JP2003233181A - 感光性組成物、感光性平版印刷版及びその記録方法 - Google Patents

感光性組成物、感光性平版印刷版及びその記録方法

Info

Publication number
JP2003233181A
JP2003233181A JP2002032228A JP2002032228A JP2003233181A JP 2003233181 A JP2003233181 A JP 2003233181A JP 2002032228 A JP2002032228 A JP 2002032228A JP 2002032228 A JP2002032228 A JP 2002032228A JP 2003233181 A JP2003233181 A JP 2003233181A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substituent
group
acid
photosensitive
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002032228A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3969109B2 (ja
Inventor
Tomoyuki Matsumura
智之 松村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2002032228A priority Critical patent/JP3969109B2/ja
Priority to US10/353,420 priority patent/US6749995B2/en
Priority to EP03002149A priority patent/EP1335247A3/en
Publication of JP2003233181A publication Critical patent/JP2003233181A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3969109B2 publication Critical patent/JP3969109B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/116Redox or dye sensitizer
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/117Free radical
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/126Halogen compound containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/127Spectral sensitizer containing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の目的は、高感度で、かつ保存安定
性に優れた感光性組成物、感光性平版印刷版及びその記
録方法を提供することにある。 【解決手段】 下記一般式(1)で表される化合物を含
有することを特徴とする感光性組成物。 【化1】 〔式中、R1、R2、R3は、それぞれ独立に、水素原子
又は置換基を表し、少なくともR1とR2、もしくはR2
とR3が連結し環を形成する。〕

