JP2003257095A - ディスク保護膜塗布方法及び装置 - Google Patents
ディスク保護膜塗布方法及び装置Info
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- JP2003257095A JP2003257095A JP2002059627A JP2002059627A JP2003257095A JP 2003257095 A JP2003257095 A JP 2003257095A JP 2002059627 A JP2002059627 A JP 2002059627A JP 2002059627 A JP2002059627 A JP 2002059627A JP 2003257095 A JP2003257095 A JP 2003257095A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 エッジ盛り上がり部を廃し、光磁気ディスク
と磁気ヘッドスライダー摺動時にエッジの盛り上がりに
よる記録エリアの減少を回避可能な磁界変調方式光磁気
記録ディスク保護膜を得ることができるディスク保護膜
塗布方法を提供すること。 【構成】 ディスク基板を回転させながら、該ディス
ク基板上に液状樹脂を塗布した後、前記液状樹脂の硬化
によって保護膜を形成する。ここで、基体を回転可能に
支持する回転テーブルを持ち、前記基体上に液剤を塗布
する際に、ディスク上面と同一面に成るように調整し、
且つ、ディスク回転と同一の回転をする部材を設置す
る。又、ディスクを塗布装置に設置した際、ディスク外
径と部材の内周の間隔が０．１ｍｍ以内、ディスク上面
高さと部材の高さを面一になるように０．０５ｍｍ以内
に調整可能とする。
と磁気ヘッドスライダー摺動時にエッジの盛り上がりに
よる記録エリアの減少を回避可能な磁界変調方式光磁気
記録ディスク保護膜を得ることができるディスク保護膜
塗布方法を提供すること。 【構成】 ディスク基板を回転させながら、該ディス
ク基板上に液状樹脂を塗布した後、前記液状樹脂の硬化
によって保護膜を形成する。ここで、基体を回転可能に
支持する回転テーブルを持ち、前記基体上に液剤を塗布
する際に、ディスク上面と同一面に成るように調整し、
且つ、ディスク回転と同一の回転をする部材を設置す
る。又、ディスクを塗布装置に設置した際、ディスク外
径と部材の内周の間隔が０．１ｍｍ以内、ディスク上面
高さと部材の高さを面一になるように０．０５ｍｍ以内
に調整可能とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ビームにより、
記録、再生、消去を行うことが可能な光記録媒体におけ
るディスク保護膜塗布方法に関するものである。
記録、再生、消去を行うことが可能な光記録媒体におけ
るディスク保護膜塗布方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報の消去、書き換えの可能な光
記録媒体として光磁気記録媒体が注目されている。そし
て、情報の書き換えに先立って旧情報を消去する必要の
ないオーバライト可能な磁界変調方式の光磁気記録媒体
或は光磁気記録再生装置が、例えば、特開昭５１−１０
７１２１号、特開昭６３−２１７５４８号、特開昭５９
−２１５００８号、特公昭６０−４８８０６号公報等に
記載されている。ここでは、光磁気記録媒体に対してオ
ーバライトするために、磁気ヘッドスライダーに磁気コ
イル及びコアを配設し、これを回転する上記光磁気記録
媒体の保護層に対向して配置し、両者の間に生じる空気
流で上記磁気ヘッドスライダーを上記光磁気記録媒体上
で浮上させている。このため、磁気ヘッドスライダーは
光磁気記録媒体が所定回転数においては、上記空気流の
働きで上記光磁気記録媒体に直接接触しないため、上記
光磁気記録再生装置による記録、再生、消去等の過程で
摩耗損傷されることはない。
記録媒体として光磁気記録媒体が注目されている。そし
て、情報の書き換えに先立って旧情報を消去する必要の
ないオーバライト可能な磁界変調方式の光磁気記録媒体
或は光磁気記録再生装置が、例えば、特開昭５１−１０
７１２１号、特開昭６３−２１７５４８号、特開昭５９
−２１５００８号、特公昭６０−４８８０６号公報等に
記載されている。ここでは、光磁気記録媒体に対してオ
ーバライトするために、磁気ヘッドスライダーに磁気コ
イル及びコアを配設し、これを回転する上記光磁気記録
