JP2003254862A - 光学特性測定装置及び光学特性測定方法 - Google Patents
光学特性測定装置及び光学特性測定方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 走査光学装置において、レーザビームの照射
位置等の調整や校正を容易にし、また、工程の集約を図
ることが可能な光学特性測定装置を提供する。 【解決手段】 光源１０２から出射したレーザビーム１
０７を偏向する回転多面鏡１０６及び偏向されたレーザ
ビームを被走査部材上に結像する光学系を備える走査光
学装置を、レーザビーム１０７が出射している状態で測
定する光学特性測定装置であって、前記被走査部材の主
走査方向の光学特性を測定するスリットセンサ１１１
と、前記被走査部材の副走査方向の光学特性を測定する
１次元ラインセンサ１０８と、複数の光学特性の測定項
目に応じて、レーザビーム１０７をスリットセンサ１１
１及び１次元ラインセンサ１０８のそれぞれに導くため
の測定部切替手段と、を備える。
位置等の調整や校正を容易にし、また、工程の集約を図
ることが可能な光学特性測定装置を提供する。 【解決手段】 光源１０２から出射したレーザビーム１
０７を偏向する回転多面鏡１０６及び偏向されたレーザ
ビームを被走査部材上に結像する光学系を備える走査光
学装置を、レーザビーム１０７が出射している状態で測
定する光学特性測定装置であって、前記被走査部材の主
走査方向の光学特性を測定するスリットセンサ１１１
と、前記被走査部材の副走査方向の光学特性を測定する
１次元ラインセンサ１０８と、複数の光学特性の測定項
目に応じて、レーザビーム１０７をスリットセンサ１１
１及び１次元ラインセンサ１０８のそれぞれに導くため
の測定部切替手段と、を備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】主に電子写真方式のレーザビ
ームプリンタ、複写機等で用いられる走査光学装置の光
学特性を測定するための光学特性測定装置及び光学特性
測定方法に関するものである。
ームプリンタ、複写機等で用いられる走査光学装置の光
学特性を測定するための光学特性測定装置及び光学特性
測定方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レーザビームプリンタ、複写機等では、
回転多面体鏡で偏向されるレーザビームにより感光ドラ
ム表面を適切に走査するために光学部品などの位置姿勢
調整が行われる。
回転多面体鏡で偏向されるレーザビームにより感光ドラ
ム表面を適切に走査するために光学部品などの位置姿勢
調整が行われる。
【０００３】図５に走査光学系の概要図を示す。レーザ
光源５０１から出射されたレーザビームは光学部品５０
２により感光ドラム５０４上に結像される。また回転多
面鏡５０３の回転によって偏向され感光ドラム表面上に
線状の軌跡を描かせる。画像にするためには走査中にレ
ーザをオン/オフまたは強度変化させることが行われ
る。
光源５０１から出射されたレーザビームは光学部品５０
２により感光ドラム５０４上に結像される。また回転多
面鏡５０３の回転によって偏向され感光ドラム表面上に
線状の軌跡を描かせる。画像にするためには走査中にレ
ーザをオン/オフまたは強度変化させることが行われ
る。
【０００４】これら光学部品５０２の位置調整の際に
は、レーザビームの強度分布、位置、走査性などを測定
する必要がある。
は、レーザビームの強度分布、位置、走査性などを測定
する必要がある。
【０００５】この測定項目は複数あるために、測定項目
にしたがって複数種のセンサを、レーザビーム照射対象
である感光ドラム表面相当位置に母線方向にそれぞれの
センサ種に応じて複数並べて用意する必要がある。
にしたがって複数種のセンサを、レーザビーム照射対象
である感光ドラム表面相当位置に母線方向にそれぞれの
センサ種に応じて複数並べて用意する必要がある。
【０００６】従来、複数の項目には違うセンサが使用さ
れるために、ハーフミラーでレーザビームを分岐する
か、または生産上、調整工程を装置として分割するなど
して行われていた。
れるために、ハーフミラーでレーザビームを分岐する
か、または生産上、調整工程を装置として分割するなど
して行われていた。
【０００７】測定調整は対象光学系に含まれる回転多面
