じて標準試料の高さ調整が
可能な点が課題である。さらに、球形の微粒子を程よく
分散させる方法の確立が大きな課題である。 【解決手段】上記課題を達成するために本発明では、支
持台としてガラスを採用し、表面平滑な無構造の支持台
を提供する。また、その支持台を親水化処理することで
表面に球形のラテックス微粒子を塗布し、水分除去,凍
結乾燥処理さらに金属アモルファス膜(オスミウム)で
表面を被覆することで分散物を安定に分散固定しかつ導
電性を有することができる。さらに、複数の標準試料を
一つの試料台に搭載し、目的に応じて選択することを可
能とし、サンプルの大きさ(高さ)に応じて標準試料の
高さが調整可能な標準試料を提供する。
Description
canning Electron Microscope以下SEMと表示)の画像
を最適化するための標準試料として用いる走査像観察装
置用画像調整標準試料台に関するものである。
身の性能を最大限に発揮させるため、軸合わせ等装置条
件の最適化が必要である。一般には、低倍率で軸調整を
行い、中間倍率で非点補正および対物レンズ絞りの微調
整、最終的に高倍率で分解能確認および最終非点補正を
行う。これまでのSEM調整においては、メッシュ状構
造物で低倍率における調整を、ラテックス微粒子等を用
いて高倍率での調整と、目的に応じて複数の標準試料を
用いる必要があり非効率的且つ面倒であった。
超高倍率(200k倍程度)まで広範にわたってひとつ
の標準試料でSEM調整を行うために、次の点が大きな
課題である。 一つの標準試料で画像調整が可能なこと。 サンプルの大きさ(高さ)に応じて標準試料の高さが
調整可能なこと。 球形の微粒子を程よく分散させる方法。
に本発明では、支持台としてガラスを採用し、表面平滑
な無構造の支持台を提供する。また、その支持台を親水
化処理することで表面に球形のラテックス微粒子を塗布
し、水分除去,凍結乾燥処理さらに金属アモルファス膜
(オスミウム)で表面を被覆することで分散物を安定に
分散固定しかつ導電性を有することができる。さらに、
複数の標準試料を一つの試料台に搭載し、目的に応じて
選択することを可能とし、サンプルの大きさ(高さ)に
応じて標準試料の高さが調整可能な標準試料を提供す
る。
に応じて高さ調整が可能な走査像観察装置用画像調整標
準試料台の実施例を図1,図2に示す。走査像観察装置
用画像調整標準試料台の基本構造は試料台に目的サンプ
ル搭載部及び標準試料搭載部からなる。図1は、目的サ
ンプル搭載部を試料台中央部に配置し、目的サンプル搭
載部が高さ調整が可能とし、その周囲に画像調整用の標
準試料を搭載した実施例である。これにより、目的サン
プルの高さに応じて目的サンプル搭載部を駆動させ高さ
調整を行い、目的サンプルとの高さ合わせができるもの
である。また図2は、図1同様試料台中央部を目的サン
プル搭載部とし、その脇に高さ調整が可能な標準試料搭
載部を有する実施例である。これにより、目的サンプル
の高さに応じて標準試料搭載部を駆動させ高さ調整を行
い、目的サンプルとの高さ合わせができるものである。
ルに応じて任意の標準試料を選択できる走査像観察装置
用画像調整標準試料台の実施例である。図3は、目的サ
ンプル搭載部を中央に設け、周囲4箇所に任意の標準試
料を搭載し画像調整を行うものである。また図4は、目
的サンプル搭載部を中央に設け、その周囲全体に標準試
料を搭載した実施例である。
料には次のような条件がある。 ・ラテックス微粒子のようなXY成分の構造を有するこ
と。 ・帯電現象による像障害を受けないこと。 ・調整時の試料汚染が少ないこと。
ースのような、一方向のみの構造物や、ベアSiウェハ
のような無構造物では調整時の非点補正が行いにくくな
る。その例を図5に示す。一方、上記条件を満たす本発
明では、非点補正が容易になるとともに図6に示すよう
な高い精度で調整が可能になる。以上のことから、粒径
の異なるポリスチレンラテックス微粒子を標準試料とし
て用いることとする。
支持台について、表面が平滑な面を有するものが適する
と考えガラスを支持台として用いることとする。この場
合、ポリスチレンラテックス微粒子の載りを良くするた
め、ガラス表面に親水化処理を行う。また、ポリスチレ
ンラテックス微粒子は溶液を超音波にて分離させ、それ
を親水化処理したガラスの表面に塗布する。塗布の際
は、滴下した溶液の余分な水分を除去し、すぐさま液体
窒素中で凍結させる。凍結終了後、真空中にて乾燥させ
る。乾燥を確認した後、オスミウムで被膜する。
さの異なる球形微粒子を程よく分散することができ、且
つ安定に固定することができる。また、この走査像観察
装置用倍率校正標準試料台を用いて、任意に標準サンプ
ルを選択することが可能となりかつ目的サンプルの高さ
に調整が可能なため、低倍率から高倍率までの倍率調整
が簡易化され、電子光学系の軸調整,対物レンズ絞り調
整,非点収差補正などをスムースに行うことが可能にな
り、省力化・SEM性能維持が実現できる。
査像観察装置用倍率校正標準試料台の実施例。
観察装置用倍率校正標準試料台の実施例。
4箇所に搭載した走査像観察装置用倍率校正標準試料台
の実施例。