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性組成物、感
光性平版印刷版及びその記録方法に関し、詳しくは、レ
ーザー光源でデジタルデータを記録するCTP(Com
puter ToPlate)に用いる感光性組成物、
感光性平版印刷版及びその記録方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】一般に、平版印刷版では画像露光後、露
光部分を硬化させ、未露光部分を溶解除去した後、水洗
処理、フィニッシャーガム処理を行い、平版印刷版を得
ている。近年、高い解像力と鮮鋭性を得るため、画像情
報に基づいてレーザー光によるデジタル露光を行った
後、現像処理して平版印刷版を作製する方法が検討され
ている。その一例を挙げると、通信回線により伝送され
る画像信号や電子製版システム、画像処理システム等か
らの出力信号により露光光源を変調し、感光材料に直接
走査露光を行って平版印刷版を作製するシステムであ
る。
【0003】しかし、従来型のジアゾ樹脂を用いる平版
印刷版用材料では、デジタル露光によるレーザー光の発
振波長に併せた分光増感法及び高感度化が困難であると
いう問題を抱えていた。
【0004】近年、光重合開始剤を含有する光重合性の
感光層を有した平版印刷版用材料が、レーザー光に適し
た高感度化が可能のためレーザー光によるデジタル露光
向けに注目されてきている。このレーザー光源でデジタ
ルデータを記録するCTP用の版材に対しては、記録を
短時間で行う目的から、より高感度であることが求めら
れている。
【0005】光重合開始剤を含有する光重合性の感光層
を有した平版印刷版用材料においては、用いる光重合開
始剤としては、露光により、イメージワイズにラジカル
が発生すること、また、そのラジカルを開始種としてラ
ジカル連鎖重合が起きることから高感度での画像記録に
適しているといわれている。
【0006】上記課題に対し、光重合組成物をCTP用
のレーザー光源に適応させるためには、使用するレーザ
ー光源の発振波長に対応する分光感度を有する分光増感
色素と、分光増感色素からのエネルギー移動又は電子移
動によって分解して、ラジカルを発生するラジカル発生
剤とを組み合わせて使用する技術が知られており、既に
実用化されている。
【0007】これらの光重合開始剤や分光増感色素から
なる光重合性組成物と、光源としてArレーザー(48
8nm)やFD−YAGレーザー(532nm)のよう
な長波長の可視光源を用いた従来のCTPシステムにお
いては、製版工程での生産性を高めるため、さらに高速
で書き込むことが望まれているが、光源の出力が十分高
くないことや平版印刷版材料の感度が十分高くないた
め、その目的を充分に達成できていないのが現状であ
る。
【0008】一方、近年、例えば、InGaN系の材料
を用い、380nmから430nm域で連続発振可能な
半導体レーザーが実用段階に来ている。これらの短波光
源を用いた走査露光システムでは、半導体レーザーが構
造上安価に製造できるため、十分な出力を有しながら、
経済的なシステムを構築できるといった利点を有してい
る。さらに、従来のFD−YAGレーザーやArレーザ
ーを使用するシステムに比較して、使用する平版印刷版
材料の分光感度域がより短波長側となるため、より明る
いセーフライト下での作業が可能となる。
【0009】これら短波の半導体レーザーに対応する光
重合組成物は、既にいくつか知られている。例えば、特
開2001−42524、特開2000−30972
4、特開2000−258910、特開2000−20
6690、特開2000−147763、特開2000
−98605の各公報に開示、提案されている。
【0010】しかしなから、上記提案されている各光重
合組成物は、CTP用の感光性平版印刷版に使用した際
には、感度は未だ充分とは言えず、さらに長期の保存に
より感度低下を引き起こしたり、あるいは暗反応により
未露光部の硬化を起こし、その結果として印刷汚れを生
じるという問題点を抱えており、上記課題を解決した技
術の開発が望まれているのが現状である。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
鑑みてなされたものであり、その目的は、高感度で、か
つ保存安定性に優れた感光性組成物、感光性平版印刷版
及びその記録方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成により達成された。
【0013】1.前記一般式(1)で表される化合物を
含有することを特徴とする感光性組成物。
【0014】2.前記一般式(1)で表される化合物
が、前記一般式(2)で表される化合物であることを特
徴とする前記1項記載の感光性組成物。
【0015】3.付加重合可能なエチレン性二重結合含
有単量体を含有することを特徴とする前記1又は2項に
記載の感光性組成物。
【0016】4.前記一般式(3)又は一般式(4)で
表される化合物を含有することを特徴とする前記3項記
載の感光性組成物。
【0017】5.チタノセン化合物を含有することを特
徴とする前記1〜4項のいずれか1項に記載の感光性組
成物。
【0018】6.前記1〜5項のいずれか1項に記載の
感光性組成物を含有する光重合性感光層を、親水性表面
を有する支持体上に設けたことを特徴とする感光性平版
印刷版。
【0019】7.前記6項記載の感光性平版印刷版に、
380〜430nmの波長の光源で画像記録を行うこと
を特徴とする感光性平版印刷版の記録方法。
【0020】本発明者は、上記課題を鑑みて鋭意検討を
進めた結果、分光増感色素として前記一般式(1)又は
(2)で表される化合物を使用することにより、380
〜430nmという極めて短波の発振波長を有する半導
体レーザーを光源として用いたシステムにおいて、高い
分光感度を達成し、かつ優れた保存安定性を得ることが
できることを見いだしたものである。
【0021】更に、前記一般式(3)又は一般式(4)
で表される光重合開始剤を用いること、チタノセン化合
物を含有することによりその効果はより一層発揮するこ
とができ、高感度でかつ保存安定性の優れた感光性組成
物を見いだすことができたものである。
【0022】以下、本発明の詳細について説明する。請
求項1に係る発明では、感光性組成物が前記一般式
(1)で表される化合物を含有することが特徴である。
【0023】前記一般式(1)において、R1、R2、R
3は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、少
なくともR1とR2、もしくはR2とR3が連結し環を形成
する。
【0024】R1、R2、R3の置換基としては、例え
ば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソ
ペンチル基、tert−ブチル基など)、置換アルキル
基、アルケニル基(例えば、ビニル基、2−プロペニル
基、3−ブテニル基など)、置換アルケニル基、アリー
ル基(例えば、フェニル基、ナフチル基など)、置換ア
リール基、複素環基、置換複素環基などが挙げられる。
【0025】請求項2に係る発明では、前記一般式
(1)で表される化合物が、前記一般式(2)で表され
る化合物であることが特徴である。
【0026】一般式(2)において、R4は水素原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有して
いてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいア
リール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表
す。R5、R6は連結して環を形成しうる置換基を表す。
1、X2はそれぞれ独立に、−CR78−、−O−、−
S−、−NR9−を表す。R7、R8、R9はそれぞれ独立
に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有し
ていてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい
複素環基を表す。
【0027】R4で表される置換基を有していてもよい
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソ
ペンチル基、tert−ブチル基、2−エチルヘキシル
基などを挙げることができ、R4で表される置換基を有
していてもよいアルケニル基としては、例えば、ビニル
基、2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−
3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3
−ブテニル基、4−ヘキセニル基などを挙げることがで
き、R4で表される置換基を有していてもよいアリール
基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基など、ア
ラルキル基、例えば、ベンジル基、フェネチル基などを
挙げることができ、またR4で表される置換基を有して
いてもよい複素環基としては、例えば、ピロール環、イ
ミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾ
ール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、ベン
ズイミダゾール環、ピリジン環、フラン環、チオフェン
環、クロマン環、クマリン環、ピロリジン環、ピペリジ
ン環、モルホリン環、スルホラン環、テトラヒドロフラ
ン環、テトラヒドロピラン環などの5員又は6員の複素
環より誘導される複素環基を挙げることができる。ま
た、上記各基の置換基としては、前述したR1、R2、R
3の置換基を挙げることができる。
【0028】また、R7、R8、R9で表される置換基を
有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよ
いアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基
又は置換基を有していてもよい複素環基としては、上記
4で記載のと同じ各基を挙げることができる。
【0029】本発明に係る一般式(1)又は一般式
(2)で表される分光増感色素は、当業者で従来公知の
方法に準じて合成して得ることができる。
【0030】本発明に係る一般式(1)又は一般式
(2)で表される分光増感色素の添加方法としては、水
又は有機溶媒等の適当な溶媒を選択し、それらに溶解し
て添加することができ、有機溶媒としては、例えば、メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等の
アルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン等のケトン類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類;エチレングリコール、プロピ
レングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール
類;エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカル
ビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセロソルブ、
ジエチルカルビトール等のグリコールエーテル類;N−
メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド等が挙げら
れ、それらを単独または2種以上混合して使用すること
ができる。
【0031】本発明に係る一般式(1)又は一般式
(2)で表される分光増感色素の添加量は、一概には規
定できないが、好ましは溶媒を除く感光性組成物100
質量部に対し、0.1〜10質量部であり、より好まし
くは0.5〜5質量部である。
【0032】本発明に係る一般式(1)又は一般式
(2)で表される分光増感色素の一例を以下に示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
【0033】
【化5】
【0034】請求項4に係る発明においては、感光性組
成物が、一般式(3)及び一般式(4)で表される光重
合開始剤を少なくとも1種することが好ましい。
【0035】はじめに、一般式(3)で表される光重合
開始剤について説明する。一般式(3)において、
10、R11は、それぞれ独立に、置換基を有していても
よいアリール基を表す。R12は、置換基を有していても
よいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル
基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を
有していてもよい複素環基を表す。
【0036】R10、R11で表される置換基を有していて
もよいアリール基及びR12で表される置換基を有してい
てもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケ
ニル基、置換基を有していてもよいアリール基及び置換
基を有していてもよい複素環基の各基は、一般式(2)
で説明したそれらと同義である。
【0037】本発明に係る一般式(3)で表される光重
合開始剤は、当業者で従来公知の方法に準じて合成して
得ることができる。
【0038】本発明に係る一般式(3)で表される光重
合開始剤の添加方法としては、有機溶媒等の適当な溶媒
を選択し、それらに溶解して添加することができ、有機
溶媒としては、前述の有機溶媒と同じものを挙げること
ができる。
【0039】本発明に係る一般式(3)で表される光重
合開始剤の添加量は、一概には規定できないが、好まし
は溶媒を除く感光性組成物100質量部に対し、0.1
〜10質量部であり、より好ましくは1〜10質量部で
ある。
【0040】本発明に係る一般式(3)で表される光重
合開始剤の一例を以下に示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
【0041】
【化6】
【0042】次に、一般式(4)で表される光重合開始