体鏡によってレーザビームを偏向しながら行うが、測定
項目としてはこの偏向時に感光ドラム上に如何に適切な
位置に適切なタイミングで適切な光量、及び分布を持っ
たビームが照射できるかを測定することになる。
体鏡によってレーザビームを偏向しながら行うが、測定
項目としてはこの偏向時に感光ドラム上に如何に適切な
位置に適切なタイミングで適切な光量、及び分布を持っ
たビームが照射できるかを測定することになる。
【０００８】位置関係での測定項目としては、偏向方向
（感光ドラム母線方向、以下「主走査方向」という）に
直角な方向（感光ドラム回転方向接戦方向、以下「副走
査方向」）の各母線方向位置でのずれを測定する項目と
して、照射位置ずれ、照射位置傾き、走査線曲がり等が
あり、これは主走査方向に複数並べた一次元ラインセン
サで測定され、各一次元ラインセンサを偏向ビームがど
こを過ぎるかによって行われる。
（感光ドラム母線方向、以下「主走査方向」という）に
直角な方向（感光ドラム回転方向接戦方向、以下「副走
査方向」）の各母線方向位置でのずれを測定する項目と
して、照射位置ずれ、照射位置傾き、走査線曲がり等が
あり、これは主走査方向に複数並べた一次元ラインセン
サで測定され、各一次元ラインセンサを偏向ビームがど
こを過ぎるかによって行われる。
【０００９】図６、図７は、偏向されたレーザビームの
位置ずれの測定について説明した図である。
位置ずれの測定について説明した図である。
【００１０】図６（ａ）は照射位置ずれを説明する図
で、６０４が走査偏向方向を示す調整目標ライン、それ
に対して平行にずれて走査する成分６０５が照射位置ず
れになる。６０１，６０２，６０３はそれぞれ前記一次
元ラインセンサの配置位置を示す。
で、６０４が走査偏向方向を示す調整目標ライン、それ
に対して平行にずれて走査する成分６０５が照射位置ず
れになる。６０１，６０２，６０３はそれぞれ前記一次
元ラインセンサの配置位置を示す。
【００１１】図６（ｂ）は同様に照射位置傾きを説明し
た図、図６（ｃ）は走査線曲がりを説明した図である。
た図、図６（ｃ）は走査線曲がりを説明した図である。
【００１２】また、光軸方向に対しては感光ドラム面上
でビームが集光されるようにすることが通常行われ、こ
の集光位置調整では一次元ラインセンサを過ぎたビーム
の形状を測定し、そのビームのピーク値や所定の光量以
上の幅などで測定される。
でビームが集光されるようにすることが通常行われ、こ
の集光位置調整では一次元ラインセンサを過ぎたビーム
の形状を測定し、そのビームのピーク値や所定の光量以
上の幅などで測定される。
【００１３】また、タイミング測定関係では主走査方向
にやはり配置された複数のスリットセンサによって行わ
れる。スリットセンサは主走査方向に所定幅の開口を持
つスリットとその後方に置かれた受光センサによって構
成され、偏向ビームが所定のタイミングで通過するかど
うかを測定することによって行われる。
にやはり配置された複数のスリットセンサによって行わ
れる。スリットセンサは主走査方向に所定幅の開口を持
つスリットとその後方に置かれた受光センサによって構
成され、偏向ビームが所定のタイミングで通過するかど
うかを測定することによって行われる。
【００１４】これによって行われる測定項目としては、
倍率、片倍率、主走査ビーム径等である。
倍率、片倍率、主走査ビーム径等である。
【００１５】図７に示すように、走査偏向方向７０７に
対して適切な位置に配置されたスリットセンサ７０１，
７０２，７０３の通過時刻を測定することにより、倍率
は主走査方向の走査時間７０４を、片倍率は感光ドラム
母線方向に対しての時間差（７０５と７０６の差）を、
主走査ビーム径は主走査方向の偏向ビーム形状をそれぞ
れ測定することで求められる。
対して適切な位置に配置されたスリットセンサ７０１，
７０２，７０３の通過時刻を測定することにより、倍率
は主走査方向の走査時間７０４を、片倍率は感光ドラム
母線方向に対しての時間差（７０５と７０６の差）を、
主走査ビーム径は主走査方向の偏向ビーム形状をそれぞ
れ測定することで求められる。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来技術の場合には、下記のような問題があっ
た。
ような従来技術の場合には、下記のような問題があっ
た。
【００１７】すなわち、従来のような光路をハーフミラ
