JP2003240434A - 乾燥装置及びその運転・清掃方法 - Google Patents

乾燥装置及びその運転・清掃方法

Info

Publication number
JP2003240434A
JP2003240434A JP2002042971A JP2002042971A JP2003240434A JP 2003240434 A JP2003240434 A JP 2003240434A JP 2002042971 A JP2002042971 A JP 2002042971A JP 2002042971 A JP2002042971 A JP 2002042971A JP 2003240434 A JP2003240434 A JP 2003240434A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
casing
drying
drying device
dry air
cleaning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002042971A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Tsuji
幸一 辻
Fumiaki Kato
文昭 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2002042971A priority Critical patent/JP2003240434A/ja
Publication of JP2003240434A publication Critical patent/JP2003240434A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】乾燥装置内の清浄度を維持でき、しかも乾燥装
置内の清掃も容易になる。 【解決手段】内部に乾燥ゾーンが形成されるケーシング
12を、乾燥ゾーン内に吹き出される清浄な乾燥風の乾
燥風機器類14を取り付けた上側ケーシング20と、ウ
エブ16を搬送する搬送機器類18が取り付けられた下
側ケーシング22とに分割すると共に、上下のケーシン
グ20、22同士を気密性を有してスライド自在に嵌合
する入れ子構造とし、上側ケーシング20をシリンダ装
置26で昇降できるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は乾燥装置及びその運
転・清掃方法に係り、特に、塗布装置で帯状の可撓性支
持体(以下「ウエブ」という)に塗布液を塗布した後、
塗布形成された塗布膜を乾燥するための乾燥装置及びそ
の運転・清掃方法に関する。
【0002】
【従来の技術】写真用、磁気記録媒体用等のフィルム製
品を製造する場合、搬送されるウエブに塗布装置で塗布
液を塗布して塗布膜を形成した後、ウエブを乾燥装置内
の乾燥ゾーン内を搬送させることにより、塗布膜を乾燥
する。そして、写真用、磁気記録媒体用等の精密なフィ
ルム製品を得ることを目的とした乾燥装置には、乾燥風
の塗布膜への均一な吹き付けによる塗布膜の乾燥ムラ防
止はもちろんのこと、塗布膜に塵埃等が付着しない清浄
度が要求される。このことから、清浄な乾燥風によりク
ラス10程度の清浄度レベルに形成される乾燥装置内が
塵埃の多いクラス1000程度の外気で汚染されないよ
うにすることが重要である。また、複数の乾燥装置同士
を連結使用する場合、乾燥装置同士を連結するトンネル
部分は乾燥風の吹き付けがなく清浄度が悪くなり易い部
分であるので、乾燥装置内の清浄度レベルを向上させる
ためには、このトンネル部分を極力短くすることが重要
である。
【0003】ところで、乾燥装置の乾燥ゾーンを形成す
るケーシング内には、乾燥風を吹き出すノズル等の乾燥
風機器類やウエブを搬送する搬送ローラ等の搬送機器類
が配設されている。従って、乾燥装置内の清浄度を上記
レベルに維持するためには、これらの機器類を定期的に
清掃する必要がある。この為、ケーシングの側面には、
乾燥装置内への出入りのためのマンホールが設けられて
いる。しかし、塗布膜の効率的な乾燥を行うために、乾
燥風機器類とウエブを搬送する搬送機器類とが近接配置
されており、実際にはマンホールから出入りができない
のが実情である。更には、乾燥装置内には上記機器類の
他にも各種の機器類が配設されており、乾燥装置内での
清掃作業スペースを確保できないという問題がある。
【0004】このような清掃作業の改善を図るために、
従来の乾燥装置は、ケーシングの略真ん中高さの位置で
上側ケーシングと下側ケーシングとに切り離し、上側ケ
ーシングを下側ケーシングに対して開閉できる構造にし