媒体の保護層に対向して配置し、両者の間に生じる空気
流で上記磁気ヘッドスライダーを上記光磁気記録媒体上
で浮上させている。このため、磁気ヘッドスライダーは
光磁気記録媒体が所定回転数においては、上記空気流の
働きで上記光磁気記録媒体に直接接触しないため、上記
光磁気記録再生装置による記録、再生、消去等の過程で
摩耗損傷されることはない。
【０００３】しかしながら、光磁気記録媒体の駆動はじ
め、或は終了時には相対回転数の低下で磁気ヘッドスラ
イダーは浮上力を失い、上記磁気記録媒体に対して上記
磁気ヘッドスライダーが直接、摺接することとなり、磁
気ヘッドが摩耗損傷を受け、或は上記記録媒体側が摩耗
して光磁気記録層に損傷を与える可能性があり、又、摩
耗した保護層材料が磁気ヘッドに付着し、磁気ヘッドと
保護層の間に蓄積して両者の吸着（スティッキング）が
生じてしまい、上記磁気ヘッドスライダー及び光磁気記
録媒体の駆動が不能となるという問題があった。
め、或は終了時には相対回転数の低下で磁気ヘッドスラ
イダーは浮上力を失い、上記磁気記録媒体に対して上記
磁気ヘッドスライダーが直接、摺接することとなり、磁
気ヘッドが摩耗損傷を受け、或は上記記録媒体側が摩耗
して光磁気記録層に損傷を与える可能性があり、又、摩
耗した保護層材料が磁気ヘッドに付着し、磁気ヘッドと
保護層の間に蓄積して両者の吸着（スティッキング）が
生じてしまい、上記磁気ヘッドスライダー及び光磁気記
録媒体の駆動が不能となるという問題があった。
【０００４】そこで、例えば特開昭６４−６４１４８号
公報には、磁気ヘッド側の耐摺動保護膜中にアルミナ等
のフィラーを混入してその機械強度を向上させた光磁気
ディスクが開示されている。
公報には、磁気ヘッド側の耐摺動保護膜中にアルミナ等
のフィラーを混入してその機械強度を向上させた光磁気
ディスクが開示されている。
【０００５】しかしながら、一般的な膜生成法として、
スピンコート塗布方法を用いて膜厚を抑制するが、膜の
均一化に関しては特に手段を講じるということはなかっ
た。このため、ディスク基板端面での液溜りを原因とす
る盛り上がりが発生し、データ読み取り磁気ヘッドと干
渉してしまい、記録領域を狭くしてしまうという問題が
生じていた。この問題に対して特開２０００−７６６５
１のように凸部の切削を行ったり、特開２００１−１４
３３２４のように外周部自体を削除する方法が公開され
ている。
スピンコート塗布方法を用いて膜厚を抑制するが、膜の
均一化に関しては特に手段を講じるということはなかっ
た。このため、ディスク基板端面での液溜りを原因とす
る盛り上がりが発生し、データ読み取り磁気ヘッドと干
渉してしまい、記録領域を狭くしてしまうという問題が
生じていた。この問題に対して特開２０００−７６６５
１のように凸部の切削を行ったり、特開２００１−１４
３３２４のように外周部自体を削除する方法が公開され
ている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】スピンコート塗布方法
に特徴的に現れるディスクエッジ部分での塗膜の盛り上
がりが記録読み取りヘッドとディスクのクリアランスを
狂わせるため、ディスクエッジ部を記録領域として利用
できなくなってしまう。
に特徴的に現れるディスクエッジ部分での塗膜の盛り上
がりが記録読み取りヘッドとディスクのクリアランスを
狂わせるため、ディスクエッジ部を記録領域として利用
できなくなってしまう。
【０００７】本発明は上記問題に鑑みてなされたもの
で、その目的とする処は、エッジ盛り上がり部を廃し、
光磁気ディスクと磁気ヘッドスライダー摺動時にエッジ
の盛り上がりによる記録エリアの減少を回避可能な磁界
変調方式光磁気記録ディスク保護膜を得ることができる
ディスク保護膜塗布方法を提供することにある。
で、その目的とする処は、エッジ盛り上がり部を廃し、
光磁気ディスクと磁気ヘッドスライダー摺動時にエッジ
の盛り上がりによる記録エリアの減少を回避可能な磁界
変調方式光磁気記録ディスク保護膜を得ることができる
ディスク保護膜塗布方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、ディスク基板を回転させながら、該ディ
スク基板上に液状樹脂を塗布した後、前記液状樹脂の硬
化によって保護膜を形成することを特徴とする。
め、本発明は、ディスク基板を回転させながら、該ディ
スク基板上に液状樹脂を塗布した後、前記液状樹脂の硬