ーなどで分岐する方法は、調整測定精度が高精度化する
に従い、測定系の校正や調整が難しく、また測定したい
母線方向の位置も任意に決めにくいという問題がある。
ーなどで分岐する方法は、調整測定精度が高精度化する
に従い、測定系の校正や調整が難しく、また測定したい
母線方向の位置も任意に決めにくいという問題がある。
【００１８】図１０は、従来のレーザビーム測定装置の
系を表した図である。
系を表した図である。
【００１９】これによると、レーザビーム１００１に対
してビームスプリッタ１００２で光線を分岐し、一方は
一次元ラインセンサ１００３へ他方はスリット１００４
へ導く。この場合、ビームスプリッタ１００２を透過し
て一次元ラインセンサ１００３までの光路を校正する際
に、機械的な寸法、位置を精度よく出しにくいという欠
点がある。
してビームスプリッタ１００２で光線を分岐し、一方は
一次元ラインセンサ１００３へ他方はスリット１００４
へ導く。この場合、ビームスプリッタ１００２を透過し
て一次元ラインセンサ１００３までの光路を校正する際
に、機械的な寸法、位置を精度よく出しにくいという欠
点がある。
【００２０】また、複数の調整工程を別装置で行うた
め、装置コストが上がることになり、効率のよい生産の
妨げとなっていた。
め、装置コストが上がることになり、効率のよい生産の
妨げとなっていた。
【００２１】本発明は上記の従来技術の課題を解決する
ためになされたもので、その目的とするところは、複数
の光学特性を効率よく測定することができる光学特性測
定装置及び光学特性測定方法を提供することにある。
ためになされたもので、その目的とするところは、複数
の光学特性を効率よく測定することができる光学特性測
定装置及び光学特性測定方法を提供することにある。
【００２２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明に係る光学特性測定装置にあっては、光源から
出射したレーザビームを偏向する回転多面鏡及び偏向さ
れたレーザビームを被走査部材上に結像する光学系を備
える走査光学装置を、前記レーザビームが出射している
状態で測定する光学特性測定装置であって、前記被走査
部材の主走査方向の光学特性を測定する主走査測定部
と、前記被走査部材の副走査方向の光学特性を測定する
副走査測定部と、複数の光学特性の測定項目に応じて、
前記レーザビームを、前記主走査測定部及び前記副走査
測定部のそれぞれに導くための測定部切替手段と、を備
えることを特徴とする。
に本発明に係る光学特性測定装置にあっては、光源から
出射したレーザビームを偏向する回転多面鏡及び偏向さ
れたレーザビームを被走査部材上に結像する光学系を備
える走査光学装置を、前記レーザビームが出射している
状態で測定する光学特性測定装置であって、前記被走査
部材の主走査方向の光学特性を測定する主走査測定部
と、前記被走査部材の副走査方向の光学特性を測定する
副走査測定部と、複数の光学特性の測定項目に応じて、
前記レーザビームを、前記主走査測定部及び前記副走査
測定部のそれぞれに導くための測定部切替手段と、を備
えることを特徴とする。
【００２３】前記測定部切替手段は、前記被走査部材の
主走査方向と平行な軸を中心に前記主走査測定部及び副
走査測定部を回転移動させて所定の測定位置に配置する
ことが好適である。
主走査方向と平行な軸を中心に前記主走査測定部及び副
走査測定部を回転移動させて所定の測定位置に配置する
ことが好適である。
【００２４】前記測定部切替手段は、前記レーザビーム
を前記主走査測定部及び前記副走査測定部に導く光路を
偏向する反射鏡であることが好適である。
を前記主走査測定部及び前記副走査測定部に導く光路を
偏向する反射鏡であることが好適である。
【００２５】前記副走査測定部は、主走査方向に複数配
置した一次元ラインセンサを受光センサとすることが好
適である。
置した一次元ラインセンサを受光センサとすることが好
適である。
【００２６】前記主走査測定部は、主走査方向に複数配
置したスリットセンサを受光センサとし、該スリットセ
ンサは、主走査方向に所定幅の開口を持ち、光軸方向後
方に配置された受光センサへ所定幅のレーザビームのみ
を受光させるためのスリットを有することが好適であ
る。
置したスリットセンサを受光センサとし、該スリットセ
ンサは、主走査方向に所定幅の開口を持ち、光軸方向後
