JP2003224444A - 圧電振動子及びその製造方法 - Google Patents
圧電振動子及びその製造方法Info
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- JP2003224444A JP2003224444A JP2002021101A JP2002021101A JP2003224444A JP 2003224444 A JP2003224444 A JP 2003224444A JP 2002021101 A JP2002021101 A JP 2002021101A JP 2002021101 A JP2002021101 A JP 2002021101A JP 2003224444 A JP2003224444 A JP 2003224444A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エ−ジング特性を劣化することなく、ＣＩ
値、耐衝撃性を向上する。 【解決手段】 圧電素子を収容するケ−スに形成された
電極と圧電素子に形成された電極の支持・接続電極部を
導電性接着剤によって支持・接続する圧電振動子におい
て、圧電素子に形成された支持・接続電極部の表面をシ
リコーン系の導電性接着剤と接着性の良い金属層で形成
し、その他の電極部の表面を金層で形成する。
値、耐衝撃性を向上する。 【解決手段】 圧電素子を収容するケ−スに形成された
電極と圧電素子に形成された電極の支持・接続電極部を
導電性接着剤によって支持・接続する圧電振動子におい
て、圧電素子に形成された支持・接続電極部の表面をシ
リコーン系の導電性接着剤と接着性の良い金属層で形成
し、その他の電極部の表面を金層で形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水晶振動子などの
圧電振動子及びその製造方法に関するものである。さら
に詳しくは圧電素子に形成される支持・接続電極の電極
構造及び電極形成方法に関するものである。
圧電振動子及びその製造方法に関するものである。さら
に詳しくは圧電素子に形成される支持・接続電極の電極
構造及び電極形成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図１は圧電振動子の従来例として示した
もので、カバ−を外したＡＴカット水晶振動子の上面図
である。図２は図１のＡ−Ａ断面図である。ＡＴカット
水晶振動子は水晶片１を凹状のベ−ス２に搭載し、開口
面をカバ−により封止してなる。ベ−ス２は例えば積層
セラミックからなり、凹部底面に水晶電極３ａ、３ｂが
形成されている。水晶電極３ａ、３ｂは外表面の実装電
極と接続している。水晶片１の表裏面には励振電極４が
形成され、外周部に向かって引出電極５が延出し、支持
・接続電極６ａ、６ｂに接続している。通常、水晶片１
の電極４、５、６ａ、６ｂは電極形状の開口部を有する
マスクで水晶片１を挟持し、真空蒸着またはスパッタリ
ングにより前記開口部から水晶片１の表面に金属を積層
することで形成される。ベ−ス２の水晶電極３ａ、３ｂ
と水晶片１の支持・接続電極６ａ、６ｂとの支持・接続
は導電性接着剤で行う。カバ−は例えばセラミックから
なり、低融点ガラス等でベ−ス２と接合される。
もので、カバ−を外したＡＴカット水晶振動子の上面図
である。図２は図１のＡ−Ａ断面図である。ＡＴカット
水晶振動子は水晶片１を凹状のベ−ス２に搭載し、開口
面をカバ−により封止してなる。ベ−ス２は例えば積層
セラミックからなり、凹部底面に水晶電極３ａ、３ｂが
形成されている。水晶電極３ａ、３ｂは外表面の実装電
極と接続している。水晶片１の表裏面には励振電極４が
形成され、外周部に向かって引出電極５が延出し、支持
・接続電極６ａ、６ｂに接続している。通常、水晶片１
の電極４、５、６ａ、６ｂは電極形状の開口部を有する