化によって保護膜を形成することを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。
図面に基づいて説明する。
【００１０】図１は本発明方法を実施するための磁気記
録保護膜塗布装置の概略構成図であり、本図において、
磁気記録ディスクは回転テーブル１０２上に設置され、
エッジ盛り上がり防止部材１０３を光磁気ディスク上面
と同じ高さに設置される。光磁気ディスクを回転テーブ
ルにエアバキュームや機械式チャッキングにて固定し、
低速回転（１００ｒｐｍ程度）で回転させ、液剤滴下ノ
ズル１０４を塗布エリア内周上部に移動させ、液剤を適
切な分量を低速回転しているディスク表面上に供給す
る。その後、液剤滴下ノズル１０４を回転エリアから移
動させ、所望の回転数にて光磁気ディスク、エッジ盛り
上がり防止部材を共に回転させることで光磁気ディスク
表面上に所望の厚みの平滑な保護膜層を塗布する。その
後、紫外線硬化炉や焼成炉等にて塗膜を硬化させる。
録保護膜塗布装置の概略構成図であり、本図において、
磁気記録ディスクは回転テーブル１０２上に設置され、
エッジ盛り上がり防止部材１０３を光磁気ディスク上面
と同じ高さに設置される。光磁気ディスクを回転テーブ
ルにエアバキュームや機械式チャッキングにて固定し、
低速回転（１００ｒｐｍ程度）で回転させ、液剤滴下ノ
ズル１０４を塗布エリア内周上部に移動させ、液剤を適
切な分量を低速回転しているディスク表面上に供給す
る。その後、液剤滴下ノズル１０４を回転エリアから移
動させ、所望の回転数にて光磁気ディスク、エッジ盛り
上がり防止部材を共に回転させることで光磁気ディスク
表面上に所望の厚みの平滑な保護膜層を塗布する。その
後、紫外線硬化炉や焼成炉等にて塗膜を硬化させる。
【００１１】以上は光磁気ディスク用保護膜塗布装置に
ついて装置の一例の概略構造について述べたが、以下こ
の装置を使用した実施例について述べる。
ついて装置の一例の概略構造について述べたが、以下こ
の装置を使用した実施例について述べる。
【００１２】［実施例１］図１の装置を使用して、下記
の要領で保護膜塗布試験を行った。
の要領で保護膜塗布試験を行った。
【００１３】・使用磁気記録ディスク…基板；材質ポリ
カーボネート、φ５０ｍｍ厚み１ｍｍ、外径φ５０（＋
０．２，−０．１）表面に磁気記録層としてシリコン層
３０μｍスパッタ製膜済み） ・使用磁気層保護膜材料…磁気記録保護層としてダイキ
ュアクリアＥＸ７２６（大日本インキ化学工業株式会社
製）アクリレート系紫外線硬化樹脂 ・塗布条件：６，０００ｒｐｍ×４秒スピンコート塗布
し、紫外線１５００ｍＪにより硬化 磁気記録ディスク１０１を回転テーブル１０２上に設置
し、エッジ盛り上がり防止部材１０３を光磁気ディスク
上面と同じ高さに成るように調整し設置する。光磁気デ
ィスクを回転テーブルにエアバキュームにて固定し、低
速回転（１００ｒｐｍ程度）で回転させ、液剤滴下ノズ
ル１０４を塗布エリア内周φ１５ｍｍ上部に移動させ、
ＥＸ７２６を低速回転しているディスク表面上に約０．
５ｍｇ供給する。その後、液剤滴下ノズル１０４を回転
エリアから移動させ、所望の回転数６，０００ｒｐｍに
て光磁気ディスク、エッジ盛り上がり防止部材共に回転
させることでエッジ部に特有な盛り上がりをエッジ盛り
上がり防止部材上に移動させ（図３参照）、光磁気ディ
スク表面上に厚みの平滑な保護膜層を塗布する。回転が
止まり、エッジ盛り上がり部材を取り外し、その後紫外
線硬化炉にて塗膜を硬化させる。
カーボネート、φ５０ｍｍ厚み１ｍｍ、外径φ５０（＋
０．２，−０．１）表面に磁気記録層としてシリコン層
３０μｍスパッタ製膜済み） ・使用磁気層保護膜材料…磁気記録保護層としてダイキ
ュアクリアＥＸ７２６（大日本インキ化学工業株式会社
製）アクリレート系紫外線硬化樹脂 ・塗布条件：６，０００ｒｐｍ×４秒スピンコート塗布
し、紫外線１５００ｍＪにより硬化 磁気記録ディスク１０１を回転テーブル１０２上に設置
し、エッジ盛り上がり防止部材１０３を光磁気ディスク
上面と同じ高さに成るように調整し設置する。光磁気デ
ィスクを回転テーブルにエアバキュームにて固定し、低
速回転（１００ｒｐｍ程度）で回転させ、液剤滴下ノズ
ル１０４を塗布エリア内周φ１５ｍｍ上部に移動させ、
ＥＸ７２６を低速回転しているディスク表面上に約０．
５ｍｇ供給する。その後、液剤滴下ノズル１０４を回転
エリアから移動させ、所望の回転数６，０００ｒｐｍに
て光磁気ディスク、エッジ盛り上がり防止部材共に回転
させることでエッジ部に特有な盛り上がりをエッジ盛り
上がり防止部材上に移動させ（図３参照）、光磁気ディ
スク表面上に厚みの平滑な保護膜層を塗布する。回転が
止まり、エッジ盛り上がり部材を取り外し、その後紫外
線硬化炉にて塗膜を硬化させる。
【００１４】このようにして所望の記録エリアの広い光
磁気ディスクが得られた。
磁気ディスクが得られた。
【００１５】［実施例２］装置構成等は上記実施例１に
準ずる物とする。
準ずる物とする。
【００１６】図２の装置を使用して、下記の要領で保護
膜塗布試験を行った。
膜塗布試験を行った。
【００１７】・使用磁気記録ディスク…基板；材質ポリ
カーボネート、φ５０ｍｍ厚み１ｍｍ、外径φ５０（＋
０．２，−０．１）表面に磁気記録層としてシリコン層
３０μｍスパッタ製膜済み） ・使用磁気層保護膜材料…磁気記録保護層としてダイキ
ュアクリアＥＸ７２６（大日本インキ化学工業株式会社
製）アクリレート系紫外線硬化樹脂 塗布条件：６，０００ｒｐｍ×４秒スピンコート塗布
し、紫外線ランプ１５００ｍＪにより硬化 磁気記録ディスク１０１を回転テーブル１０２上に設置
し、エッジ盛り上がり防止部材１０３を光磁気ディスク
上面と同じ高さに成るように調整し設置する。光磁気デ
ィスクを回転テーブルにエアバキュームにて固定し、低
速回転（１００ｒｐｍ程度）で回転させ、液剤滴下ノズ
ル１０４を塗布エリア内周φ15ｍｍ上部に移動させ、Ｅ
Ｘ７２６を低速回転しているディスク表面上に約０．３
ｍｇ供給する。その後、液剤滴下ノズル１０４を回転エ
リアから移動させ、所望の回転数６，０００ｒｐｍにて
光磁気ディスク、エッジ盛り上がり防止部材共に回転さ
せることでエッジ部に特有な盛り上がりをエッジ盛り上
がり防止部材上に移動させ（図３参照）、光磁気ディス
ク表面上に厚みの平滑な保護膜層を塗布する。
カーボネート、φ５０ｍｍ厚み１ｍｍ、外径φ５０（＋
０．２，−０．１）表面に磁気記録層としてシリコン層
３０μｍスパッタ製膜済み） ・使用磁気層保護膜材料…磁気記録保護層としてダイキ
ュアクリアＥＸ７２６（大日本インキ化学工業株式会社
製）アクリレート系紫外線硬化樹脂 塗布条件：６，０００ｒｐｍ×４秒スピンコート塗布
し、紫外線ランプ１５００ｍＪにより硬化 磁気記録ディスク１０１を回転テーブル１０２上に設置
し、エッジ盛り上がり防止部材１０３を光磁気ディスク
上面と同じ高さに成るように調整し設置する。光磁気デ
ィスクを回転テーブルにエアバキュームにて固定し、低
速回転（１００ｒｐｍ程度）で回転させ、液剤滴下ノズ
ル１０４を塗布エリア内周φ15ｍｍ上部に移動させ、Ｅ
Ｘ７２６を低速回転しているディスク表面上に約０．３
ｍｇ供給する。その後、液剤滴下ノズル１０４を回転エ
リアから移動させ、所望の回転数６，０００ｒｐｍにて
光磁気ディスク、エッジ盛り上がり防止部材共に回転さ
せることでエッジ部に特有な盛り上がりをエッジ盛り上
がり防止部材上に移動させ（図３参照）、光磁気ディス
ク表面上に厚みの平滑な保護膜層を塗布する。
【００１８】回転が止まり、エッジ盛り上がり部材を設
置したまま紫外線硬化ランプ１０６により塗膜を硬化さ
せた後、鋭利な刃物にて光磁気ディスクとエッジ盛り上
がり防止部材の隙間を切り離すことで平滑な保護膜層、
記録エリアの広い光磁気ディスクが得られた。
置したまま紫外線硬化ランプ１０６により塗膜を硬化さ
せた後、鋭利な刃物にて光磁気ディスクとエッジ盛り上
がり防止部材の隙間を切り離すことで平滑な保護膜層、
記録エリアの広い光磁気ディスクが得られた。
【００１９】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、液剤の粘度にこだわることなく、所望の厚みの
得られる回転数で塗布することでエッジ盛り上がり部を
廃し、光磁気ディスクと磁気ヘッドスライダー摺動時に
エッジの盛り上がりによる記録エリアの減少を回避可能
な磁界変調方式光磁気記録ディスク保護膜を得ることが
できる。
よれば、液剤の粘度にこだわることなく、所望の厚みの
得られる回転数で塗布することでエッジ盛り上がり部を
廃し、光磁気ディスクと磁気ヘッドスライダー摺動時に
エッジの盛り上がりによる記録エリアの減少を回避可能
な磁界変調方式光磁気記録ディスク保護膜を得ることが
できる。
【図１】本発明方法を実施するための磁気記録保護膜塗
布装置の概略構成図である。
布装置の概略構成図である。