方に配置された受光センサへ所定幅のレーザビームのみ
を受光させるためのスリットを有することが好適であ
る。
【００２７】前記複数のスリットセンサは、それぞれレ
ーザビーム開口のためのスリットが測定項目にしたがっ
て複数の開口を持つことが好適である。
ーザビーム開口のためのスリットが測定項目にしたがっ
て複数の開口を持つことが好適である。
【００２８】前記複数の開口は、少なくとも主走査ビー
ム径測定のための十分主走査方向に狭い開口を持つ開口
部と、主走査方向にビームのほとんどの光量を受光する
の広い開口を持つ開口部と、を含み、該狭い開口部と該
広い開口部とは、前記狭い開口部または前記広い開口部
を通過したレーザビームが一つの受光センサに到達する
よう主走査方向に適当な間隔をおいて配されていること
が好適である。
ム径測定のための十分主走査方向に狭い開口を持つ開口
部と、主走査方向にビームのほとんどの光量を受光する
の広い開口を持つ開口部と、を含み、該狭い開口部と該
広い開口部とは、前記狭い開口部または前記広い開口部
を通過したレーザビームが一つの受光センサに到達する
よう主走査方向に適当な間隔をおいて配されていること
が好適である。
【００２９】また、本発明に係る光学特性測定方法にあ
っては、光源から出射したレーザビームを偏向する回転
多面鏡及び偏向されたレーザビームを被走査部材上に結
像する光学系を備える走査光学装置を、前記レーザビー
ムが出射している状態で測定する光学特性測定装置であ
って、前記被走査部材の主走査方向の光学特性を測定す
る主走査測定部と、前記被走査部材の副走査方向の光学
特性を測定する副走査測定部と、複数の光学特性の測定
項目に応じて、前記レーザビームを前記主走査測定部及
び前記副走査測定部のそれぞれに導くための測定部切替
手段と、を備えることを特徴とする。
っては、光源から出射したレーザビームを偏向する回転
多面鏡及び偏向されたレーザビームを被走査部材上に結
像する光学系を備える走査光学装置を、前記レーザビー
ムが出射している状態で測定する光学特性測定装置であ
って、前記被走査部材の主走査方向の光学特性を測定す
る主走査測定部と、前記被走査部材の副走査方向の光学
特性を測定する副走査測定部と、複数の光学特性の測定
項目に応じて、前記レーザビームを前記主走査測定部及
び前記副走査測定部のそれぞれに導くための測定部切替
手段と、を備えることを特徴とする。
【００３０】これによりレーザビームの光学特性を確実
でかつ効率よく測定でき、その後の組立調整を容易に行
うことができる。
でかつ効率よく測定でき、その後の組立調整を容易に行
うことができる。
【００３１】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して、この発明
の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。ただ
し、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、
材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載が
ない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣
旨のものではない。
の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。ただ
し、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、
材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載が
ない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣
旨のものではない。
【００３２】（第１の実施の形態）図１は第１の実施の
形態に係る光学特性測定装置を示した模式図である。
形態に係る光学特性測定装置を示した模式図である。
【００３３】１００は調整測定対象である光学ユニット
で、光学ユニット１００はレーザビームを出射する光源
１０２、結像光学要素として、シリンドリカルレンズ１
０３，Ｆθレンズの機能を果たす第１レンズ１０４及び
第２レンズ１０５、レーザビームを偏向走査するための