マスクで水晶片１を挟持し、真空蒸着またはスパッタリ
ングにより前記開口部から水晶片１の表面に金属を積層
することで形成される。ベ−ス２の水晶電極３ａ、３ｂ
と水晶片１の支持・接続電極６ａ、６ｂとの支持・接続
は導電性接着剤で行う。カバ−は例えばセラミックから
なり、低融点ガラス等でベ−ス２と接合される。
【０００３】近年、水晶振動子には小型・薄型化や高精
度・高信頼性といった要求がある。これらの要求のうち
高信頼性、特にエ−ジング特性、耐衝撃性は水晶片１に
形成される電極４、５、６ａ、６ｂの構造や水晶片１を
支持・接続する導電性接着剤７が大きな影響を及ぼす。
度・高信頼性といった要求がある。これらの要求のうち
高信頼性、特にエ−ジング特性、耐衝撃性は水晶片１に
形成される電極４、５、６ａ、６ｂの構造や水晶片１を
支持・接続する導電性接着剤７が大きな影響を及ぼす。
【０００４】図３は水晶片１の電極４、５、６ａ、６ｂ
の構造を示すための断面図である。なお、図は理解を容
易とするために、各電極層の厚みを誇張して描いてい
る。電極４、５、６ａ、６ｂは水晶片１の上にＣｒ（ク
ロム）あるいはＮｉ（ニッケル）等からなる第１の電極
層８とＡｕ（金）あるいはＡｇ（銀）等からなる第２の
電極層９の２層構造となっている。エ−ジングにおける
周波数変動は電極層と封止雰囲気中のガスが反応し、電
極の質量が変化することによりおこる。このため高信頼
性の水晶振動子では第２の電極９に化学的に安定なＡｕ
を用いることが多い。
の構造を示すための断面図である。なお、図は理解を容
易とするために、各電極層の厚みを誇張して描いてい
る。電極４、５、６ａ、６ｂは水晶片１の上にＣｒ（ク
ロム）あるいはＮｉ（ニッケル）等からなる第１の電極
層８とＡｕ（金）あるいはＡｇ（銀）等からなる第２の
電極層９の２層構造となっている。エ−ジングにおける
周波数変動は電極層と封止雰囲気中のガスが反応し、電
極の質量が変化することによりおこる。このため高信頼
性の水晶振動子では第２の電極９に化学的に安定なＡｕ
を用いることが多い。
【０００５】ベ−ス２の水晶電極３ａ、３ｂと水晶片１
の支持・接続電極６ａ、６ｂとの支持・接続を行う導電
性接着剤７は樹脂、フィラ−、溶剤から形成される。水
晶片１を支持・接続する導電性接着剤７の樹脂の種類と
してはエポキシ系、ウレタン系、シリコ−ン系、ポリイ
ミド系等がある。エポキシ系は硬化物が硬いため、衝撃
を受けた場合に衝撃を吸収することができず、水晶片１
の外れや折れが発生し、水晶振動子の発振停止につなが
る。また、樹脂の耐熱性がないため高温（約２５０℃）
にすると樹脂が熱分解をおこしてしまう。このためエ−
ジング特性向上のための脱ガス処理工程や低融点ガラス
による封止工程等の樹脂が高温に晒される工程がある場
合は不適である。ウレタン系は硬化物の硬さは柔軟で耐
衝撃性は良好だが、エポキシ系と同様で樹脂の耐熱性が
ないため樹脂が高温に晒される工程がある場合は不適で
ある。ポリイミド系は樹脂の耐熱性は高いが、エポキシ
と同様で硬化物が硬いため耐衝撃性が悪い。シリコ−ン
系は硬化物が最も柔軟なため耐衝撃性は良好で、樹脂の
耐熱性も比較的あるため高信頼性の水晶振動子に用いら
れることが多い。導電性接着剤７に導電性を付与するフ
ィラ−としてはＡｇ、Ｃｕ（銅）、カ−ボン、グラファ
イト等があるが、一般的にはＡｇが用いられる。導電性
接着剤７の導電性は樹脂が硬化した際の体積収縮と溶剤
の蒸発によりフィラ−が互いに鎖状に連結することで得
られる。溶剤は作業性を向上するために加えられ、主に
粘度調整の役割をはたす。
の支持・接続電極６ａ、６ｂとの支持・接続を行う導電
性接着剤７は樹脂、フィラ−、溶剤から形成される。水
晶片１を支持・接続する導電性接着剤７の樹脂の種類と
してはエポキシ系、ウレタン系、シリコ−ン系、ポリイ
ミド系等がある。エポキシ系は硬化物が硬いため、衝撃
を受けた場合に衝撃を吸収することができず、水晶片１
の外れや折れが発生し、水晶振動子の発振停止につなが