剤について説明する。一般式(4)において、R13は置
換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有して
いてもよい複素環基を表す。R14、R15は、それぞれ独
立に、置換基を有していてもよいアルキル基を表し、両
者が連結し環を形成してもかまわない。R16、R17は、
それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアルキル基
を表し、両者が連結し環を形成してもかまわない。X3
は、=O、=NR18、=Sを表し、R18は、水素原子、
水酸基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基
を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していて
もよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環
基を表す。
【0043】R13〜R18に係る置換基を有していてもよ
いアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ
基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を
有していてもよい複素環基としては、一般式(2)で説
明したそれらと同義である。
【0044】本発明に係る一般式(4)で表される光重
合開始剤は、当業者で従来公知の方法に準じて合成して
得ることができる。
【0045】本発明に係る一般式(4)で表される光重
合開始剤の添加方法としては、有機溶媒等の適当な溶媒
を選択し、それらに溶解して添加することができ、有機
溶媒としては、前述の有機溶媒と同じものを挙げること
ができる。
【0046】本発明に係る一般式(4)で表される光重
合開始剤の添加量は、一概には規定できないが、好まし
は感光性組成物100質量部に対し、0.1〜10質量
部であり、より好ましくは1〜10質量部である。
【0047】本発明に係る一般式(4)で表される光重
合開始剤の一例を以下に示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
【0048】
【化7】
【0049】請求項5に係る発明においては、感光性組
成物がチタノセン化合物を含有することが好ましい。
【0050】本発明で用いることのできるチタノセン化
合物としては、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−T
i−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti
−ビス―フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−
ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1
−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフ
ルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフル
オロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロ
フェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−
1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ビス(シク
ロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−
(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウム(IRUGA
CURE784:チバスペシャリティーケミカルズ社
製)等が挙げられるが、これに限定されるものではな
い。
【0051】次いで、本発明の感光性平版印刷版の主要
な構成要素及び記録方法について説明する。
【0052】(支持体)本発明に係る平版印刷版材料に
係る支持体としては、紙、プラスチック(例えば、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)ラミネ
ート紙、アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜
鉛、銅などのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
カーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプラ
スチックのフィルム、上記の如き金属がラミネートもし
くは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルム、アル
ミニウムもしくはクロームメッキが施された鋼板などが
挙げられ、好ましくはアルミニウムの金属板を使用する
ことであり、この場合、純アルミニウム板及びアルミニ
ウム合金板等であってもかまわない。
【0053】支持体のアルミニウム合金としては、種々
のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグ
ネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チ
タン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が
用いられる。
【0054】本発明に係る支持体は、粗面化(砂目立て
処理)するに先立って表面の圧延油を除去するために脱
脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリ
クレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロ
ン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジ
ョン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂処理には、苛性
ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱
脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、
上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除
去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカ
リ水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生
成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム
酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理
を施すことが好ましい。粗面化の方法としては、例え
ば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げ
られる。
【0055】用いられる機械的粗面化法は特に限定され
るものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が
好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径
0.2〜0.8mmのブラシ毛を使用した回転ブラシを
回転し、支持体表面に、例えば、粒径10〜100μm
の火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給
しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホー
ニング研磨による粗面化は、例えば、粒径10〜100
μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより
圧力をかけ射出し、支持体表面に斜めから衝突させて粗
面化を行うことができる。又、例えば、支持体表面に、
粒径10〜100μmの研磨剤粒子を、100〜200
μmの間隔で、2.5×103〜10×103個/cm2
の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、
圧力をかけてシートの粗面パターンを転写することによ
り粗面化を行うこともできる。
【0056】上記の機械的粗面化法で粗面化した後、支
持体の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウ
ム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬
することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫
酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基として
は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用い
られる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカ
リ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの
溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。アル
カリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、
クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を
施すことが好ましい。
【0057】電気化学的粗面化法も特に限定されるもの
ではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う
方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的粗面化法に
通常用いられる酸性電解液を使用することができるが、
塩酸系または硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電気
化学的粗面化方法については、例えば、特公昭48−2
8123号公報、英国特許第896,563号公報、特
開昭53−67507号公報に記載されている方法を用
いることができる。この粗面化法は、一般には、1〜5
0ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うこと
ができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ま
しい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用
いることが出来るが、50〜150A/dm2の範囲か
ら選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000c/
dm2の範囲を用いることができるが、100〜200
0c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。この粗面化
法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることが出
来るが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。
【0058】電解液として硝酸系電解液を用いて電気化
学的粗面化を行う場合、一般には、1〜50ボルトの範
囲の電圧を印加することによって行うことができるが、
10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密
度は、10〜200A/dm 2の範囲を用いることがで
きるが、20〜100A/dm2の範囲から選ぶのが好
ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲
を用いることができるが、100〜2000c/dm2
の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行
う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができる
が、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液
における硝酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。電解
液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、ア
ルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸
等を加えることができる。
【0059】電解液として塩酸系電解液を用いる場合、
一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加すること
によって行うことができるが、2〜30ボルトの範囲か
ら選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/d
2の範囲を用いることができるが、50〜150A/
dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100
〜5000c/dm2の範囲を用いることができるが、
100〜2000c/dm2、更には200〜1000
c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗
面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いること
ができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好まし
い。電解液における塩酸濃度は0.1〜5質量%が好ま
しい。
【0060】上記の電気化学的粗面化法で粗面化した
後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はア
ルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸として
は、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等
が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもア
ルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニ
ウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好まし
い。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐
酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に
浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
【0061】機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法
はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、又、機械
的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗
面化してもよい。
【0062】粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行う
ことができる。本発明において用いることができる陽極
酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用い
ることができる。陽極酸化処理を行うことにより、支持
体上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸化処理には、
硫酸及び/又は燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶
液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解
する方法が好ましく用いられるが、他に、米国特許第
1,412,768号公報に記載されている硫酸中で高
電流密度で電解する方法や、同3,511,661号公
報に記載されている燐酸を用いて電解する方法、クロム
酸、シュウ酸、マロン酸等を一種又は二種以上含む溶液
を用いる方法等が挙げられる。形成された陽極酸化被覆
量は、1〜50mg/dm2が適当であり、好ましくは
10〜40mg/dm2である。陽極酸化被覆量は、例
えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液(燐酸85%
液:35ml、酸化クロム(IV):20gを1Lの水に
溶解して作製)に浸積し、酸化被膜を溶解し、板の被覆
溶解前後の質量変化測定等から求められる。
【0063】陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ
封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処
理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロ
ム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処
理等公知の方法を用いて行うことができる。
【0064】更に、これらの処理を行った後に、水溶性
の樹脂、たとえばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基
を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル
酸、水溶性金属塩(例えばホウ酸亜鉛)もしくは、黄色
染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。更
に、特開平5−304358号公報に開示されているよ
うなラジカルによって付加反応を起し得る官能基を共有
結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。
【0065】(付加重合可能なエチレン性不飽和結合含
有単量体)請求項3に係る発明においては、付加重合可
能なエチレン性不飽和結合含有単量体を含有しているこ
とが好ましい。
【0066】本発明の感光性組成物に用いる付加重合可
能なエチレン性不飽和結合含有単量体(以下、単量体と
称する場合あり)にはラジカル重合可能なエチレン性不
飽和結合を有する公知の単量体が包含される。
【0067】具体的な化合物としては、例えば、2−エ
チルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、グリセロールアクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、ノニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒド
ロフルフリルオキシエチルアクリレート、テトラヒドロ
フルフリルオキシヘキサノリドアクリレート、1,3−
ジオキサンアルコールのε−カプロラクトン付加物のア
クリレート、1,3−ジオキソランアクリレート等の単
官能アクリル酸エステル類、或いはこれらのアクリレー
トをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マ
レエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、マレイン酸エステル、例えば、エチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングルコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハイドロキ
ノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレート、ヘキ
サンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレ
ート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールの
ジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートの
ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグ
リコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレー
ト、2−(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)
−5−ヒドロキシメチル−5−エチル−1,3−ジオキ
サンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールア
クリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレー
トのε−カプロラクトン付加物、1,6−ヘキサンジオ
ールのジグリシジルエーテルのジアクリレート等の2官
能アクリル酸エステル類、或いはこれらのアクリレート
をメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレ
エートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、マレイン酸エステル、例えばトリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ
アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの
ε−カプロラクトン付加物、ピロガロールトリアクリレ
ート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリアク
リレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ヒドロキシピバリルアルデヒド変性ジ
メチロールプロパントリアクリレート等の多官能アクリ
ル酸エステル酸、或いはこれらのアクリレートをメタク
リレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに
代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイ
ン酸エステル等を挙げることができる。
【0068】また、プレポリマーも上記同様に使用する
ことができる。プレポリマーとしては、後述する様な化
合物等が挙げることができ、また、適当な分子量のオリ
ゴマーにアクリル酸、又はメタクリル酸を導入し、光重
合性を付与したプレポリマーも好適に使用できる。これ
らプレポリマーは、1種又は2種以上を併用してもよい
し、上述の単量体及び/又はオリゴマーと混合して用い
てもよい。
【0069】プレポリマーとしては、例えばアジピン
酸、トリメリット酸、マレイン酸、フタル酸、テレフタ
ル酸、ハイミック酸、マロン酸、こはく酸、グルタール
酸、イタコン酸、ピロメリット酸、フマル酸、グルター
ル酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テトラヒ
ドロフタル酸等の多塩基酸と、エチレングリコール、プ
ロピレングルコール、ジエチレングリコール、プロピレ
ンオキサイド、1,4−ブタンジオール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペ
ンタエリスリトール、ソルビトール、1,6−ヘキサン
ジオール、1,2,6−ヘキサントリオール等の多価の
アルコールの結合で得られるポリエステルに(メタ)ア
クリル酸を導入したポリエステルアクリレート類、例え
ば、ビスフェノールA・エピクロルヒドリン・(メタ)
アクリル酸、フェノールノボラック・エピクロルヒドリ
ン・(メタ)アクリル酸のようにエポキシ樹脂に(メ
タ)アクリル酸を導入したエポキシアクリレート類、例
えば、エチレングリコール・アジピン酸・トリレンジイ
ソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート、ポ
リエチレングリコール・トリレンジイソシアネート・2
−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルフ
タリルメタクリレート・キシレンジイソシアネート、
1,2−ポリブタジエングリコール・トリレンジイソシ
アネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメ
チロールプロパン・プロピレングリコール・トリレンジ
イソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレートの
ように、ウレタン樹脂に(メタ)アクリル酸を導入した
ウレタンアクリレート、例えば、ポリシロキサンアクリ
レート、ポリシロキサン・ジイソシアネート・2−ヒド
ロキシエチルアクリレート等のシリコーン樹脂アクリレ
ート類、その他、油変性アルキッド樹脂に(メタ)アク
リロイル基を導入したアルキッド変性アクリレート類、
スピラン樹脂アクリレート類等のプレポリマーが挙げら
れる。
【0070】本発明の感光性組成物には、ホスファゼン
モノマー、トリエチレングリコール、イソシアヌール酸
EO(エチレンオキシド)変性ジアクリレート、イソシ
アヌール酸EO変性トリアクリレート、ジメチロールト
リシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパ
ンアクリル酸安息香酸エステル、アルキレングリコール
タイプアクリル酸変性、ウレタン変性アクリレート等の
単量体及び該単量体から形成される構成単位を有する付
加重合性のオリゴマー及びプレポリマーを含有すること
ができる。
【0071】更に、本発明に用いられるエチレン性単量
体として、少なくとも一つの(メタ)アクリロイル基を
含有するリン酸エステル化合物が挙げられる。該化合物
は、リン酸の水酸基の少なくとも一部がエステル化され
た化合物であり、しかも、(メタ)アクリロイル基を有
する限り特に限定はされない。
【0072】この他に特開昭58−212994号公
報、同61−6649号公報、同62−46688号公
報、同62−48589号公報、同62−173295
号公報、同62−187092号公報、同63−671
89号公報、特開平1−244891号公報等に記載の
化合物などを挙げることができ、更に「11290の化
学商品」化学工業日報社、p.286〜p.294に記
載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブック(原料
編)」高分子刊行会、p.11〜65に記載の化合物な
ども本発明においては好適に用いることができる。これ
らの中で、分子内に2以上のアクリル基又はメタクリル
基を有する化合物が本発明においては好ましく、更に分
子量が10,000以下、より好ましくは5,000以
下のものが好ましい。
【0073】本発明の感光性組成物においては、上記し
た単量体を感光層の感光性組成物において、1.0〜8
0.0質量%の範囲で含有するのが好ましく、より好ま
しくは3.0〜70.0質量%の範囲である。
【0074】(高分子結合剤)本発明の感光性平版印刷
版では、光重合性感光層に高分子結合剤を含有すること
が好ましい。
【0075】本発明に係る高分子結合剤としては、例え