回転多面鏡１０６等からなる。また、１０７は回転多面
鏡１０６で偏向されたレーザビームである。
で、光学ユニット１００はレーザビームを出射する光源
１０２、結像光学要素として、シリンドリカルレンズ１
０３，Ｆθレンズの機能を果たす第１レンズ１０４及び
第２レンズ１０５、レーザビームを偏向走査するための
回転多面鏡１０６等からなる。また、１０７は回転多面
鏡１０６で偏向されたレーザビームである。
【００３４】１１６は仮想感光ドラム表面位置を示し、
その表面位置相当に一次元ラインセンサ１０８、１０
９、１１０が母線方向に配置され、また仮想感光ドラム
表面位置で回転方向別角度位置にスリットセンサ１１
１，１１２，１１３がやはり母線方向に並べて配置され
る。
その表面位置相当に一次元ラインセンサ１０８、１０
９、１１０が母線方向に配置され、また仮想感光ドラム
表面位置で回転方向別角度位置にスリットセンサ１１
１，１１２，１１３がやはり母線方向に並べて配置され
る。
【００３５】前記一次元ラインセンサ１０８，１０９，
１１０と前記スリットセンサ１１１，１１２，１１３
は、切替えのために仮想感光ドラム回転軸１１４を中心
に、測定部切替手段の一例である回転移動機構により
（図示せず）回転移動１１５することができ、調整測定
項目によって切替えられる。
１１０と前記スリットセンサ１１１，１１２，１１３
は、切替えのために仮想感光ドラム回転軸１１４を中心
に、測定部切替手段の一例である回転移動機構により
（図示せず）回転移動１１５することができ、調整測定
項目によって切替えられる。
【００３６】ここで、回転移動機構は、モーター等の駆
動力によりギアを回転させることで、ラインセンサとス
リットセンサの位置を切替る場合や、手動で測定位置を
決める突き当て部まで移動させセンサの位置を切替る場
合等がある。
動力によりギアを回転させることで、ラインセンサとス
リットセンサの位置を切替る場合や、手動で測定位置を
決める突き当て部まで移動させセンサの位置を切替る場
合等がある。
【００３７】また、個々のセンサの信号処理部や制御
部、光学ユニット１００を駆動させるための機構は図示
せず。ここでは一次元ラインセンサ、スリットセンサは
それぞれ３つづつとしたが測定対象特性によっていくつ
でもかまわない。
部、光学ユニット１００を駆動させるための機構は図示
せず。ここでは一次元ラインセンサ、スリットセンサは
それぞれ３つづつとしたが測定対象特性によっていくつ
でもかまわない。
【００３８】また、一次元ラインセンサ１０８，１０
９，１１０とスリットセンサ１１１，１１２，１１３の
切替えのための回転中心は調整測定対象である光学ユニ
ット１００の結像走査位置であれば感光ドラムと同一で
ある必要はない。
９，１１０とスリットセンサ１１１，１１２，１１３の
切替えのための回転中心は調整測定対象である光学ユニ
ット１００の結像走査位置であれば感光ドラムと同一で
ある必要はない。
【００３９】以降、感光ドラム母線方向にレーザビーム
が回転多面鏡によって偏向される。
が回転多面鏡によって偏向される。
【００４０】次に動作について説明する。光学ユニット
１００の調整は前記光学要素を移動させて行うことにな
る。個々の光学要素の移動機構については省略する。こ
れら調整測定対象光学ユニット１００は、実際の電子写
真として感光ドラムにレーザビームを結像させるが、そ
のレーザビームの走査、結像状態を測定しながら調整を
行う。
１００の調整は前記光学要素を移動させて行うことにな
る。個々の光学要素の移動機構については省略する。こ
れら調整測定対象光学ユニット１００は、実際の電子写
真として感光ドラムにレーザビームを結像させるが、そ
のレーザビームの走査、結像状態を測定しながら調整を
行う。
【００４１】図２は、図１の仮想感光ドラム１１６を測
定部回転軸１１４方向から見た断面図である。
定部回転軸１１４方向から見た断面図である。
【００４２】まず、副走査方向のビーム幅や照射位置、
照射傾きを測定調整するために一次元ラインセンサ１０
８を測定する位置に回転移動１１５させる。
照射傾きを測定調整するために一次元ラインセンサ１０
８を測定する位置に回転移動１１５させる。
【００４３】図８は、一次元ラインセンサの個々のセン
サ信号処理の様子を示したものである。
サ信号処理の様子を示したものである。
【００４４】スポット状のレーザビーム８０１は主走査