【図２】本発明方法を実施するための磁気記録保護膜塗
布装置の概略構成図である。
布装置の概略構成図である。
【図３】エッジ盛り上がり防止方法を説明するための図
である。
である。
１０１ 光磁気ディスク
１０２ 回転テーブル
１０３ エッジ盛り上がり防止部材
１０４ 液剤滴下ノズル
１０５ ディスクチャッキング部
１０６ ＵＶランプ
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 4D075 AC64 AC86 BB26Z BB42Z
CA48 DA08 DB13 DB48 DC27
EA07 EA19 EA21 EB22
4F042 AA02 AA08 AB00 DB01 DB41
EB09 EB13 EB17 EB29
5D121 AA04 EE22 EE24 GG02
Claims (4)
- 【請求項１】 ディスク基板を回転させながら、該ディ
スク基板上に液状樹脂を塗布した後、前記液状樹脂の硬
化によって保護膜を形成することを特徴とするディスク
保護膜塗布方法。 - 【請求項２】 基体を回転可能に支持する回転テーブル
を持ち、前記基体上に液剤を塗布する際に、ディスク上
面と同一面に成るように調整し、且つ、ディスク回転と
同一の回転をする部材を設置することを特徴とする請求
項１記載のディスク保護膜塗布方法。 - 【請求項３】 光ディスク、光磁気ディスク等のディス
ク表面に保護されるべき記録層を有することを特徴とす
る請求項１又は２記載のディスク保護膜塗布方法。 - 【請求項４】 ディスクを塗布装置に設置した際、ディ
スク外径と部材の内周の間隔が０．１ｍｍ以内、ディス
ク上面高さと部材の高さを面一になるように０．０５ｍ
ｍ以内に調整可能なことを特徴とする請求項２記載のデ
ィスク保護膜塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002059627A JP2003257095A (ja) | 2002-03-06 | 2002-03-06 | ディスク保護膜塗布方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002059627A JP2003257095A (ja) | 2002-03-06 | 2002-03-06 | ディスク保護膜塗布方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003257095A true JP2003257095A (ja) | 2003-09-12 |
Family
ID=28669225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002059627A Pending JP2003257095A (ja) | 2002-03-06 | 2002-03-06 | ディスク保護膜塗布方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003257095A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008010024A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-01-17 | Sony Corp | 光ディスクの製造方法 |
| JP2013244461A (ja) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | Olympus Corp | 薄膜製造方法および光学部品 |
-
2002
- 2002-03-06 JP JP2002059627A patent/JP2003257095A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008010024A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-01-17 | Sony Corp | 光ディスクの製造方法 |
| JP2013244461A (ja) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | Olympus Corp | 薄膜製造方法および光学部品 |
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