ば、アクリル系重合体、ポリビニルブチラール樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、
エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール
樹脂、シェラック、その他の天然樹脂等を使用すること
ができる。また、これらを2種以上併用してもかまわな
い。
【0076】上記各高分子結合剤ににおいて、好ましく
はアクリル系のモノマーの共重合によって得られるビニ
ル系共重合であり、更に、高分子結合剤の共重合組成と
して、(a)カルボキシル基含有モノマー、(b)メタ
クリル酸アルキルエステル、またはアクリル酸アルキル
エステルの共重合体であることが好ましい。
【0077】カルボキシル基含有モノマーの具体例とし
ては、α,β−不飽和カルボン酸類、例えば、アクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタ
コン酸、無水イタコン酸等が挙げられる。その他、フタ
ル酸と2−ヒドロキシメタクリレートのハーフエステル
等のカルボン酸も好ましい。
【0078】メタクリル酸アルキルエステル、アクリル
酸アルキルエステルの具体例としては、例えば、メタク
リル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロ
ピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタ
クリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル
酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシ
ル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロ
ピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル
酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸
ウンデシル、アクリル酸ドデシル等の無置換アルキルエ
ステルの他、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸
シクロヘキシル等の環状アルキルエステルや、メタクリ
ル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、N,
N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジル
メタクリレート、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2
−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルアクリ
レート、グリシジルアクリレート等の置換アルキルエス
テル等を挙げることができる。
【0079】更に、本発明に係る高分子結合剤は、他の
共重合モノマーとして、下記(1)〜(14)に記載の
モノマー等を用いることができる。
【0080】(1)芳香族水酸基を有するモノマー、例
えばo−(又はp−,m−)ヒドロキシスチレン、o−
(又はp−,m−)ヒドロキシフェニルアクリレート
等。
【0081】(2)脂肪族水酸基を有するモノマー、例
えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルアミ
ド、N−メチロールメタクリルアミド、4−ヒドロキシ
ブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリ
レート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、6−
ヒドロキシヘキシルアクリレート、6−ヒドロキシヘキ
シルメタクリレート、N−(2−ヒドロキシエチル)ア
クリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)メタクリ
ルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
【0082】(3)アミノスルホニル基を有するモノマ
ー、例えばm−(又はp−)アミノスルホニルフェニル
メタクリレート、m−(又はp−)アミノスルホニルフ
ェニルアクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニル
フェニル)アクリルアミド等。
【0083】(4)スルホンアミド基を有するモノマ
ー、例えばN−(p−トルエンスルホニル)アクリルア
ミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミ
ド等。
【0084】(5)アクリルアミド又はメタクリルアミ
ド類、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、N−
エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、
N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアク
リルアミド、N−(4−ニトロフェニル)アクリルアミ
ド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、N−
(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4
−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド等。
【0085】(6)弗化アルキル基を含有するモノマ
ー、例えばトリフルオロエチルアクリレート、トリフル
オロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメ
タクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレー
ト、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフル
オロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシ
ルメタクリレート、N−ブチル−N−(2−アクリロキ
シエチル)ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド
等。
【0086】(7)ビニルエーテル類、例えば、エチル
ビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、プ
ロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチ
ルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等。
【0087】(8)ビニルエステル類、例えばビニルア
セテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレー
ト、安息香酸ビニル等。
【0088】(9)スチレン類、例えばスチレン、メチ
ルスチレン、クロロメチルスチレン等。
【0089】(10)ビニルケトン類、例えばメチルビ
ニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケト
ン、フェニルビニルケトン等。
【0090】(11)オレフィン類、例えばエチレン、
プロピレン、i−ブチレン、ブタジエン、イソプレン
等。
【0091】(12)N−ビニルピロリドン、N−ビニ
ルカルバゾール、4−ビニルピリジン等。
【0092】(13)シアノ基を有するモノマー、例え
ばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテ
ンニトリル、2−メチル−3−ブテンニトリル、2−シ
アノエチルアクリレート、o−(又はm−,p−)シア
ノスチレン等。
【0093】(14)アミノ基を有するモノマー、例え
ばN,N−ジエチルアミノエチルメタクリレート、N,
N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメ
チルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレ
タンアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルア
クリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、アク
リロイルモルホリン、N−i−プロピルアクリルアミ
ド、N,N−ジエチルアクリルアミド等。
【0094】更に、これらのモノマーと共重合し得る他
のモノマーを共重合してもよい。また、上記ビニル系共
重合体の分子内に存在するカルボキシル基に、分子内に
(メタ)アクリロイル基とエポキシ基を有する化合物を
付加反応させることによって得られる不飽和結合含有ビ
ニル系共重合体も、高分子結合材として好ましい。分子
内に不飽和結合とエポキシ基を共に含有する化合物とし
ては、具体的にはグリシジルアクリレート、グリシジル
メタクリレート、特開平11−271969号に記載の
あるエポキシ基含有不飽和化合物等が挙げられる。
【0095】これらの共重合体は、ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィー(GPC)によって測定された質
量平均分子量が、1〜20万であるものが好ましいが、
この範囲に限定されるものではない。
【0096】上記高分子結合剤には、必要に応じてポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹
脂、天然樹脂等、他の任意の高分子結合剤が、上記の各
ビニル系共重合体と併用されてもよい。
【0097】光重合性感光層を塗布する組成物中におけ
る上記高分子結合剤の含有量は、10〜90質量%の範
囲が好ましく、15〜70質量%の範囲が更に好まし
く、20〜50質量%の範囲で使用することが感度の面
から特に好ましい。更に、本発明に係るビニル系共重合
体は、該高分子結合剤において、50〜100質量%で
あることが好ましく、100質量%であることがより好
ましい。
【0098】本発明に係る高分子結合剤に含まれる重合
体の酸価については、10〜150の範囲で使用するの
が好ましく、30〜120の範囲がより好ましく、50
〜90の範囲で使用することが、感光層全体の極性のバ
ランスをとる観点から特に好ましく、これにより感光層
塗布液での顔料の凝集を防ぐことなどができる。
【0099】(光重合開始剤)本発明においては、本発
明に係る一般式(3)又は一般式(4)で表される光重
合開始剤と共に、公知の光重合開始剤を併せて用いるこ
とができ、例えば、J.コーサー(J.Kosar)著
「ライト・センシテイブ・システムズ」第5章に記載さ
れるような、カルボニル化合物、有機硫黄化合物、過硫
化物、レドックス系化合物、アゾ化合物、ジアゾ化合
物、ハロゲン化合物、光還元性色素などが挙げられ、英
国特許第1,459,563号に開示されている化合物
も挙げることができる。
【0100】具体的には、以下の例を挙げることができ
るが、これらに限定されない。即ち、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾイン−i−プロピルエーテル、α,α
−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン等のベンゾ
イン誘導体;ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾ
フェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4′−
ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン等のベンゾフェ
ノン誘導体;2−クロロチオキサントン、2−i−プロ
ピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体;2−ク
ロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン等のア
ントラキノン誘導体;N−メチルアクリドン、N−ブチ
ルアクリドン等のアクリドン誘導体;α,α−ジエトキ
シアセトフェノン、ベンジル、フルオレノン、キサント
ン、ウラニル化合物の他、特公昭59−1281号公
報、同61−9621号公報ならびに特開昭60−60
104号公報に記載のトリアジン誘導体;特開昭59−
1504号公報、同61−243807号公報に記載の
有機過酸化物;特公昭43−23684号公報、同44
−6413号公報、同44−6413号公報、同47−
1604号公報ならびに米国特許第3,567,453
号に記載のジアゾニウム化合物;米国特許第2,84
8,328号、同2,852,379号ならびに同2,
940,853号に記載の有機アジド化合物;特公昭3
6−22062号公報、同37−13109号公報、同
38−18015号公報ならびに同45−9610号公
報に記載のo−キノンジアジド類;特公昭55−391
62号公報、特開昭59−14023号公報ならびに
「マクロモレキュルス(Macromolecule
s)」10巻,1307頁(1977年)記載の各種オ
ニウム化合物;特開昭59−142205号公報に記載
のアゾ化合物;特開平1−54440号公報、ヨーロッ
パ特許第109,851号、同126,712号ならび
に「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス
(J.Imag.Sci.)」30巻,174頁(19
86年)記載の金属アレン錯体;特開平5−21386
1号及び同5−255347号記載の(オキソ)スルホ
ニウム有機硼素錯体;「コーディネーション・ケミスト
リー・レビュー(Coordination Chem
istry Review)」84巻,85〜277頁
(1988年)ならびに特開平2−182701号公報