の周囲に搭載した走査像観察装置用倍率校正標準試料台
の実施例。
倍にて観察した結果。
クス微粒子を10.0k倍にて観察した結果。
サンプル、4…標準サンプル搭載部。
Claims (6)
- 【請求項1】平滑な表面を有する支持台に、親水化処理
を行い、超音波による分散処理を行った複数のラテック
ス微粒子を備えることを特徴とする走査像観察装置用画
像調整標準試料台。 - 【請求項2】上記請求項1の試料台において、画像調整
用のサンプルの高さ調整が可能なことを特徴とする走査
像観察装置用画像調整標準試料台。 - 【請求項3】上記請求項1,2の試料台において、着脱
可能なあるいは固定して取り付けられた高さを任意に変
更できる水平バーを高さゲージの目的で設け、複数の試
料の高さを容易に合わせることが可能なことを特徴とす
る走査像観察装置用画像調整標準試料台。 - 【請求項4】上記請求項1の試料台において、任意に画
像調整用のサンプルを選択でき取り外し可能なことを特
徴とする走査像観察装置用画像調整標準試料台。 - 【請求項5】上記請求項1の試料台において、複数のラ
テックス微粒子を液体窒素により凍結させ、さらに真空
中にて乾燥固定することを特徴とする走査像観察装置用
画像調整標準試料台。 - 【請求項6】上記請求項1の試料台において、複数のラ
テックス微粒子を金属アモルファス膜により被覆固定す
ることを特徴とする走査像観察装置用画像調整標準試料
台。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002052564A JP2003257349A (ja) | 2002-02-28 | 2002-02-28 | 走査像観察装置用画像調整標準試料台 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002052564A JP2003257349A (ja) | 2002-02-28 | 2002-02-28 | 走査像観察装置用画像調整標準試料台 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003257349A true JP2003257349A (ja) | 2003-09-12 |
Family
ID=28664226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002052564A Pending JP2003257349A (ja) | 2002-02-28 | 2002-02-28 | 走査像観察装置用画像調整標準試料台 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003257349A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011200851A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 放出器から測定空間に放出された活性種の測定対象に対する付着量を求める方法及びそのシステム |
CN101780630B (zh) * | 2009-01-16 | 2012-11-21 | 财团法人工业技术研究院 | 聚焦式离子束系统的物件加工方法及应用于该方法的载具 |
JP2015141083A (ja) * | 2014-01-28 | 2015-08-03 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 顕微鏡用試料担持片の作製方法およびその装置 |
JP2017050120A (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 試料ホルダ及び試料ホルダ群 |
-
2002
- 2002-02-28 JP JP2002052564A patent/JP2003257349A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101780630B (zh) * | 2009-01-16 | 2012-11-21 | 财团法人工业技术研究院 | 聚焦式离子束系统的物件加工方法及应用于该方法的载具 |
JP2011200851A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 放出器から測定空間に放出された活性種の測定対象に対する付着量を求める方法及びそのシステム |
JP2015141083A (ja) * | 2014-01-28 | 2015-08-03 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 顕微鏡用試料担持片の作製方法およびその装置 |
JP2017050120A (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 試料ホルダ及び試料ホルダ群 |
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