ていた。図6は、シェルオープンタイプの開閉方式を有
する乾燥装置1で、上側ケーシング2と下側ケーシング
3の片辺を蝶番4で連結し、蝶番4を軸として上側ケー
シング2を揺動させるタイプである。図7は、水平オー
プンタイプの開閉方式を有する乾燥装置1で、上側ケー
シング2を水平状態で真っ直ぐ上に持ち上げることで下
側ケーシング3から取り外すタイプである。尚、符号5
は、ウエブの搬送ローラである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、シェル
オープンタイプ及び水平オープンタイプの何れの乾燥装
置1も、上側ケーシング2を開いたときに乾燥装置1内
が外気に開放されてしまうために、乾燥装置1内が外気
で汚染されてしまうという欠点がある。従って、清掃終
了後に乾燥装置1内を元の清浄度まで戻す必要があり、
清掃後直ちに乾燥運転を開始できないために生産性が悪
い。
【0006】また、シェルオープンタイプは上側ケーシ
ングの開閉時に蝶番4に荷重が掛かるために乾燥装置1
を大型にできず、小型の乾燥装置1を複数連結すること
が必要なため、連結されたトンネル部分が長くなってし
まう。水平オープンタイプの場合も、持ち上げた上側ケ
ーシング2の開口と下側ケーシング3の開口とを精度良
く位置合わせするには乾燥装置1を大型にできず、小型
の乾燥装置1を複数連結することが必要なため、シェル
オープンタイプと同様の問題がある。
【0007】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、乾燥装置内の清浄度を維持でき、しかも乾燥
装置内の清掃も容易な乾燥装置及びその清掃方法を提供
することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するために、内部に乾燥ゾーンが形成されるケーシング
を、前記乾燥ゾーン内に吹き出される清浄な乾燥風の乾
燥風機器類を取り付けた第1のケーシングと、帯状の被
乾燥物を搬送する搬送機器類が取り付けられた第2のケ
ーシングとに分割すると共に前記第1及び第2のケーシ
ング同士を気密性を有してスライド自在に嵌合し、前記
第1のケーシングをスライド手段でスライド可能に構成
したことを特徴とする。
【0009】また、本発明は前記目的を達成するため
に、内部に乾燥ゾーンが形成されるケーシングを、前記
乾燥ゾーン内に吹き出される清浄な乾燥風の乾燥風機器
類を取り付けた第1のケーシングと、帯状の被乾燥物を
搬送する搬送機器類が取り付けられた第2のケーシング
とに分割すると共に前記第1及び第2のケーシング同士
を気密性を有してスライド自在に嵌合し、乾燥運転する
場合には、前記第1のケーシングをスライド移動させた
状態にして、前記乾燥風機器類と前記搬送機器類とを近
接させると共に、乾燥装置内を清掃する場合には、前記
第1のケーシングをスライド移動させて前記乾燥風機器
類と前記搬送機器類とを離間することを特徴とする。
【0010】本発明によれば、第1のケーシングと第2
のケーシングとを気密性を有する入れ子構造にして第1
のケーシングをスライド手段でスライドできるようにし
たので、第1のケーシングをスライド移動させて、第1
のケーシングに取り付けられた乾燥風機器類と、第2の
ケーシングに取り付けられた搬送機器類とを近接・離間
させても乾燥装置内が外気に開放されることはない。従
って、乾燥装置の運転中は第1のケーシングをスライド
移動させた状態にして、乾燥風機器類と搬送機器類とを
乾燥に好適な距離に近接させる。そして、乾燥装置内を
清掃する場合には、第1のケーシングをスライド移動さ
せて乾燥風機器類と搬送機器類とを離間することによ
り、乾燥装置内を外気に開放することなく、作業員の清
掃スペースを簡単に確保することができる。乾燥装置内
の清掃が終了したら、第1のケーシングを乾燥運転の位
置までスライド移動させる。
【0011】このように、本発明では、運転中も清掃中
も乾燥装置内が外気に開放されることはないので、運転
中も清掃中も清浄な乾燥風を乾燥装置内に供給しておけ
ば乾燥装置内の清浄度を維持でき、しかも乾燥装置内の
清掃を容易に行うことができる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る乾燥装置の好ましい実施の形態について詳説する。
【0013】図1は、本発明の乾燥装置10の外観を示
した斜視図である。また、図2及び図3は本発明の乾燥
装置10の側面断面図、図4は正面断面図である。
【0014】乾燥装置10は、主として、内部に乾燥ゾ
ーンを形成するケーシング12と、清浄な乾燥風を乾燥
ゾーンに供給する乾燥風機器類14と、前工程の塗布装
置(図示せず)で塗布液が塗布されたウエブ16を搬送
する搬送機器類18と、で構成される。
【0015】ケーシング12は、下面20Aが開口され
た上側ケーシング20と、上面22Aが開口された下側
ケーシング22とに分割されると共に、上側ケーシング
20が下側ケーシング22にスライド自在に嵌合される
入れ子構造に形成される。上側ケーシング20の上端に
は鍔状の張出部20Bが水平に形成され、下側ケーシン
グ22の4つのコーナ部に設けられたシリンダ装置26
のピストン26A先端が前記張出部20Bの下面に固定
される。これにより、ピストン26Aを伸長させると、
上側ケーシング20が下側ケーシング22に対して上昇
し、ピストン26Aを収縮させると、上側ケーシング2
0が下側ケーシング22に対して下降する。また、図4
に示すように、シリンダ装置26に近接して、上側ケー
シング20のスムーズな昇降動作を実現するための動作
同調機構28が設けられる。動作同調機構28は、上側
ケーシング20の張出部20Bの4つのコーナ部に取り
付けられたピニオン30と、このピニオン30に係合し
て立設されたラック32とによるラック・ピニオン機構
が形成される。但し、動作同調機構28としては、ラッ
ク・ピニオン機構に限定されるものではなく、例えば上
側ケーシング20に取り付けたリニアベアリング(図示
せず)を立設されたレール(図示せず)にスライドさせ
るようにしてもよい。尚、上側ケーシング20を昇降さ
せる昇降手段として、シリンダ装置26で説明したが、
これに限定されるものではなく、上側ケーシング20を
昇降できるものであれば他のものでもよい。
【0016】また、上側ケーシング20と下側ケーシン
グ22との間には、上側ケーシング20が昇降する際に
上側ケーシング20と下側ケーシング22が擦れて発塵
しないように隙間21が形成されると共に、下側ケーシ
ング22の上端位置に隙間21をシールするシール部材
34が設けられる。シール部材34の材質としては、耐
熱、耐薬品性のよいフッ素性ゴム、例えばバイトンゴム
(デュポン社製)が好ましい。ところで、図5のよう
に、搬送ローラ36によるウエブ16の搬送経路が傾斜
して形成される乾燥装置10の場合には、下側ケーシン
グ22の上面22Aを搬送経路の傾斜に合わせて傾斜さ
せる方が材料費の面では得であるが、上面22Aを水平
に形成し、この水平な下側ケーシング22の上端位置に
シール部材34を水平に設けることが重要である。これ
は、下側ケーシング22上面22Aを傾斜させてその上
端位置にシール部材34を設けると、上側ケーシング2
0が昇降する際に、下側ケーシング22の傾斜した上面
22Aの低い方に荷重が偏り易くなる。この結果、上側
ケーシング20のスムーズな昇降ができなくなるばかり
でなく、上側ケーシング20と下側ケーシング22とが
摩擦し易くなり、発塵の原因になる。
【0017】乾燥風機器類14は、伸縮性を有するエア
供給パイプ38から分配室40に供給されたエアをろ過
するHEPAフィルタ42、ノズル44Aを形成する多
孔板44等で構成され、これらの乾燥風機器類14は上
側ケーシング20に取り付けられる。搬送機器類18
は、乾燥装置10のウエブ入口46からウエブ出口48
に向けて配列された複数の搬送ローラ36で構成され、
下側ケーシング22に取り付けられる。また、下側ケー
シング22の側壁面には複数のマンホール50が設けら
れると共に、エアの排出パイプ52が接続される。
【0018】また、図2及び図3に示すように、本発明
の乾燥装置10を複数連結して使用する場合には、乾燥
装置10同士のウエブ入口46とウエブ出口48とを連
結ダクト54で連結する。本発明の乾燥装置10では、
従来のシェルオープンタイプの乾燥装置のように、上側
ケーシングの開閉時に蝶番に荷重が掛かることがなく、
また従来の水平オープンタイプの乾燥装置のように、上
側ケーシングの開口とを下側ケーシングの開口とを精度
良く位置合わせする必要もないので、従来の乾燥装置に
比べて大型化することが可能である。従って、連結する
乾燥装置10の台数を少なくすることができるので、連
結ダクト54の合計長さを短くできる。これにより、清
浄な乾燥風が届きにくく清浄度が悪くなり易い連結ダク
ト54部分の長さを短くできるので、乾燥装置10内の
清浄度レベルを向上させ易い。
【0019】次に、上記の如く構成された乾燥装置10
の運転方法と清掃方法とについて説明する。
【0020】乾燥装置10の乾燥運転時は、図2に示す
ように、上側ケーシング20は下降された状態にある。
これにより、乾燥風機器類14と搬送機器類18とは近
接され、搬送ローラ36上を搬送されるウエブ16の塗
布面を乾燥するに好適な乾燥風機器類14と搬送機器類
18との距離関係が形成される。かかる状態で、エア供
給パイプ38から乾燥装置10内に供給された乾燥風
は、分配室40で均等に分配されてからHEPAフィル
タ42で塵埃が除去され、多孔板44の孔ノズル44A
からウエブ16方向に吹き出される。これにより、ウエ
ブ16に塗布された塗布膜の乾燥を行う。この場合、ウ
エブ16に塗布される塗布液の粘度、ウエブ16の搬送
速度、乾燥風の吹き出し風速等の乾燥条件により、上側
ケーシング20の昇降をシリンダ装置26で制御して、
乾燥風機器類14と搬送機器類18との距離を乾燥条件
に好適な距離に適宜調整することが好ましい。
【0021】乾燥装置10を長時間運転して乾燥装置1
0内の清掃作業が必要な場合には、乾燥風を乾燥装置1
0内に供給したまま、シリンダ装置26により上側ケー
シング20を上昇させる。これにより、乾燥装置内10
が外気に開放されることなく、乾燥風機器類14と搬送
機器類18とが離間すると共に、乾燥装置10の天井高
さが高くなる。この状態でマンホール50から清掃員が
乾燥装置10内に入って清掃を行うと共に、清掃時はマ
ンホール50を閉めておく。このように、本発明では、
乾燥装置10内の清浄度を維持したまま、乾燥装置10
内に清掃作業スペースを確保することができるので、清
掃がし易くなり、乾燥装置10内の清浄度がより向上し
たクリーンな乾燥装置10を実現することができる。
【0022】乾燥装置10内の清掃が終了したら、上側
ケーシング20を乾燥運転に好適な位置まで再び下降さ
せて乾燥運転を開始する。この場合、清掃中も清浄な空
気が乾燥装置10内に供給され、しかも乾燥装置10内
は外気に開放されないので、清掃終了後でも直ちに乾燥
運転を開始することが可能である。
【0023】尚、本発明の実施の形態では、ケーシング
同士を縦方向にスライドさせるように嵌合したが、横方
向にスライドさせるように嵌合してもよい。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の乾燥装置
によれば、乾燥装置内の清浄度を維持でき、しかも乾燥
装置内の清掃も容易になる。従って、乾燥装置内の清浄
度がよりクリーンな乾燥装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の乾燥装置の外観斜視図
【図2】本発明の乾燥装置を2基連結した側面断面図
で、上側ケーシングを下降させた状態図
【図3】本発明の乾燥装置を2基連結した側面断面図
で、上側ケーシングを上昇させた状態図
【図4】本発明の乾燥装置の正面断面図
【図5】本発明の乾燥装置で、ウエブの搬送経路が傾斜
している場合の側面断面図
【図6】従来のシェルオープンタイプの開閉方式を有す
る乾燥装置の概念図
【図7】従来の水平オープンタイプの開閉方式を有する
乾燥装置の概念図
【符号の説明】
10…乾燥装置、12…ケーシング、14…乾燥風機器
類 、16…ウエブ、18…搬送機器類、20…上側ケ
ーシング(第1のケーシング)、22…下側ケーシング
(第2のケーシング)、26…シリンダ装置、、28…
動作同調機構、30…ピニオン、32…ラック、34…
シール部材、36…搬送ローラ、38…エア供給パイ
プ、40…分配室、42…HEPAフィルタ、44…多
孔板、46…ウエブ入口、48…ウエブ出口、50…マ
ンホール

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】内部に乾燥ゾーンが形成されるケーシング
    を、前記乾燥ゾーン内に吹き出される清浄な乾燥風の乾
    燥風機器類を取り付けた第1のケーシングと、帯状の被
    乾燥物を搬送する搬送機器類が取り付けられた第2のケ
    ーシングとに分割すると共に前記第1及び第2のケーシ
    ング同士を気密性を有してスライド自在に嵌合し、前記
    第1のケーシングをスライド手段でスライド可能に構成
    したことを特徴とする乾燥装置。
  2. 【請求項2】前記第1のケーシングと前記第2のケーシ
    ングとの間に隙間を形成すると共に、前記気密性を確保
    するために、前記第2のケーシングの端縁位置の前記隙
    間に該隙間をシールするシール部材を設けたことを特徴
    とする請求項1の乾燥装置。
  3. 【請求項3】内部に乾燥ゾーンが形成されるケーシング
    を、前記乾燥ゾーン内に吹き出される清浄な乾燥風の乾
    燥風機器類を取り付けた第1のケーシングと、帯状の被
    乾燥物を搬送する搬送機器類が取り付けられた第2のケ
    ーシングとに分割すると共に前記第1及び第2のケーシ
    ング同士を気密性を有してスライド自在に嵌合し、乾燥
    運転する場合には、前記第1のケーシングをスライド移
    動させた状態にして、前記乾燥風機器類と前記搬送機器
    類とを近接させると共に、乾燥装置内を清掃する場合に
    は、前記第1のケーシングをスライド移動させて前記乾
    燥風機器類と前記搬送機器類とを離間することを特徴と
    する乾燥装置の運転・清掃方法。
JP2002042971A 2002-02-20 2002-02-20 乾燥装置及びその運転・清掃方法 Pending JP2003240434A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002042971A JP2003240434A (ja) 2002-02-20 2002-02-20 乾燥装置及びその運転・清掃方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002042971A JP2003240434A (ja) 2002-02-20 2002-02-20 乾燥装置及びその運転・清掃方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003240434A true JP2003240434A (ja) 2003-08-27

Family

ID=27782905

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002042971A Pending JP2003240434A (ja) 2002-02-20 2002-02-20 乾燥装置及びその運転・清掃方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003240434A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012037163A (ja) * 2010-08-09 2012-02-23 Clean Technology Kk 薄膜塗工装置に設ける乾燥装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012037163A (ja) * 2010-08-09 2012-02-23 Clean Technology Kk 薄膜塗工装置に設ける乾燥装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20210016276A (ko) 카세트 뚜껑 개방 장치
TWI375135B (en) Reduced-pressure drying device
JP6349750B2 (ja) Efem
US4963069A (en) Container for the handling of semiconductor devices and process for particle-free transfer
KR101059309B1 (ko) 가열 장치, 도포, 현상 장치 및 가열 방법
JP4541232B2 (ja) 処理システム及び処理方法
JP4372182B2 (ja) 基板支持機構及び減圧乾燥装置及び基板処理装置
JP2008159782A (ja) 減圧乾燥装置
KR102000019B1 (ko) 액 공급 유닛, 기판 처리 장치, 기판 처리 방법
KR20070092149A (ko) 프라이밍 처리 방법 및 프라이밍 처리 장치
JP4319175B2 (ja) 減圧乾燥装置
JP2005087777A (ja) 塗布方法及び塗布装置
KR101558596B1 (ko) 감압 건조 장치 및 감압 건조 방법
JP4029968B2 (ja) 搬送車、製造装置及び搬送システム
KR101568050B1 (ko) 기판 처리 장치
JP2003240434A (ja) 乾燥装置及びその運転・清掃方法
JP2018152592A (ja) Efem
JP2005142372A (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
KR102054221B1 (ko) 기판반송장치 및 이를 가지는 기판처리장치
JP2007019340A (ja) 基板処理装置
JP2006190828A (ja) 基板処理装置
JP2006269928A (ja) 基板処理方法および基板処理装置
JP3114084B2 (ja) 処理方法及び処理装置
TWI763773B (zh) 氣體供給裝置、氣體供給裝置之控制方法、裝載埠及半導體製造裝置
TW471008B (en) Substrate transport device