に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯
体;特開平3−209477号公報に記載の2,4,5
−トリアリールイミダゾール二量体;四臭化炭素、特開
昭59−107344号公報に記載の有機ハロゲン化合
物等。
【0101】本発明においては、一般式(1)又は一般
式(2)で表される分光増感色素(単に増感色素ともい
う)を用いることが特徴であるが、本発明に係る増感色
素と共に、公知の増感色素を併せて用いることができ、
例えば、可視光から近赤外まで波長増感させる化合物と
しては、例えばシアニン、フタロシアニン、メロシアニ
ン、ポルフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フルオ
レン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナジ
ン、フェノチアジン、ポリエン、アゾ化合物、ジフェニ
ルメタン、トリフェニルメタン、ポリメチンアクリジ
ン、クマリン、ケトクマリン、キナクリドン、インジ
ゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、
ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合
物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体
等が挙げられ、更に欧州特許568,993号、米国特
許4,508,811号、同5,227,227号、特
開2001−125255公報、特開平11−2719
69号公報等に記載の化合物も用いられる。
【0102】本発明において、本発明に係る一般式
(3)又は一般式(4)で表される化合物を含む光重合
開始剤と本発明に係る一般式(1)又は一般式(2)で
表される化合物を含む増感色素との配合比率は、モル比
で1:100〜100:1の範囲が、好ましい。
【0103】(各種添加剤)本発明に係る光重合性感光
層の塗布組成物には、上記した成分の他に、感光性平版
印刷版の製造中あるいは保存中において重合可能なエチ
レン性不飽和二重結合単量体の不要な重合を阻止するた
めに、重合防止剤を添加することが望ましい。適当な重
合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノ
ール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロー
ル、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−
チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミ
ン第一セリウム塩、2−t−ブチル−6−(3−t−ブ
チル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メ
チルフェニルアクリレート等があげられる。
【0104】重合防止剤の添加量は、上記組成物の全固
形分の質量に対して、約0.01%〜約5%が好まし
い。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止する
ためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘
導体等を添加したり、塗布後の乾燥の過程で感光性層の
表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量
は、全組成物の約0.5%〜約10%が好ましい。
【0105】また、着色剤も使用することができ、着色
剤としては、市販のものを含め従来公知のものが好適に
使用できる。例えば、改訂新版「顔料便覧」,日本顔料
技術協会編(誠文堂新光社)、カラーインデックス便覧
等に述べられているものが挙げられる。
【0106】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、赤色顔料、褐色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料等が挙げられる。具体的に
は、無機顔料(二酸化チタン、カーボンブラック、グラ
ファイト、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミウ
ム、酸化鉄、ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウ
ムのクロム酸塩等)及び有機顔料(アゾ系、チオインジ
ゴ系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフ
ェンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシ
アニン顔料及びその誘導体、キナクリドン顔料等)が挙
げられる。
【0107】これらの中でも、使用する露光レーザーに
対応した分光増感色素の吸収波長域に実質的に吸収を持
たない顔料を選択して使用することが好ましく、この場
合、使用するレーザー波長での積分球を用いた顔料の反
射吸収が0.05以下であることが好ましい。又、顔料
の添加量としては、上記組成物の固形分に対し0.1〜
10質量%が好ましく、より好ましくは0.2〜5質量
%である。
【0108】露光光源として、アルゴンレーザー(48
8nm)又はSHG−YAGレーザー(532nm)を
使用する場合には、上記の感光波長領域での顔料吸収及
び現像後の可視画性の観点から、紫色顔料、青色顔料を
用いるのが好ましい。このようなものとしては、例えば
コバルトブルー、セルリアンブルー、アルカリブルーレ
ーキ、フォナトーンブルー6G、ビクトリアブルーレー
キ、無金属フタロシアニンブルー、フタロシアニンブル
ーフアーストスカイブルー、インダンスレンブルー、イ
ンジコ、ジオキサンバイオレット、イソビオランスロン
バイオレット、インダンスロンブルー、インダンスロン
BC等を挙げることができる。これらの中で、より好ま
しくはフタロシアニンブルー、ジオキサンバイオレット
である。
【0109】また、上記組成物は、本発明の性能を損わ
ない範囲で、界面活性剤を塗布性改良剤として含有する
ことが出来る。その中でも好ましいのはフッ素系界面活
性剤である。
【0110】また、硬化皮膜の物性を改良するために、
無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレー
ト、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を
加えてもよい。これらの添加量は全固形分の10%以下
が好ましい。
【0111】(保護層:酸素遮断層)本発明に係る光重
合性感光層の上側には、保護層を設けることが好まし
い。該保護層(酸素遮断層)は、後述の現像液(一般に
はアルカリ水溶液)への溶解性が高いことが好ましく、
具体的には、ポリビニルアルコール及びポリビニルピロ
リドンを挙げることができる。ポリビニルアルコールは
酸素の透過を抑制する効果を有し、また、ポリビニルピ
ロリドンは隣接する感光層との接着性を確保する効果を
有する。
【0112】上記2種のポリマーの他に、必要に応じ、
ポリサッカライド、ポリエチレングリコール、ゼラチ
ン、膠、カゼイン、ヒドロキシエチルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキ
シエチル澱粉、アラビアゴム、サクローズオクタアセテ
ート、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウ
ム、ポリビニルアミン、ポリエチレンオキシド、ポリス
チレンスルホン酸、ポリアクリル酸、水溶性ポリアミド
等の水溶性ポリマーを併用することもできる。
【0113】本発明に係る平版印刷版では、感光層と保
護層間の剥離力が35mN/mm以上であることが好ま
しく、より好ましくは50mN/mm以上、更に好まし
くは75mN/mm以上である。好ましい保護層の組成
としては特願平8−161645号に記載されるものが
挙げられる。
【0114】本発明における剥離力は、保護層上に十分
大きい粘着力を有する所定幅の粘着テープを貼り、それ
を平版印刷版材料の平面に対して90度の角度で保護層
と共に剥離する時の力を測定することにより求めること
ができる。
【0115】保護層には、更に必要に応じて界面活性
剤、マット剤等を含有することができる。上記保護層組
成物を適当な溶剤に溶解し感光層上に塗布・乾燥して保
護層を形成する。塗布溶剤の主成分は水、あるいはメタ
ノール、エタノール、i−プロパノール等のアルコール
類であることが特に好ましい。
【0116】保護層の厚みは0.1〜5.0μmが好ま
しく、特に好ましくは0.5〜3.0μmである。
【0117】(塗布)本発明に係る光重合性感光層の感
光性組成物を調製する際に使用する溶剤としては、例え
ば、アルコール:多価アルコールの誘導体類では、se
c−ブタノール、イソブタノール、n−ヘキサノール、
ベンジルアルコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、テトラエチレングリコール、1,5−
ペンタンジオール、又エーテル類:プロピレングリコー
ルモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメ
チルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、又ケトン類、アルデヒド類:ジアセトンアルコ
ール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、又
エステル類:乳酸エチル、乳酸ブチル、シュウ酸ジエチ
ル、安息香酸メチル等が好ましく挙げられる。
【0118】調製された感光性組成物(感光層塗布液)
は、従来公知の方法で支持体上に塗布し、乾燥し、感光
性平版印刷版材料を作製することが出来る。塗布液の塗
布方法としては、例えばエアドクタコータ法、ブレード
コータ法、ワイヤバー法、ナイフコータ法、ディップコ
ータ法、リバースロールコータ法、グラビヤコータ法、
キャストコーティング法、カーテンコータ法及び押し出
しコータ法等を挙げることが出来る。
【0119】感光層の乾燥温度は、低いと十分な耐刷性
を得ることが出来ず、又高過ぎるとマランゴニーを生じ
てしまうばかりか、非画線部のカブリを生じてしまう。
好ましい乾燥温度範囲としては、60〜160℃の範囲
が好ましく、より好ましくは80〜140℃、特に好ま
しくは、90〜120℃の範囲で乾燥することが好まし
い。
【0120】(画像記録方法)本発明の感光性平版印刷
版に画像露光する光源としては、例えばレーザー、発光
ダイオード、キセノンランプ、キセノンフラッシュラン
プ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライ
ドランプ、タングステンランプ、高圧水銀ランプ、無電
極光源等を挙げることができる。
【0121】一括露光する場合には、光重合性感光層上
に、所望の露光画像のネガパターンを遮光性材料で形成
したマスク材料を重ね合わせ、露光すればよい。
【0122】発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を
使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ等の光源を、液晶、PLZT等
の光学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像
信号に応じたデジタル露光をすることが可能であり好ま
しい。この場合は、マスク材料を使用せず、直接書込み
を行うことができる。
【0123】レーザー露光の場合には、光をビーム状に
絞り画像データに応じた走査露光が可能なので、マスク
材料を使用せず、直接書込みを行うのに適している。
又、レーザーを光源として用いる場合には、露光面積を
微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形
成が可能となる。
【0124】レーザー光源としては、アルゴンレーザ
ー、He−Neガスレーザー、YAGレーザー、半導体
レーザー等を何れも好適に用いることが可能であるが、
本発明においては、InGaN系の材料を用い、380
〜430nm域で連続発振可能な半導体レーザーを用い
ることが、本発明の効果をいかんなく発揮する上で、特
に好ましい。
【0125】レーザーの走査方法としては、円筒外面走
査、円筒内面走査、平面走査などがある。円筒外面走査
では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させな
がらレーザー露光を行い、ドラムの回転を主走査としレ
ーザー光の移動を副走査とする。円筒内面走査では、ド
ラムの内面に記録材料を固定し、レーザービームを内側
から照射し、光学系の一部又は全部を回転させることに
より円周方向に主走査を行い、光学系の一部又は全部を
ドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向に
副走査を行う。平面走査では、ポリゴンミラーやガルバ
ノミラーとfθレンズ等を組み合わせてレーザー光の主
走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。円筒
外面走査及び円筒内面走査の方が光学系の精度を高め易
く、高密度記録には適している。
【0126】(現像液)画像露光した感光層は露光部が
硬化する。これをアルカリ現像液で現像処理することに
より、未露光部が除去され画像形成が可能となる。この
様な現像液としては、従来より知られているアルカリ水
溶液が使用できる。例えばケイ酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム;第二燐酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム;重炭酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム;炭酸ナトリウム、同カリウム、同アン
