JP2003228015A

JP2003228015A - レーザ走査装置とレーザ光源装置

Info

Publication number: JP2003228015A
Application number: JP2002026223A
Authority: JP
Inventors: Hidenari Tatebe; 秀成立部
Original assignee: Minolta Co Ltd
Current assignee: Minolta Co Ltd
Priority date: 2002-02-04
Filing date: 2002-02-04
Publication date: 2003-08-15

Abstract

(57)【要約】【課題】高品質な画像形成のためのビーム状態の検出
をコンパクト・低コストに行うことができるレーザ走査
装置とレーザ光源装置を提供する。【解決手段】ビーム整形光学素子(4)は、ＬＤ(1)から
のレーザビーム(L0)を主走査方向には略平行光、副走査
方向には収束光とする。ビーム整形光学素子(4)の第２
透過面(T2)は回折面であり、１次光(L1)と２次光(L2)が
生じる。１次光(L1)はポリゴンミラー(6)で偏向され、
２次光(L2)はミラー(M1)で反射された後、光量検出セン
サ(D1)に導光されてビーム光量が検出される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレーザ走査装置とレ
ーザ光源装置に関するものであり、例えば画像形成装置
(レーザプリンタ，デジタル複写機等)のプリントヘッド
に搭載される、ビーム状態をモニターする機能を備えた
レーザ走査装置とレーザ光源装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来のレーザ走査装置には、偏向前のレ
ーザビームを整形するための光学系として、コリメータ
レンズやシリンダレンズが用いられている。レーザ光源
から射出したレーザビームは、コリメータレンズによっ
て主走査方向に略平行光となり、シリンダレンズによっ
て副走査方向に収束してポリゴンミラー面近傍で線状に
集光することになる。コリメータレンズやシリンダレン
ズは、その材料にガラス等が用いられているため、レン
ズ単体として高価である。また、温度変化によりレーザ
光源の波長がシフトしたとき、屈折率変化，曲率変化等
による焦点位置ズレが発生する等の問題もある。

【０００３】レーザ走査方式の画像形成装置で良好な出
力画像を形成するには、上記ビーム整形用の光学系だけ
でなくポリゴンミラーやｆθレンズ等の影響も考慮しな
ければならない。そのためには走査されるビームの状態
をモニターする必要があり、走査されるビームの状態を
検出する機能を備えた様々なレーザ走査装置が従来より
提案されている。例えば特開平６−３６１１号公報で提
案されているレーザ走査装置には、描画光用のレーザ光
源とは別に波長の異なったモニター光用のレーザ光源が
設けられている。２つのレーザ光源からのビームはダイ
クロイックプリズムで光路合成され、感光体の直前に配
置されているダイクロイックミラーで光路分離される。
そして、センサに導光されて感光体上でのビーム照射位
置が検出される。

【０００４】レーザ走査装置において検出されることの
必要なビーム状態は、ビーム照射位置に限らない。例え
ば、ビーム光量やビーム書き出し位置が検出される例も
知られている。ビーム光量を検出する機能は、レーザ光
源としてのＬＤ(Laser Diode)を外部から自動パワー補
正(適宜「ＡＰＣ」と略す。ＡＰＣ：オートパワーコン
トロール)する場合等に用いられる。つまり、ハーフミ
ラーで光路分離されたレーザビームの光量をＰＤ(Photo
Diode)で検出し、その検出結果に基づいて外部ＡＰＣ
が行われる。

【０００５】ビーム書き出し位置をモニターする機能は
大多数のレーザ走査装置に採用されており、その検出に
はＳＯＳ(Start Of Scanning)センサを用いるのが一般
的である。例えば、ポリゴンミラーの各偏向反射面につ
いて、ＳＯＩ(Start Of Image)手前の所定偏向角の光路
位置にＳＯＳセンサを配置し、ＳＯＳセンサにレーザビ
ームが入射したタイミングから所定時間が経過した後、
画像を書き出す制御(いわゆるＳＯＳ−ＳＯＩタイミン
グ制御)が行われる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】特開平６−３６１１号
公報で開示されているビーム照射位置の検出方法では、
描画光用のレーザ光源とは別にモニター光用のレーザ光
源を用意しなければならず、また、光路合成用のダイク
ロイックプリズムや光路分離用のダイクロイックミラー
等も必要である。したがって、コストが高くなるという
問題がある。