る。また、樹脂の耐熱性がないため高温（約２５０℃）
にすると樹脂が熱分解をおこしてしまう。このためエ−
ジング特性向上のための脱ガス処理工程や低融点ガラス
による封止工程等の樹脂が高温に晒される工程がある場
合は不適である。ウレタン系は硬化物の硬さは柔軟で耐
衝撃性は良好だが、エポキシ系と同様で樹脂の耐熱性が
ないため樹脂が高温に晒される工程がある場合は不適で
ある。ポリイミド系は樹脂の耐熱性は高いが、エポキシ
と同様で硬化物が硬いため耐衝撃性が悪い。シリコ−ン
系は硬化物が最も柔軟なため耐衝撃性は良好で、樹脂の
耐熱性も比較的あるため高信頼性の水晶振動子に用いら
れることが多い。導電性接着剤７に導電性を付与するフ
ィラ−としてはＡｇ、Ｃｕ（銅）、カ−ボン、グラファ
イト等があるが、一般的にはＡｇが用いられる。導電性
接着剤７の導電性は樹脂が硬化した際の体積収縮と溶剤
の蒸発によりフィラ−が互いに鎖状に連結することで得
られる。溶剤は作業性を向上するために加えられ、主に
粘度調整の役割をはたす。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】一般的にシリコーン系
の導電性接着剤はＡｕとの接着性が悪いことが知られて
いる。金属と接着剤の接着性は、接着剤の金属に対する
濡れ性と金属表面の酸化膜層と接着剤中の水酸基との水
素結合に依存する。シリコーン系の導電性接着剤はＡｕ
に対する濡れ性が悪い。また、Ａｕは化学的に安定なた
め表面に酸化膜層を作ることがなく、接着剤中の水酸基
と水素結合することがない。これらがシリコーン系の導
電性接着剤とＡｕの接着性が悪い原因である。このため
第２の電極９がＡｕの場合、耐衝撃性が悪くなる。
の導電性接着剤はＡｕとの接着性が悪いことが知られて
いる。金属と接着剤の接着性は、接着剤の金属に対する
濡れ性と金属表面の酸化膜層と接着剤中の水酸基との水
素結合に依存する。シリコーン系の導電性接着剤はＡｕ
に対する濡れ性が悪い。また、Ａｕは化学的に安定なた
め表面に酸化膜層を作ることがなく、接着剤中の水酸基
と水素結合することがない。これらがシリコーン系の導
電性接着剤とＡｕの接着性が悪い原因である。このため
第２の電極９がＡｕの場合、耐衝撃性が悪くなる。
【０００７】被着体と導電性接着剤間の導電性は接着性
に依存し、接着性が良いほど抵抗値は低下する。第２の
電極９がＡｕの場合、シリコーン系の導電性接着剤７の
接着性が悪いため、水晶振動子のＣＩ値が悪くなる。
に依存し、接着性が良いほど抵抗値は低下する。第２の
電極９がＡｕの場合、シリコーン系の導電性接着剤７の
接着性が悪いため、水晶振動子のＣＩ値が悪くなる。
【０００８】本発明は、これらの課題を解決する圧電振
動子及びその製造方法を提供することを目的としてい
る。
動子及びその製造方法を提供することを目的としてい
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】圧電素子を収容するケ−
スに形成された電極と圧電素子に形成された電極の支持
・接続電極部を導電性接着剤によって支持・接続する圧
電振動子において、前記圧電素子に形成された前記支持
・接続電極部の表面を前記導電性接着剤と接着性の良い
金属層で形成し、その他の電極部の表面を金層で形成し
た圧電振動子とする。
スに形成された電極と圧電素子に形成された電極の支持
・接続電極部を導電性接着剤によって支持・接続する圧
電振動子において、前記圧電素子に形成された前記支持
・接続電極部の表面を前記導電性接着剤と接着性の良い
金属層で形成し、その他の電極部の表面を金層で形成し
た圧電振動子とする。
【００１０】圧電素子を収容するケ−スに形成された電
極と圧電素子に形成された支持・接続電極を支持・接続
する導電性接着剤として、シリコーン系の導電性接着剤
を用いる圧電振動子とする。
極と圧電素子に形成された支持・接続電極を支持・接続
する導電性接着剤として、シリコーン系の導電性接着剤
を用いる圧電振動子とする。
【００１１】圧電素子に形成された支持・接続電極の表
面に形成される導電性接着剤と接着性の良い金属層とし
て、銀層を用いる圧電振動子とする。
面に形成される導電性接着剤と接着性の良い金属層とし
て、銀層を用いる圧電振動子とする。
【００１２】圧電素子上に金属を積層することにより電
極を形成する圧電振動子の製造方法において、電極（励
振電極・引出電極・支持・接続電極等）を形成する工程
と支持・接続電極部の表面に導電性接着剤と接着性の良
い金属層を形成する工程を有する製造方法とする。
極を形成する圧電振動子の製造方法において、電極（励
振電極・引出電極・支持・接続電極等）を形成する工程
と支持・接続電極部の表面に導電性接着剤と接着性の良
い金属層を形成する工程を有する製造方法とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下図面により本発明の実施例を
説明する。図４は本発明の実施形態を示したものであ
り、ベ−ス２に塔載される前の水晶片１の上面図であ
る。水晶片１の表裏面には励振電極４、引出電極５、支
持・接続電極が形成されている。励振電極４から外周部
に向かって引出電極５が延出し、支持・接続電極６ａ、
６ｂに接続している。
説明する。図４は本発明の実施形態を示したものであ
り、ベ−ス２に塔載される前の水晶片１の上面図であ
る。水晶片１の表裏面には励振電極４、引出電極５、支
持・接続電極が形成されている。励振電極４から外周部
に向かって引出電極５が延出し、支持・接続電極６ａ、
６ｂに接続している。
【００１４】図５は本発明の実施形態の水晶片の電極構
造を示すための断面図であり、（ａ）は支持・接続電極
６ａ、６ｂ部、（ｂ）はそれ以外の電極部（励振電極４
と引出電極５）の電極構造を示している。なお、図は理
解を容易とするために、各電極層の厚みを誇張して描い
ている。支持・接続電極６ａ、６ｂの電極の構造は水晶
片１の上にＣｒあるいはＮｉ等からなる第１の電極層８
とＡｕからなる第２の電極層９とＡｇからなる第３の電
極層１０の３層構造となっている。それ以外の電極（励
振電極４と引出電極５）の電極の構造は水晶片１の上に
ＣｒあるいはＮｉ等からなる第１の電極層８とＡｕから
なる第２の電極層９の２層構造となっている。
造を示すための断面図であり、（ａ）は支持・接続電極
６ａ、６ｂ部、（ｂ）はそれ以外の電極部（励振電極４
と引出電極５）の電極構造を示している。なお、図は理
解を容易とするために、各電極層の厚みを誇張して描い
ている。支持・接続電極６ａ、６ｂの電極の構造は水晶
片１の上にＣｒあるいはＮｉ等からなる第１の電極層８
とＡｕからなる第２の電極層９とＡｇからなる第３の電
極層１０の３層構造となっている。それ以外の電極（励
振電極４と引出電極５）の電極の構造は水晶片１の上に
ＣｒあるいはＮｉ等からなる第１の電極層８とＡｕから
なる第２の電極層９の２層構造となっている。
【００１５】図６は本発明の実施形態の製造方法を説明
するためのものであり、電極４、５、６ａ、６ｂを形成
する各工程で使用するマスクを示したものである。電極
４、５、６ａ、６ｂを形成する第一の工程として、励振
電極４、引出電極５、支持・接続電極６ａ、６ｂの形状
の開口部を有するマスクＡ１１、マスクＢ１２で水晶片
１を挟持し、真空蒸着またはスパッタリングにより前記
開口部から水晶片１の表面にＣｒあるいはＮｉ等からな
る第１の電極層８とＡｕからなる第２の電極層９を積層
する。第２の工程として、マスクＡ１１を取り外し、支
持・接続電極６ａ、６ｂの形状の開口部を有するマスク
Ｃ１３とマスクＢ１２で水晶片１を狭持、マスクＢ１２
の上には開口部のないプレ−ト１４を積層する。このと
きマスクＣ１３の開口部と第１の工程で形成された支持
・接続電極６ａ、６ｂの位置関係は一致している。そし
て、第一の工程で形成された支持・接続電極６ａ、６ｂ