方向８０２に偏向移動される。この時一次元ラインセン
サ８０３を過ぎたときの波形が８０４のような信号で観
察される。この信号８０４を適当な閾値８０５で切った
ときの幅８０６が副走査ビーム径となり、光学部品をピ
ント調整するための測定値となる。
方向８０２に偏向移動される。この時一次元ラインセン
サ８０３を過ぎたときの波形が８０４のような信号で観
察される。この信号８０４を適当な閾値８０５で切った
ときの幅８０６が副走査ビーム径となり、光学部品をピ
ント調整するための測定値となる。
【００４５】また、ビーム波形の重心位置８０７は照射
位置調整、傾き調整、曲がり調整の測定値として複数の
一次元ラインセンサの値それぞれの相対値を演算するこ
とによって得ることができる。
位置調整、傾き調整、曲がり調整の測定値として複数の
一次元ラインセンサの値それぞれの相対値を演算するこ
とによって得ることができる。
【００４６】次に、図２に示すように、センサを切替え
るために回転移動１１５させスリットセンサ１１１をレ
ーザビーム１０７へ対向させる位置にする。
るために回転移動１１５させスリットセンサ１１１をレ
ーザビーム１０７へ対向させる位置にする。
【００４７】図９は、スリットセンサの個々の信号処理
の様子を示したものである。
の様子を示したものである。
【００４８】スポット状のレーザビーム９０１が偏向走
査９０２され、スリット９０３状の開口を持ち、背面に
受光センサ９０４が配置されたスリットセンサの出力は
９１０のようになる。この時適当な閾値９１１で切った
ときの幅９１２が主走査ビーム径となる。
査９０２され、スリット９０３状の開口を持ち、背面に
受光センサ９０４が配置されたスリットセンサの出力は
９１０のようになる。この時適当な閾値９１１で切った
ときの幅９１２が主走査ビーム径となる。
【００４９】また、開口９０５のようにビーム径に対し
て主走査方向に十分広い幅を持つスリットの場合には、
出力が９１３のようになり閾値９１４を信号振幅の５０
％位置とすることによってビームの重心位置９１５が測
定できる。この重心位置９１５を複数のスリットセンサ
間の時間を測定することによって、倍率、片倍率といっ
た調整項目の測定値として使用される。
て主走査方向に十分広い幅を持つスリットの場合には、
出力が９１３のようになり閾値９１４を信号振幅の５０
％位置とすることによってビームの重心位置９１５が測
定できる。この重心位置９１５を複数のスリットセンサ
間の時間を測定することによって、倍率、片倍率といっ
た調整項目の測定値として使用される。
【００５０】このように一次元ラインセンサとスリット
センサを必要な調整項目にしたがって回転移動により切
替えて測定することができるような構成をとる。
センサを必要な調整項目にしたがって回転移動により切
替えて測定することができるような構成をとる。
【００５１】（第２の実施の形態）図４は本発明に係る
第２の実施の形態を説明する断面図である。第１の実施
の形態と同様に一次元ラインセンサ１０８〜１１０とス
リットセンサ１１１〜１１３が、それぞれに測定する項
目は同様であるが、切替手段としてミラー４０１の挿抜
移動４０２により行われる。
第２の実施の形態を説明する断面図である。第１の実施
の形態と同様に一次元ラインセンサ１０８〜１１０とス
リットセンサ１１１〜１１３が、それぞれに測定する項
目は同様であるが、切替手段としてミラー４０１の挿抜
移動４０２により行われる。
【００５２】動作として図３に測定部を、主走査方向に
対して紙面鉛直方向から見たときの図を示す。
対して紙面鉛直方向から見たときの図を示す。
【００５３】まず一次元ラインセンサ１０８にて照射位
置ずれ、照射位置傾き、走査線曲がり、副走査ビーム径
などを測定する場合には、ミラー４０１をレーザ光路１
０７に対して３０２の位置まで挿入し反射させることで
一次元ラインセンサ１０８へ導く。
置ずれ、照射位置傾き、走査線曲がり、副走査ビーム径
などを測定する場合には、ミラー４０１をレーザ光路１
０７に対して３０２の位置まで挿入し反射させることで
一次元ラインセンサ１０８へ導く。
【００５４】一方スリットセンサ１１１にて倍率、片倍
率、主走査ビーム径などを測定する場合にはミラー４０
１を３０１の位置まで待避させレーザ光路１０７が直接
照射されるようにする。
率、主走査ビーム径などを測定する場合にはミラー４０