【０００７】ＬＤの外部ＡＰＣを行うために光路分離さ
れたレーザビームをＰＤに導光する構成では、ＬＤ出力
に対して損失が大きくなるため全系での効率が悪い。そ
のため、高い光量のＬＤが必要になるが、高い光量のＬ
ＤではＬＤ自体のコストが高くなる。また、ハーフミラ
ーが必要となるため更にコストが高くなる。

【０００８】ＳＯＳセンサを用いてＳＯＳ−ＳＯＩタイ
ミング制御を行う構成では、ポリゴンミラー面の有効域
において画像書き込み域を広く確保することができない
という問題がある。これを図５に基づいて詳しく説明す
る。ポリゴンミラー(6)は矢印ｍ６方向に回転すること
により、偏向反射面(6S)に入射してきたレーザビーム
(L)を偏向走査する。その偏向走査におけるＳＯＩ光線
(LSOI)の書き出しタイミングをとるために、ＳＯＳセン
サで検出されるＳＯＳ光線(LSOS)の光路が確保されてい
る。このため、偏向反射面(6S)の有効域(d0)のうち、Ｓ
ＯＳ−ＳＯＩの間隔分(つまり時間差相当分)を画像書き
込み無効域(d2)として設定する必要がある。したがっ
て、実際の描画に用いられる領域は残りの画像書き込み
域(d1)となり、偏向反射面(6S)の有効域(d0)を１９ｍｍ
とすると画像書き込み無効域(d2)は１．７ｍｍ程度必要
になる。このように、偏向反射面(6S)の有効域(d0)にお
いて画像書き込み域(d1)を広く確保することができない
ため、ポリゴンミラー(6)の小型化，小型化によるポリ
ゴンモータの高速化，消費電力低減等を達成することは
困難である。

【０００９】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであって、高品質な画像形成のためのビーム状態の
検出をコンパクトかつ低コストに行うことができるレー
ザ走査装置とレーザ光源装置を提供することを目的とす
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１の発明のレーザ走査装置は、レーザビームを射
出するレーザ光源と、回折面を少なくとも１面有すると
ともに前記レーザビームを少なくとも一方向にコリメー
トする機能を備えたビーム整形光学素子と、そのビーム
整形光学素子から射出したレーザビームを偏向させる偏
向器と、その偏向器で偏向したレーザビームを被走査面
上で結像させてビーム照射による書き込みを行う走査レ
ンズと、前記回折面で生じる１次光以外の回折光を用い
てビーム状態の検出を行うセンサと、を有することを特
徴とする。

【００１１】第２の発明のレーザ走査装置は、上記第１
の発明の構成において、前記センサで検出されるビーム
状態がビーム光量であることを特徴とする。

【００１２】第３の発明のレーザ走査装置は、上記第１
又は第２の発明の構成において、前記センサで検出され
るビーム状態がビーム書き出し位置であることを特徴と
する。

【００１３】第４の発明のレーザ走査装置は、上記第
１，第２又は第３の発明の構成において、前記センサで
検出されるビーム状態がビーム照射位置であることを特
徴とする。

【００１４】第５の発明のレーザ光源装置は、レーザビ
ームを射出するレーザ光源と、回折面を少なくとも１面
有するとともに前記レーザビームを少なくとも一方向に
コリメートする機能を備えたビーム整形光学素子と、前
記回折面で生じる１次光以外の回折光を用いてビーム光
量の検出を行う光量検出センサと、を有することを特徴
とする。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施したレーザ走
査装置とレーザ光源装置を、図面を参照しつつ説明す
る。なお、実施の形態の相互で同一の部分や相当する部
分には同一の符号を付して重複説明を適宜省略する。

【００１６】《各実施の形態の光源部構成(図１)》図１
に、各実施の形態を構成する光源部(10)の副走査断面構
造を示す。図１中、1はＬＤ(Laser Diode)、2はＬＤホ
ルダー、3はＬＤホルダーベース、4はビーム整形光学素
子、5は光学素子ホルダー、T1,T2は第１，第２透過面、
R1,R2は第１，第２反射面、L0はＬＤ(1)から発せられる
レーザビーム、L1,L2はレーザビーム(L0)の回折により
生じた１次光，２次光である。ＬＤ(1)はレーザビーム
(L0)を射出するレーザ光源であり、ＬＤホルダー(2)に
固定された状態で保持されている。ビーム整形光学素子
(4)はレーザビーム(L0)のビーム整形を行う光学系であ
り、光学素子ホルダー(5)に固定された状態で保持され
ている。そしてＬＤホルダー(2)と光学素子ホルダー(5)
とは、ホルダーベース(3)を介して位置決めされ固定さ
れている。

【００１７】ビーム整形光学素子(4)は、樹脂で一体成
型された単一型の光学素子であり、第２透過面(T2)が回
折面(例えば、平面上に溝が形成された構造の１次元回
折面)で構成されている。ＬＤ(1)から射出したレーザビ
ーム(L0)は、ビーム整形光学素子(4)によって主走査方
向には略平行光、副走査方向には収束光となり、偏向反
射面(6S，図２〜図４)近傍で線状に集光する。このよう
にレーザビーム(L0)を主走査方向にコリメートするとと
もに副走査方向に収束させるビーム整形機能の主な役割
を担っているのが、ビーム整形光学素子(4)に含まれて
いる第１，第２反射面(R1,R2)である。第１，第２反射
面(R1,R2)はパワーを有する自由曲面で構成されてお
り、第１，第２反射面(R1,R2)での内面反射によりレー
ザビーム(L0)のビーム整形が行われる。なお、主走査方
向は被走査面に対してレーザビーム(L1)が走査する方向
であり、副走査方向は主走査方向に対して垂直な方向、
つまり２次元画像を形成するために被走査面が相対的に
移動する方向である。

【００１８】第２透過面(T2)は回折面で構成されている
ため、ビーム整形光学素子(4)からは、１次光(L1)，２
次光(L2)，…という複数の回折光が同時に射出される。
第２透過面(T2)を構成している回折面は、複数の回折光
(L1,L2,…)のうち１次光(L1)の回折効率が最も高くなる
ように設定されており、１次光(L1)が書き込み用のレー
ザビーム(つまり描画光)として用いられる。また、１次
光(L1)と他の回折光(L2,…)とは、主走査方向に略一致
するとともに副走査方向に空間分離されている。つま
り、２次以降の回折光(L2,…)の光路は、主走査方向に
関しては１次光(L1)の光路と位置がほとんど同じにな
り、副走査方向に関してのみ１次光(L1)の光路から空間
的に所定の距離だけ離れて位置するように、第２透過面
(T2)を構成している回折面で設定されている。例えば、
２次光(L2)は１次光(L1)の２〜３ｍｍ下方(副走査方向)
に位置することになる。

【００１９】上記のようにビーム整形光学素子(4)の回
折面で生じる１次光(L1)以外の回折光(L2,…)は、レー
ザ走査装置やレーザ光源装置において本来不要な光であ
るため、これを有効に利用すれば、装置のコンパクト化
や低コスト化に寄与することができる。例えば、ビーム
整形光学素子(4)の回折面で生じる１次光(L1)以外の回
折光(L2,…)を用いてビーム状態の検出を行えば、１次
光(L1)のビーム情報も得られるため、装置の大型化やコ
ストアップなしに、その検出結果に基づいた制御により
高品質な画像を１次光(L1)で形成することが可能であ
る。この点を具体化した構成が、後述する各実施の形態
の特徴になっている。

【００２０】前述したビーム整形において、レーザビー
ム(L0)を主走査方向にコリメートするのはコリメータレ
ンズの機能であり、レーザビーム(L0)を副走査方向に収
束させるのはシリンダレンズの機能である。コリメータ
レンズやシリンダレンズは通常ガラスで構成されるため
高価であるが、ビーム整形光学素子(4)はコリメータレ
ンズとシリンダレンズの両機能を一体的に有するととも
に、その材料に樹脂が用いられているため低コスト(材
料コスト，製造コスト等の低減)での実現が可能であ
る。

【００２１】光学素子材料として単に樹脂を用いると温
度変化に対して敏感になるため、温度変化による焦点変
動が大きくなったり光源波長変動に対する色消しが必要
になったりする。しかし、ビーム整形光学素子(4)では
ビーム整形におけるパワー構成に第１，第２反射面(R1,
R2)を利用しているため、上記問題の原因となるレンズ
における屈折率変動と光源の波長変動による色収差の影
響を抑えることができる。したがって、優れた光学性能
を保持することが可能である。さらに、第２透過面(T2)
が回折面から成っているため、温度変化による樹脂膨張
やＬＤ(1)の波長変動を回折面で温度補償することがで
きる。例えば、ＬＤ(1)の波長シフトに伴った屈折率変
化等による焦点位置ズレを、回折面の格子ピッチ変化等
によりキャンセルすることができる。

【００２２】《ビーム光量検出機能を備えた実施の形態
(図２)》図２に、ビーム光量検出機能を備えたレーザ光
源装置の副走査断面構造を示す。このレーザ光源装置
は、前述した光源部(10，図１)，ミラー(M1)及び光量検
出センサ(D1)を備え、画像形成装置のプリントヘッドに
おいてレーザ走査装置用の光源装置として搭載されるも
のである。前述したように１次光(L1)は書き込み用のレ
ーザビームとして用いられるので、ビーム整形光学素子
(4)から射出した１次光(L1)はポリゴンミラー(6)の偏向
反射面(6S)で偏向し、その偏向の後、走査レンズ{例え
ば図３，図４中のｆθレンズ(7)等}により被走査面(例
えば感光体表面)上でスポット状に結像し、そのビーム
照射により画像の書き込みが行われる。

【００２３】レーザ走査装置にレーザ光源として用いら
れるＬＤ(1)は、同じ電流を流しても温度や個体差によ
って出力するビーム光量にバラツキがある。このため一
般的なＬＤ(1)には、ＬＤチップの裏側にＰＤ(Photo Di
ode)が内蔵される。そして、前方に出力されるレーザビ
ーム(L0)と比例して後方に出力されるモニター光がＰＤ
で検出される。その検出結果に基づいて、常に一定光量
のレーザビーム(L0)が出力されるように、レーザビーム
(L0)の光量が自動パワー補正(ＡＰＣ)される。しかし、
複写機やプリンタの高速化，高ＤＰＩ化，階調再現性向
上等のために高精度の光量制御を必要とする場合には、
ＬＤ(1)内部のＰＤを高速化・高精度化するのはカスタ
ム対応になるため、ＬＤ(1)は非常に高価なものになっ
てしまう。これを避けるには、ＬＤ(1)外部にＰＤを設
置して外部ＡＰＣを行う構成にすればよい。しかし、光
路分離のためにハーフミラーやレーザビームスプリッタ
を用いなければならなくなるため、光量の損失が大きく
なりコストも高くなってしまう。

【００２４】本実施の形態では、回折作用によって１次
光(L1)から空間的(副走査方向)に分離されている２次光
(L2)を、ミラー(M1)で反射させて折り返し、外部ＰＤで
ある光量検出センサ(D1)に導光してビーム光量の検出を
行う構成にしている。このように、回折面で生じる２次
光(L2)を用いてビーム光量の検出を行う構成にすれば、
光量検出の高速化と高精度化を安価に達成することがで
き、外部ＡＰＣによる高精度の光量制御が可能となる。
なお、１次光(L1)と２次光(L2)との空間的分離が十分で
あれば、ミラー(M1)で２次光(L2)の光路を折り返すこと
なく、２次光(L2)を光量検出センサ(D1)に直接入射させ
る構成にしてもよい。また、ビーム光量の検出に用いる
回折光は画像書き込み用の回折光以外の回折光であれば
よいので、２次光(L2)に限らず３次光，４次光，…等で
あってもよい。

【００２５】《ＳＯＳ検出機能を備えた実施の形態(図
３)》図３に、ＳＯＳ(Start Of Scanning)検出機能を備
えたレーザ走査装置の副走査断面構造を光路展開して示
す。このレーザ走査装置は、前述した光源部(10，図１)
のほかに、偏向器としてのポリゴンミラー(6，図５)，
走査レンズとしてのｆθレンズ(7)，ＳＯＳ用のミラー
(M2)，同期信号出力用のＳＯＳセンサ(D2)等を備えてい
る。前述したように１次光(L1)は書き込み用のレーザビ
ームとして用いられるので、ビーム整形光学素子(4)か
ら射出した１次光(L1)はポリゴンミラー(6)の偏向反射
面(6S)で偏向し、その偏向の後、ｆθレンズ(7)により
被走査面(例えば感光体表面)上でスポット状に結像し
(8：像面)、そのビーム照射により画像の書き込みが行
われる。

【００２６】ビーム整形光学素子(4)から射出した２次
光(L2)も、ポリゴンミラー(6)の偏向反射面(6S)で偏向
し、その偏向の後、ｆθレンズ(7)を通過する。この２
次光(L2)は、回折作用によって１次光(L1)から空間的
(副走査方向)に分離されているため、ミラー(M2)で反射
して折り返され、ＳＯＳセンサ(D2)に導光されてＳＯＳ
検出が行われる。１次光(L1)と２次光(L2)は主走査方向
に関してほぼ同じ位置を走査するため、２次光(L2)を用
いたＳＯＳの検出により、１次光(L1)によるビーム書き
出し位置(ＳＯＩ：Start Of Image)が検出される。した
がって、各偏向反射面(6S)ごとのＳＯＳセンサ(D2)から
の立ち上がり信号をもって、ＳＯＩの書き出し(つまり
画像の書き出し)をほぼ同時に行うことができる。な
お、１次光(L1)と２次光(L2)との空間的分離が十分であ
れば、ミラー(M2)で２次光(L2)の光路を折り返すことな
く、２次光(L2)をＳＯＳセンサ(D2)に直接入射させる構
成にしてもよい。また、ＳＯＳ検出に用いる回折光は画
像書き込み用の回折光以外の回折光であればよいので、
２次光(L2)に限らず３次光，４次光，…等であってもよ
い。

【００２７】図５に示す従来のＳＯＳ検出のようにＳＯ
Ｓ−ＳＯＩの間隔分(つまり時間差相当分)を画像書き込
み無効域(d2)として設定することは、本実施の形態の構
成では必要ない。このため、偏向反射面(6S)の有効域(d
0)をほとんど画像書き込み域(d1)として用いることがで
きる。したがって、有効域(d0)において画像書き込み域
(d1)を広く確保することができた分、ポリゴンミラー
(6)の小型化，走査の高速化，消費電力低減等を達成す
ることが可能である。具体的には、約１割程度の走査効
率の向上が可能である。また、従来のＳＯＳ−ＳＯＩ間
隔が設定されたポリゴンミラー(6)では回転ムラにより
ジッターが生じてしまうが、そのジッターを排除するこ
とができるため、画像の安定化を図ることも可能であ
る。

【００２８】《ビーム照射位置検出機能を備えた実施の
形態(図４)》図４に、ビーム照射位置検出機能を備えた
レーザ走査装置の副走査断面構造を光路展開して示す。
このレーザ走査装置は、前述した光源部(10，図１)のほ
かに、偏向器としてのポリゴンミラー(6，図５)，走査
レンズとしてのｆθレンズ(7)，ミラー(M3)，位置検出
センサ(D3)等を備えている。前述したように１次光(L1)
は書き込み用のレーザビームとして用いられるので、ビ
ーム整形光学素子(4)から射出した１次光(L1)はポリゴ
ンミラー(6)の偏向反射面(6S)で偏向し、その偏向の
後、ｆθレンズ(7)により被走査面(例えば感光体表面)
上でスポット状に結像し(8：像面)、そのビーム照射に
より画像の書き込みが行われる。

【００２９】ビーム整形光学素子(4)から射出した２次
光(L2)も、ポリゴンミラー(6)の偏向反射面(6S)で偏向
し、その偏向の後、ｆθレンズ(7)を通過する。この２
次光(L2)は、回折作用によって１次光(L1)から空間的
(副走査方向)に分離されているため、ミラー(M3)で反射
して折り返され、位置検出センサ(D3)に導光されて照射
位置検出が行われる。ミラー(M3)と位置検出センサ(D3)
は共に走査域をカバーする長さになっており、また、１
次光(L1)と２次光(L2)は主走査方向に関してほぼ同じ位
置を走査する。したがって、２次光(L2)の走査位置をモ
ニターすることにより、１次光(L1)による被走査面への
ビーム照射位置をリアルタイムに検出することができ
る。なお、１次光(L1)と２次光(L2)との空間的分離が十
分であれば、ミラー(M3)で２次光(L2)の光路を折り返す
ことなく、２次光(L2)を位置検出センサ(D3)に直接入射
させる構成にしてもよい。また、ビーム照射位置の検出
に用いる回折光は画像書き込み用の回折光以外の回折光
であればよいので、２次光(L2)に限らず３次光，４次
光，…等であってもよい。