モニウム;炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム;ホウ酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム;水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム及
び同リチウム等の無機アルカリ剤を使用するアルカリ現
像液が挙げられる。
【0127】また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノ−i−プロピルアミン、
ジ−i−プロピルアミン、トリ−i−プロピルアミン、
ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、モノ−i−プロパノール
アミン、ジ−i−プロパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も
用いることができる。
【0128】これらのアルカリ剤は、単独または2種以
上組合せて用いられる。また、該現像液には、必要に応
じてアニオン性界面活性剤、両性活性剤やアルコール等
の有機溶媒を加えることができる。
【0129】本発明に係る水溶液は、基本的に、SiO
2換算でのケイ酸濃度が1.0質量%で、pH8.5〜
12.5の範囲である水溶液が好ましく、該水溶液は、
他の添加剤を含有していてもよい。また、当該水溶液
に、更に界面活性剤を0.1質量%以上5.0質量%以
下の範囲で含有する水溶液がより好ましい。また、本発
明に係る水溶液は、上記する現像液の成分を含有するこ
とも好ましい。
【0130】
【実施例】以下に、合成例、支持体作製例、実施例を具
体的に示すが、本発明の実施態様は、これらに限定され
るものでない。尚、実施例における「部」は、特に断り
ない限り「質量部」を表す。
【0131】《高分子結合剤:アクリル系共重合体1の
合成》窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタクリル酸3
0部、メタクリル酸メチル50部、アクリロニトリル1
0部、メタクリル酸エチル10部、イソプロピルアルコ
ール500部及びα、α′−アゾビスイソブチロニトリ
ル3部を入れ、窒素気流中80℃のオイルバスで6時間
反応させた。その後、イソプロピルアルコールの沸点で
1時間還流を行った後、トリエチルアンモニウムクロラ
イド3部及びグリシジルメタクリレート25部を加えて
3時間反応させ、アクリル系共重合体1を合成した。G
PCを用いて測定した重量平均分子量は約35,00
0、DSC(示差熱分析法)を用いて測定したガラス転
移温度(Tg)は約85℃であった。また、160℃、
3時間の加熱で乾固させた際の質量変化から求めた固形
分濃度は、20質量%であった。
【0132】《感光性平版印刷版の作製》 (支持体の作製)厚さ0.24mmのアルミニウム板
(材質1050、調質H16)を65℃に保たれた5%
水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間の脱脂処理を
行った後、水洗した。この脱脂アルミニウム板を、25
℃に保たれた10%塩酸水溶液中に1分間浸漬して中和
した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、
0.3質量%の硝酸水溶液中で、25℃、電流密度10
0A/dm2の条件下に交流電流により60秒間、電解
粗面化を行った後、60℃に保たれた5%水酸化ナトリ
ウム水溶液中で10秒間のデスマット処理を行った。デ
スマット処理を行った粗面化アルミニウム板を、15%
硫酸溶液中で、25℃、電流密度10A/dm2、電圧
15Vの条件下に1分間陽極酸化処理を行い、更に1%
ポリビニルホスホン酸を用いて75℃で親水化処理を行
って支持体を作製した。この時、表面の中心線平均粗さ
(Ra)は0.65μmであった。
【0133】(下引き層塗設済み支持体の作製)上記作
製した支持体上に、下記組成の下引き層塗工液を乾燥付
量として0.1g/m2になるようワイヤーバーで塗布
し、90℃で1分間乾燥し、更に110℃で3分間の加
熱処理を行って、下引き層塗設済みの支持体を作製し
た。
【0134】 〈下引き層塗工液〉 γ−メタクリロキシキシプロピルトリメトキシシラン 1部 メチルエチルケトン 80部 シクロヘキサノン 19部 (感光性平版印刷版の作製)上記下引き層塗設済み支持
体上に、下記組成の光重合性感光層塗工液を乾燥付量と
して1.4g/m2になるようワイヤーバーで塗布し、
95℃で1.5分間乾燥した。その後、更に感光層上
に、下記組成の酸素遮断層塗工液を乾燥付量として1.
8g/m2になるようアプリケーターで塗布し、75℃
で1.5分間乾燥して、感光層上に酸素遮断層を有する
感光性平版印刷版1〜20を作製した。
【0135】 〈光重合性感光層塗工液〉 高分子結合剤(アクリル系共重合体1) 40.0部(固形分換算) 分光増感色素(表1に記載の種類) 表1に記載の添加量 光重合開始剤(表1に記載の種類) 表1に記載の添加量 エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート(アロニク スM−360:東亞合成社製) 30.0部 多官能ウレタンアクリレート(U−4HA:新中村化学工業社製) 10.0部 フタロシアニン顔料(MHI454:御国色素社製) 6.0部 2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジ ル)−4−メチルフェニルアクリレート(スミライザーGS:住友3M社製) 0.5部 弗素系界面活性剤(F−178K;大日本インキ社製) 0.5部 メチルエチルケトン(沸点=79.6℃) 80部 シクロペンタノン(沸点=129℃) 820部 (酸素遮断層塗工液) ポリビニルアルコール(GL−05:日本合成化学社製) 89部 水溶性ポリアミド(P−70:東レ社製) 10部 界面活性剤(サーフィノール465:日信化学工業社製) 0.5部 水 900部 《感光性平版印刷版の評価》 (405nmでの感度測定)上記作製した各感光性平版
印刷版に、レーザー光源を備えたプレートセッターを使
用し、2400dpiで露光を行った。なお、本発明で
いうdpiとは、2.54cm当たりのドット数を表
す。露光パターンは、100%画像部と、175LPI
が50%のスクエアドットを使用し、光源は408nm
を発光極大値とする日亜化学社製のNDHV310AC
A半導体レーザーのヘッドモジュールを組み込んで使用
した。次いで、版材を105℃で10秒加熱処理するプ
レヒート部、現像前にオーバーコート層を除去する前水
洗部、下記組成の現像液を充填した現像部、版面に付着
した現像液を取り除く水洗部、画線部保護のためのガム
液(GW−3:三菱化学社製を2倍希釈したもの)処理
部を備えたCTP自動現像機(PHW23−V:Tec
hnigraph社製)で現像処理を行い、各平版印刷
版を得た。平版印刷版の版面に記録されたステップタブ
レットの画像部において、膜減りが観察されない最低量
の露光エネルギー量(μJ/cm2)を感度1として定
義した。なお、感度値としては、最低量の露光エネルギ
ー量(μJ/cm2)が低いほど感度が高いことを表
す。
【0136】 〈現像液組成〉 Aケイ酸カリウム 8.0質量% ペレックスNBL(花王社製) 1.0質量% 苛性カリ pH=12.3となる添加量 (保存性の評価)上記作製した各感光性平版印刷版を、
55℃、23%相対湿度雰囲気下で3日間の強制保存処
理を行った後、上記の405nmでの感度測定と同様の
方法で感度2を測定し、上記求めた感度1の感度2との
差{感度2−感度1(μJ/cm 2)}を求め、これを
保存性の評価指標とした。数値が小さいほど、保存性に
優れていることを表す。
【0137】以上により得られた結果を表1に示す。
【0138】
【表1】
【0139】
【化8】
【0140】表1より明らかなように、本発明に係る一
般式(1)又は(2)で表される分光増感色素を用いた
感光性平版印刷版は、比較例に対して、405nmにお
ける感度が高く、かつ保存背に優れていることが分か
る。更に、本発明に係る一般式(3)又は(4)で表さ
れる光重合開始剤と併用することにより、その効果がよ
り一層発揮されていることが分かる。
【0141】
【発明の効果】本発明により、高感度で、かつ保存安定
性に優れた感光性組成物、感光性平版印刷版及びその記
録方法を提供することができた。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1)で表される化合物を含
    有することを特徴とする感光性組成物。 【化1】 〔式中、R1、R2、R3は、それぞれ独立に、水素原子
    又は置換基を表し、少なくともR1とR2、もしくはR2
    とR3が連結し環を形成する。〕
  2. 【請求項2】 前記一般式(1)で表される化合物が、
    下記一般式(2)で表される化合物であることを特徴と
    する請求項1記載の感光性組成物。 【化2】 〔式中、R4は水素原子、置換基を有していてもよいア
    ルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置
    換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有して
    いてもよい複素環基を表す。R5、R6は連結して環を形
    成しうる置換基を表す。X1、X2はそれぞれ独立に、−
    CR78−、−O−、−S−、−NR9−を表す。R7
    8、R9はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有して
    いてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアル
    ケニル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置
    換基を有していてもよい複素環基を表す。〕
  3. 【請求項3】 付加重合可能なエチレン性二重結合含有
    単量体を含有することを特徴とする請求項1又は2に記
    載の感光性組成物。
  4. 【請求項4】 下記一般式(3)又は一般式(4)で表
    される化合物を含有することを特徴とする請求項3記載
    の感光性組成物。 【化3】 〔式中、R10、R11は、それぞれ独立に、置換基を有し
    ていてもよいアリール基を表す。R12は、置換基を有し
    ていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいア
    ルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基又は
    置換基を有していてもよい複素環基を表す。〕 【化4】 〔式中、R13は置換基を有していてもよいアリール基又
    は置換基を有していてもよい複素環基を表す。R14、R
    15は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアル
    キル基を表し、両者が連結し環を形成してもかまわな
    い。R16、R17は、それぞれ独立に、置換基を有してい
    てもよいアルキル基を表し、両者が連結し環を形成して
    もかまわない。X3は、=O、=NR18、=Sを表し、
    18は、水素原子、水酸基、置換基を有していてもよい
    アルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、
    置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有し
    ていてもよい複素環基を表す。〕
  5. 【請求項5】 チタノセン化合物を含有することを特徴
    とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の感光性組成
    物。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項に記載の感
    光性組成物を含有する光重合性感光層を、親水性表面を
    有する支持体上に設けたことを特徴とする感光性平版印
    刷版。
  7. 【請求項7】 請求項6記載の感光性平版印刷版に、3
    80〜430nmの波長の光源で画像記録を行うことを
    特徴とする感光性平版印刷版の記録方法。
JP2002032228A 2002-02-08 2002-02-08 感光性平版印刷版及びその記録方法 Expired - Fee Related JP3969109B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002032228A JP3969109B2 (ja) 2002-02-08 2002-02-08 感光性平版印刷版及びその記録方法
US10/353,420 US6749995B2 (en) 2002-02-08 2003-01-29 Light sensitive composition, light sensitive planographic printing plate recursor, and image formation method
EP03002149A EP1335247A3 (en) 2002-02-08 2003-02-03 Light sensitive composition, light sensitive planographic printing plate precursor, and image formation method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002032228A JP3969109B2 (ja) 2002-02-08 2002-02-08 感光性平版印刷版及びその記録方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003233181A true JP2003233181A (ja) 2003-08-22
JP3969109B2 JP3969109B2 (ja) 2007-09-05