１を３０１の位置まで待避させレーザ光路１０７が直接
照射されるようにする。
【００５５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、走査光
学装置における複数の光学特性を簡易な構成で測定する
ことができるので、測定系の構成が機械的な寸法で容易
に行うことができ、また生産上装置を集約することがで
き効率的な生産が可能となる。
学装置における複数の光学特性を簡易な構成で測定する
ことができるので、測定系の構成が機械的な寸法で容易
に行うことができ、また生産上装置を集約することがで
き効率的な生産が可能となる。
【図１】第１の実施の形態に係る光学特性測定装置を示
した模式図である。
した模式図である。
【図２】第１の実施の形態の一部を説明した図である。
【図３】第２の実施の形態の一部を説明した図である。
【図４】第２の実施の形態による全体機能を説明する図
である。
である。
【図５】レーザ光学ユニットの構成を説明した図であ
る。
る。
【図６】偏向されたレーザビームの位置ずれの測定につ
いて説明した図である。
いて説明した図である。
【図７】偏向されたレーザビームの位置ずれの測定につ
いて説明した図である。
いて説明した図である。
【図８】センサと信号処理を説明した図である。
【図９】センサと信号処理を説明した図である。
【図１０】従来技術を説明した図である。
１００ 光学ユニット
１０２ レーザ光源
１０３，１０４，１０５ 光学部品
１０６ 回転多面鏡
１０８，１０９，１１０ 一次元ラインセンサ
１１１，１１２，１１３ スリットセンサ
Claims (8)
- 【請求項１】光源から出射したレーザビームを偏向する
回転多面鏡及び偏向されたレーザビームを被走査部材上
に結像する光学系を備える走査光学装置を、前記レーザ
ビームが出射している状態で測定する光学特性測定装置
であって、 前記被走査部材の主走査方向の光学特性を測定する主走
査測定部と、 前記被走査部材の副走査方向の光学特性を測定する副走
査測定部と、 複数の光学特性の測定項目に応じて、前記レーザビーム
を前記主走査測定部及び前記副走査測定部のそれぞれに
導くための測定部切替手段と、を備えることを特徴とす
る光学特性測定装置。 - 【請求項２】前記測定部切替手段は、前記被走査部材の
主走査方向と平行な軸を中心に前記主走査測定部及び副
走査測定部を回転移動させて所定の測定位置に配置する
ことを特徴とする請求項１に記載の光学特性測定装置。 - 【請求項３】前記測定部切替手段は、前記レーザビーム
を前記主走査測定部及び前記副走査測定部に導く光路を
偏向する反射鏡であることを特徴とする請求項１に記載
の光学特性測定装置。 - 【請求項４】前記副走査測定部は、主走査方向に複数配
置した一次元ラインセンサを受光センサとすることを特
徴とする請求項１、２または３に記載の光学特性測定装
置。 - 【請求項５】前記主走査測定部は、主走査方向に複数配
置したスリットセンサを受光センサとし、該スリットセ
ンサは、主走査方向に所定幅の開口を持ち、光軸方向後
方に配置された受光センサへ所定幅のレーザビームのみ
を受光させるためのスリットを有することを特徴とする
請求項１乃至４のいずれかに記載の光学特性測定装置。 - 【請求項６】前記複数のスリットセンサは、それぞれレ
ーザビーム開口のためのスリットが測定項目にしたがっ
て複数の開口を持つことを特徴とする請求項５に記載の
光学特性測定装置。 - 【請求項７】前記複数の開口は、 少なくとも主走査ビーム径測定のための十分主走査方向
に狭い開口を持つ開口部と、 主走査方向にビームのほとんどの光量を受光するの広い
開口を持つ開口部と、を含み、 該狭い開口部と該広い開口部とは、前記狭い開口部また
は前記広い開口部を通過したレーザビームが一つの受光
センサに到達するよう主走査方向に適当な間隔をおいて
配されていることを特徴とする請求項５に記載の光学特
性測定装置。 - 【請求項８】光源から出射したレーザビームを偏向する
回転多面鏡及び偏向されたレーザビームを被走査部材上
に結像する光学系を備える走査光学装置を、前記レーザ
ビームが出射している状態で測定する光学特性測定方法
であって、 前記被走査部材の主走査方向の光学特性を測定する主走
査方向測定ステップと、 前記被走査部材の副走査方向の光学特性を測定する副走
査方向測定ステップと、 前記主走査方向測定ステップと前記副走査方向測定ステ