【００３０】上記のように走査域内での照射位置をモニ
ターすることは、例えばタンデム方式のように、色ズレ
をなくすために複数の色(例えば、Ｙ：イエロー，Ｍ：
マゼンタ，Ｃ：シアン，Ｋ：ブラックの４色)に対応し
たビーム照射位置を合わせ込む必要があるときに有効で
ある。例えば、各色に対応するレーザビームのＢＯＷ，
スキュー，等速性等を検出し、その結果に応じて画像処
理側でズレ分を補正することが可能となる。その補正
は、ＬＤ(1)出力のタイミング制御により行ってもよ
く、メカ的に各誤差を補正する機構を用いて行ってもよ
い。また、紙間時の走査によりズレ分を補正演算して、
その演算結果に基づいて次の走査を制御するようにして
もよい。なお、ビーム照射位置の検出結果に基づく補正
の対象がＢＯＷやスキューのみであれば、ミラー(M3)と
位置検出センサ(D3)が走査域のすべてをカバーする必要
はなく、走査線の両端部分と中央部分のみをカバーする
ようにしてもよい。

【００３１】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ビ
ーム整形光学素子の回折面で生じる１次光以外の回折光
を用いてセンサがビーム状態の検出を行う構成になって
いるため、装置のコンパクト化・低コスト化を達成しな
がら高品質な画像を形成することが可能である。例え
ば、ビーム整形光学素子の回折面で生じる１次光以外の
回折光を用いてセンサがビーム光量の検出を行う構成に
した場合、光量損失なしに低コストで外部ＡＰＣを行う
ことができる。

【００３２】ビーム整形光学素子の回折面で生じる１次
光以外の回折光を用いてセンサがビーム書き出し位置の
検出を行う構成にした場合、偏向器の偏向反射面の有効
域において画像書き込み域を広く確保することが可能で
ある。このため、偏向器の小型化，走査の高速化，消費
電力低減等を達成することができる。また、ビーム整形
光学素子の回折面で生じる１次光以外の回折光を用いて
センサがビーム照射位置の検出を行う構成にした場合、
レーザ光源を増やしたりダイクロイックプリズムやダイ
クロイックミラーを用いたりする必要がないので、装置
の低コスト化が可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】各実施の形態を構成する光源部を示す副走査断
面図。

【図２】ビーム光量検出機能を備えた実施の形態を示す
副走査断面図。

【図３】ＳＯＳ検出機能を備えた実施の形態を示す副走
査断面図。

【図４】ビーム照射位置検出機能を備えた実施の形態を
示す副走査断面図。

【図５】従来のＳＯＳ検出において設定が必要な画像書
き込み無効域を説明するための図。

【符号の説明】

1 …ＬＤ(レーザ光源) 4 …ビーム整形光学素子 6 …ポリゴンミラー(偏向器) 6S …偏向反射面 7 …ｆθレンズ(走査レンズ) 8 …像面(被走査面) 10 …光源部 T2 …第２透過面(回折面) D1 …光量検出センサ D2 …ＳＯＳセンサ D3 …位置検出センサ M1〜M3 …ミラー L0 …レーザビーム L1 …１次光(レーザビーム) L2 …２次光(レーザビーム)

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Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザビームを射出するレーザ光源と、
回折面を少なくとも１面有するとともに前記レーザビー
ムを少なくとも一方向にコリメートする機能を備えたビ
ーム整形光学素子と、そのビーム整形光学素子から射出
したレーザビームを偏向させる偏向器と、その偏向器で
偏向したレーザビームを被走査面上で結像させてビーム
照射による書き込みを行う走査レンズと、前記回折面で
生じる１次光以外の回折光を用いてビーム状態の検出を
行うセンサと、を有することを特徴とするレーザ走査装
置。
【請求項２】前記センサで検出されるビーム状態がビ
ーム光量であることを特徴とする請求項１記載のレーザ
走査装置。
【請求項３】前記センサで検出されるビーム状態がビ
ーム書き出し位置であることを特徴とする請求項１又は
２記載のレーザ走査装置。
【請求項４】前記センサで検出されるビーム状態がビ
ーム照射位置であることを特徴とする請求項１，２又は
３記載のレーザ走査装置。
【請求項５】レーザビームを射出するレーザ光源と、
回折面を少なくとも１面有するとともに前記レーザビー
ムを少なくとも一方向にコリメートする機能を備えたビ
ーム整形光学素子と、前記回折面で生じる１次光以外の
回折光を用いてビーム光量の検出を行う光量検出センサ
と、を有することを特徴とするレーザ光源装置。