の第２の電極層９（Ａｕ）の上にＡｇによる第３の電極
層１０を形成し、支持・接続電極部６ａ、６ｂ（支持・
接続側のみ）を３層構造とする。電極４、５、６ａ、６
ｂが形成された水晶片１は、水晶片１を収容するベ−ス
２に形成された水晶電極３ａ、３ｂと水晶片１に形成さ
れた前記支持・接続電極６ａ、６ｂ（３層構造側）をシ
リコーン系の導電性接着剤７を用いて支持・接続した
後、所定の工程を経て水晶振動子として完成される。
するためのものであり、電極４、５、６ａ、６ｂを形成
する各工程で使用するマスクを示したものである。電極
４、５、６ａ、６ｂを形成する第一の工程として、励振
電極４、引出電極５、支持・接続電極６ａ、６ｂの形状
の開口部を有するマスクＡ１１、マスクＢ１２で水晶片
１を挟持し、真空蒸着またはスパッタリングにより前記
開口部から水晶片１の表面にＣｒあるいはＮｉ等からな
る第１の電極層８とＡｕからなる第２の電極層９を積層
する。第２の工程として、マスクＡ１１を取り外し、支
持・接続電極６ａ、６ｂの形状の開口部を有するマスク
Ｃ１３とマスクＢ１２で水晶片１を狭持、マスクＢ１２
の上には開口部のないプレ−ト１４を積層する。このと
きマスクＣ１３の開口部と第１の工程で形成された支持
・接続電極６ａ、６ｂの位置関係は一致している。そし
て、第一の工程で形成された支持・接続電極６ａ、６ｂ
の第２の電極層９（Ａｕ）の上にＡｇによる第３の電極
層１０を形成し、支持・接続電極部６ａ、６ｂ（支持・
接続側のみ）を３層構造とする。電極４、５、６ａ、６
ｂが形成された水晶片１は、水晶片１を収容するベ−ス
２に形成された水晶電極３ａ、３ｂと水晶片１に形成さ
れた前記支持・接続電極６ａ、６ｂ（３層構造側）をシ
リコーン系の導電性接着剤７を用いて支持・接続した
後、所定の工程を経て水晶振動子として完成される。
【００１６】表１は本実施例と比較例の水晶振動子の構
成及び諸特性を示したものである。比較した水晶振動子
は水晶片１を積層セラミックのベ−ス２に収容し、前記
ベ−ス２とセラミックのカバ−を低融点ガラスで封止し
たもので、周波数は３３ＭＨｚのものである。電極構造
は第１の電極８、第２の電極９ともＣｒ／Ａｇで支持
・接続電極部６ａ、６ｂもＣｒ／Ａｇ、第１の電極
８、第２の電極９ともＮｉ／Ａｕで支持・接続電極部６
ａ、６ｂもＮｉ／Ａｕ、第１の電極８、第２の電極９
ともＮｉ／Ａｕで支持・接続電極部６ａ、６ｂの支持・
接続側のみがＮｉ／Ａｕ／Ａｇ（本実施例）の３種類の
試料を作製した。比較した特性はＣＩ値、８５℃ １０
００時間放置後の共振周波数のシフト量（Δｆ）とＣＩ
値変化量（ΔＣＩ）、衝撃試験後の共振周波数のシフト
量（Δｆ）、ＣＩ値変化量（ΔＣＩ）及び発振停止数で
ある。
成及び諸特性を示したものである。比較した水晶振動子
は水晶片１を積層セラミックのベ−ス２に収容し、前記
ベ−ス２とセラミックのカバ−を低融点ガラスで封止し
たもので、周波数は３３ＭＨｚのものである。電極構造
は第１の電極８、第２の電極９ともＣｒ／Ａｇで支持
・接続電極部６ａ、６ｂもＣｒ／Ａｇ、第１の電極
８、第２の電極９ともＮｉ／Ａｕで支持・接続電極部６
ａ、６ｂもＮｉ／Ａｕ、第１の電極８、第２の電極９
ともＮｉ／Ａｕで支持・接続電極部６ａ、６ｂの支持・
接続側のみがＮｉ／Ａｕ／Ａｇ（本実施例）の３種類の
試料を作製した。比較した特性はＣＩ値、８５℃ １０
００時間放置後の共振周波数のシフト量（Δｆ）とＣＩ
値変化量（ΔＣＩ）、衝撃試験後の共振周波数のシフト
量（Δｆ）、ＣＩ値変化量（ΔＣＩ）及び発振停止数で
ある。
【００１７】
【表１】
【００１８】その結果、ＣＩ値は本実施例がＮｉ／Ａ
ｕの２層構造のものに比較して約５Ω低い値を示し、
電極４、５、６ａ、６ｂがＣｒ／Ａｇの２層構造のもの
とほぼ同等となり、より電気的特性の向上が確認で
きた。また、衝撃試験後の発振停止数も本実施例は０
個であり、支持・接続電極６ａ、６ｂがＮｉ／Ａｕの２
層構造のものに比較して機械的な強度も向上してい
る。衝撃試験後の共振周波数のシフト量（Δｆ）、ＣＩ
値変化量（ΔＣＩ）は支持・接続電極６ａ、６ｂがＮｉ
／Ａｕの２層構造のものが若干良好であるが、この程
度の差異であれば全く問題なく、耐衝撃性では発振停止
に至らないことが最も重要である。８５℃１０００時間
放置後の共振周波数のシフト量（Δｆ）とＣＩ値変化量
（ΔＣＩ）はＮｉ／Ａｕの２層構造のものとほぼ同等
である。
ｕの２層構造のものに比較して約５Ω低い値を示し、
電極４、５、６ａ、６ｂがＣｒ／Ａｇの２層構造のもの
とほぼ同等となり、より電気的特性の向上が確認で
きた。また、衝撃試験後の発振停止数も本実施例は０
個であり、支持・接続電極６ａ、６ｂがＮｉ／Ａｕの２
層構造のものに比較して機械的な強度も向上してい
る。衝撃試験後の共振周波数のシフト量（Δｆ）、ＣＩ
値変化量（ΔＣＩ）は支持・接続電極６ａ、６ｂがＮｉ
／Ａｕの２層構造のものが若干良好であるが、この程
度の差異であれば全く問題なく、耐衝撃性では発振停止
に至らないことが最も重要である。８５℃１０００時間
放置後の共振周波数のシフト量（Δｆ）とＣＩ値変化量
（ΔＣＩ）はＮｉ／Ａｕの２層構造のものとほぼ同等
である。
【００１９】本実施例では導電性接着剤と接着性の良い
金属層は銀層で説明したが、ＣｒやＮｉを使用しても同
様な効果が得られる。
金属層は銀層で説明したが、ＣｒやＮｉを使用しても同
様な効果が得られる。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、圧電素子を収容するケ
−スに形成された電極と圧電素子に形成された電極の支
持・接続電極部を導電性接着剤によって支持・接続する
圧電振動子において、前記圧電素子に形成された前記支
持・接続電極部の表面に前記導電性接着剤と接着性の良
い金属層で形成し、その他の電極部の表面を金層で形成
したため、エ−ジング特性を劣化することなく、ＣＩ値
と耐衝撃性を向上した高信頼性の圧電振動子を得ること
ができる。
−スに形成された電極と圧電素子に形成された電極の支
持・接続電極部を導電性接着剤によって支持・接続する
圧電振動子において、前記圧電素子に形成された前記支
持・接続電極部の表面に前記導電性接着剤と接着性の良
い金属層で形成し、その他の電極部の表面を金層で形成
したため、エ−ジング特性を劣化することなく、ＣＩ値
と耐衝撃性を向上した高信頼性の圧電振動子を得ること
ができる。
【００２１】支持・接続電極部以外の電極を金層にしな
がら導電性接着剤としてシリコーン系の接着剤を使用で
きるので、エ−ジング特性を劣化することなく、ＣＩ値
と耐衝撃性を向上した高信頼性の圧電振動子を得ること
ができる。
がら導電性接着剤としてシリコーン系の接着剤を使用で
きるので、エ−ジング特性を劣化することなく、ＣＩ値
と耐衝撃性を向上した高信頼性の圧電振動子を得ること
ができる。
【００２２】接着性の良い金属の材料として銀を使用す
ることで、他の金属より真空蒸着やスパッタリングでの
膜形成が容易（成膜レートが大きくできるので短時間で
成膜できる）で、電気抵抗の少ない膜ができる。
ることで、他の金属より真空蒸着やスパッタリングでの
膜形成が容易（成膜レートが大きくできるので短時間で
成膜できる）で、電気抵抗の少ない膜ができる。
【００２３】電極形成時にマスクを交換するだけで支持
・接続電極部の表面のみにその他の電極部の表面とは異
なる金属層とすることができる。
・接続電極部の表面のみにその他の電極部の表面とは異
なる金属層とすることができる。
【図１】従来技術を示したカバ−を外したＡＴカット水
晶振動子の上面図
晶振動子の上面図
【図２】図１の断面図
【図３】従来技術の電極の構造を示す断面図
【図４】実施形態のベ−スに塔載される前の水晶片の上
面図
面図
【図５】実施形態の電極の構造を示す断面図
（ａ）支持・接続電極部（ｂ）それ以外の電極部（励振
電極と引出電極）
電極と引出電極）
【図６】実施形態の電極を形成する各工程で使用するマ
スク
スク
１ 水晶片（圧電素子）
２ ベ−ス
３ａ、３ｂ 水晶電極
４ 励振電極
５ 引出電極
６ａ、６ｂ 支持・接続電極
７ 導電性接着剤
８ 第１の電極層
９ 第２の電極層
１０ 第３の電極層
１１ マスクＡ
１２ マスクＢ
１３ マスクＣ
１６ プレ−ト
Claims (4)
- 【請求項１】 圧電素子を収容するケ−スに形成された
電極と圧電素子に形成された電極の支持・接続電極部を
導電性接着剤によって支持・接続する圧電振動子におい
て、前記圧電素子に形成された前記支持・接続電極部の
表面を前記導電性接着剤と接着性の良い金属層で形成
し、その他の電極部の表面を金層で形成したことを特徴
とする圧電振動子。 - 【請求項２】 導電性接着剤がシリコーン系の導電性接
着剤であることを特徴とする請求項１記載の圧電振動
子。 - 【請求項３】 圧電素子に形成された支持・接続電極の
表面に形成される導電性接着剤と接着性の良い金属層が
銀層であることを特徴とする請求項１または２記載の圧
電振動子。 - 【請求項４】 圧電素子上に金属を積層することにより
電極を形成する圧電振動子の製造方法において、電極を
形成する工程と支持・接続電極部の表面に導電性接着剤
と接着性の良い金属層を形成する工程を有することを特
徴とする圧電振動子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002021101A JP2003224444A (ja) | 2002-01-30 | 2002-01-30 | 圧電振動子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002021101A JP2003224444A (ja) | 2002-01-30 | 2002-01-30 | 圧電振動子及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003224444A true JP2003224444A (ja) | 2003-08-08 |
Family
ID=27744430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002021101A Pending JP2003224444A (ja) | 2002-01-30 | 2002-01-30 | 圧電振動子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003224444A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012114536A (ja) * | 2010-11-22 | 2012-06-14 | Daishinku Corp | 圧電振動子 |
| JP2013246840A (ja) * | 2012-05-23 | 2013-12-09 | Nhk Spring Co Ltd | ディスク装置用サスペンションの配線部材と、ディスク装置用サスペンション |
-
2002
- 2002-01-30 JP JP2002021101A patent/JP2003224444A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012114536A (ja) * | 2010-11-22 | 2012-06-14 | Daishinku Corp | 圧電振動子 |
| JP2013246840A (ja) * | 2012-05-23 | 2013-12-09 | Nhk Spring Co Ltd | ディスク装置用サスペンションの配線部材と、ディスク装置用サスペンション |
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