ップとを複数の測定項目に対応させて切替えるステップ
と、を含むことを特徴とする光学特性測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002057229A JP2003254862A (ja) | 2002-03-04 | 2002-03-04 | 光学特性測定装置及び光学特性測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002057229A JP2003254862A (ja) | 2002-03-04 | 2002-03-04 | 光学特性測定装置及び光学特性測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003254862A true JP2003254862A (ja) | 2003-09-10 |
Family
ID=28667551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002057229A Withdrawn JP2003254862A (ja) | 2002-03-04 | 2002-03-04 | 光学特性測定装置及び光学特性測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003254862A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006078561A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-23 | Ricoh Co Ltd | カラー画像形成装置 |
| CN100432640C (zh) * | 2004-03-12 | 2008-11-12 | 精工爱普生株式会社 | 测量扫描光的束斑的方法和装置 |
| US8767028B2 (en) | 2010-09-15 | 2014-07-01 | Konica Minolta Business Technologies, Inc. | Image forming apparatus |
| CN104048812A (zh) * | 2014-05-21 | 2014-09-17 | 西北核技术研究所 | 一种连续波高能激光辐照光学元件的效应实验装置 |
| JP2016110044A (ja) * | 2014-12-10 | 2016-06-20 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置、画像形成装置及び補正方法 |
-
2002
- 2002-03-04 JP JP2002057229A patent/JP2003254862A/ja not_active Withdrawn
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100432640C (zh) * | 2004-03-12 | 2008-11-12 | 精工爱普生株式会社 | 测量扫描光的束斑的方法和装置 |
| JP2006078561A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-23 | Ricoh Co Ltd | カラー画像形成装置 |
| US8767028B2 (en) | 2010-09-15 | 2014-07-01 | Konica Minolta Business Technologies, Inc. | Image forming apparatus |
| CN104048812A (zh) * | 2014-05-21 | 2014-09-17 | 西北核技术研究所 | 一种连续波高能激光辐照光学元件的效应实验装置 |
| JP2016110044A (ja) * | 2014-12-10 | 2016-06-20 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置、画像形成装置及び補正方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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