Family

ID=27606536

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002032228A Expired - Fee Related JP3969109B2 (ja) 2002-02-08 2002-02-08 感光性平版印刷版及びその記録方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6749995B2 (ja)
EP (1) EP1335247A3 (ja)
JP (1) JP3969109B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007007601A1 (ja) * 2005-07-11 2007-01-18 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 平版印刷版材料および画像形成方法
JP2013228758A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7074546B2 (en) * 2002-06-24 2006-07-11 Konica Corporation Light sensitive planographic printing plate precursor and its processing method
US20040131969A1 (en) * 2002-10-07 2004-07-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Non-resonant two-photon absorbing material, non-resonant two-photon emitting material, method for inducing absorption of non-resonant two-photons and method for generating emission of non-resonant two-photons
US7332477B2 (en) * 2003-07-10 2008-02-19 Nitto Denko Corporation Photocleavable DNA transfer agent
EP1667732B1 (en) * 2003-09-29 2010-04-21 Nitto Denko Corporation Biodegradable polyacetals for in vivo polynucleotide delivery
US7674452B2 (en) * 2005-03-16 2010-03-09 Nitto Denko Corporation Polymer coating of cells
US8133658B2 (en) * 2005-07-29 2012-03-13 Anocoil Corporation Non-chemical development of printing plates
US8343707B2 (en) 2005-07-29 2013-01-01 Anocoil Corporation Lithographic printing plate for in-solidus development on press
US8377630B2 (en) * 2005-07-29 2013-02-19 Anocoil Corporation On-press plate development without contamination of fountain fluid
US8137897B2 (en) * 2005-07-29 2012-03-20 Anocoil Corporation Processless development of printing plate
JP2009502574A (ja) 2005-07-29 2009-01-29 アノコイル コーポレイション 機上現像用の画像形成可能な印刷版
US7348132B2 (en) * 2006-01-21 2008-03-25 Gary Ganghui Teng Laser sensitive lithographic printing plate having specific photopolymer composition
US7524615B2 (en) * 2006-08-14 2009-04-28 Gary Ganghui Teng Negative laser sensitive lithographic printing plate having specific photosensitive composition

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4153769A (en) * 1976-11-08 1979-05-08 A. B. Dick Company Vinyl polymerization with boron chelates as catalyst and photoconductive sensitizer
US4360584A (en) * 1981-03-18 1982-11-23 A. B. Dick Company Method of photopolymerization with complex metal chelate catalysts
GB8307220D0 (en) * 1983-03-16 1983-04-20 Ciba Geigy Ag Production of images
GB8402937D0 (en) * 1984-02-03 1984-03-07 Ciba Geigy Ag Production of images
JPH01133968A (ja) 1987-07-31 1989-05-26 Sumitomo Electric Ind Ltd セラミックス複合体
RU2091385C1 (ru) * 1991-09-23 1997-09-27 Циба-Гейги АГ Бисацилфосфиноксиды, состав и способ нанесения покрытий
EP0619520B1 (en) 1993-04-09 1996-01-31 Mitsubishi Chemical Corporation Photopolymerizable composition
US5738974A (en) 1994-09-05 1998-04-14 Mitsubishi Chemical Corporation Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate
US5773194A (en) 1995-09-08 1998-06-30 Konica Corporation Light sensitive composition, presensitized lithographic printing plate and image forming method employing the printing plate
TW467933B (en) * 1995-11-24 2001-12-11 Ciba Sc Holding Ag Photopolymerizable compositions comprising borate photoinitiators from monoboranes and the use thereof
US6514668B1 (en) 1996-12-26 2003-02-04 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive lithographic printing plate
US6106999A (en) * 1997-08-12 2000-08-22 Mitsui Chemicals Photosensitizer, visible light curable resin composition using the same, and use of the composition
EP0985683A1 (en) 1998-09-09 2000-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition and method for manufacturing lithographic printing plate
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物
US6335144B1 (en) 1999-04-27 2002-01-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition for short wavelength semiconductor laser exposure
JP2001133968A (ja) * 1999-11-09 2001-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
EP1148387A1 (en) 2000-04-19 2001-10-24 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive lithographic printing plate and method for making the printing plate

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007007601A1 (ja) * 2005-07-11 2007-01-18 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 平版印刷版材料および画像形成方法
JP2013228758A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板

Also Published As

Publication number Publication date
EP1335247A2 (en) 2003-08-13
US6749995B2 (en) 2004-06-15
JP3969109B2 (ja) 2007-09-05
US20030194649A1 (en) 2003-10-16
EP1335247A3 (en) 2004-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4161858B2 (ja) 感光性組成物、感光性平版印刷版、及び平版印刷版の作製方法
JP3969109B2 (ja) 感光性平版印刷版及びその記録方法
US7147989B2 (en) Photosensitive composition, planographic printing plate and processing method of planograhic printing plate
JP2003066593A (ja) 平版印刷版の作製方法
JP4140292B2 (ja) 光重合性組成物および感光性平版印刷版
JP2004037713A (ja) 感光性組成物および感光性平版印刷版
JP2005077593A (ja) 平版印刷版材料及び平版印刷版の製版方法
JP2003270780A (ja) 感光性平版印刷版
JP4085644B2 (ja) 感光性平版印刷版の作製方法
JP4106986B2 (ja) 感光性平版印刷版材料及び感光性平版印刷版材料の製造方法
JP4032167B2 (ja) 感光性平版印刷版材料用支持体及び感光性平版印刷版材料並びにその製造方法
JP2003241367A (ja) 光重合性組成物、酸素遮断性樹脂組成物及び感光性平版印刷版材料
JP2003233166A (ja) 感光性平版印刷版材料及び感光性平版印刷版材料の製造方法
JP4186528B2 (ja) 感光性平版印刷版材料
JP4168636B2 (ja) 感光性平版印刷版材料及びその製造方法
JP2005275347A (ja) 感光性組成物及び感光性平版印刷版
JP2003066606A (ja) 感光性平版印刷版材料
JP2003066592A (ja) 感光性平版印刷版
JP2003233176A (ja) 光重合性樹脂組成物及び感光性平版印刷版材料
JP2003233177A (ja) 感光性平版印刷版材料及びその処理方法
JP2003345011A (ja) 感光性組成物及び感光性平版印刷版
JP2005274813A (ja) 平版印刷版の作製方法
JP2003066602A (ja) 感光性平版印刷版材料
JP2003233180A (ja) 感光性平版印刷版材料及び画像形成方法
JP2004163918A (ja) 感光性組成物及び感光性平版印刷版

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041125

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060824

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060905

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061102

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070116

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070316

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070515

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070528

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees