JP2003221429A - Active ray-curing polyimide resin composition - Google Patents

Active ray-curing polyimide resin composition

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JP2003221429A JP2002158418A JP2002158418A JP2003221429A JP 2003221429 A JP2003221429 A JP 2003221429A JP 2002158418 A JP2002158418 A JP 2002158418A JP 2002158418 A JP2002158418 A JP 2002158418A JP 2003221429 A JP2003221429 A JP 2003221429A
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洋三 山科
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an active ray-curing polyimide resin composition having heat resistance, capable of patterning with an aqueous dilution alkaline solution and soluble in organic solvents. <P>SOLUTION: The active ray-curing polyimide resin composition comprises (I) a polymerizable polyimide resin and, if necessary, (II) an organic solvent, (III) an epoxy resin and (IV) a photopolymerization initiator, wherein the polymerizable polyimide resin contains an isocyanurate ring, a cyclic aliphatic structure, an imide ring and a (meth)acryloyl group and allows of patterning with an aqueous dilution alkaline solution, preferably the isocyanurate ring having a concentration of 0.4-1.2 mmol/g, the (meth)acryloyl group having a concentration of 0.3-4 mmol/g, the polyimide resin having an acid value of 20-250, a number-average molecular weight of 1,000-20,000 and a weight-average molecular weight of 1,500-30,000. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐熱性、溶剤溶解
性、高温下での耐湿性に優れ、希アルカリ水溶液による
現像が可能な活性エネルギー線硬化型ポリイミド樹脂組
成物に関するものである。さらに詳細には、各種のネガ
タイプレジスト、例えば、ソルダーレジスト、メッキレ
ジスト、ビルドアップ法プリント基板や半導体素子の絶
縁層用レジスト等のパターンニング材料等に最適に用い
ることができる活性エネルギー線硬化型ポリイミド樹脂
組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active energy ray-curable polyimide resin composition which has excellent heat resistance, solvent solubility, and moisture resistance at high temperatures and which can be developed with a dilute aqueous alkali solution. More specifically, active energy ray curable polyimide that can be optimally used for various negative type resists such as solder resists, plating resists, patterning materials such as build-up method printed circuit boards and resists for insulating layers of semiconductor elements. It relates to a resin composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】紫外線や電子線で硬化する活性エネルギ
ー線硬化型樹脂は、その硬化速度が速く、環境保護の点
で好ましいことから、従来の熱硬化型樹脂や熱可塑性樹
脂からの代替が進んでいる。こうした中、各種分野にお
いて活性エネルギー線硬化型樹脂の耐熱性や電気特性の
向上が要求されている。現在、活性エネルギー線硬化型
樹脂は、エステルアクリレート樹脂、エポキシアクリレ
ート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂等の多種多様にわ
たっているが、特に耐熱性の向上には限界があった。
2. Description of the Related Art Active energy ray curable resins that are cured by ultraviolet rays or electron beams have a fast curing rate and are preferable from the viewpoint of environmental protection. Therefore, they are being replaced by conventional thermosetting resins and thermoplastic resins. I'm out. Under these circumstances, improvement in heat resistance and electric characteristics of active energy ray-curable resins is required in various fields. Currently, there are a wide variety of active energy ray curable resins such as ester acrylate resins, epoxy acrylate resins, and urethane acrylate resins, but there is a limit to the improvement of heat resistance.

【0003】耐熱性の改善された活性エネルギー線硬化
型樹脂としては、例えば、特開2000−344889
号公報に、3官能以上の芳香族カルボン酸及び/又はそ
の無水物と、ポリイソシアネート化合物と、重合性二重
結合と水酸基及び/又はエポキシ基を有する化合物とを
反応させる活性エネルギー線硬化型ポリイミド樹脂の製
造方法が開示されている。この公報には、耐熱性、溶剤
溶解性、活性エネルギー線硬化性、現像性等に優れるポ
リイミド樹脂が得られること、この製造方法で用いるポ
リイソシアネート化合物としては、ビュレット体やヌレ
ート体も使用可能であること、溶剤溶解性や硬化性に優
れるイミド樹脂が得られることから脂肪族又は脂環式の
ポリイソシアネートが好ましいこと等の記載がある。ま
た、この公報の実施例には、ポリイソシアネート化合物
として環状脂肪族ジイソシアネートを用いたポリイミド
樹脂の製造方法が記載されている。
Examples of the active energy ray curable resin having improved heat resistance include, for example, JP-A-2000-344889.
Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2003-242242, an active energy ray-curable polyimide for reacting a tri- or more functional aromatic carboxylic acid and / or its anhydride, a polyisocyanate compound, and a compound having a polymerizable double bond and a hydroxyl group and / or an epoxy group. A method of making a resin is disclosed. In this publication, it is possible to obtain a polyimide resin having excellent heat resistance, solvent solubility, active energy ray curability, developability, etc., and as the polyisocyanate compound used in this production method, a buret body or a nurate body can also be used. There is a description that an aliphatic or alicyclic polyisocyanate is preferable because an imide resin excellent in solvent solubility and curability can be obtained. In addition, the examples of this publication describe a method for producing a polyimide resin using a cycloaliphatic diisocyanate as a polyisocyanate compound.

【0004】しかし、前記特開2000−344889
号公報の実施例で得られるポリイミド樹脂は、エステル
アクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ウレタ
ンアクリレート樹脂等に比べて耐熱性が良好であるが、
まだ充分ではないという問題がある。
However, the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 2000-344889.
The polyimide resin obtained in the examples of the publication has better heat resistance than ester acrylate resin, epoxy acrylate resin, urethane acrylate resin, etc.
There is a problem that it is not enough.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、十分
な耐熱性を有し、希アルカリ水溶液でのパターニングが
可能で、しかも、溶剤として通常の有機溶剤、例えば窒
素原子及び硫黄原子を含有しない極性溶剤を使用するこ
ともできる活性エネルギー線硬化型ポリイミド樹脂組成
物を提供することにある。
The object of the present invention is to have sufficient heat resistance, patterning with a dilute alkaline aqueous solution is possible, and a solvent containing a usual organic solvent such as a nitrogen atom and a sulfur atom. Another object of the present invention is to provide an active energy ray-curable polyimide resin composition which can also use a polar solvent which does not.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記課題
に鑑みて鋭意検討を重ねた結果、イソシアヌレート環と
環式脂肪族構造とイミド環と(メタ)アクリロイル基と
を有し、希アルカリ水溶液でパターニングが可能な重合
性ポリイミド樹脂(I)は、耐熱性が特に良好で、有機
溶剤溶解性に優れ、希アルカリ水溶液でのパターニング
が可能であると共に、120℃以上の高温においても耐
湿性に優れる樹脂であり、これを含有させることでレジ
スト等の用途に好適な活性エネルギー線硬化型ポリイミ
ド樹脂組成物が容易に得られることを見出し、本発明を
完成させるに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventors have an isocyanurate ring, a cycloaliphatic structure, an imide ring, and a (meth) acryloyl group, The polymerizable polyimide resin (I) capable of patterning with a dilute aqueous alkali solution has particularly good heat resistance, excellent solubility in organic solvents, can be patterned with a dilute aqueous alkali solution, and can be used even at a high temperature of 120 ° C. or higher. They have found that an active energy ray-curable polyimide resin composition suitable for applications such as resists can be easily obtained by containing it as a resin having excellent moisture resistance, and completed the present invention.

【0007】すなわち、本発明は、イソシアヌレート環
と環式脂肪族構造とイミド環と(メタ)アクリロイル基
とを有し、希アルカリ水溶液でパターニングが可能な重
合性ポリイミド樹脂(I)を含有することを特徴とす
る、活性エネルギー線硬化型ポリイミド樹脂組成物を提
供するものである。
That is, the present invention contains a polymerizable polyimide resin (I) which has an isocyanurate ring, a cycloaliphatic structure, an imide ring and a (meth) acryloyl group and which can be patterned with a dilute aqueous alkaline solution. The present invention provides an active energy ray-curable polyimide resin composition.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明で用いる重合性ポリイミド樹脂(I)としては、
イソシアヌレート環と環式脂肪族構造とイミド環と(メ
タ)アクリロイル基とを有し、希アルカリ水溶液でパタ
ーニングが可能な重合性ポリイミド樹脂(I)重合性ポ
リイミド樹脂であればよく、特に限定されるものではな
く、例えば、イソシアヌレート環の濃度が0.4〜1.
2mmol/g(樹脂固形分換算)で、(メタ)アクリロ
イル基の濃度が0.3〜4mmol/g(樹脂固形分換
算)で、酸価が20〜250(樹脂固形分換算)で、数平
均分子量が1,000〜20,000で、かつ、重量平均
分子量が1,500〜30,000の重合性ポリイミド
樹脂が挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is described in detail below.
As the polymerizable polyimide resin (I) used in the present invention,
A polymerizable polyimide resin (I) which has an isocyanurate ring, a cycloaliphatic structure, an imide ring, and a (meth) acryloyl group and can be patterned with a dilute alkaline aqueous solution, may be any polymerizable polyimide resin, and is not particularly limited. For example, the concentration of the isocyanurate ring is 0.4 to 1.
2 mmol / g (resin solid content conversion), (meth) acryloyl group concentration is 0.3 to 4 mmol / g (resin solid content conversion), acid value is 20 to 250 (resin solid content conversion), number average A polymerizable polyimide resin having a molecular weight of 1,000 to 20,000 and a weight average molecular weight of 1,500 to 30,000 can be used.

【0009】これら重合性イミド樹脂のなかでも、有機
溶剤溶解性や耐熱性が良好で、レジスト用として用いた
場合に希アルカリ水溶液でのパターニングが容易なこと
から、イソシアヌレート環の濃度が0.6〜1.1mm
ol/gで、(メタ)アクリロイル基の濃度が0.7〜
3mmol/gで、酸価が50〜180で、数平均分子
量が1,500〜6,000で、かつ、重量平均分子量
が3,000〜15,000のポリイミド樹脂が特に好
ましい。
Among these polymerizable imide resins, the solubility of the organic solvent and the heat resistance are good, and the patterning with a dilute alkaline aqueous solution is easy when used as a resist. 6 to 1.1 mm
ol / g, the concentration of the (meth) acryloyl group is 0.7 to
A polyimide resin having 3 mmol / g, an acid value of 50 to 180, a number average molecular weight of 1,500 to 6,000, and a weight average molecular weight of 3,000 to 15,000 is particularly preferable.

【0010】また、前記ポリイミド樹脂(I)中のイソ
シアヌレート環としては、環式脂肪族ジイソシアネート
化合物から誘導されるイソシアヌレート環含有ポリイソ
シアネート化合物に由来するイソシアヌレート環である
ことが好ましい。この場合、本発明で用いる重合性ポリ
イミド樹脂は、通常イソシアヌレート環の1モルに対し
て該環式脂肪族ジイソシアネート化合物由来の環式脂肪
族構造を2〜3モル倍有するものとなる。なかでも、該
環式脂肪族構造を2.5〜3モル倍有するものであるこ
とがより好ましく、多いほどよい。
The isocyanurate ring in the polyimide resin (I) is preferably an isocyanurate ring derived from an isocyanurate ring-containing polyisocyanate compound derived from a cycloaliphatic diisocyanate compound. In this case, the polymerizable polyimide resin used in the present invention usually has 2 to 3 moles of the cycloaliphatic structure derived from the cycloaliphatic diisocyanate compound with respect to 1 mole of the isocyanurate ring. Above all, it is more preferable that the amount of the cyclic aliphatic structure is 2.5 to 3 times, and the more the amount is the better.

【0011】なお、本発明において、脂肪族構造重合性
イミド樹脂(I)のイソシアヌレート環の濃度、(メ
タ)アクリロイル基の濃度、酸価、数平均分子量、およ
び、重量平均分子量は、以下の方法で測定したものであ
る。
In the present invention, the isocyanurate ring concentration, the (meth) acryloyl group concentration, the acid value, the number average molecular weight, and the weight average molecular weight of the aliphatic structure polymerizable imide resin (I) are as follows. It was measured by the method.

【0012】(1)イソシアヌレート環の濃度:13C−
NMR分析〔溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド(D
MSO−d)を行い、149ppmにあるイソシアヌ
レート環に起因する炭素原子のスペクトル強度から検量
線を用いて重合性ポリイミド樹脂(I)1g当たりのイ
ソシアヌレート環の濃度(mmol)を求める。なお、
13C−NMR分析により169ppmにあるイミド環
に起因する炭素原子のスペクトル強度から同様にイミド
環の濃度を求めることもできる。 (2)(メタ)アクリレート基の濃度:理論的に不飽和結
合1モルに対して160gの臭素が付加される関係を利
用し、ポリイミド樹脂(I)中の臭素価を測定すること
で重合性ポリイミド樹脂(I)1g当たりの(メタ)ア
クリロイル基の濃度(mmol)を算出する。臭素価
は、JIS K−2605に記載された方法で測定し、
一般的には試料100g中の不飽和結合に付加された臭
素のグラム数で表記されるため、得られた臭素価の値を
16で割ることにより(メタ)アクリレート基の濃度
(mmol/g)を求める。 (3)酸価:JIS K−5601−2−1に準じて測定
する。尚、試料の希釈溶剤としては、無水酸の酸価も測
定できるようにアセトン/水(9/1体積比)の混合溶剤
で酸価0のものを使用する。 (4)数平均分子量と重量平均分子量:ゲルパーミネーシ
ョンクロマトグラフィー(GPC)によりポリスチレン
換算の数平均分子量と重量平均分子量を求める。
(1) Concentration of isocyanurate ring: 13 C-
NMR analysis [solvent: deuterated dimethyl sulfoxide (D
MSO-d 6) performed to determine the concentration of isocyanurate ring of the polymerizable polyimide resin (I) per 1g using a calibration curve from the spectral intensity of carbon atoms due to isocyanurate ring (mmol) in 149 ppm. In addition,
Similarly, the concentration of the imide ring can be determined from the spectral intensity of carbon atoms originating from the imide ring at 169 ppm by 13 C-NMR analysis. (2) Concentration of (meth) acrylate group: Polymerization was performed by measuring the bromine number in the polyimide resin (I) by utilizing the relationship that 160 g of bromine is theoretically added to 1 mol of unsaturated bond. The concentration (mmol) of the (meth) acryloyl group per 1 g of the polyimide resin (I) is calculated. The bromine number is measured by the method described in JIS K-2605,
Generally, it is expressed by the number of grams of bromine added to the unsaturated bond in 100 g of the sample, and thus the value of the bromine number obtained is divided by 16 to determine the concentration of the (meth) acrylate group.
Calculate (mmol / g). (3) Acid value: measured according to JIS K-5601-2-1. As a diluent solvent for the sample, a mixed solvent of acetone / water (9/1 volume ratio) having an acid value of 0 is used so that the acid value of the anhydrous acid can be measured. (4) Number average molecular weight and weight average molecular weight: The polystyrene equivalent number average molecular weight and weight average molecular weight are determined by gel permeation chromatography (GPC).

【0013】本発明で用いる前記重合性ポリイミド樹脂
(I)の製造方法は、特に限定されないが、例えば、環
式脂肪族ジイソシアネート化合物から誘導されるイソシ
アヌレート環含有ポリイソシアネート化合物(A1)、
及び/又は、該ポリイソシアネート化合物(A1)とポ
リオール化合物(a2)とから得られる末端にイソシアネ
ート基を有するウレタンプレポリマー(A2)を含有す
るポリイソシアネート化合物(A)と、3個以上のカル
ボキシル基を有するポリカルボン酸の酸無水物(B)と
を有機溶剤中で反応させ、次いで、(メタ)アクリロイ
ル基と水酸基を有する化合物(C1)及び/又は(メ
タ)アクリロイル基とエポキシ基を有する化合物(C
2)を反応させる方法が挙げられる。
The method for producing the polymerizable polyimide resin (I) used in the present invention is not particularly limited, but for example, isocyanurate ring-containing polyisocyanate compound (A1) derived from a cycloaliphatic diisocyanate compound,
And / or a polyisocyanate compound (A) containing a urethane prepolymer (A2) having an isocyanate group at the terminal obtained from the polyisocyanate compound (A1) and the polyol compound (a2), and three or more carboxyl groups With an acid anhydride (B) of a polycarboxylic acid having a compound (C) having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group and / or a compound having a (meth) acryloyl group and an epoxy group. (C
The method of reacting 2) is mentioned.

【0014】この製造方法で用いるポリイソシアネート
化合物(A)は、環式脂肪族ジイソシアネート化合物か
ら誘導されるイソシアヌレート環含有ポリイソシアネー
ト化合物(A1)、及び/又は、該ポリイソシアネート
化合物(A1)とポリオール化合物(a2)とから得られ
る末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマ
ー(A2)を含有するものるものであればよいが、更に
必要により、ポリイソシアネート化合物(A1)及び/
又はウレタンプレポリマー(A2)以外のポリイソシア
ネート化合物(A3)を含有するものであってもよい。
The polyisocyanate compound (A) used in this production method is an isocyanurate ring-containing polyisocyanate compound (A1) derived from a cycloaliphatic diisocyanate compound, and / or the polyisocyanate compound (A1) and a polyol. Any compound containing a urethane prepolymer (A2) having an isocyanate group at the terminal obtained from the compound (a2) may be used, but if necessary, the polyisocyanate compound (A1) and / or
Alternatively, it may contain a polyisocyanate compound (A3) other than the urethane prepolymer (A2).

【0015】前記ポリイソシアネート化合物(A1)と
しては、例えば、環式脂肪族ジイソシアネート化合物を
含有するジイソシアネート化合物を第4級アンモニウム
塩等のイソシアヌレート化触媒の存在下あるいは非存在
下においてイソシアヌレート化することにより得られ
る、環式脂肪族ジイソシアネート化合物の3量体からな
るイソシアヌレート、5量体からなるイソシアヌレー
ト、7量体からなるイソシアヌレート等のイソシアヌレ
ート混合物挙げられる。これらポリイソシアネート化合
物(A1)のなかでも、環式脂肪族ジイソシアネート化
合物の3量体からなるイソシアヌレート、即ち、イソシ
アヌレート環を1個含有するトリイソシアネート化合物
を30重量%以上含有するものが耐熱性、耐湿性に優れ
る重合性ポリイミド樹脂が得られることから好ましく、
さらに、製造が容易で、耐熱性や高温高圧下での耐湿性
に優れる重合性ポリイミド樹脂が得られることから50
重量%以上、例えば50〜95重量%含有するものが特
に好ましい。
As the polyisocyanate compound (A1), for example, a diisocyanate compound containing a cycloaliphatic diisocyanate compound is isocyanurate in the presence or absence of an isocyanurate-forming catalyst such as a quaternary ammonium salt. As a result, an isocyanurate mixture such as an isocyanurate consisting of a trimer of a cycloaliphatic diisocyanate compound, an isocyanurate consisting of a pentamer, an isocyanurate consisting of a heptamer, and the like. Among these polyisocyanate compounds (A1), isocyanurate composed of a trimer of a cycloaliphatic diisocyanate compound, that is, a compound containing 30% by weight or more of a triisocyanate compound containing one isocyanurate ring is heat resistant. , Because it is possible to obtain a polymerizable polyimide resin having excellent moisture resistance,
Furthermore, since it is easy to produce and a polymerizable polyimide resin having excellent heat resistance and humidity resistance under high temperature and high pressure is obtained, 50
Those containing more than 50% by weight, for example 50 to 95% by weight, are particularly preferable.

【0016】前記環式脂肪族ジイソシアネート化合物を
含有するジイソシアネート化合物としては、環式脂肪族
ジイソシアネート化合物以外のジイソシアネート化合
物、例えば非環式脂肪族ジイソシアネート化合物を50
重量%以下の範囲で含有するものや、芳香族ジイソシア
ネートを30重量%以下の範囲で含有するものが挙げら
れるが、なかでも耐熱性と共に溶剤溶解性に優れる重合
性ポリイミド樹脂が得られることから、環式脂肪族ジイ
ソシアネート化合物の含有率は高いものが好ましく、通
常は環式脂肪族ジイソシアネート化合物の含有率が10
0重量%のものを用いる。環式脂肪族ジイソシアネート
化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネー
ト、4,4′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネー
ト、水添キシレンジイソシアネート、ノルボヌレンジイ
ソシアネート等が挙げられる。また、非環式脂肪族ジイ
ソシアネートとしては、例えば、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、リジンジイソシアネート、トリメチルヘキ
サンジイソシアネート等が挙げられる。これらは、それ
ぞれ、単独でも2種以上を用いてもよい。
As the diisocyanate compound containing the above-mentioned cycloaliphatic diisocyanate compound, a diisocyanate compound other than the cycloaliphatic diisocyanate compound, for example, an acyclic aliphatic diisocyanate compound is used.
Those containing in the range of less than or equal to wt% and those containing the aromatic diisocyanate in the range of less than or equal to 30% by weight, among others, since a polymerizable polyimide resin excellent in solvent solubility with heat resistance is obtained, It is preferable that the content of the cycloaliphatic diisocyanate compound is high, and normally, the content of the cycloaliphatic diisocyanate compound is 10 or less.
0% by weight is used. Examples of the cycloaliphatic diisocyanate compound include isophorone diisocyanate, 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate, norbonylene diisocyanate and the like. Further, examples of the acyclic aliphatic diisocyanate include hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, trimethylhexane diisocyanate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

【0017】さらに、前記ポリイソシアネート化合物
(A1)としては、イソシアネート基を5〜30重量%
含有するものであることが、硬化性、溶剤溶解性が良好
な重合性ポリイミド樹脂が得られることからより好まし
く、なかでも、イソシアネート基を10〜20重量%含
有するものであることが特に好ましい。
Further, the polyisocyanate compound (A1) contains 5 to 30% by weight of an isocyanate group.
It is more preferable that the resin composition contains the polymerizable polyimide resin having good curability and solvent solubility, and it is particularly preferable that the resin composition contains 10 to 20% by weight of an isocyanate group.

【0018】本発明で用いるウレタンプレポリマー(A
2)としては、前記ポリイソシアネート化合物(A1)
と、ポリオール化合物(a2)とを、ポリイソシアネー
ト化合物(A1)中のイソシアネート基が該ポリオール
化合物(a2)中の水酸基に対して過剰となるモル比で
反応させてから得られる末端にイソシアネート基を有す
るウレタンプレポリマー等が挙げられる。
The urethane prepolymer (A used in the present invention
As 2), the polyisocyanate compound (A1)
And a polyol compound (a2) are reacted at a molar ratio such that the isocyanate group in the polyisocyanate compound (A1) is in excess of the hydroxyl group in the polyol compound (a2), and an isocyanate group is formed at the terminal. Examples thereof include urethane prepolymers.

【0019】前記ポリオール化合物(a2)は、1分子
中に水酸基を2個以上有するポリオール化合物であれば
よく、特に限定されないが、なかでも、水酸基を2〜6
個有する化合物が好ましく、ジオール化合物であること
が特に好ましい。ポリオール化合物(a2)は、ポリイ
ソシアネート化合物(A1)とウレタン結合を介して樹
脂中に導入されるが、このようにポリオール化合物(a
2)をイミド樹脂骨格に導入することによって、イミド
樹脂のもつ凝集性や結晶性、溶媒溶解性等が改良され、
さらに現像の際の現像スピードや現像安定性等性能が良
好となる。
The above-mentioned polyol compound (a2) is not particularly limited as long as it is a polyol compound having two or more hydroxyl groups in one molecule, and above all, it has 2 to 6 hydroxyl groups.
A compound having an individual group is preferable, and a diol compound is particularly preferable. The polyol compound (a2) is introduced into the resin via the urethane bond with the polyisocyanate compound (A1).
By introducing 2) into the imide resin skeleton, the cohesiveness, crystallinity, solvent solubility, etc. of the imide resin are improved,
Further, performances such as development speed and development stability during development are improved.

【0020】一般にウレタン結合の導入は、耐熱特性の
悪化を引き起こす原因とされるが、前記のようなポリオ
ール化合物(a2)によるウレタン変性では、直接イソ
シアヌレート型ポリイソシアネート化合物と結合するこ
とと、イミド結合を有することにより、イミド樹脂の耐
熱性の悪化が防止され、良好な耐熱性を維持できる。
Generally, the introduction of urethane bond is considered to cause deterioration of heat resistance, but in the urethane modification with the polyol compound (a2) as described above, direct bonding with an isocyanurate type polyisocyanate compound and imide By having a bond, deterioration of heat resistance of the imide resin is prevented, and good heat resistance can be maintained.

【0021】かかるポリオール化合物(a2)として
は、例えば、アルキルポリオール、ポリエステルポリオ
ール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリ
オール、ウレタンポリオール、シリコンポリオール、ア
クリルポリオール、エポキシポリオール等が挙げられ
る。
Examples of the polyol compound (a2) include alkyl polyols, polyester polyols, polyether polyols, polycarbonate polyols, urethane polyols, silicone polyols, acrylic polyols, epoxy polyols and the like.

【0022】なかでも、ポリオール化合物(a2)とし
て、カルボキシル基を有するポリオール化合物(a2
1)を含有するポリオール化合物、即ち、カルボキシル
基を有するポリオール化合物(a21)の単独、又は該
ポリオール化合物(a21)とこれ以外のポリオール化
合物の混合物を用いると、現像性能の向上や、各種硬化
剤等の他の配合成分との相溶性の向上があるため好まし
い。
Among them, the polyol compound (a2) has a carboxyl group-containing polyol compound (a2).
When a polyol compound containing 1), that is, a polyol compound (a21) having a carboxyl group alone or a mixture of the polyol compound (a21) and another polyol compound is used, development performance is improved and various curing agents are used. It is preferable because it improves the compatibility with other compounding ingredients such as.

【0023】前記カルボキシル基を有するポリオール化
合物(a21)としては、下記一般式(1)に示される
化合物がさらに好ましい。
As the polyol compound (a21) having a carboxyl group, a compound represented by the following general formula (1) is more preferable.

【化1】 (但し、式中のRは、直接結合又は炭素原子数1〜6
の炭化水素鎖、RとR は、異なっていても同一であ
っても良く、炭素原子数1〜6の炭化水素鎖である。ま
た、Rは、水素原子又は炭素原子数1〜12のアルキ
ル基を示す。)
[Chemical 1] (However, R in the formula1Is a direct bond or 1 to 6 carbon atoms
Hydrocarbon chain of RTwoAnd R ThreeAre the same even if they are different
It may be a hydrocarbon chain having 1 to 6 carbon atoms. Well
RFourIs a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
Represents a radical. )

【0024】前記一般式(1)で示される化合物として
は、例えば、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロール
ブタン酸、ジメチロールペンタン酸、ジメチロールヘキ
サン酸、酒石酸等が挙げられる。
Examples of the compound represented by the general formula (1) include dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid, dimethylolpentanoic acid, dimethylolhexanoic acid and tartaric acid.

【0025】さらに、ポリオール化合物(a2)として
は、前記一般式(1)で示される化合物と、ε−カプロ
ラクトンとを反応させて得られるエステル化合物、前記
一般式(1)で示される化合物と前記ポリオール化合物
(a21)以外のポリオール化合物(a22)やジカル
ボン酸化合物(a23)とを反応させて得られるエステ
ル化合物、前記一般式(1)で示される化合物とアルキ
ルエステル化合物(a24)とをエステル交換反応させ
て得られるエステル化合物、あるいは、前記一般式
(1)で示される化合物と前記ポリオール化合物(a2
2)とアルキルエステル化合物(a24)とをエステル
交換反応させて得られるエステル化合物、等の水酸基を
2個以上有する化合物も使用することができる。
Further, as the polyol compound (a2), an ester compound obtained by reacting the compound represented by the general formula (1) with ε-caprolactone, the compound represented by the general formula (1) and the above An ester compound obtained by reacting a polyol compound (a22) other than the polyol compound (a21) or a dicarboxylic acid compound (a23), or a transesterification of the compound represented by the general formula (1) with an alkyl ester compound (a24). The ester compound obtained by the reaction, or the compound represented by the general formula (1) and the polyol compound (a2
It is also possible to use a compound having two or more hydroxyl groups, such as an ester compound obtained by transesterification of 2) with an alkyl ester compound (a24).

【0026】前記ポリオール化合物(a22)として
は、例えば、エチレングリコール、1,3−プロピレン
グリコール、1,2−プロピレングリコール、ジエチレ
ングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチル
グリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタン
ジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナン
ジオール、1,10−デカンジオール、2,2,4−ト
リメチル−1,3−ペンタンジオール、3−メチル−
1,5−ペンタンジオール、ジクロロネオペンチルグリ
コール、ジブロモネオペンチルグリコール、ヒドロキシ
ピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、シクロヘ
キサンジメチロール、1,4−シクロヘキサンジオー
ル、スピログリコール、トリシクロデカンジメチロー
ル、水添ビスフェノールA、エチレンオキサイド付加ビ
スフェノールA、プロピレンオキサイド付加ビスフェノ
−ルA、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタ
ン酸等の2官能ジオール;
Examples of the polyol compound (a22) include ethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, neopentyl glycol, 1,3-butanediol, 1, 4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 3-methyl-
1,5-pentanediol, dichloroneopentyl glycol, dibromoneopentyl glycol, hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester, cyclohexanedimethylol, 1,4-cyclohexanediol, spiroglycol, tricyclodecanedimethylol, hydrogenated bisphenol A, Bifunctional diol such as ethylene oxide-added bisphenol A, propylene oxide-added bisphenol A, dimethylolpropionic acid, and dimethylolbutanoic acid;

【0027】トリメチロールエタン、トリメチロールプ
ロパン、ジトリメチロールエタン、ジトリメチロールプ
ロパン、グリセリン、ジグリセロール、3−メチルペン
タン−1,3,5−トリオール、ペンタエリスリトー
ル、ジペンンタエリスリトール、トリペンタエリスリト
ール、2,2,6,6−テトラメチロールシクロヘキサ
ノール−1、トリス2ヒドロキシエチルイソシアヌレー
ト、マンニット、ソルビトール、イノシトール、グルコ
ース類等の3官能以上のポリオール化合物などが挙げら
れる。
Trimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolethane, ditrimethylolpropane, glycerin, diglycerol, 3-methylpentane-1,3,5-triol, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, 2 , 2,6,6-tetramethylol cyclohexanol-1, tris 2 hydroxyethyl isocyanurate, mannitol, sorbitol, inositol, trifunctional or higher functional polyol compounds such as glucose.

【0028】また、前記ジカルボン酸化合物(a23)
としては、各種のジカルボン酸、又はそれらの酸無水物
が使用でき、例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン
酸、シトラコン酸、テトラヒドロフタル酸、ヘット酸、
ハイミック酸、クロレンディック酸、ダイマー酸、アジ
ピン酸、こはく酸、アルケニルこはく酸、セバチン酸、
アゼライン酸;2,2,4−トリメチルアジピン酸、
1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、テレフタル酸、
2−ナトリウムスルホテレフタル酸、2−カリウムスル
ホテレフタル酸、イソフタル酸、5−ナトリウムスルホ
イソフタル酸、5−カリウムスルホイソフタル酸;オル
ソフタル酸、4−スルホフタル酸、1,10−デカメチ
レンジカルボン酸、ムコン酸、しゅう酸、マロン酸、グ
ルタン酸、トリメリット酸、ヘキサヒドロフタル酸、テ
トラブロムフタル酸、メチルシクロヘキセントリカルボ
ン酸、ピロメリット酸、又はこれらの酸無水物等が挙げ
られる。
Further, the dicarboxylic acid compound (a23)
As various dicarboxylic acids, or those acid anhydrides can be used, for example, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, tetrahydrophthalic acid, het acid,
Hymic acid, chlorendic acid, dimer acid, adipic acid, succinic acid, alkenyl succinic acid, sebacic acid,
Azelaic acid; 2,2,4-trimethyladipic acid,
1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, terephthalic acid,
2-sodium sulfoterephthalic acid, 2-potassium sulfoterephthalic acid, isophthalic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, 5-potassium sulfoisophthalic acid; orthophthalic acid, 4-sulfophthalic acid, 1,10-decamethylenedicarboxylic acid, muconic acid , Oxalic acid, malonic acid, glutaric acid, trimellitic acid, hexahydrophthalic acid, tetrabromophthalic acid, methylcyclohexene tricarboxylic acid, pyromellitic acid, and acid anhydrides thereof.

【0029】さらに、前記アルキルエステル化合物(a
24)としては、例えば、前記ジカルボン酸化合物(a
23)のメタノール、エタノール、ブタノール等のアル
キルエステル化合物等が挙げられる。
Further, the alkyl ester compound (a
As 24), for example, the dicarboxylic acid compound (a
23) Alkyl ester compounds such as methanol, ethanol and butanol.

【0030】前記重合性ポリイミド樹脂の製造方法にお
いては、ポリイソシアネート化合物(A)として、前記
ポリイソシアネート化合物(A1)及び/又はウレタン
プレポリマー(A2)のみを用いることが通常好ましい
が、必要に応じて、これら以外のポリイソシアネート化
合物(A3)の1種又は2種以上を併用してもよい。
In the method for producing the polymerizable polyimide resin, it is usually preferable to use only the polyisocyanate compound (A1) and / or the urethane prepolymer (A2) as the polyisocyanate compound (A), but if necessary, Thus, one or more polyisocyanate compounds (A3) other than these may be used in combination.

【0031】前記ポリイソシアネート化合物(A3)と
しては、なかでも、ジイソシアネート化合物が好まし
く、例えば、p−フェニレンジイソシアネート、m−フ
ェニレンジイソシアネート、p−キシレンジイソシアネ
ート、m−キシレンジイソシアネート、2,4−トリレ
ンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネー
ト、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、
3,3′−ジメチルジフェニル−4,4′−ジイソシア
ネート、3,3′−ジエチルジフェニル−4,4′−ジ
イソシアネート、m−キシレンジイソシアネート、p−
キシレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネー
ト等の芳香族ジイソシアネート類;イソホロンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、4,4′
−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシ
レンジイソシアネート、ノルボヌレンジイソシアネー
ト、リジンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネー
ト等が挙げられる。これらのなかでも、脂肪族ジイソシ
アネートが特に好ましい。
The polyisocyanate compound (A3) is preferably a diisocyanate compound, for example, p-phenylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-xylene diisocyanate, m-xylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate. , 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate,
3,3'-dimethyldiphenyl-4,4'-diisocyanate, 3,3'-diethyldiphenyl-4,4'-diisocyanate, m-xylene diisocyanate, p-
Aromatic diisocyanates such as xylene diisocyanate and naphthalene diisocyanate; isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 4,4 '
And aliphatic diisocyanates such as dicyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate, norbonylene diisocyanate and lysine diisocyanate. Of these, aliphatic diisocyanates are particularly preferable.

【0032】ポリイソシアネート化合物(A)として前
記ポリイソシアネート化合物(A3)を併用する場合、
前記ポリイソシアネート化合物(A1)及び/又はウレ
タンプレポリマー(A2)中のイソシアネート基のモル
数(n12)と、前記ポリイソシアネート化合物(A
3)中のイソシアネート基のモル数(n)の比(n
)/(n)が、1.0以上となる範囲でポリイソシ
アネート化合物(A3)を併用するが、なかでも1.5
〜10.5となる範囲で用いることが好ましい。
When the polyisocyanate compound (A3) is used in combination as the polyisocyanate compound (A),
The number of moles of isocyanate groups (n 12 ) in the polyisocyanate compound (A1) and / or the urethane prepolymer (A2), and the polyisocyanate compound (A
3) the ratio (n 1 ) of the number of moles (n 3 ) of isocyanate groups in
2 ) / (n 3 ) is used in combination with the polyisocyanate compound (A3) in a range of 1.0 or more, but is 1.5 or more.
It is preferably used in the range of 10.5.

【0033】前記重合性ポリイミド樹脂の製造方法で用
いるポリカルボン酸の酸無水物(B)としては、3個以
上のカルボキシル基を有するポリカルボン酸の酸無水物
であればよく、特に限定されないが、なかでもトリカル
ボン酸の酸無水物、テトラカルボン酸の酸無水物が好ま
しい。
The polycarboxylic acid anhydride (B) used in the method for producing the polymerizable polyimide resin is not particularly limited as long as it is a polycarboxylic acid anhydride having three or more carboxyl groups. Of these, tricarboxylic acid anhydrides and tetracarboxylic acid anhydrides are preferable.

【0034】トリカルボン酸の酸無水物としては、例え
ば、無水トリメリット酸、ナフタレン−1,2,4−ト
リカルボン酸無水物等が挙げられる。
Examples of the acid anhydride of tricarboxylic acid include trimellitic anhydride, naphthalene-1,2,4-tricarboxylic acid anhydride and the like.

【0035】テトラカルボン酸の酸無水物としては、例
えば、ピロメリット酸二無水物;ベンゾフェノン−3,
3′,4,4′−テトラカルボン酸二無水物、ジフェニ
ルエーテル−3,3′,4,4′−テトラカルボン酸二
無水物、ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸
二無水物、ビフェニル−3,3′,4,4′−テトラカ
ルボン酸二無水物、ビフェニル−2,2′,3,3′−
テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−2,3,6,
7−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,2,
4,5−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,
4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、デカヒドロナ
フタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水
物、4,8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘキ
サヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラカルボン
酸二無水物;
Examples of the acid anhydride of tetracarboxylic acid include pyromellitic dianhydride; benzophenone-3,
3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, diphenyl ether-3,3', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride , Biphenyl-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, biphenyl-2,2', 3,3'-
Tetracarboxylic acid dianhydride, naphthalene-2,3,6
7-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,2,
4,5-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,
4,5,8-Tetracarboxylic acid dianhydride, Decahydronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid dianhydride, 4,8-Dimethyl-1,2,3,5,6,7- Hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride;

【0036】2,6−ジクロロナフタレン−1,4,
5,8−テトラカルボン酸二無水物、2,7−ジクロロ
ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水
物、2,3,6,7−テトラクロロナフタレン−1,
4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、フェナントレ
ン−1,3,9,10−テトラカルボン酸二無水物、ベ
リレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水
物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無
水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二
無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)エタン二無水物、2,2−ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,3−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水
物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテ
ル二無水物等の分子内に芳香族有機基を有するテトラカ
ルボン酸の無水物が挙げられる。さらに、テトラカルボ
ン酸の無水物としては、これら二無水物以外に、一無水
物があり、単独もしくは二無水物とを併用して使用する
ことができる。一無水物としては、例えば、二無水物の
無水基の1個をアルコール等で開環させたものが挙げら
れる。
2,6-dichloronaphthalene-1,4
5,8-Tetracarboxylic dianhydride, 2,7-Dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-Tetrachloronaphthalene-1,
4,5,8-Tetracarboxylic dianhydride, Phenanthrene-1,3,9,10-tetracarboxylic dianhydride, Berylene-3,4,9,10-tetracarboxylic dianhydride, bis (2 , 3-Dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1- Bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 2,2-bis (2,3
-Dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,3-
Aroma in the molecule of bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride An anhydride of a tetracarboxylic acid having a group organic group may be mentioned. Further, as the tetracarboxylic acid anhydride, there are monoanhydrides other than these dianhydrides, which can be used alone or in combination with the dianhydride. Examples of the monoanhydride include those obtained by ring-opening one of the anhydrous groups of the dianhydride with alcohol or the like.

【0037】前記ポリカルボン酸の酸無水物(B)は、
1種又は2種以上を用いることができる。必要により、
さらに芳香族ジカルボン酸化合物及び/又はその無水物
を併用してもよい。
The polycarboxylic acid anhydride (B) is
One kind or two or more kinds can be used. If necessary,
Further, an aromatic dicarboxylic acid compound and / or its anhydride may be used in combination.

【0038】前記重合性ポリイミド樹脂の製造方法で用
いる(メタ)アクリロイル基と水酸基を有する化合物
(C1)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレー
ト、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−
ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキサ
ンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレ
ングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレ
ングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエ
タンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレー
ト−(メタ)アクリル酸付加物、2−ヒドロキシ−3−
フェノキシプロピル(メタ)アクリレートなど各種の水
酸基を有する(メタ)アクリレート化合物、あるいは前
記した水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物とε
−カプロラクトンとの開環反応物などが挙げられる。
Examples of the compound (C1) having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group used in the above-mentioned method for producing a polymerizable polyimide resin include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and 2 -Hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-
Hydroxybutyl (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolethanedi (meth) acrylate, Pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate- (meth) acrylic acid adduct, 2 -Hydroxy-3-
(Meth) acrylate compounds having various hydroxyl groups such as phenoxypropyl (meth) acrylate, or the above-mentioned (meth) acrylate compounds having hydroxyl groups and ε
-A ring-opening reaction product with caprolactone and the like.

【0039】また、(メタ)アクリロイル基と水酸基を
有する化合物(C1)として、各種エポキシ化合物と
(メタ)アクリル酸とを反応させ、(メタ)アクリル酸エ
ステルと水酸基が生成されたエポキシ(メタ)アクリレ
ートを使用できる。なかでも、2〜5個の(メタ)アク
リレート基と1個の水酸基を有する化合物が好ましい。
Further, as the compound (C1) having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group, various epoxy compounds are reacted with (meth) acrylic acid to form a (meth) acrylic acid ester and an epoxy (meth) group having a hydroxyl group. Acrylate can be used. Among them, compounds having 2 to 5 (meth) acrylate groups and one hydroxyl group are preferable.

【0040】前記重合性ポリイミド樹脂の製造方法で用
いる(メタ)アクリロイル基とエポキシ基を有する化合
物(C2)としては、例えば、グリシジル(メタ)アク
リレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
グリシジルエーテル、ヒドロキシプロピル(メタ)アク
リレートグリシジルエーテル、4−ヒドロキシブチル
(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、6−ヒドロ
キシヘキシル(メタ)アクリレートグリシジルエーテ
ル、5−ヒドロキ3メチルペンチル(メタ)アクイリレ
ートグリシジルエーテル、(メタ)アクリル酸3,4−
エポキシシクロヘキシル、ラクトン変性(メタ)アクリ
ル酸3,4−エポキシシクロヘキシル、ビニルシクロヘ
キセンオキシド等が挙げられる。
Examples of the compound (C2) having a (meth) acryloyl group and an epoxy group used in the method for producing the polymerizable polyimide resin include, for example, glycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate glycidyl ether, and hydroxy. Propyl (meth) acrylate glycidyl ether, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate glycidyl ether, 5-hydroxy 3 methylpentyl (meth) acrylate glycidyl ether, (meth) acrylic acid 3 , 4-
Examples thereof include epoxycyclohexyl, lactone-modified (meth) acrylic acid 3,4-epoxycyclohexyl, and vinylcyclohexene oxide.

【0041】また、(メタ)アクリロイル基とエポキシ
基を有する化合物(C2)として、2個以上のエポキシ
基を有するエポキシ化合物(c21)と(メタ)アクリ
ル酸との反応で、エポキシ基当量をアクリロイル基当量
より過剰にして反応して得られるエポキシ基が残存した
エポキシアクリレートを使用することができる。
As the compound (C2) having a (meth) acryloyl group and an epoxy group, the epoxy group equivalent is changed to acryloyl by the reaction of an epoxy compound (c21) having two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid. It is possible to use an epoxy acrylate in which the epoxy group obtained by the reaction in excess of the group equivalent remains.

【0042】かかるエポキシ化合物(c21)として
は、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフ
ェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキ
シ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンと
各種フェノール類と反応させて得られる各種ジシクロペ
ンタジエン変性フェノール樹脂のエポキシ化物;2,
2′,6,6′−テトラメチルビフェノールのエポキシ
化物;ナフタレン骨格のエポキシ、フルオレン骨格のエ
ポキシ等の芳香族エポキシ樹脂;ネオペンチルグリコー
ルジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジ
グリシジルエーテルのごとき脂肪族エポキシ樹脂;3,
4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ
シクロヘキサンカルボキシレート、ビス−(3,4−エ
ポキヒシクロヘキシル)アジペートのごとき脂環式エポ
キシ樹脂;トリグリシジルイソシアヌレートのごときヘ
テロ環含有のエポキシ樹脂等が挙げられる。
Examples of the epoxy compound (c21) include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin; dicyclopentadiene and various phenols. Epoxidized products of various dicyclopentadiene-modified phenolic resins obtained by reacting with
Epoxy compound of 2 ', 6,6'-tetramethylbiphenol; Aromatic epoxy resin such as epoxy of naphthalene skeleton, epoxy of fluorene skeleton; Fat such as neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether Group epoxy resin; 3,
Alicyclic epoxy resins such as 4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate and bis- (3,4-epoxyhicyclohexyl) adipate; heterocyclic epoxy resins such as triglycidyl isocyanurate. To be

【0043】前記(メタ)アクリロイル基と水酸基を有
する化合物(C1)及び/又は(メタ)アクリロイル基
とエポキシ基を有する化合物(C2)は、それぞれ1
種、又は2種以上を併用して使用することができる。
The compound (C1) having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group and / or the compound (C2) having a (meth) acryloyl group and an epoxy group is 1 respectively.
They may be used alone or in combination of two or more.

【0044】前記重合性ポリイミド樹脂の好ましい製造
方法としては、例えば、有機溶剤中で、前記ポリイソシ
アネート化合物(A)と、前記ポリカルボン酸の酸無水
物(B)とを、温度50〜250℃で1〜30時間反応
させてカルボキシル基及び/又は酸無水基含有イミド樹
脂(X)を合成し、次いで、温度を50〜150℃に調
整した後、(メタ)アクリロイル基と水酸基を有する化
合物(C1)及び/又は(メタ)アクリロイル基とエポ
キシ基を有する化合物(C2)を加え、1〜30時間反
応させて、分子中に(メタ)アクリロイル基を有する活
性エネルギー線硬化型イミド樹脂とする製造方法等が挙
げられる。
As a preferred method for producing the polymerizable polyimide resin, for example, the polyisocyanate compound (A) and the polycarboxylic acid anhydride (B) are heated in an organic solvent at a temperature of 50 to 250 ° C. At 1 to 30 hours to synthesize a carboxyl group and / or acid anhydride group-containing imide resin (X), and then, after adjusting the temperature to 50 to 150 ° C., a compound having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group ( C1) and / or (meth) acryloyl group and a compound (C2) having an epoxy group are added and reacted for 1 to 30 hours to prepare an active energy ray-curable imide resin having a (meth) acryloyl group in the molecule. Methods and the like.

【0045】前記製造方法においては、なかでも反応が
制御しやすいことから、ポリカルボン酸の酸無水物
(B)としてカルボキシル基を有する酸無水物を含有す
るものを用いてポリイソシアネート化合物(A)と反応
させ、次いで、(メタ)アクリロイル基と水酸基を有す
る化合物(C1)及び/又は(メタ)アクリロイル基と
エポキシ基を有する化合物(C2)を反応させる方法
や、ポリカルボン酸の酸無水物(B)としてカルボキシ
ル基を有しない酸無水物を用いてポリイソシアネート化
合物(A)と反応させ、次いで、(メタ)アクリロイル
基と水酸基を有する化合物(C1)を反応させる方法が
好ましい。
In the above-mentioned production method, the polyisocyanate compound (A) containing the acid anhydride having a carboxyl group as the acid anhydride (B) of the polycarboxylic acid is used because the reaction is easy to control. And then reacting a compound (C1) having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group and / or a compound (C2) having a (meth) acryloyl group and an epoxy group, or an acid anhydride of a polycarboxylic acid ( A method in which an acid anhydride having no carboxyl group is used as B) to react with the polyisocyanate compound (A), and then a compound (C1) having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group is reacted is preferable.

【0046】さらに、前記製造方法において、十分な溶
剤溶解性、耐熱性、アルカリ現像性を有する重合性ポリ
イミド樹脂を得るためには、ポリカルボン酸の酸無水物
(B)中のカルボン酸無水基及びカルボキシル基の合計
モル数(n)とポリイソシアネート化合物(A)中の
イソシアネート基のモル数(n)の比(n)/(n
)が0.3〜2.0であることが好ましく、なかでも
0.6〜1.8であることが特に好ましい。ただし、ポ
リイソシアネート化合物(A)として、ポリイソシアネ
ート化合物(A2)を用い、このポリイソシアネート化
合物(A2)がポリイソシアネート化合物(A1)とカ
ルボキシル基を有するポリオール(a21)を含有する
ポリオール化合物を反応させて得られる末端にイソシア
ネート基を有するウレタンプレポリマーである場合、十
分な溶剤溶解性、耐熱性、アルカリ現像性を有するイミ
ド樹脂を得るためには、ポリカルボン酸の酸無水物
(B)中のカルボン酸無水基及びカルボキシル基とポリ
イソシアネート化合物(A2)中のカルボキシル基の合
計モル数(nba2)とポリイソシアネート化合物
(A)中のイソシアネート基のモル数(n)の比(n
ba2)/(n)が0.3〜3.0であることが好ま
しい。
Further, in order to obtain a polymerizable polyimide resin having sufficient solvent solubility, heat resistance and alkali developability in the above production method, the carboxylic acid anhydride group in the polycarboxylic acid anhydride (B) is used. and the total number of moles of carboxyl groups (n b) a polyisocyanate compound the number of moles of isocyanate groups in (a) the ratio of (n a) (n b) / (n
a ) is preferably 0.3 to 2.0, and particularly preferably 0.6 to 1.8. However, a polyisocyanate compound (A2) is used as the polyisocyanate compound (A), and this polyisocyanate compound (A2) is reacted with a polyisocyanate compound (A1) and a polyol compound containing a polyol (a21) having a carboxyl group. In the case of a urethane prepolymer having an isocyanate group at the terminal obtained as described above, in order to obtain an imide resin having sufficient solvent solubility, heat resistance, and alkali developability, in the acid anhydride (B) of polycarboxylic acid, the ratio of carboxylic acid anhydride group and a carboxyl group and a polyisocyanate compound (A2) the total number of moles of carboxyl groups in the (n ba2) and the number of moles of isocyanate groups in the polyisocyanate compound (a) (n a) ( n
ba2) / (n a) is preferably a 0.3 to 3.0.

【0047】前記製造方法においては、(メタ)アクリ
ロイル基と水酸基を有する化合物(C1)や(メタ)ア
クリロイル基とエポキシ基を有する化合物(C2)は、
前記ポリイソシアネート化合物(A)と前記ポリカルボ
ン酸の酸無水物(B)の反応の途中又は終了後に添加す
ることができる。
In the above production method, the compound (C1) having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group or the compound (C2) having a (meth) acryloyl group and an epoxy group is
It can be added during or after the reaction of the polyisocyanate compound (A) and the acid anhydride (B) of the polycarboxylic acid.

【0048】ただし、反応終了後に(メタ)アクリロイ
ル基と水酸基を有する化合物(C1)や(メタ)アクリ
ロイル基とエポキシ基を有する化合物(C2)を添加す
る場合は、ゲル化の危険を回避するため、前記ポリイソ
シアネート化合物(A)と前記ポリカルボン酸の酸無水
物(B)とを、前記したモル比(n)/(n)又は
(nba2)/(n)が0.9〜1.1とはならない
範囲で用いることが好ましい。
However, when a compound (C1) having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group or a compound (C2) having a (meth) acryloyl group and an epoxy group is added after completion of the reaction, the risk of gelation is avoided. , the polyisocyanate compound having an acid anhydride (a) and the polycarboxylic acid (B) and, said the molar ratio (n b) / (n a ) or (n ba2) / (n a ) is 0.9 It is preferable to use in a range that does not result in ~ 1.1.

【0049】また、反応の途中で(メタ)アクリロイル
基と水酸基を有する化合物(C1)や(メタ)アクリロ
イル基とエポキシ基を有する化合物(C2)を添加する
場合、例えば、イソシアネート基及び/又は酸無水基
が残存している反応途中の系内に該化合物(C1)を添
加して、該化合物(C1)中の水酸基とイソシアネート
基及び/又は酸無水基とを反応させてウレタン結合及び
/又はエステル結合を形成させ、反応性二重結合が導入
されたポリイミド樹脂とする場合や、カルボキシル基
が残存している反応途中の系内に該化合物(C2)を添
加して、該化合物(C2)中のエポキシ基とエポキシ基
とを反応させてエポキシエステル結合を形成させ、反応
性二重結合が導入されたポリイミド樹脂とする場合など
が挙げられ、なかでも前記の場合が好ましい。
When a compound (C1) having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group or a compound (C2) having a (meth) acryloyl group and an epoxy group is added during the reaction, for example, an isocyanate group and / or an acid group is used. The compound (C1) is added into the reaction system in which an anhydrous group remains, and the hydroxyl group in the compound (C1) is reacted with an isocyanate group and / or an acid anhydride group to form a urethane bond and / or When a polyimide resin in which an ester bond is formed and a reactive double bond is introduced, or when the compound (C2) is added to the system in the middle of the reaction where the carboxyl group remains, the compound (C2) is added. The case where the epoxy group and the epoxy group in the inside are reacted to form an epoxy ester bond to form a polyimide resin having a reactive double bond introduced, among others, In the case of the serial it is preferred.

【0050】前記の場合、(メタ)アクリロイル基と
水酸基を有する化合物(C1)は、該化合物(C1)中
の水酸基のモル数(nc1)と反応系内に残存する酸無
水基とイソシアネート基の合計モル数(nab)の比
(nc1)/(nab)が0.5以上となる範囲、なか
でも0.9〜2.0となる範囲で添加することが好まし
い。また、前記の場合、(メタ)アクリロイル基とエ
ポキシ基を有する化合物(C2)は、反応系中に残存す
るカルボキシル基(nCOOH)のモル数と該化合物
(C2)中のエポキシ基のモル数(nc2)との比(n
COOH)/(n )が1以上となる範囲、なかでも
1.5〜20となる範囲で添加することが好ましい。
In the above case, the compound (C1) having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group means that the number of moles of the hydroxyl group in the compound (C1) (n c1 ) and the acid anhydride group and the isocyanate group remaining in the reaction system. range ratio (n c1) / (n ab ) is 0.5 or more of the total number of moles (n ab), is preferably added in a range among them becomes 0.9 to 2.0. Further, in the above-mentioned case, the compound (C2) having a (meth) acryloyl group and an epoxy group is the number of moles of the carboxyl group (n COOH ) remaining in the reaction system and the number of moles of the epoxy group in the compound (C2). (N c2 ) and the ratio (n
COOH ) / (n c 2 ) is preferably added in a range of 1 or more, particularly in a range of 1.5 to 20.

【0051】本発明の活性エネルギー線硬化型ポリイミ
ド樹脂組成物は、前記重合性ポリイミド樹脂(I)を含
有するものであればよく、例えば、前記重合性ポリイミ
ド樹脂(I)と有機溶剤(II)とを含有するもの等が挙
げられる。また、該活性エネルギー線硬化型ポリイミド
樹脂組成物は、前記重合性ポリイミド樹脂(I)と有機
溶剤(II)と共に、エポキシ化合物(III)と光開始剤
(IV)とを含有させることにより、レジスト用組成物と
して用いることができる。この時、さらに反応性希釈剤
(V)を含有させることができる。
The active energy ray-curable polyimide resin composition of the present invention may be one containing the polymerizable polyimide resin (I). For example, the polymerizable polyimide resin (I) and the organic solvent (II). And the like. The active energy ray-curable polyimide resin composition contains the polymerizable polyimide resin (I), an organic solvent (II), an epoxy compound (III), and a photoinitiator (IV) to form a resist. It can be used as a composition. At this time, a reactive diluent (V) can be further contained.

【0052】前記有機溶剤(II)、及び、前記重合性ポ
リイミド樹脂の製造方法で用いる有機溶剤としては、い
ずれも各種の極性有機溶剤が使用できるが、なかでも、
本発明で用いる重合性ポリイミド樹脂(I)を溶解する
ことができる溶剤であって、窒素原子及び硫黄原子を含
有しない極性溶剤、例えば、エーテル系溶剤、エステル
系溶剤、ケトン系溶剤等が好ましく、エーテル系溶剤が
特に好ましい。なお、有機溶剤(II)と前記重合性ポリ
イミド樹脂の製造方法で用いる有機溶剤とは、同一又は
同一の溶剤を主成分とするものであることが好ましい。
As the organic solvent (II) and the organic solvent used in the method for producing the polymerizable polyimide resin, various polar organic solvents can be used, but among them,
A solvent capable of dissolving the polymerizable polyimide resin (I) used in the present invention, a polar solvent containing no nitrogen atom and no sulfur atom, for example, an ether solvent, an ester solvent, a ketone solvent or the like is preferable, Ether solvents are particularly preferred. The organic solvent (II) and the organic solvent used in the method for producing the polymerizable polyimide resin are preferably the same or a solvent containing the same solvent as a main component.

【0053】前記エーテル系溶剤としては、各種のもの
が使用可能であるが、例えば、エチレングリコールジメ
チルエーテル等のエチレングリコールジアルキルエーテ
ル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル等のポリ
エチレングリコールジアルキルエーテル類;エチレング
リコールモノメチルエーテルアセテート等のエチレング
リコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート等のポリエ
チレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
プロピレングリコールジメチルエーテル等のポリプロピ
レングリコールジアルキルエーテル類;プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート等のプロピレング
リコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート等のポリ
プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類等が挙げられ、なかでも、ポリエチレングリコールモ
ノアルキルエーテルアセテート類、ポリプロピレングリ
コールモノアルキルエーテルアセテート類が好ましい。
As the ether solvent, various ones can be used. For example, ethylene glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether; polyethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether; ethylene glycol monomethyl ether acetate and the like. Ethylene glycol monoalkyl ether acetates; Polyethylene glycol monoalkyl ether acetates such as diethylene glycol monomethyl ether acetate;
Examples include polypropylene glycol dialkyl ethers such as propylene glycol dimethyl ether; propylene glycol monoalkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate; polypropylene glycol monoalkyl ether acetates such as dipropylene glycol monomethyl ether acetate; Glycol monoalkyl ether acetates and polypropylene glycol monoalkyl ether acetates are preferred.

【0054】また、エステル系溶媒としては、例えば、
酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられ、ケトン系溶媒と
しては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン等が挙げられる。
Examples of ester solvents include:
Examples thereof include ethyl acetate and butyl acetate, and examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone.

【0055】前記有機溶剤(II)の使用量としては、塗
装適性等に優れる組成物が得られることから、本発明の
活性エネルギー線硬化型ポリイミド樹脂組成物中での含
有率が10〜80重量%となる範囲が好ましく、なかで
も20〜70重量%となる範囲が特に好ましい。また、
前記重合性ポリイミド樹脂の製造方法で用いる有機溶剤
の使用量としては、系内が均一で好適な反応速度で反応
させることができることから、反応終了後の系内におけ
る含有率が10〜70重量%となる範囲が好ましく、な
かでも20〜60重量%となる範囲が特に好ましい。
The amount of the organic solvent (II) used is 10 to 80% by weight in the active energy ray-curable polyimide resin composition of the present invention because a composition having excellent coating suitability and the like can be obtained. % Is preferable, and a range of 20 to 70% by weight is particularly preferable. Also,
As the amount of the organic solvent used in the method for producing the polymerizable polyimide resin, the content in the system after completion of the reaction is 10 to 70% by weight because the system can be reacted uniformly and at a suitable reaction rate. Is preferable, and a range of 20 to 60% by weight is particularly preferable.

【0056】前記重合性ポリイミド樹脂の製造方法にお
いて、ポリイソシアネート化合物(A)と、ポリカルボ
ン酸の酸無水物(B)とを反応させて、カルボキシル基
及び/又は酸無水基含有ポリイミド樹脂(X)を得る
際、該ポリイソシアネート化合物(A)とポリカルボン
酸の酸無水物(B)との重量比を変えることによって、
得られるイミド樹脂(X)の分子量及び酸価を調整する
ことができる。また、上記ポリイソシアネート化合物
(A)とポリカルボン酸の酸無水物(B)との反応の際
にイミド化触媒等を使用しても良く、さらに酸化防止剤
や重合禁止剤等を併用してもよい。
In the above-mentioned method for producing a polymerizable polyimide resin, the polyisocyanate compound (A) is reacted with the polycarboxylic acid anhydride (B) to give a carboxyl group- and / or acid anhydride group-containing polyimide resin (X ) Is obtained by changing the weight ratio of the polyisocyanate compound (A) and the polycarboxylic acid anhydride (B),
The molecular weight and acid value of the resulting imide resin (X) can be adjusted. Further, an imidization catalyst or the like may be used in the reaction between the polyisocyanate compound (A) and the polycarboxylic acid anhydride (B), and an antioxidant or a polymerization inhibitor may be used in combination. Good.

【0057】さらに、前記ポリイミド樹脂(X)の末端
に残存するカルボン酸や無水酸を、分子中に2個以上の
エポキシ基を有するエポキシ樹脂と反応させて分子量を
調整することができる。かかるエポキシ樹脂としては、
前記したエポキシ化合物(c21)が使用できる。
Further, the molecular weight can be adjusted by reacting the carboxylic acid or anhydride remaining at the terminal of the polyimide resin (X) with an epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule. As such an epoxy resin,
The epoxy compound (c21) described above can be used.

【0058】前記カルボキシル基及び/又は酸無水基含
有ポリイミド樹脂(X)と、(メタ)アクリロイル基と
水酸基を有する化合物(C1)の反応としては、(1)
化合物(C1)中の水酸基とポリイミド樹脂(X)中に
残存する酸無水基との開環エステル化反応(半エステル
化反応)、(2)化合物(C1)中の水酸基とポリイミ
ド樹脂(X)中のカルボキシル基とのエステル化反応、
及び、(3)ポリイミド樹脂(X)中に残存するイソシ
アネート基と化合物(C1)中の水酸基との反応が挙げ
られ、これらの反応により、ポリイミド樹脂(X)に
(メタ)アクリロイル基が導入され、重合性ポリイミド
樹脂が得られる。
The reaction of the above-mentioned carboxyl group- and / or acid anhydride group-containing polyimide resin (X) with the compound (C1) having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group is (1)
Ring-opening esterification reaction (semi-esterification reaction) between the hydroxyl group in compound (C1) and the acid anhydride group remaining in polyimide resin (X), (2) Hydroxyl group in compound (C1) and polyimide resin (X) Esterification reaction with the carboxyl group in
And (3) a reaction between an isocyanate group remaining in the polyimide resin (X) and a hydroxyl group in the compound (C1), and a (meth) acryloyl group is introduced into the polyimide resin (X) by these reactions. , A polymerizable polyimide resin is obtained.

【0059】また、前記カルボキシル基及び/又は酸無
水基含有ポリイミド樹脂(X)と、(メタ)アクリロイ
ル基とエポキシ基を有する化合物(C2)との反応とし
ては、(1)化合物(C2)中のエポキシ基とポリイミ
ド樹脂(X)中に残存する酸無水物との開環エステル化
反応、及び、(2)化合物(C2)中のエポキシ基とポ
リイミド樹脂(X)中のカルボキシル基とのエステル化
反応が挙げられ、これらの反応によりポリイミド樹脂
(X)に(メタ)アクリロイル基が導入され、重合性ポ
リイミド樹脂が得られる。
The reaction of the carboxyl group- and / or acid anhydride group-containing polyimide resin (X) with the compound (C2) having a (meth) acryloyl group and an epoxy group includes (1) compound (C2) Ring-opening esterification reaction between the epoxy group of (1) and the acid anhydride remaining in the polyimide resin (X), and (2) ester of the epoxy group in the compound (C2) and the carboxyl group in the polyimide resin (X) And a (meth) acryloyl group is introduced into the polyimide resin (X) to obtain a polymerizable polyimide resin.

【0060】また、前記カルボキシル基及び/又は酸無
水基含有ポリイミド樹脂(X)と、(メタ)アクリロイ
ル基とエポキシ基とを有する化合物(C2)とを反応さ
せて得られる重合性ポリイミド樹脂は、エポキシ基の開
環に伴い水酸基が発生する。この水酸基に、さらに多塩
基酸無水物を反応させて半エステル化することにより、
レジスト用樹脂組成物として使用した場合の現像性の調
整をすることが可能である。
A polymerizable polyimide resin obtained by reacting the carboxyl group- and / or acid anhydride group-containing polyimide resin (X) with a compound (C2) having a (meth) acryloyl group and an epoxy group is A hydroxyl group is generated along with the ring opening of the epoxy group. By further reacting this hydroxyl group with a polybasic acid anhydride for half-esterification,
It is possible to adjust the developability when used as a resist resin composition.

【0061】かかる多塩基酸無水物としては、例えば、
無水マレイン酸、無水コハク酸、ドデセニル無水コハク
酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサ
ヒドロ無水フタル酸、3−メチルテトラヒドロ無水フタ
ル酸、3−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、4−メチ
ルテトラヒドロ無水フタル酸、4−メチルヘキサヒドロ
無水フタル酸、及び、前記したポリカルボン酸の酸無水
物(B)等を挙げることができる。
Examples of such polybasic acid anhydrides include:
Maleic anhydride, succinic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3-methyltetrahydrophthalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride, 4-methyltetrahydrophthalic anhydride Examples thereof include acids, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, and the above-mentioned polycarboxylic acid anhydrides (B).

【0062】前記活重合性ポリイミド樹脂の製造方法で
は、ポリカルボン酸の酸無水物(B)中の酸無水基及び
/又はカルボキシル基が、イミド樹脂の分子末端に存在
するが、酸無水基が分子末端に存在する場合、水等を用
いて開環してカルボン酸を生成させてもよい。
In the method for producing the active-polymerizable polyimide resin, the acid anhydride group and / or carboxyl group in the acid anhydride (B) of polycarboxylic acid is present at the molecular end of the imide resin, but the acid anhydride group is When it exists at the terminal of the molecule, it may be opened by using water or the like to generate a carboxylic acid.

【0063】本発明の活性エネルギー線硬化型ポリイミ
ド樹脂組成物を用いたレジスト用組成物は、耐熱性、機
械物性、耐久性等に優れた硬化物を得るため、前記した
ようにエポキシ化合物(III)を含有させることができ
る。この場合、活性エネルギー線を照射して硬化させた
後、さらに加熱してエポキシ化合物(III)を硬化させ
る。このエポキシ化合物(III)としては、前記したエ
ポキシ化合物(c21)が使用できる。
The resist composition using the active energy ray-curable polyimide resin composition of the present invention has the epoxy compound (III) as described above in order to obtain a cured product excellent in heat resistance, mechanical properties and durability. ) Can be included. In this case, the epoxy compound (III) is hardened by irradiating it with an active energy ray and then hardening it. The epoxy compound (c21) described above can be used as the epoxy compound (III).

【0064】前記エポキシ化合物(III)の使用量とし
ては、耐熱性と耐湿熱性に優れるレジスト用組成物が得
られることから、重合性ポリイミド樹脂(I)100重
量部に対して、10〜300重量部となる範囲が好まし
く、なかでも15〜200重量部となる範囲が特に好ま
しい。
The epoxy compound (III) is used in an amount of 10 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymerizable polyimide resin (I) since a resist composition having excellent heat resistance and moist heat resistance can be obtained. The range of 10 parts by weight is preferable, and the range of 15 to 200 parts by weight is particularly preferable.

【0065】前記エポキシ化合物(III)を含有するレ
ジスト用組成物は、硬化剤あるいは硬化促進剤を使用す
ることができ、例えば、メラミン、ジシアンジアミド、
グアナミン樹脂やその誘導体、アミン類、フェノール
類、有機フォスフィン類、ホスホニュウム塩類、4級ア
ンモニュウム塩類、多塩基酸無水物、光カチオン触媒、
シアネート化合物、イソシアネート化合物、ブロックイ
ソシアネート化合物等が挙げられる。
A curing agent or a curing accelerator can be used in the resist composition containing the epoxy compound (III), and examples thereof include melamine, dicyandiamide, and the like.
Guanamine resin and its derivatives, amines, phenols, organic phosphines, phosphonium salts, quaternary ammonium salts, polybasic acid anhydrides, photocation catalysts,
Examples thereof include cyanate compounds, isocyanate compounds, blocked isocyanate compounds, and the like.

【0066】また、レジスト用組成物を光照射により硬
化させるには、光開始剤(IV)を使用することができ
る。光開始剤(IV)としては、例えば、アセトフェノン
類、ベンゾフェノン誘導体、ミヒラーズケトン、ベンジ
ン、ベンジル誘導体、ベンゾイン誘導体、ベンゾインメ
チルエ−テル類、α−アシロキシムエステル、チオキサ
ントン類、アンスラキノン類及びそれらの各種誘導体等
が挙げられる。
A photoinitiator (IV) can be used to cure the resist composition by light irradiation. Examples of the photoinitiator (IV) include acetophenones, benzophenone derivatives, Michler's ketone, benzine, benzyl derivatives, benzoin derivatives, benzoin methyl ethers, α-acyloxime esters, thioxanthones, anthraquinones and various kinds thereof. Examples include derivatives.

【0067】光開始剤(IV)の具体例としては、4−ジ
メチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸エ
ステル、アルコキシアセトフェノン、ベンジルジメチル
ケタール、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸アルキ
ル、ビス(4−ジアルキルアミノフェニル)ケトン、ベ
ンジル、ベンゾイン;ベンゾインベンゾエート、ベンゾ
インアルキルエーテル、2−ヒドロキシ−2−メチルプ
ロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、チオキサントン、2,4,6−トリメチルベ
ンゾイルジフェノイルフォスフィンオキシド、ビス
(2,6)−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−ト
リメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス
(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォ
スフィンオキサイド;
Specific examples of the photoinitiator (IV) include 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzoic acid ester, alkoxyacetophenone, benzyldimethylketal, benzophenone, alkyl benzoylbenzoate and bis (4-dialkylamino). Phenyl) ketone, benzyl, benzoin; benzoin benzoate, benzoin alkyl ether, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, thioxanthone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenoylphosphine oxide, Bis (2,6) -dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide;

【0068】2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フ
ェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−
ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリ
ノフェニル)−ブタノン−1、メタロセン化合物等が挙
げられる。
2-Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-
Examples thereof include benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, metallocene compounds and the like.

【0069】さらに、これらの光開始剤(IV)に各種の
光増感剤を併用することができ、例えば、アミン類、尿
素類、含硫黄化合物、含燐化合物、含塩素化合物又はニ
トリル類もしくはその他の含窒素化合物などが挙げられ
る。
Further, various photosensitizers can be used in combination with these photoinitiators (IV). For example, amines, ureas, sulfur-containing compounds, phosphorus-containing compounds, chlorine-containing compounds or nitriles or Other nitrogen-containing compounds are included.

【0070】光開始剤(IV)の使用量としては、組成物
中の樹脂固形分100重量部に対して 0.5〜25重
量部、好ましくは1〜15重量部の範囲内である。
The amount of the photoinitiator (IV) used is 0.5 to 25 parts by weight, preferably 1 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin solid content in the composition.

【0071】反応性希釈剤(V)は、活性エネルギー線
による硬化性の調整を目的として使用され、例えば、
(メタ)アクリレート化合物、ビニル化合物、アクリル
アミド化合物、マレイミド化合物等が挙げられる。なか
でも、レジスト組成物の現像性を向上させる点から、
(メタ)アクリロイル基と水酸基を有する化合物が好ま
しい。
The reactive diluent (V) is used for the purpose of adjusting the curability by active energy rays, and for example,
(Meth) acrylate compounds, vinyl compounds, acrylamide compounds, maleimide compounds and the like can be mentioned. Among them, from the viewpoint of improving the developability of the resist composition,
A compound having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group is preferable.

【0072】前記(メタ)アクリロイル基と水酸基を有
する化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アク
リレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレー
ト、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、シク
ロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、ポ
リエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ
プロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト
ールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)ア
クリレート−(メタ)アクリル酸付加物、2ーヒドロキ
シ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレートなど
各種の水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物;あ
るいは前記した水酸基を有する(メタ)アクリレート化
合物とε−カプロラクトンとの開環反応物などが挙げら
れる。
Examples of the compound having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate and 3-hydroxybutyl. (Meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylol Ethanedi (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate (Meth) acrylate compounds having various hydroxyl groups such as bisphenol, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate- (meth) acrylic acid adduct, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate; or Examples thereof include ring-opening reaction products of the above-mentioned (meth) acrylate compound having a hydroxyl group and ε-caprolactone.

【0073】また、前記(メタ)アクリロイル基と水酸
基を有する化合物として、各種エポキシ化合物と(メ
タ)アクリル酸を反応させて得られるエポキシ(メタ)
アクリレートも使用できる。エポキシ基と(メタ)アク
リル酸との反応によりエポキシ環が開環し、この時(メ
タ)アクリル酸エステルと水酸基が生成される。
Epoxy (meth) obtained by reacting various epoxy compounds with (meth) acrylic acid as the compound having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group.
Acrylate can also be used. The reaction between the epoxy group and (meth) acrylic acid opens the epoxy ring, at which time a (meth) acrylic acid ester and a hydroxyl group are generated.

【0074】前記反応性希釈剤(V)の使用量として
は、光硬化性等に優れるレジスト用組成物が得られるこ
とから、活性エネルギー線硬化型イミド樹脂(I)10
0重量部に対して、10〜200重量部となる範囲が好
ましく、なかでも10〜100重量部となる範囲が特に
好ましい。
Regarding the amount of the reactive diluent (V) used, an active energy ray-curable imide resin (I) 10 is used because a resist composition having excellent photocurability can be obtained.
The range of 10 to 200 parts by weight is preferable with respect to 0 parts by weight, and the range of 10 to 100 parts by weight is particularly preferable.

【0075】また、前記レジスト用組成物は、必要に応
じて、各種の無機充填材を添加することができ、例え
ば、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、酸化けい素酸
粉、微粒状酸化けい素、シリカ、タルク、クレー、炭酸
マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水
酸化アルムニウム、雲母等が挙げられる。
If desired, various inorganic fillers can be added to the resist composition. For example, barium sulfate, barium titanate, silicon oxide powder, finely divided silicon oxide, Examples thereof include silica, talc, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide and mica.

【0076】さらに、前記レジスト用組成物は、必要に
応じて、無機顔料、有機顔料等を添加することができ
る。無機顔料としては、例えば、黄鉛、ジンククロメー
ト、モリブデート・オレンジの如きクロム酸塩;紺青の
如きフェロシアン化物、酸化チタン、亜鉛華、ベンガ
ラ、酸化鉄;炭化クロムグリーンの如き金属酸化物、カ
ドミウムイエロー、カドミウムレッド;硫化水銀の如き
金属硫化物、セレン化物;硫酸鉛の如き硫酸塩;群青の
如き珪酸塩;炭酸塩、コバルト・バイオレッド;マンガ
ン紫の如き燐酸塩;アルミニウム粉、亜鉛末、真鍮粉、
マグネシウム粉、鉄粉、銅粉、ニッケル粉の如き金属
粉;カーボンブラック等が挙げられる。
Further, an inorganic pigment, an organic pigment or the like can be added to the resist composition, if necessary. Examples of the inorganic pigments include chromates such as yellow lead, zinc chromate and molybdate orange; ferrocyanides such as navy blue, titanium oxide, zinc oxide, red iron oxide, iron oxide; metal oxides such as chromium carbide green and cadmium. Yellow, cadmium red; metal sulfides such as mercury sulfide, selenides; sulfates such as lead sulfate; silicates such as ultramarine blue; carbonates, cobalt violet, phosphates such as manganese purple; aluminum powder, zinc dust, Brass powder,
Metal powders such as magnesium powder, iron powder, copper powder and nickel powder; carbon black and the like.

【0077】有機顔料としては、アゾ顔料;フタロシア
ニン・ブルー、フタロシアニン・グリーンの如き銅フタ
ロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料等が挙げられ
る。
Examples of organic pigments include azo pigments; copper phthalocyanine pigments such as phthalocyanine blue and phthalocyanine green, and quinacridone pigments.

【0078】前記レジスト用組成物は、必要に応じて、
更に、防錆剤、体質顔料等を添加することができる。こ
れらは単独でも2種以上を併用してもよいが、紫外線を
活性エネルギー線源として使用する場合は、硬化に必要
な透明性を有する範囲で使用する必要がある。
The resist composition may be used, if desired.
Further, a rust preventive agent, an extender pigment and the like can be added. These may be used alone or in combination of two or more, but when ultraviolet rays are used as an active energy ray source, it is necessary to use them in a range having transparency necessary for curing.

【0079】なお、前記レジスト用組成物は、光硬化の
特性や物性を改良するために各種(メタ)アクリレート
化合物やビニル化合物を含有してもよい。
The resist composition may contain various (meth) acrylate compounds or vinyl compounds in order to improve photocuring characteristics and physical properties.

【0080】前記レジスト用組成物は、基板上に塗布さ
れ溶剤を乾燥した後に所望のネガパターンのマスクを透
して紫外線等のエネルギー線の照射を行い、希アルカリ
水溶液にて現像することでパターンを形成することがで
きる。
The resist composition is coated on a substrate, dried with a solvent, irradiated with energy rays such as ultraviolet rays through a mask having a desired negative pattern, and developed with a dilute alkaline aqueous solution. Can be formed.

【0081】前記希アルカリ水溶液としては、公知慣用
のアルカリ水溶液を使用することが可能であり、その代
表例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等の水溶液や、テトラメチ
ルアンモニュウムヒドロキシドや、テトラエチルアンモ
ニュウムヒドロキシド、テトラメチルホスホニュウムハ
イドロオキサイド等の水溶液を使用することができる。
かかるアルカリ水溶液の濃度としては、0.2〜5重量
%のものが挙げられる。現像方法は、塗装試料を現像液
にディッピングして振とうする方法や、スプレーにて現
像液を試料に吹き付ける方法等で行うことができる。ま
た、現像液の温度は、10〜50℃である。
As the dilute alkaline aqueous solution, a known and commonly used alkaline aqueous solution can be used, and representative examples thereof include aqueous solutions of sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate and the like, and tetramethyl. An aqueous solution of ammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetramethylphosphonium hydroxide or the like can be used.
The concentration of the alkaline aqueous solution may be 0.2 to 5% by weight. The developing method can be carried out by dipping the coated sample in a developing solution and shaking it, or spraying the developing solution onto the sample. The temperature of the developing solution is 10 to 50 ° C.

【0082】前記レジスト用組成物の硬化に用いる活性
エネルギー線としては、電子線、α線、γ線、X線、中
性子線又は、紫外線のごとき、電離放射線や光などが挙
げられる。
Examples of the active energy rays used for curing the resist composition include electron beams, α rays, γ rays, X rays, neutron rays, and ultraviolet rays such as ionizing radiation and light.

【0083】[0083]

【実施例】次に、本発明を実施例及び比較例により。具
体的に説明するが、以下において部及び%は、特に断り
のない限り、全て重量基準である。
EXAMPLES Next, the present invention will be described with reference to Examples and Comparative Examples. Although specifically described below, all parts and% are by weight unless otherwise specified.

【0084】実施例1 攪拌装置、温度計及びコンデンサーを備えた4口フラス
コに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート4332.0gと、イソホロンジイソシアネートか
ら誘導されるイソシアヌレート環含有ポリイソシアネー
ト化合物(以下、IPDI−Nと略記する。イソシアネ
ート基含有率18.2%、イソシアヌレート環含有トリ
イソシアネート化合物の含有率95%)2772g(イ
ソシアネート基のモル数12mol)と、無水トリメリ
ット酸1536.0g(8mol)を仕込み、攪拌を行
いながら160℃まで昇温した。60℃付近から激しく
発泡しはじめ、フラスコ内容物は徐々に透明となった。
160℃で4時間反応を行い、系内のイソシアネート基
含有率が2.0%になった時点で80℃まで冷却した。
次いで、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート935.0gと、メチルハイドロキノン3.51
gを加え、さらに、その中にペンタエリスリトールトリ
アクリレート(水酸基価120)935.0g(2mo
l)を加え、発熱に注意しながら80℃で反応させた。
80℃で4時間反応させた後、赤外線吸収スペクトル
(以下、IRと略記する。)にて2270cm−1のイ
ソシアネート基の吸収が消失していることを確認して、
薄黄色透明の重合性ポリイミド樹脂溶液を得た。
Example 1 In a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 4332.0 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate and an isocyanurate ring-containing polyisocyanate compound derived from isophorone diisocyanate (hereinafter referred to as IPDI-N Isocyanate group content rate 18.2%, isocyanurate ring-containing triisocyanate compound content rate 95%) 2772 g (isocyanate group mole number 12 mol) and trimellitic anhydride 1536.0 g (8 mol) were charged, The temperature was raised to 160 ° C. with stirring. Vigorous foaming started at around 60 ° C, and the contents of the flask gradually became transparent.
The reaction was carried out at 160 ° C for 4 hours, and when the isocyanate group content in the system reached 2.0%, the system was cooled to 80 ° C.
Next, 935.0 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate and 3.51 of methylhydroquinone
In addition, 935.0 g (2 mo) of pentaerythritol triacrylate (hydroxyl value 120) was added.
1) was added and the reaction was carried out at 80 ° C. while paying attention to the exotherm.
After reacting at 80 ° C. for 4 hours, it was confirmed by infrared absorption spectrum (hereinafter abbreviated as IR) that the absorption of the isocyanate group at 2270 cm −1 disappeared,
A light yellow transparent polymerizable polyimide resin solution was obtained.

【0085】このポリイミド樹脂溶液をKBr板に塗装
し、溶剤を揮発させた試料のIRを測定したところ、1
780cm−1と735cm−1にイミド環の吸収、1
660cm−1にアミド基の吸収、1850cm−1
1780cm−1と720cm−1に酸無水基の吸収、
3390cm−1にカルボキシル基の吸収、さらに16
38cm−1と810cm−1にアクリロイル基の吸収
が、それぞれ確認された。また、13C−NMR分析か
らイソシアヌレート環の濃度は0.87mmol/g
(樹脂固形分換算)で、イミド環とアミド基を含有アク
リレートであることが確認された。なお、GPCによる
分子量測定では、数平均分子量(以下、Mnと略記す
る。)がポリスチレン換算で2,000、重量平均分子
量(以下、Mwと略記する。)がポリスチレン換算で
4,020であった。酸価は76.7(樹脂固形分換
算)で、アクリロイル基の濃度は1.25mmol/g
(樹脂固形分換算)であった。以下、このポリイミド樹
脂溶液を樹脂溶液P1と略記する。
This polyimide resin solution was coated on a KBr plate and the IR of a sample in which the solvent was volatilized was measured.
Absorption of imide ring at 780 cm −1 and 735 cm −1 , 1
Absorption of amide group at 660 cm −1 , absorption of acid anhydride group at 1850 cm −1 and 1780 cm −1 and 720 cm −1 ,
Absorption of carboxyl group at 3390 cm -1 , further 16
Absorption of acryloyl group at 38cm -1 and 810 cm -1 was confirmed, respectively. Moreover, the concentration of isocyanurate ring was 0.87 mmol / g from 13 C-NMR analysis.
It was confirmed (in terms of resin solid content) that it was an acrylate containing an imide ring and an amide group. In the molecular weight measurement by GPC, the number average molecular weight (hereinafter abbreviated as Mn) was 2,000 in terms of polystyrene, and the weight average molecular weight (hereinafter abbreviated as Mw) was 4,020 in terms of polystyrene. . Acid value is 76.7 (resin solid content conversion) and acryloyl group concentration is 1.25 mmol / g.
(Converted to resin solid content). Hereinafter, this polyimide resin solution is abbreviated as resin solution P1.

【0086】得られた樹脂溶液P1を用いて、第1表
(1)に示す組成で配合し、ホモディスパーにて混練し
て、レジスト用インキを調製した。次いで、このレジス
ト用インキを用いて、ブリキ板上、又は、予めエッチン
グした回路パターンを形成したガラスエポキシ系プリン
ト基板上にレジスト用インキ塗膜を有するテストピース
を作成し、下記(1)〜(4)の評価試験を行った。評
価結果を第2表(1)に示す。
The resin solution P1 thus obtained was blended with the composition shown in Table 1 (1) and kneaded with a homodisper to prepare a resist ink. Next, using this resist ink, a test piece having a resist ink coating film on a tin plate or on a glass epoxy printed circuit board on which a circuit pattern that has been etched in advance is formed is prepared, and the following (1) to ( The evaluation test of 4) was performed. The evaluation results are shown in Table 2 (1).

【0087】<評価試験方法> (1)再溶解性試験 レジスト用インキをブリキ板上に0.076ミルのアプ
リケーターを用いて乾燥後30μmの膜厚になるように
塗布し、得られたテストピースを80℃の乾燥器中に3
0分間放置して溶剤を揮散させたレジスト用インキ塗膜
を有するテストピースとし、その重量と塗布面積を測定
した後、50℃の1%炭酸ナトリウム水溶液と1%水酸
化ナトリウム水溶液のそれぞれの中で、120秒間浸積
振とうして塗膜を再溶解させ、乾燥し、重量を測定し、
再溶解前の重量と、再溶解後の重量と、塗布面積と、塗
膜の比重(但し、比重を1.2とする。)とから、12
0秒間で再溶解した塗膜の厚さを算出し、次いで減膜ス
ピードを求めた。減膜スピードの数値が大きいほど、再
溶解性が優れていることを示す。
<Evaluation Test Method> (1) Resolubility Test A resist ink was applied onto a tin plate using an applicator of 0.076 mil so as to have a film thickness of 30 μm after drying, and a test piece was obtained. In an oven at 80 ° C for 3
After leaving for 0 minutes, a test piece having a resist ink coating film in which the solvent was volatilized was prepared, its weight and coating area were measured, and then the test piece was placed in a 1% aqueous sodium carbonate solution and a 1% aqueous sodium hydroxide solution at 50 ° C. Then, the coating is redissolved by shaking for 120 seconds, dried, and weighed.
From the weight before re-dissolution, the weight after re-dissolution, the coating area, and the specific gravity of the coating film (provided that the specific gravity is 1.2), 12
The thickness of the coating film redissolved in 0 seconds was calculated, and then the film reduction speed was determined. The larger the value of the film-reducing speed, the better the resolubility.

【0088】(2)紫外線硬化性及びパターンニング性
の評価 レジスト用インキをブリキ板上に0.076ミルのアプ
リケーターを用いて乾燥後30μmの膜厚になるように
塗布し、得られたテストピースを80℃の乾燥器中に3
0分間放置して溶剤を揮散させたレジスト用インキ塗膜
を有するテストピースとし、塗膜上にステップタブレッ
トNo.2(コダック株式会社製)をのせ、超高圧水銀
ランプを用いて500mJ/cmと1000mJ/c
の紫外線をそれぞれ別のテストピースの塗膜に照射
した後、50℃の1%水酸化ナトリム水溶液中で60秒
間浸積振とうして塗膜を再溶解させ、再溶解せずに残存
している段数で評価を行なった。評価は、ステップタブ
レットの段数で示し、段数が大きいほど紫外線硬化性と
パターンニング性が優れていることを示す。
(2) Evaluation of UV curability and patterning property A resist ink was applied onto a tin plate using an applicator of 0.076 mil so as to have a film thickness of 30 μm after drying, and a test piece was obtained. In an oven at 80 ° C for 3
After leaving for 0 minutes, a test piece having a resist ink coating film in which the solvent was volatilized was prepared, and the step tablet No. 2 (made by Kodak Co., Ltd.) and 500 mJ / cm 2 and 1000 mJ / c using an ultra-high pressure mercury lamp
After irradiating the coating film of each different test piece with m 2 of ultraviolet ray, the coating film was redissolved by immersing and shaking in 1% sodium hydroxide aqueous solution at 50 ° C. for 60 seconds, and remained without being redissolved. The evaluation was performed using the number of steps. The evaluation is indicated by the number of steps of the step tablet, and the larger the number of steps, the better the ultraviolet curing property and the patterning property.

【0089】(3)ガラス転移温度と線膨張係数の測定 レジスト用インキをブリキ板上に0.076ミルのアプ
リケーターを用いて乾燥後30μmの膜厚になるように
塗布し、得られたテストピースを80℃の乾燥器中に3
0分間放置して溶剤を揮散させたレジスト用インキ塗膜
を有するテストピースとし、塗膜上に超高圧水銀ランプ
を用いて500mJ/cmの紫外線を照射した後、1
50℃と170℃の乾燥器中にそれぞれ別のテストピー
スを60分間放置して硬化させ、硬化塗膜を剥離し、次
いで、セイコー電子(株)製熱分析システム TMA−S
S6000を用いて、試料長10mm、昇温速度10℃
/分、荷重49mN(5g)の条件でTMA(Therm
al mechanical analysis)法に
より、得られた硬化塗膜のガラス転移温度(Tg)と線
膨張係数(α1)を測定した。ガラス転移温度(Tg)
の値は温度が高いほど耐熱性が優れていることを示す。
また、線膨張係数(α1)は、ガラス転移温度(Tg)
前温度の寸法安定性示し、数値が小さいほど熱寸法安定
性に優れていることを示す。
(3) Measurement of glass transition temperature and coefficient of linear expansion A resist ink was applied onto a tin plate with an applicator of 0.076 mil so as to have a thickness of 30 μm after drying, and a test piece was obtained. In an oven at 80 ° C for 3
A test piece having a resist ink coating film in which the solvent was volatilized was left for 0 minutes, and the coating film was irradiated with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp, and then 1
Separate test pieces were left to cure in a dryer at 50 ° C and 170 ° C for 60 minutes, the cured coating film was peeled off, and then the thermal analysis system TMA-S manufactured by Seiko Denshi KK
Using S6000, sample length 10 mm, heating rate 10 ° C
/ Min, load 49mN (5g) under the conditions of TMA (Therm
The glass transition temperature (Tg) and the linear expansion coefficient (α1) of the obtained cured coating film were measured by the al mechanical analysis method. Glass transition temperature (Tg)
The value of indicates that the higher the temperature, the better the heat resistance.
The linear expansion coefficient (α1) is the glass transition temperature (Tg).
The dimensional stability at the previous temperature is shown. The smaller the value, the better the thermal dimensional stability.

【0090】(4)プレッシャークッカー(PCT)耐
性試験 レジスト用インキを予めエッチングした回路パターンを
形成したガラスエポキシ系プリント基板上に0.076
ミルのアプリケーターを用いて乾燥後30μmの膜厚に
なるように塗布し、得られたテストピースを80℃の乾
燥器中に30分間放置して溶剤を揮散させたレジスト用
インキ塗膜を有するテストピースとし、塗膜上に超高圧
水銀ランプを用いて500mJ/cmの紫外線を照射
した後、150℃と170℃の乾燥器中にそれぞれ別の
テストピースを60分間放置して硬化塗膜を有するテス
トピ−スとし、次いで、得られたテストピースを、PC
T試験機(株式会社平山製作所 PC−304RIII)で
121℃、100%RHの飽和蒸気圧下で50時間処理
した後、室温状態に戻して、外観の変化を目視にて評価
した。また、JISD−0202のセロハンテープ剥離
試験に準拠して、得られた塗膜に1mm間隔で碁盤目状
のクロスカットをいれ、セロハンテープにてピーリング
試験を行い、塗膜の剥離数を数えて、下記基準で塗膜の
付着性を評価した。 外観評価基準 ◎:PCT試験前後でと変化、以上が見られない。 ○:PCT試験後、塗膜面積の10%未満の範囲でブリ
スター、白化、溶解等の塗膜異常が確認できる。 △:PCT試験後、塗膜面積の10%以上50重量%未
満の範囲でブリスター、白化、溶解等の塗膜異常が確認
できる。 ×:PCT試験後、塗膜面積の50%以上の範囲でブリ
スター、白化、溶解等の塗膜異常が確認できる。 付着性評価 ◎:碁盤目の剥離なし。 ○:碁盤目100個に対して剥離した碁盤目数が20個
未満。 △:碁盤目100個に対して剥離した碁盤目数が20個
以上70個未満。 ×:碁盤目100個に対して剥離した碁盤目数が70個
以上。
(4) Pressure Cooker (PCT) Resistance Test 0.076 on a glass epoxy printed circuit board having a circuit pattern formed by pre-etching a resist ink.
Test using a mill applicator so as to have a film thickness of 30 μm after drying, and leave the resulting test piece in a dryer at 80 ° C. for 30 minutes to evaporate the solvent and have a resist ink coating film As a piece, after irradiating the coating film with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp, separate test pieces were left for 60 minutes in a dryer at 150 ° C. and 170 ° C. to form a cured coating film. The test piece thus obtained is used as a test piece
After treating with a T tester (PC-304RIII, Hirayama Seisakusho Co., Ltd.) under a saturated vapor pressure of 121 ° C. and 100% RH for 50 hours, the temperature was returned to room temperature and the change in appearance was visually evaluated. In addition, according to the JISD-0202 cellophane tape peeling test, a grid-like cross cut is put in the obtained coating film at 1 mm intervals, and a peeling test is performed with cellophane tape to count the number of peeled coating films. The adhesion of the coating film was evaluated according to the following criteria. Appearance evaluation criteria ⊚: Changes before and after the PCT test, the above is not seen. Good: After the PCT test, coating film abnormalities such as blister, whitening, and dissolution can be confirmed within a range of less than 10% of the coating film area. Δ: After the PCT test, abnormality of the coating film such as blister, whitening and dissolution can be confirmed in the range of 10% or more and less than 50% by weight of the coating film area. X: After the PCT test, coating film abnormalities such as blister, whitening, and dissolution can be confirmed in a range of 50% or more of the coating film area. Adhesion evaluation ◎: No cross-cutting. ◯: The number of cross-cuts separated from 100 cross-cuts is less than 20. Δ: The number of cross-cuts separated from 100 cross-cuts is 20 or more and less than 70. X: The number of cross-cuts was 70 or more with respect to 100 cross-cuts.

【0091】実施例2 攪拌装置、温度計及びコンデンサーを備えた4口フラス
コに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート3979.5gと、IPDI−N2097.0g
(イソシアネート基のモル数9mol)と、ヘキサメチ
レンジイソシアネートから誘導されるイソシアヌレート
環含有ポリイソシアネート化合物(イソシアネート基含
有率23.4%、イソシアヌレート環含有トリイソシア
ネート化合物の含有率60%)538.5g(イソシア
ネート基のモル数3mol)と、無水トリメリット酸1
344.0g(7mol)を仕込み、攪拌を行いながら
160℃まで昇温した。60℃付近から激しく発泡しは
じめ、フラスコ内容物は徐々に透明となった。160℃
で4時間反応を行い、系内のイソシアネート基含有率が
1.1%になった時点で80℃まで冷却した。次いで、
ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート9
35.0gと、メチルハイドロキノン3.56gを加
え、さらに、その中にペンタエリスリトールトリアクリ
レート(水酸基価120)935.0g(2mol)を
加え、80℃で反応させた。80℃で4時間反応させた
後、IRにて2270cm−1のイソシアネートの吸収
が消失していることを確認し、薄黄色透明の重合性ポリ
イミド樹脂溶液を得た。
Example 2 3979.5 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate and IPDI-N2097.0 g were placed in a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser.
538.5 g (isocyanurate ring-containing polyisocyanate compound derived from hexamethylene diisocyanate (isocyanate group content 23.4%, isocyanurate ring-containing triisocyanate compound content 60%)) (3 mol of isocyanate groups) and trimellitic anhydride 1
344.0 g (7 mol) was charged, and the temperature was raised to 160 ° C. with stirring. Vigorous foaming started at around 60 ° C, and the contents of the flask gradually became transparent. 160 ° C
The reaction was carried out for 4 hours, and the system was cooled to 80 ° C when the isocyanate group content in the system reached 1.1%. Then
Diethylene glycol monoethyl ether acetate 9
35.0 g and 3.56 g of methyl hydroquinone were added, and further 935.0 g (2 mol) of pentaerythritol triacrylate (hydroxyl value 120) was added therein, and the mixture was reacted at 80 ° C. After reacting at 80 ° C. for 4 hours, it was confirmed by IR that absorption of isocyanate at 2270 cm −1 had disappeared, and a light yellow transparent polymerizable polyimide resin solution was obtained.

【0092】このポリイミド樹脂溶液をKBr板に塗装
し、溶剤を揮発させた試料のIRを測定したところ、1
780cm−1と735cm−1にイミド環の吸収、1
660cm−1にアミド基の吸収、1850cm−1
1780cm−1と720cm−1に酸無水基の吸収、
3390cm−1にカルボキシル基の吸収、さらに16
38cm−1と810cm−1にアクリロイル基の吸収
が、それぞれ確認された。また、Mnは2,000、M
wは4,600、酸価は76.7で、(メタ)アクリロ
イル基の濃度は1.42mmol/gであった。さら
に、イソシアヌレート環の濃度は0.96mmol/g
であった。以下、このこのイミド樹脂溶液を樹脂溶液P
2と略記する。
This polyimide resin solution was coated on a KBr plate, and the IR of a sample in which the solvent was volatilized was measured.
Absorption of imide ring at 780 cm −1 and 735 cm −1 , 1
Absorption of amide group at 660 cm −1 , absorption of acid anhydride group at 1850 cm −1 and 1780 cm −1 and 720 cm −1 ,
Absorption of carboxyl group at 3390 cm -1 , further 16
Absorption of acryloyl group at 38cm -1 and 810 cm -1 was confirmed, respectively. Also, Mn is 2,000, M
w was 4,600, the acid value was 76.7, and the concentration of the (meth) acryloyl group was 1.42 mmol / g. Furthermore, the concentration of isocyanurate ring is 0.96 mmol / g
Met. Hereinafter, this imide resin solution is used as a resin solution P
It is abbreviated as 2.

【0093】得られた樹脂溶液P2を、樹脂溶液P1の
代わりに用いた以外は実施例1と同様にしてレジスト用
インキを調製し、次いで、同様にして前記(1)〜
(4)の評価試験を行った。評価結果を第2表(1)に
示す。
A resist ink was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained resin solution P2 was used in place of the resin solution P1.
The evaluation test of (4) was performed. The evaluation results are shown in Table 2 (1).

【0094】実施例3 攪拌装置、温度計及びコンデンサーを備えた4口フラス
コに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート4524.0gと、IPDI−N2797.0g
(イソシアネート基のモル数12mol)と、無水トリ
メリット酸1728.0g(9mol)を仕込み、攪拌
を行いながら160℃まで昇温した。60℃付近から激
しく発泡しはじめ、フラスコ内容物は徐々に透明となっ
た。160℃で7時間反応を行い、系内のイソシアネー
ト基含有率が0.1%になった時点で80℃まで冷却し
た。次いで、ジエチレングリコールモノエチルエーテル
アセテート355.0gと、メチルハイドロキノン2.
18gを加え、さらに、その中にグリシジルメタクリレ
ート355.0g(2.5mol)と、トリフェニルフ
ォスフィン10.0gを加えて100℃で反応させた。
100℃で5時間反応させた後、エポキシ当量が150
00g/eq以上になっていることを確認して、薄黄色
透明の重合性ポリイミド樹脂溶液を得た。
Example 3 In a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 4524.0 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate and IPDI-N2797.0 g.
(12 mol of isocyanate groups) and 1728.0 g (9 mol) of trimellitic anhydride were charged, and the temperature was raised to 160 ° C. with stirring. Vigorous foaming started at around 60 ° C, and the contents of the flask gradually became transparent. The reaction was carried out at 160 ° C for 7 hours, and the system was cooled to 80 ° C when the isocyanate group content in the system reached 0.1%. Next, 355.0 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate and methylhydroquinone 2.
18 g was added, and further, 355.0 g (2.5 mol) of glycidyl methacrylate and 10.0 g of triphenylphosphine were added thereto and reacted at 100 ° C.
After reacting at 100 ° C. for 5 hours, the epoxy equivalent is 150.
After confirming that the amount was 00 g / eq or more, a pale yellow transparent polymerizable polyimide resin solution was obtained.

【0095】このポリイミド樹脂溶液をKBr板に塗装
し、溶剤を揮発させた試料のIRを測定したところ、1
780cm−1と735cm−1にイミド環の吸収、1
660cm−1にアミド基の吸収、1850cm−1
1780cm−1と720cm−1に酸無水基の吸収、
3390cm−1にカルボキシル基の吸収、さらに16
38cm−1と810cm−1にアクリロイル基の吸収
が、それぞれ確認された。また、Mnは2,900、M
wは6,500、酸価は74.2で、アクリロイル基の
濃度は0.57mmol/gであった。さらに、イソシ
アヌレート環濃度は0.92mmol/gであった。以
下、この重合性ポリイミド樹脂溶液を樹脂溶液P3と略
記する。
This polyimide resin solution was coated on a KBr plate, and the IR of a sample in which the solvent was volatilized was measured.
Absorption of imide ring at 780 cm −1 and 735 cm −1 , 1
Absorption of amide group at 660 cm −1 , absorption of acid anhydride group at 1850 cm −1 and 1780 cm −1 and 720 cm −1 ,
Absorption of carboxyl group at 3390 cm -1 , further 16
Absorption of acryloyl group at 38cm -1 and 810 cm -1 was confirmed, respectively. Also, Mn is 2,900, M
The w was 6,500, the acid value was 74.2, and the concentration of the acryloyl group was 0.57 mmol / g. Furthermore, the isocyanurate ring concentration was 0.92 mmol / g. Hereinafter, this polymerizable polyimide resin solution is abbreviated as resin solution P3.

【0096】得られた樹脂溶液P3を、樹脂溶液P1の
代わりに用いた以外は実施例1と同様にしてレジスト用
インキを調製し、次いで、同様にして前記(1)〜
(4)の評価試験を行った。評価結果を第2表(1)に
示す。
A resist ink was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained resin solution P3 was used in place of the resin solution P1.
The evaluation test of (4) was performed. The evaluation results are shown in Table 2 (1).

【0097】実施例4 攪拌装置、温度計及びコンデンサーを備えた4口フラス
コに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート4151.5gと、IPDI−N2077.0g
(イソシアネート基のモル数9mol)と、ヘキサメチ
レンジイソシアネートから誘導されるイソシアヌレート
環含有ポリイソシアネート化合物(イソシアネート基含
有率23.4%、イソシアヌレート環含有トリイソシア
ネート化合物の含有率60%)538.5g(イソシア
ネート基のモル数3mol)と、無水トリメリット酸1
536.0g(8mol)を仕込み、攪拌を行いながら
160℃まで昇温した。60℃付近から激しく発泡しは
じめ、フラスコ内容物は徐々に透明となった。160℃
で4時間反応を行い、系内のイソシアネート基含有率が
1.1%になった時点で80℃まで冷却した。次いで、
ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート9
35.0gと、メチルハイドロキノン3.56gを加
え、さらに、その中にペンタエリスリトールトリアクリ
レート(水酸基価120)935.0g(2mol)を
加え、発熱に注意しながら80℃で反応させた。80℃
で4時間反応させた後、IRにて2270cm−1のイ
ソシアネートの吸収が消失していることを確認して、薄
黄色透明の重合性ポリイミド樹脂溶液を得た。
Example 4 A four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser was charged with 4151.5 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate and IPDI-N2077.0 g.
538.5 g (isocyanurate ring-containing polyisocyanate compound derived from hexamethylene diisocyanate (isocyanate group content 23.4%, isocyanurate ring-containing triisocyanate compound content 60%)) (3 mol of isocyanate groups) and trimellitic anhydride 1
536.0 g (8 mol) was charged, and the temperature was raised to 160 ° C. with stirring. Vigorous foaming started at around 60 ° C, and the contents of the flask gradually became transparent. 160 ° C
The reaction was carried out for 4 hours, and the system was cooled to 80 ° C when the isocyanate group content in the system reached 1.1%. Then
Diethylene glycol monoethyl ether acetate 9
35.0 g and 3.56 g of methylhydroquinone were added, and further 935.0 g (2 mol) of pentaerythritol triacrylate (hydroxyl value 120) was added therein, and the reaction was carried out at 80 ° C. while paying attention to heat generation. 80 ° C
After reacting for 4 hours at room temperature, it was confirmed by IR that absorption of the isocyanate at 2270 cm -1 had disappeared, and a light yellow transparent polymerizable polyimide resin solution was obtained.

【0098】このポリイミド樹脂溶液をKBr板に塗装
し、溶剤を揮発させた試料のIRを測定したところ、1
780cm−1と735cm−1にイミド環の吸収、1
660cm−1にアミド基の吸収、1850cm−1
1780cm−1と720cm−1に酸無水基の吸収、
3390cm−1にカルボキシル基の吸収、さらに16
38cm−1と810cm−1にアクリロイル基の吸収
が、それぞれ確認された。なお、GPCによる分子量分
布測定では、数平均分子量がポリスチレン換算で211
0、重量平均分子量がポリスチレン換算で4400であ
った。また、Mnは2,110、Mwは4,400、酸
価は77.6で、アクリロイル基の濃度は1.28mm
ol/gであった。さらに、イソシアヌレート環濃度は
0.93mmol/gであった。以下、この重合性ポリ
イミド樹脂溶液を樹脂溶液P4と略記する。
This polyimide resin solution was coated on a KBr plate and the IR of a sample in which the solvent was volatilized was measured.
Absorption of imide ring at 780 cm −1 and 735 cm −1 , 1
Absorption of amide group at 660 cm −1 , absorption of acid anhydride group at 1850 cm −1 and 1780 cm −1 and 720 cm −1 ,
Absorption of carboxyl group at 3390 cm -1 , further 16
Absorption of acryloyl group at 38cm -1 and 810 cm -1 was confirmed, respectively. In addition, in the molecular weight distribution measurement by GPC, the number average molecular weight is 211 in terms of polystyrene.
0, and the weight average molecular weight was 4,400 in terms of polystyrene. The Mn is 2,110, the Mw is 4,400, the acid value is 77.6, and the acryloyl group concentration is 1.28 mm.
It was ol / g. Furthermore, the isocyanurate ring concentration was 0.93 mmol / g. Hereinafter, this polymerizable polyimide resin solution is abbreviated as resin solution P4.

【0099】得られた樹脂溶液P4を、樹脂溶液P1の
代わりに用いた以外は実施例1と同様にしてレジスト用
インキを調製し、次いで、同様にして前記(1)〜
(4)の評価試験を行った。評価結果を第2表(1)に
示す。
A resist ink was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained resin solution P4 was used instead of the resin solution P1.
The evaluation test of (4) was performed. The evaluation results are shown in Table 2 (1).

【0100】比較例1 温度計、撹拌器及びコンデンサーを備えたフラスコに、
エチルカルビトールアセテート322.2gを仕込み、
これにオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂EP
ICLON N−680〔大日本インキ化学工業(株)
製、エポキシ当量212g/eq〕954.0gを溶解
させた。次いで、ハイドロキノン1.3gを加えた後、
攪拌を行いながらアクリル酸325.8gと、N,N−
ジメチルベンジルアミン4.25gを添加し、空気を吹
き込みながら115℃でエステル化反応を行なった。反
応終点は、酸価が1mgKOH/g以下になった点とし
た。その後、エチルカルビトールアセテート611.2
gと、テトラヒドロ無水フタル酸444.6gを加え、
90℃で5時間反応させて、淡黄色の酸ペンダント型エ
ポキシアクリレート樹脂溶液を得た。酸価は82.4
で、アクリロイル基の濃度は2.61mmol/gであ
った。また、Mnは3,500、Mwは9,800であ
った。以下、このエポキシアクリレート樹脂溶液を樹脂
溶液1′と略記する。
Comparative Example 1 In a flask equipped with a thermometer, a stirrer and a condenser,
Charge 322.2 g of ethyl carbitol acetate,
Orthocresol novolac type epoxy resin EP
ICLON N-680 [Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
Manufactured, epoxy equivalent 212 g / eq] 954.0 g was dissolved. Then, after adding 1.3 g of hydroquinone,
With stirring, 325.8 g of acrylic acid and N, N-
Dimethylbenzylamine (4.25 g) was added, and the esterification reaction was carried out at 115 ° C while blowing air. The end point of the reaction was the point at which the acid value became 1 mgKOH / g or less. Then ethyl carbitol acetate 611.2
g and 444.6 g of tetrahydrophthalic anhydride are added,
The reaction was carried out at 90 ° C. for 5 hours to obtain a pale yellow acid pendant type epoxy acrylate resin solution. Acid value is 82.4
The concentration of acryloyl group was 2.61 mmol / g. Moreover, Mn was 3,500 and Mw was 9,800. Hereinafter, this epoxy acrylate resin solution is abbreviated as resin solution 1 '.

【0101】得られた樹脂溶液1′を用いて、第1表
(1)に示す組成で配合し、ホモディスパーにて混練し
て、レジスト用インキを調製した。次いで、このレジス
ト用インキを用いて、ブリキ板上、又は、予めエッチン
グした回路パターンを形成したガラスエポキシ系プリン
ト基板上にレジスト用インキ塗膜を有するテストピース
を作成し、前記(1)〜(4)の評価試験を行った。評
価結果を第2表(2)に示す。
Using the resin solution 1'obtained, the composition shown in Table 1 (1) was blended and kneaded with a homodisper to prepare a resist ink. Then, using this resist ink, a test piece having a resist ink coating film is formed on a tin plate or a glass epoxy printed circuit board on which a circuit pattern that has been previously etched is formed. The evaluation test of 4) was performed. The evaluation results are shown in Table 2 (2).

【0102】比較例2 攪拌装置、温度計及びコンデンサーを備えた4口フラス
コに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート195.4gと、イソホロンジイソシアネート11
1.0gと、無水トリメリット酸134.4gを仕込
み、窒素雰囲気下で攪拌を行いながら80℃まで昇温し
た。60℃付近から激しく発泡しはじめ、フラスコ内容
物は徐々に透明となった。80℃で1時間反応させた
後、150℃まで昇温した。さらに150℃で7時間反
応を行った。100℃まで冷却し、空気雰囲気に変えた
後、メチルハイドロキノン0.22gを加え、100℃
まで冷却し、ペンタエリスリトールトリアクリレート
(水酸基価120)37.4gを仕込み、100℃で3
時間反応を行い、淡黄色の重合性ポリイミド樹脂溶液を
得た。酸価は100.9で、アクリロイル基の濃度は
0.98mmol/gであった。また、Mnは1,70
0、Mwは2,050であった。以下、このポリイミド
樹脂溶液を樹脂溶液2′と略記する。
Comparative Example 2 195.4 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate and 11 of isophorone diisocyanate were placed in a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser.
1.0 g and trimellitic anhydride 134.4 g were charged, and the temperature was raised to 80 ° C. with stirring under a nitrogen atmosphere. Vigorous foaming started at around 60 ° C, and the contents of the flask gradually became transparent. After reacting at 80 ° C for 1 hour, the temperature was raised to 150 ° C. Further, the reaction was carried out at 150 ° C. for 7 hours. After cooling to 100 ° C and changing to an air atmosphere, 0.22 g of methylhydroquinone was added, and 100 ° C
The mixture is cooled to 100 ° C., charged with 37.4 g of pentaerythritol triacrylate (hydroxyl value 120), and heated at 100 ° C. for 3 days.
The reaction was carried out for a time to obtain a pale yellow polymerizable polyimide resin solution. The acid value was 100.9 and the acryloyl group concentration was 0.98 mmol / g. Also, Mn is 1,70
0 and Mw were 2,050. Hereinafter, this polyimide resin solution is abbreviated as resin solution 2 '.

【0103】得られた樹脂溶液2′を、樹脂溶液1′の
代わりに用いた以外は比較例1と同様にしてレジスト用
インキを調製し、次いで、同様にして前記(1)〜
(4)の評価試験を行った。評価結果を第2表(2)に
示す。
A resist ink was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the obtained resin solution 2'was used in place of the resin solution 1 ', and then the above-mentioned (1) to (1) were repeated.
The evaluation test of (4) was performed. The evaluation results are shown in Table 2 (2).

【0104】[0104]

【表1】 [Table 1]

【0105】[0105]

【表2】 [Table 2]

【0106】第1表(1)〜(2)の脚注 *1)EPICLON N−680;オルソクレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業製、
エポキシ当量212)
Footnotes in Table 1 (1) to (2) * 1) EPICLON N-680; orthocresol novolac type epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals,
Epoxy equivalent 212)

【0107】[0107]

【表3】 [Table 3]

【0108】[0108]

【表4】 [Table 4]

【0109】実施例5 攪拌装置、温度計及びコンデンサーを備えた4口フラス
コに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート5200gと、IPDI−N2772g(イソシア
ネート基のモル数12mol)と、ジメチロールブタン
酸148g(1mol)を仕込み、攪拌を行いながら発
熱に注意して80℃に昇温し、3時間反応を行った。次
いで、無水トリメリット酸1344g(7mol)を仕込
み、160℃まで昇温した。反応は、発泡とともに進行
した。この温度で4時間反応させた。系内は薄茶色のク
リアな液体となった。溶液温度を100℃まで冷却し、
さらにペンタエリスリトールトリアクリレート(水酸基
価120)935g(2mol)と、メチルハイドロキ
ノン15gを仕込み、この温度にて5時間ウレタン化反
応を行い、IRにて2270cm−1のイソシアネート
基の吸収が消失していることを確認して、薄茶色透明の
重合性ポリイミド樹脂溶液を得た。
Example 5 In a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 5200 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate, 2772 g of IPDI-N (12 mol of isocyanate groups) and 148 g (1 mol) of dimethylolbutanoic acid were added. Was charged, the temperature was raised to 80 ° C. while stirring, and the reaction was carried out for 3 hours while paying attention to heat generation. Then, 1344 g (7 mol) of trimellitic anhydride was charged and the temperature was raised to 160 ° C. The reaction proceeded with foaming. The reaction was carried out at this temperature for 4 hours. The inside of the system became a light brown clear liquid. Cool the solution temperature to 100 ° C,
Furthermore, 935 g (2 mol) of pentaerythritol triacrylate (hydroxyl value 120) and 15 g of methylhydroquinone were charged, and urethane reaction was carried out at this temperature for 5 hours, and absorption of the isocyanate group at 2270 cm −1 disappeared by IR. Then, a light brown transparent polymerizable polyimide resin solution was obtained.

【0110】このポリイミド樹脂溶液をKBr板に塗装
し、溶剤を揮発させた試料のIRを測定したところ、7
25cm−1と1780cm−1と1720cm−1
イミド環の吸収、1690cm−1と1460cm−1
イソシアヌレート環の特性吸収、さらに1550cm
−1にウレタン結合の吸収が、それぞれ確認された。ま
た、Mnは2,500、Mwは5,200、酸価は9
8、アクリロイル基の濃度は1.23mmol/gであ
った。さらに、イソシアヌレート環濃度は0.85mm
ol/gであった。以下、この重合性ポリイミド樹脂溶
液を樹脂溶液P5と略記する。
This polyimide resin solution was coated on a KBr plate, and the IR of a sample in which the solvent was volatilized was measured.
Absorption of imide ring at 25 cm -1 and 1780 cm -1 and 1720 cm -1, characteristic absorption of isocyanurate ring at 1690 cm -1 and 1460 cm -1, further 1550cm
Absorption of urethane bond was confirmed at -1 . Also, Mn is 2,500, Mw is 5,200, and acid value is 9
8. The concentration of acryloyl group was 1.23 mmol / g. Furthermore, the isocyanurate ring concentration is 0.85 mm
It was ol / g. Hereinafter, this polymerizable polyimide resin solution is abbreviated as resin solution P5.

【0111】得られた樹脂溶液P5を用いて、下記に示
す組成で配合し、ホモディスパーにて混練して、ネガタ
イプのレジスト用インキを調製した。下記(5)〜
(9)の評価試験を行った。評価結果を第3表に示す。
Using the resulting resin solution P5, the composition shown below was compounded and kneaded with a homodisper to prepare a negative type resist ink. Below (5)
The evaluation test of (9) was performed. The evaluation results are shown in Table 3.

【0112】 配合組成 (1)重合性ポリイミド樹脂溶液 (樹脂固形分)75部 (2)EPICLON N−680 *2) 25部 (3)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 10部 (4)2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル] −2−モルフォリノプロパン−1−オン 5部 (5)N,N−ジメチルベンジルアミン 1部 配合例の脚注 *2)EPICLON N−680;オルソクレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業製、
エポキシ当量216)
Blending composition (1) Polymerizable polyimide resin solution (resin solids) 75 parts (2) EPICLON N-680 * 2) 25 parts (3) Dipentaerythritol hexaacrylate 10 parts (4) 2-Methyl-1 -[4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one 5 parts (5) N, N-dimethylbenzylamine 1 part Footnote of formulation example * 2) EPICLON N-680; orthocresol novolac type epoxy Resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals,
Epoxy equivalent 216)

【0113】<評価試験方法> (5)指触乾燥性の評価 レジスト用インキをガラス基板にアプリケーターを用い
て乾燥後30μmの膜厚になるように塗装し、80℃で
30分間乾燥を行ってテストピースを得た後、このテス
トピースを25℃、65%RHの環境に1時間放置し、
塗膜に指を触れた時のタックの状況を下記基準で評価を
行った。評価基準 ◎:まったくタックが認められない。 ○:わずかにタックが認められる。 △:顕著にタックが認められる。 ×:指に樹脂が付着する。
<Evaluation Test Method> (5) Evaluation of Touch Dryness A resist ink was applied onto a glass substrate using an applicator so as to have a thickness of 30 μm after drying, and dried at 80 ° C. for 30 minutes. After obtaining the test piece, leave this test piece in an environment of 25 ° C. and 65% RH for 1 hour,
The condition of tack when the coating film was touched with a finger was evaluated according to the following criteria. Evaluation Criteria A: No tack is observed. ◯: Slight tackiness is observed. Δ: Remarkably tack is observed. X: Resin adheres to the finger.

【0114】(6)紫外線硬化性の評価 レジスト用インキをガラス基板にアプリケーターを用い
て乾燥後30μmの膜厚になるように塗装し、80℃で
30分間乾燥を行ってテストピースを得た後、このテス
トピースの上にコダック社製ステップタブレットNo.
2を載せて、その上からメタルハライドランプ〔(株)ハ
イテック製HTE106−M07、出力7KW〕を用い
て500mJ/cmと1000mJ/cmと150
0mJ/cmの照射量の紫外線照射をそれぞれ別のテ
ストピースに行い、下記基準で紫外線硬化性の評価を行
った。 評価基準 ◎: 500mJ/cmの照射量で5段以上の残存領
域が存在する。 ◎:1000mJ/cmの照射量で5段以上の残存領
域が存在する。 △:1500mJ/cmの照射量で5段以上の残存領
域が存在する。 ×:1500mJ/cmの照射量で残存領域が5段未
満である。
(6) Evaluation of UV-curing property A resist ink was dried on a glass substrate using an applicator so as to have a thickness of 30 μm, and dried at 80 ° C. for 30 minutes to obtain a test piece. On top of this test piece, Kodak Step Tablet No.
No. 2 was placed, and 500 mJ / cm 2 and 1000 mJ / cm 2 and 150 were applied from above using a metal halide lamp [HTE106-M07 manufactured by Hitec Co., Ltd., output 7 kW].
Ultraviolet irradiation with an irradiation dose of 0 mJ / cm 2 was applied to different test pieces, and the ultraviolet curability was evaluated according to the following criteria. Evaluation Criteria ⊚: There are 5 or more remaining areas at an irradiation dose of 500 mJ / cm 2 . ⊚: There are 5 or more remaining areas at an irradiation dose of 1000 mJ / cm 2 . Δ: There are 5 or more remaining areas at an irradiation dose of 1500 mJ / cm 2 . X: The residual area is less than 5 steps at an irradiation dose of 1500 mJ / cm 2 .

【0115】(7)現像性の評価 レジスト用インキをガラス基板にアプリケーターを用い
て乾燥後30μmの膜厚になるように塗装し、80℃で
30分間乾燥を行ってテストピースを得た後、このテス
トピースの上にネガレジストパターンフィルム(PC
W UGRA82;UGRA社製)を載せて、その上か
らメタルハライドランプを用いて紫外線を1000mJ
/cm照射した。次いで、このテストピースを、30
℃の1%炭酸ナトリウム水溶液と1%水酸化ナトリウム
水溶液を現像液として、それぞれの現像液の中で4分間
浸漬振とうし、水道水で洗浄した後、現像性をルーペで
目視し、下記基準で評価した。 評価基準 ◎:10μm以下の同心円パターンまで現像できた。 ○:20μm以下の同心円パターンまで現像できた。 △:20μm以上の同心円パターンで現像可能だが、現
像残り等見られる。 ×:現像にてパターンが得られない。
(7) Evaluation of Developability A resist ink was dried on a glass substrate using an applicator so as to have a thickness of 30 μm, and dried at 80 ° C. for 30 minutes to obtain a test piece. Negative resist pattern film (PC
W UGRA82; made by UGRA Co.) is placed, and a metal halide lamp is used to emit ultraviolet rays of 1000 mJ.
/ Cm 2 irradiation. Then, this test piece is
C. 1% sodium carbonate aqueous solution and 1% sodium hydroxide aqueous solution as developing solutions, immersed in each developing solution for 4 minutes, shaken for shaking, washed with tap water, and then visually developed with a magnifying glass. It was evaluated by. Evaluation criteria ⊚: A concentric pattern of 10 μm or less could be developed. ◯: A concentric pattern of 20 μm or less could be developed. Δ: Development is possible with a concentric pattern of 20 μm or more, but undeveloped areas are observed. X: A pattern cannot be obtained by development.

【0116】(8)ガラス転移温度と線膨張係数の測定 レジスト用インキをガラス基板にアプリケーターを用い
て乾燥後30μmの膜厚になるように塗装し、80℃で
30分間乾燥を行ってテストピースを得た後、このテス
トピース上にメタルハライドランプを用いて紫外線を1
000mj/cm照射した後、150℃と170℃の
乾燥器中にそれぞれ別のテストピースを60分間放置し
て硬化させ、硬化塗膜を剥離し、次いで、DMA(Dy
namic mechanical analysi
s)法で硬化塗膜のガラス転移温度を測定し、また、T
MA(Thermal mechanical ana
lysis)法で硬化塗膜のガラス転移温度(Tg)と
線膨張係数(α1)を測定した。ガラス転移温度(T
g)の値は温度が高いほど耐熱性が優れていることを示
す。また、線膨張係数(α1)は、ガラス転移温度(T
g)前温度の寸法安定性示し、数値が小さいほど熱寸法
安定性に優れていることを示す。
(8) Measurement of glass transition temperature and coefficient of linear expansion A resist ink was applied onto a glass substrate using an applicator and dried to a film thickness of 30 μm, and dried at 80 ° C. for 30 minutes to give a test piece. After obtaining, obtain 1 ultraviolet ray using a metal halide lamp on this test piece.
After irradiation with 000 mj / cm 2, separate test pieces were left to cure in a dryer at 150 ° C. and 170 ° C. for 60 minutes, the cured coating film was peeled off, and then DMA (Dy
natural mechanical analysis
s) method is used to measure the glass transition temperature of the cured coating film.
MA (Thermal mechanical ana
The glass transition temperature (Tg) and the linear expansion coefficient (α1) of the cured coating film were measured by the lysis method. Glass transition temperature (T
The value of g) indicates that the higher the temperature, the more excellent the heat resistance. The coefficient of linear expansion (α1) is the glass transition temperature (T
g) Dimensional stability at the previous temperature is shown, and the smaller the value, the better the thermal dimensional stability.

【0117】なお、DMA法では、レオメトリック社製
レオバイブロンRSA−11を用いて、治具チャック間
20mm、温度範囲25〜300℃、昇温速度3℃/
分、測定周波数1Hzの条件で動的粘弾性を測定し、得
られたスペクトルのTanδの最大値を示す温度をガラ
ス転移温度(Tg)として求めた。
In the DMA method, Rheoviron RSA-11 manufactured by Rheometric Co. was used, and the distance between jig chucks was 20 mm, the temperature range was 25 to 300 ° C., and the temperature rising rate was 3 ° C. /
Min, the dynamic viscoelasticity was measured under the condition of a measurement frequency of 1 Hz, and the temperature showing the maximum value of Tan δ in the obtained spectrum was determined as the glass transition temperature (Tg).

【0118】また、TMA法では、セイコー電子(株)製
熱分析システム TMA−SS6000を用いて、試料
長10mm、昇温速度10℃/分、荷重49mN(5g)
の条件でJIS K−0129に準拠してガラス転移温
度(Tg)と線膨張係数(α1)を測定した。
In the TMA method, using a thermal analysis system TMA-SS6000 manufactured by Seiko Denshi KK, sample length 10 mm, temperature rising rate 10 ° C./min, load 49 mN (5 g).
The glass transition temperature (Tg) and the linear expansion coefficient (α1) were measured under the conditions of JIS K-0129.

【0119】(9)プレッシャークッカー(PCT)耐
性試験 実施例5〜8で得た活性エネルギー線硬化型イミド樹脂
溶液を用いた以外は、前記(4)プレッシャークッカー
(PCT)耐性試験と同様にして(9)プレッシャーク
ッカー耐性試験を行い、外観の変化と塗膜の付着性を評
価した。
(9) Pressure Cooker (PCT) Resistance Test In the same manner as (4) Pressure Cooker (PCT) resistance test, except that the active energy ray-curable imide resin solutions obtained in Examples 5 to 8 were used. (9) A pressure cooker resistance test was conducted to evaluate changes in appearance and adhesion of the coating film.

【0120】実施例6 攪拌装置、温度計及びコンデンサーを備えた4口フラス
コに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート4000gと、IPDI−Nを2079部(イソシ
アネート基のモル数9mol)と、ヘキサメチレンジイ
ソシアネートから誘導されるイソシアヌレート環含有ポ
リイソシアネート化合物(イソシアネート基含有率2
2.9%、イソシアヌレート環含有トリイソシアネート
化合物の含有率65%)550g(イソシアネート基の
モル数3mol)と、ジメチロールプロピオン酸134
g(1mol)を仕込み、攪拌を行いながら80℃に昇温
した。この温度で5時間反応を行った後、無水トリメリ
ット酸1152g(6mol)と、無水ピロメリット酸
218g(1mol)を仕込で170℃まで昇温した。
反応は、発泡とともに進行した。この温度で4時間反応
させた。系内は薄茶色のクリアな液体となった。溶液温
度を100℃まで冷却し、さらに4−ヒドロキシブチル
アクリレート(水酸基価390)288g(2mol)
と、メチルハイドロキノン15gを仕込み、この温度に
て5時間ウレタン化反応を行い、IRにて2270cm
−1のイソシアネート基の吸収が消失していることを確
認して、薄茶色透明の重合性ポリイミド樹脂溶液を得
た。
Example 6 In a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 4000 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate, 2079 parts of IPDI-N (mol number of isocyanate group: 9 mol) and hexamethylene diisocyanate were derived. Isocyanurate ring-containing polyisocyanate compound (isocyanate group content 2
2.9%, isocyanurate ring-containing triisocyanate compound content 65%) 550 g (mol number of isocyanate groups 3 mol), and dimethylolpropionic acid 134
g (1 mol) was charged, and the temperature was raised to 80 ° C. with stirring. After reacting at this temperature for 5 hours, 1152 g (6 mol) of trimellitic anhydride and 218 g (1 mol) of pyromellitic anhydride were charged and the temperature was raised to 170 ° C.
The reaction proceeded with foaming. The reaction was carried out at this temperature for 4 hours. The inside of the system became a light brown clear liquid. The solution temperature was cooled to 100 ° C, and 288 g (2 mol) of 4-hydroxybutyl acrylate (hydroxyl value 390) was further added.
And 15 g of methylhydroquinone were charged, and the urethane reaction was carried out at this temperature for 5 hours, and IR was 2270 cm.
It was confirmed that the absorption of the isocyanate group of -1 had disappeared, and a light brown transparent polymerizable polyimide resin solution was obtained.

【0121】このポリイミド樹脂溶液をKBr板に塗装
し、溶剤を揮発させた試料のIRを測定したところ、7
25cm−1と1780cm−1と1720cm−1
イミド環の吸収、1690cm−1と1460cm−1
にイソシアヌレート環の吸収、さらに1550cm−1
にウレタン結合の吸収が、それぞれ確認された。 ま
た、Mnは2,900、Mwは4,800、酸価は10
8、アクリロイル基の濃度は0.49mmol/gであ
った。さらに、イソシアヌレート環濃度は1.07mm
ol/gであった。以下、この重合性ポリイミド樹脂溶
液を樹脂溶液P6と略記する。
This polyimide resin solution was applied to a KBr plate and the IR of a sample in which the solvent was volatilized was measured.
25 cm -1 and 1780 cm -1 and 1720 cm -1 to the absorption of an imide ring, 1690 cm -1 and 1460 cm -1
Absorption of isocyanurate ring, 1550 cm -1
The absorption of urethane bond was confirmed in each case. Further, Mn is 2,900, Mw is 4,800, and an acid value is 10.
8. The concentration of acryloyl group was 0.49 mmol / g. Furthermore, the isocyanurate ring concentration is 1.07 mm
It was ol / g. Hereinafter, this polymerizable polyimide resin solution is abbreviated as resin solution P6.

【0122】得られた樹脂溶液P6を、樹脂溶液P5の
代わりに用いた以外は実施例5と同様にしてレジスト用
インキを調製し、前記(5)〜(9)の評価試験を行っ
た。評価結果を第3表に示す。
A resist ink was prepared in the same manner as in Example 5 except that the obtained resin solution P6 was used instead of the resin solution P5, and the evaluation tests (5) to (9) were conducted. The evaluation results are shown in Table 3.

【0123】実施例7 攪拌装置、温度計及びコンデンサーを付備えた4口フラ
スコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート5500gと、IPDI−N2772g(イソシ
アネート基のモル数12mol)と、ビスフェノールA
のエチレンオキサイド付加物(水酸基価340)660
g(2mol)を仕込み、攪拌を行いながら発熱に注意
して80℃に昇温した。この温度で3時間反応を行っ
た。ついで、無水トリメリット酸1536g(8mol)
を仕込み、130℃まで昇温した。反応は、発泡ととも
に進行した。この温度で12時間反応させた。系内は薄
茶色のクリアな液体となった。さらに、グリシジルメタ
クリレート568g(4mol)と、トリフェニルフォ
スフィン15gと、メチルハイドロキノン15gを仕込
み、この温度にて5時間エステル化反応を行い、IRに
て2270cm−1のイソシアネートの吸収が消失して
いることを確認して、茶色透明の重合性ポリイミド樹脂
溶液を得た。
Example 7 In a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, 5500 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 2772 g of IPDI-N (12 mol of isocyanate group) and bisphenol A were added.
Ethylene oxide adduct (hydroxyl value 340) 660
g (2 mol) was charged, and the temperature was raised to 80 ° C. while stirring and paying attention to heat generation. The reaction was carried out at this temperature for 3 hours. Then 1536 g (8 mol) of trimellitic anhydride
Was charged and the temperature was raised to 130 ° C. The reaction proceeded with foaming. The reaction was carried out at this temperature for 12 hours. The inside of the system became a light brown clear liquid. Furthermore, 568 g (4 mol) of glycidyl methacrylate, 15 g of triphenylphosphine, and 15 g of methylhydroquinone were charged, and the esterification reaction was carried out at this temperature for 5 hours, and the absorption of isocyanate at 2270 cm -1 disappeared. Then, a brown transparent polymerizable polyimide resin solution was obtained.

【0124】このポリイミド樹脂溶液をKBr板に塗装
し、溶剤を揮発させた試料のIRを測定したところ、7
25cm−1と1780cm−1と1720cm−1
イミド環の吸収、さらに1690cm−1と1460c
−1にイソシアヌレート環の吸収が、それぞれ確認さ
れた。また、Mnは2,800、Mwは6,500、酸
価は75、メタクリロイル基の濃度は0.77mmol
/gであった。さらに、イソシアヌレート環濃度は0.
79mmol/gであった。以下、この重合性ポリイミ
ド樹脂溶液を樹脂溶液P7と略記する。
This polyimide resin solution was applied to a KBr plate and the IR of a sample in which the solvent was volatilized was measured.
Absorption of imide ring at 25 cm -1 and 1780 cm -1 and 1720 cm -1, further 1690 cm -1 and 1460c
The absorption of the isocyanurate ring was confirmed at m −1 . Also, Mn is 2,800, Mw is 6,500, acid value is 75, and methacryloyl group concentration is 0.77 mmol.
/ G. Further, the isocyanurate ring concentration was 0.
It was 79 mmol / g. Hereinafter, this polymerizable polyimide resin solution is abbreviated as resin solution P7.

【0125】得られた樹脂溶液P7を、樹脂溶液P5の
代わりに用いた以外は実施例5と同様にしてレジスト用
インキを調製し、前記(5)〜(9)の評価試験を行っ
た。評価結果を第3表に示す。
A resist ink was prepared in the same manner as in Example 5, except that the obtained resin solution P7 was used in place of the resin solution P5, and the evaluation tests (5) to (9) were conducted. The evaluation results are shown in Table 3.

【0126】実施例8 攪拌装置、温度計及びコンデンサーを備えた4口フラス
コに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート65gと、テトラメチルビフェノール型のエポキシ
樹脂(エポキシ当量185g/eq)185gを仕込
み、100℃で溶解させた。さらに、アクリル酸72g
と、トリフェニルホスフィン3gと、メチルハイドロキ
ノン5gを仕込み、120℃で10時間反応させて、酸
価0.2で、エポキシ当量24000g/eqの樹脂を
得た。これを中間体1と略記する。
Example 8 A 4-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser was charged with 65 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate and 185 g of a tetramethylbiphenol type epoxy resin (epoxy equivalent: 185 g / eq) and heated at 100 ° C. Dissolved. Furthermore, acrylic acid 72g
And 3 g of triphenylphosphine and 5 g of methylhydroquinone were charged and reacted at 120 ° C. for 10 hours to obtain a resin having an acid value of 0.2 and an epoxy equivalent of 24000 g / eq. This is abbreviated as intermediate 1.

【0127】さらに、攪拌装置、温度計及びコンデンサ
ーを備えた4口フラスコに、エチルジグリコールアセテ
ート4820gと、IPDI−N2772g(イソシア
ネート基のモル数12mol)と、ジメチロールブタン
酸296部(2mol)を仕込み、攪拌を行い、発熱に注
意しながら80℃に昇温した。この温度で3時間反応を
行った後、無水トリメリット酸1152g(6mol)
と、ピロメリット酸二無水物436g(2mol)を仕
込み、140℃まで昇温した。反応は、発泡とともに進
行した。この温度で5時間反応させた。系内は薄茶色透
明の液体となった。溶液温度を100℃まで冷却し、さ
らに中間体1 963g(1.5mol)を仕込み、こ
の温度にて残存する酸無水基との反応を5時間行い、I
Rにて2270cm−1のイソシアネート基の吸収と1
860cm−1の酸無水基の吸収が消失していることを
確認して、薄茶色透明の重合性ポリイミド樹脂溶液を得
た。
Further, in a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 4820 g of ethyl diglycol acetate, IP7210 g of IPDI-N (mol of isocyanate group: 12 mol) and 296 parts (2 mol) of dimethylolbutanoic acid were added. After charging and stirring, the temperature was raised to 80 ° C while paying attention to heat generation. After reacting for 3 hours at this temperature, trimellitic anhydride 1152 g (6 mol)
Then, 436 g (2 mol) of pyromellitic dianhydride was charged, and the temperature was raised to 140 ° C. The reaction proceeded with foaming. The reaction was carried out at this temperature for 5 hours. The inside of the system became a light brown transparent liquid. The solution temperature was cooled to 100 ° C., 963 g (1.5 mol) of Intermediate 1 was charged, and the reaction with the acid anhydride group remaining at this temperature was carried out for 5 hours.
Absorption of isocyanate group at 2270 cm -1 at R and 1
After confirming that the absorption of the acid anhydride group at 860 cm −1 had disappeared, a light brown transparent polymerizable polyimide resin solution was obtained.

【0128】このポリイミド樹脂溶液をKBr板に塗装
し、溶剤を揮発させた試料のIRを測定したところ、7
25cm−1と1780cm−1と1720cm−1
イミド環の吸収、1690cm−1と1460cm−1
にイソシアヌレート環の吸収、さらに1550cm−1
にウレタン結合の吸収が、それぞれ確認された。また、
Mnは4,800、Mwは7,700、酸価は112、
(メタ)アクリロイル基の濃度は0.67mmol/g
であった。さらに、イソシアヌレート環濃度は0.78
mmol/gであった。以下、この重合性ポリイミド樹
脂溶液を樹脂溶液P8と略記する。
This polyimide resin solution was coated on a KBr plate, and the IR of the sample in which the solvent was volatilized was measured.
25 cm -1 and 1780 cm -1 and 1720 cm -1 to the absorption of an imide ring, 1690 cm -1 and 1460 cm -1
Absorption of isocyanurate ring, 1550 cm -1
The absorption of urethane bond was confirmed in each case. Also,
Mn is 4,800, Mw is 7,700, acid value is 112,
Concentration of (meth) acryloyl group is 0.67 mmol / g
Met. Furthermore, the isocyanurate ring concentration is 0.78
It was mmol / g. Hereinafter, this polymerizable polyimide resin solution is abbreviated as resin solution P8.

【0129】得られた樹脂溶液P8を、樹脂溶液P5の
代わりに用いた以外は実施例5と同様にしてレジスト用
インキを調製し、前記(5)〜(9)の評価試験を行っ
た。評価結果を第3表に示す。
A resist ink was prepared in the same manner as in Example 5 except that the obtained resin solution P8 was used in place of the resin solution P5, and the evaluation tests (5) to (9) were conducted. The evaluation results are shown in Table 3.

【0130】実施例9 攪拌装置、温度計及びコンデンサーを備えた4口フラス
コに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート4300gと、IPDI−N2079g(イソシア
ネート基のモル数9mol)と、イソホロンジイソシア
ネート222g(イソシアネート基のモル数2mol)
と、ジメチロールブタン酸148g(1mol)とを仕
込み、攪拌を行いながら発熱に注意して80℃に昇温し
た。この温度で3時間反応を行った後、無水トリメリッ
ト酸1152g(6mol)を仕込み、攪拌を行いなが
ら150℃まで昇温した。反応は発泡とともに進行し徐
々に透明となった。150℃で4時間反応を行い、10
0℃まで冷却した。次いで、メチルハイドロキノン15
gを加え、さらに、その中にペンタエリスリトールトリ
アクリレート(水酸基価120)702g(1.5mo
l)を加えて、100℃で反応させた。100℃で5時
間反応させた後、IRにて2270cm−1のイソシア
ネートの吸収が消失していることを確認して、薄黄色透
明の重合性ポリイミド樹脂溶液を得た。
Example 9 In a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 4300 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate, 2079 g of IPDI-N (mol number of isocyanate group: 9 mol) and 222 g of isophorone diisocyanate (mol of isocyanate group). (2 mol)
And 148 g (1 mol) of dimethylolbutanoic acid were charged, and the temperature was raised to 80 ° C. while stirring and paying attention to heat generation. After reacting at this temperature for 3 hours, 1152 g (6 mol) of trimellitic anhydride was charged, and the temperature was raised to 150 ° C. with stirring. The reaction proceeded with foaming and gradually became transparent. React for 4 hours at 150 ° C for 10
Cooled to 0 ° C. Then, methyl hydroquinone 15
g, and 702 g (1.5 mo) of pentaerythritol triacrylate (hydroxyl value 120).
1) was added and reacted at 100 ° C. After reacting at 100 ° C. for 5 hours, it was confirmed by IR that absorption of isocyanate at 2270 cm −1 had disappeared, and a pale yellow transparent polymerizable polyimide resin solution was obtained.

【0131】このポリイミド樹脂溶液をKBr板に塗装
し、溶剤を揮発させた試料のIRを測定したところ、7
25cm−1と1780cm−1と1720cm−1
イミド環の吸収、1690cm−1と1460cm−1
にイソシアヌレート環の吸収、さらに1550cm−1
にウレタン結合の吸収が、それぞれ確認された。また、
Mnは4,700、Mwは14,000、酸価は85、
アクリロイル基の濃度は1.14mmol/gであっ
た。さらに、イソシアヌレート環濃度は0.76mmo
l/gであった。以下、この重合性ポリイミド樹脂溶液
を樹脂溶液P9と略記する。
This polyimide resin solution was coated on a KBr plate, and the IR of a sample in which the solvent was volatilized was measured.
25 cm -1 and 1780 cm -1 and 1720 cm -1 to the absorption of an imide ring, 1690 cm -1 and 1460 cm -1
Absorption of isocyanurate ring, 1550 cm -1
The absorption of urethane bond was confirmed in each case. Also,
Mn is 4,700, Mw is 14,000, acid value is 85,
The concentration of acryloyl group was 1.14 mmol / g. Furthermore, the isocyanurate ring concentration is 0.76 mmo.
It was 1 / g. Hereinafter, this polymerizable polyimide resin solution is abbreviated as resin solution P9.

【0132】得られた樹脂溶液P9を、樹脂溶液P5の
代わりに用いた以外は実施例5と同様にしてレジスト用
インキを調製し、前記(5)〜(9)の評価試験を行っ
た。評価結果を第3表に示す。
A resist ink was prepared in the same manner as in Example 5 except that the obtained resin solution P9 was used instead of the resin solution P5, and the evaluation tests (5) to (9) were conducted. The evaluation results are shown in Table 3.

【0133】[0133]

【表5】 [Table 5]

【0134】[0134]

【発明の効果】本発明の活性エネルギー線硬化型ポリイ
ミド樹脂組成物は、硬化性、耐熱性、高温高圧下での耐
湿性に優れ、レジスト用組成物に用いた場合に希アルカ
リ水溶液でのパターニングが可能で、しかも、有機溶剤
として通常の有機溶剤、例えば窒素原子及び硫黄原子を
含有しない極性溶剤を使用することもできるという利点
がある。
The active energy ray-curable polyimide resin composition of the present invention is excellent in curability, heat resistance, and moisture resistance under high temperature and high pressure, and when used in a resist composition, patterning with a dilute alkaline aqueous solution. It is also possible to use an ordinary organic solvent as the organic solvent, for example, a polar solvent containing no nitrogen atom and sulfur atom.

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─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成14年6月26日(2002.6.2
6)
[Submission date] June 26, 2002 (2002.6.2)
6)

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0008[Correction target item name] 0008

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明で用いる重合性ポリイミド樹脂(I)としては、
イソシアヌレート環と環式脂肪族構造とイミド環と(メ
タ)アクリロイル基とを有し、希アルカリ水溶液でパタ
ーニングが可能な重合性ポリイミド樹脂であればよく、
特に限定されるものではなく、例えば、イソシアヌレー
ト環の濃度が0.4〜1.2mmol/g(樹脂固形分
換算)で、(メタ)アクリロイル基の濃度が0.3〜4
mmol/g(樹脂固形分換算)で、酸価が20〜250
(樹脂固形分換算)で、数平均分子量が1,000〜20,
000で、かつ、重量平均分子量が1,500〜30,
000の重合性ポリイミド樹脂が挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is described in detail below.
As the polymerizable polyimide resin (I) used in the present invention,
A polymerizable polyimide resin having an isocyanurate ring, a cycloaliphatic structure, an imide ring and a (meth) acryloyl group, which can be patterned with a dilute aqueous alkali solution,
It is not particularly limited, and for example, the concentration of the isocyanurate ring is 0.4 to 1.2 mmol / g (converted to resin solid content), and the concentration of the (meth) acryloyl group is 0.3 to 4
The acid value is 20 to 250 in mmol / g (resin solid content conversion)
The number average molecular weight is 1,000 to 20, in terms of resin solid content.
000 and a weight average molecular weight of 1,500 to 30,
000 polymerizable polyimide resins.

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0016[Correction target item name] 0016

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0016】前記環式脂肪族ジイソシアネート化合物を
含有するジイソシアネート化合物としては、環式脂肪族
ジイソシアネート化合物以外のジイソシアネート化合
物、例えば非環式脂肪族ジイソシアネート化合物を50
重量%以下の範囲で含有するものや、芳香族ジイソシア
ネートを30重量%以下の範囲で含有するものが挙げら
れるが、なかでも耐熱性と共に溶剤溶解性に優れる重合
性ポリイミド樹脂が得られることから、環式脂肪族ジイ
ソシアネート化合物の含有率は高いものが好ましく、通
常は環式脂肪族ジイソシアネート化合物の含有率が10
0重量%のものを用いる。環式脂肪族ジイソシアネート
化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネー
ト、4,4′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネー
ト、水添キシレンジイソシアネート、ノルボルネンジイ
ソシアネート等が挙げられる。また、非環式脂肪族ジイ
ソシアネートとしては、例えば、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、リジンジイソシアネート、トリメチルヘキ
サンジイソシアネート等が挙げられる。これらは、それ
ぞれ、単独でも2種以上を用いてもよい。
As the diisocyanate compound containing the above-mentioned cycloaliphatic diisocyanate compound, a diisocyanate compound other than the cycloaliphatic diisocyanate compound, for example, an acyclic aliphatic diisocyanate compound is used.
Those containing in the range of less than or equal to wt% and those containing the aromatic diisocyanate in the range of less than or equal to 30% by weight, among others, since a polymerizable polyimide resin excellent in solvent solubility with heat resistance is obtained, It is preferable that the content of the cycloaliphatic diisocyanate compound is high, and normally, the content of the cycloaliphatic diisocyanate compound is 10 or less.
0% by weight is used. Examples of the cycloaliphatic diisocyanate compound include isophorone diisocyanate, 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate, norbornene diisocyanate and the like. Further, examples of the acyclic aliphatic diisocyanate include hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, trimethylhexane diisocyanate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0019[Correction target item name] 0019

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0019】前記ポリオール化合物(a2)は、1分子
中に水酸基を2個以上有するポリオール化合物であれば
よく、特に限定されないが、なかでも、水酸基を2〜6
個有する化合物が好ましく、ジオール化合物であること
が特に好ましい。ポリオール化合物(a2)は、ポリイ
ソシアネート化合物(A1)とウレタン結合を介して樹
脂中に導入されるが、このようにポリオール化合物(a
2)をイミド樹脂骨格に導入することによって、ポリイ
ミド樹脂の溶媒溶解性が改良され、さらに現像の際の現
像スピードや現像安定性等性能が良好となる。
The above-mentioned polyol compound (a2) is not particularly limited as long as it is a polyol compound having two or more hydroxyl groups in one molecule, and above all, it has 2 to 6 hydroxyl groups.
A compound having an individual group is preferable, and a diol compound is particularly preferable. The polyol compound (a2) is introduced into the resin via the urethane bond with the polyisocyanate compound (A1).
By introducing 2) into the imide resin skeleton, the solvent solubility of the polyimide resin is improved, and the performance such as development speed and development stability during development is improved.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0026[Correction target item name] 0026

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0026】前記ポリオール化合物(a22)として
は、例えば、エチレングリコール、1,3−プロピレン
グリコール、1,2−プロピレングリコール、ジエチレ
ングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチル
グリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタン
ジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナン
ジオール、1,10−デカンジオール、2,2,4−ト
リメチル−1,3−ペンタンジオール、3−メチル−
1,5−ペンタンジオール、ジクロロネオペンチルグリ
コール、ジブロモネオペンチルグリコール、ヒドロキシ
ピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、シクロヘ
キサンジメチロール、1,4−シクロヘキサンジオー
ル、スピログリコール、トリシクロデカンジメチロー
ル、水添ビスフェノールA、エチレンオキサイド付加ビ
スフェノールA、プロピレンオキサイド付加ビスフェノ
−ルA、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタ
ン酸等のジオール;
Examples of the polyol compound (a22) include ethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, neopentyl glycol, 1,3-butanediol, 1, 4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 3-methyl-
1,5-pentanediol, dichloroneopentyl glycol, dibromoneopentyl glycol, hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester, cyclohexanedimethylol, 1,4-cyclohexanediol, spiroglycol, tricyclodecanedimethylol, hydrogenated bisphenol A, A diol such as ethylene oxide-added bisphenol A, propylene oxide-added bisphenol A, dimethylolpropionic acid, and dimethylolbutanoic acid;

【手続補正5】[Procedure Amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0031[Correction target item name] 0031

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0031】前記ポリイソシアネート化合物(A3)と
しては、なかでも、ジイソシアネート化合物が好まし
く、例えば、p−フェニレンジイソシアネート、m−フ
ェニレンジイソシアネート、p−キシレンジイソシアネ
ート、m−キシレンジイソシアネート、2,4−トリレ
ンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネー
ト、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、
3,3′−ジメチルジフェニル−4,4′−ジイソシア
ネート、3,3′−ジエチルジフェニル−4,4′−ジ
イソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香
族ジイソシアネート類;イソホロンジイソシアネート、
ヘキサメチレンジイソシアネート、4,4′−ジシクロ
ヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシレンジイソ
シアネート、ノルボヌレンジイソシアネート、リジンジ
イソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート等が挙げら
れる。これらのなかでも、脂肪族ジイソシアネートが特
に好ましい。
The polyisocyanate compound (A3) is preferably a diisocyanate compound, for example, p-phenylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-xylene diisocyanate, m-xylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate. , 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate,
Aromatic diisocyanates such as 3,3′-dimethyldiphenyl-4,4′-diisocyanate, 3,3′-diethyldiphenyl-4,4′-diisocyanate and naphthalene diisocyanate; isophorone diisocyanate,
Aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate, norbonylene diisocyanate, lysine diisocyanate and the like can be mentioned. Of these, aliphatic diisocyanates are particularly preferable.

【手続補正6】[Procedure correction 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0035[Correction target item name] 0035

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0035】テトラカルボン酸の酸無水物としては、例
えば、ピロメリット酸二無水物;ベンゾフェノン−3,
4,3′,4′−テトラカルボン酸二無水物、ジフェニ
ルエーテル−3,4,3′,4′−テトラカルボン酸二
無水物、ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸
二無水物、ビフェニル−3,4.3′,4′−テトラカ
ルボン酸二無水物、ビフェニル−2,3,2′,3′−
テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−2,3,6,
7−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,2,
4,5−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,
8,4,5−テトラカルボン酸二無水物、デカヒドロナ
フタレン−1,8,4,5−テトラカルボン酸二無水
物、4,8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘキ
サヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラカルボン
酸二無水物;
Examples of the acid anhydride of tetracarboxylic acid include pyromellitic dianhydride; benzophenone-3,
4,3 ', 4'-tetracarboxylic dianhydride, diphenyl ether-3,4,3', 4'-tetracarboxylic dianhydride, benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride , Biphenyl-3,4.3 ', 4'-tetracarboxylic dianhydride, biphenyl-2,3,2', 3'-
Tetracarboxylic acid dianhydride, naphthalene-2,3,6
7-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,2,
4,5-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,
8,4,5-Tetracarboxylic acid dianhydride, Decahydronaphthalene-1,8,4,5-tetracarboxylic acid dianhydride, 4,8-Dimethyl-1,2,3,5,6,7- Hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride;

【手続補正7】[Procedure Amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0036[Correction target item name] 0036

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0036】2,6−ジクロロナフタレン−1,8,
4,5−テトラカルボン酸二無水物、2,7−ジクロロ
ナフタレン−1,8,4,5−テトラカルボン酸二無水
物、2,3,6,7−テトラクロロナフタレン−1,
8,4,5−テトラカルボン酸二無水物、フェナントレ
ン−1,2,9,10−テトラカルボン酸二無水物、ベ
リレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水
物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無
水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二
無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)エタン二無水物、2,2−ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,3−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水
物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテ
ル二無水物等の分子内に芳香族有機基を有するテトラカ
ルボン酸の無水物が挙げられる。さらに、テトラカルボ
ン酸の無水物としては、これら二無水物以外に、一無水
物があり、単独もしくは二無水物とを併用して使用する
ことができる。一無水物としては、例えば、二無水物の
無水基の1個をアルコール等で開環させたものが挙げら
れる。
2,6-dichloronaphthalene-1,8,
4,5-tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,8,4,5-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-1,
8,4,5-Tetracarboxylic acid dianhydride, Phenanthrene-1,2,9,10-tetracarboxylic acid dianhydride, Berylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid dianhydride, Bis (2 , 3-Dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1- Bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 2,2-bis (2,3
-Dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,3-
Aroma in the molecule of bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride An anhydride of a tetracarboxylic acid having a group organic group may be mentioned. Further, as the tetracarboxylic acid anhydride, there are monoanhydrides other than these dianhydrides, which can be used alone or in combination with the dianhydride. Examples of the monoanhydride include those obtained by ring-opening one of the anhydrous groups of the dianhydride with alcohol or the like.

【手続補正8】[Procedure Amendment 8]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0049[Correction target item name] 0049

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0049】また、反応の途中で(メタ)アクリロイル
基と水酸基を有する化合物(C1)や(メタ)アクリロ
イル基とエポキシ基を有する化合物(C2)を添加する
場合、例えば、イソシアネート基及び/又は酸無水基
が残存している反応途中の系内に該化合物(C1)を添
加して、該化合物(C1)中の水酸基とイソシアネート
基及び/又は酸無水基とを反応させてウレタン結合及び
/又はエステル結合を形成させ、反応性二重結合が導入
されたポリイミド樹脂とする場合や、カルボキシル基
が残存している反応途中の系内に該化合物(C2)を添
加して、該化合物(C2)中のエポキシ基とカルボキシ
ル基とを反応させてエポキシエステル結合を形成させ、
反応性二重結合が導入されたポリイミド樹脂とする場合
などが挙げられ、なかでも前記の場合が好ましい。
When a compound (C1) having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group or a compound (C2) having a (meth) acryloyl group and an epoxy group is added during the reaction, for example, an isocyanate group and / or an acid group is used. The compound (C1) is added into the reaction system in which an anhydrous group remains, and the hydroxyl group in the compound (C1) is reacted with an isocyanate group and / or an acid anhydride group to form a urethane bond and / or When a polyimide resin in which an ester bond is formed and a reactive double bond is introduced, or when the compound (C2) is added to the system in the middle of the reaction where the carboxyl group remains, the compound (C2) is added. The epoxy group and the carboxyl group in the inside are reacted to form an epoxy ester bond,
Examples thereof include the case of using a polyimide resin having a reactive double bond introduced therein, and the above case is particularly preferable.

【手続補正9】[Procedure Amendment 9]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0057[Name of item to be corrected] 0057

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0057】さらに、前記ポリイミド樹脂(X)の末端
に残存するカルボキシル基や酸無水基を、分子中に2個
以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と反応させて分
子量を調整することができる。かかるエポキシ樹脂とし
ては、前記したエポキシ化合物(c21)が使用でき
る。
Furthermore, the carboxyl group or acid anhydride group remaining at the terminal of the polyimide resin (X) can be reacted with an epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule to adjust the molecular weight. As the epoxy resin, the epoxy compound (c21) described above can be used.

【手続補正10】[Procedure Amendment 10]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0087[Correction target item name] 0087

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0087】<評価試験方法> (1)再溶解性試験 レジスト用インキをブリキ板上に0.076ミルのアプ
リケーターを用いて乾燥後30μmの膜厚になるように
塗布し、得られたテストピースを80℃の乾燥器中に3
0分間放置して溶剤を揮散させたレジスト用インキ塗膜
を有するテストピースとし、その重量と塗布面積を測定
した後、50℃の1%炭酸ナトリウム水溶液と1%水酸
化ナトリウム水溶液のそれぞれの中で、30秒間浸積振
とうして塗膜を再溶解させ、乾燥し、重量を測定し、再
溶解前の重量と、再溶解後の重量と、塗布面積と、塗膜
の比重(但し、比重を1.2とする。)とから、60秒
間で再溶解した塗膜の厚さを算出し、次いで減膜スピー
ドを求めた。減膜スピードの数値が大きいほど、再溶解
性が優れていることを示す。
<Evaluation Test Method> (1) Resolubility Test A resist ink was applied onto a tin plate using an applicator of 0.076 mil so as to have a film thickness of 30 μm after drying, and a test piece was obtained. In an oven at 80 ° C for 3
After leaving for 0 minutes, a test piece having a resist ink coating film in which the solvent was volatilized was prepared, its weight and coating area were measured, and then the test piece was placed in a 1% aqueous sodium carbonate solution and a 1% aqueous sodium hydroxide solution at 50 ° C. Then, the coating film is re-dissolved by immersion shaking for 30 seconds, dried and weighed. The weight before re-dissolution, the weight after re-dissolution, the coating area, and the specific gravity of the coating film (however, The specific gravity is 1.2), and the thickness of the coating film redissolved in 60 seconds was calculated, and then the film reduction speed was determined. The larger the value of the film-reducing speed, the better the resolubility.

【手続補正11】[Procedure Amendment 11]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0090[Correction target item name] 0090

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0090】(4)プレッシャークッカー(PCT)耐
性試験 レジスト用インキを予めエッチングした回路パターンを
形成したガラスエポキシ系プリント基板上に0.076
ミルのアプリケーターを用いて乾燥後30μmの膜厚に
なるように塗布し、得られたテストピースを80℃の乾
燥器中に30分間放置して溶剤を揮散させたレジスト用
インキ塗膜を有するテストピースとし、塗膜上に超高圧
水銀ランプを用いて500mJ/cmの紫外線を照射
した後、150℃と170℃の乾燥器中にそれぞれ別の
テストピースを60分間放置して硬化塗膜を有するテス
トピ−スとし、次いで、得られたテストピースを、PC
T試験機(株式会社平山製作所 PC−304RIII)で
121℃、100%RHの飽和蒸気圧下で50時間処理
した後、室温状態に戻して、外観の変化を目視にて評価
した。また、JISD−0202のセロハンテープ剥離
試験に準拠して、得られた塗膜に1mm間隔で碁盤目状
のクロスカットをいれ、セロハンテープにてピーリング
試験を行い、塗膜の剥離数を数えて、下記基準で塗膜の
付着性を評価した。 外観評価基準 ◎:PCT試験前後でと変化、異常が見られない。 ○:PCT試験後、塗膜面積の10%未満の範囲でブリ
スター、白化、溶解等の塗膜異常が確認できる。 △:PCT試験後、塗膜面積の10%以上50重量%未
満の範囲でブリスター、白化、溶解等の塗膜異常が確認
できる。 ×:PCT試験後、塗膜面積の50%以上の範囲でブリ
スター、白化、溶解等の塗膜異常が確認できる。 付着性評価 ◎:碁盤目の剥離なし。 ○:碁盤目100個に対して剥離した碁盤目数が20個
未満。 △:碁盤目100個に対して剥離した碁盤目数が20個
以上70個未満。 ×:碁盤目100個に対して剥離した碁盤目数が70個
以上。
(4) Pressure Cooker (PCT) Resistance Test 0.076 on a glass epoxy printed circuit board having a circuit pattern formed by pre-etching a resist ink.
Test using a mill applicator so as to have a film thickness of 30 μm after drying, and leave the resulting test piece in a dryer at 80 ° C. for 30 minutes to evaporate the solvent and have a resist ink coating film As a piece, after irradiating the coating film with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp, separate test pieces were left for 60 minutes in a dryer at 150 ° C. and 170 ° C. to form a cured coating film. The test piece thus obtained is used as a test piece
After treating with a T tester (PC-304RIII, Hirayama Seisakusho Co., Ltd.) under a saturated vapor pressure of 121 ° C. and 100% RH for 50 hours, the temperature was returned to room temperature and the change in appearance was visually evaluated. In addition, according to the JISD-0202 cellophane tape peeling test, a grid-like cross cut is put in the obtained coating film at 1 mm intervals, and a peeling test is performed with cellophane tape to count the number of peeled coating films. The adhesion of the coating film was evaluated according to the following criteria. Appearance evaluation criteria A: No change or abnormality is observed before and after the PCT test. Good: After the PCT test, coating film abnormalities such as blister, whitening, and dissolution can be confirmed within a range of less than 10% of the coating film area. Δ: After the PCT test, abnormality of the coating film such as blister, whitening and dissolution can be confirmed in the range of 10% or more and less than 50% by weight of the coating film area. X: After the PCT test, coating film abnormalities such as blister, whitening, and dissolution can be confirmed in a range of 50% or more of the coating film area. Adhesion evaluation ◎: No cross-cutting. ◯: The number of cross-cuts separated from 100 cross-cuts is less than 20. Δ: The number of cross-cuts separated from 100 cross-cuts is 20 or more and less than 70. X: The number of cross-cuts was 70 or more with respect to 100 cross-cuts.

【手続補正12】[Procedure Amendment 12]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0098[Correction target item name] 0098

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0098】このポリイミド樹脂溶液をKBr板に塗装
し、溶剤を揮発させた試料のIRを測定したところ、1
780cm−1と735cm−1にイミド環の吸収、1
660cm−1にアミド基の吸収、1850cm−1
1780cm−1と720cm−1に酸無水基の吸収、
3390cm−1にカルボキシル基の吸収、さらに16
38cm−1と810cm−1にアクリロイル基の吸収
が、それぞれ確認された。また、Mnは2,110、M
wは4,400、酸価は77.6で、アクリロイル基の
濃度は1.28mmol/gであった。さらに、イソシ
アヌレート環濃度は0.93mmol/gであった。以
下、この重合性ポリイミド樹脂溶液を樹脂溶液P4と略
記する。
This polyimide resin solution was coated on a KBr plate and the IR of a sample in which the solvent was volatilized was measured.
Absorption of imide ring at 780 cm −1 and 735 cm −1 , 1
Absorption of amide group at 660 cm −1 , absorption of acid anhydride group at 1850 cm −1 and 1780 cm −1 and 720 cm −1 ,
Absorption of carboxyl group at 3390 cm -1 , further 16
Absorption of acryloyl group at 38cm -1 and 810 cm -1 was confirmed, respectively. Also, Mn is 2,110, M
The w was 4,400, the acid value was 77.6, and the concentration of the acryloyl group was 1.28 mmol / g. Furthermore, the isocyanurate ring concentration was 0.93 mmol / g. Hereinafter, this polymerizable polyimide resin solution is abbreviated as resin solution P4.

【手続補正13】[Procedure Amendment 13]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0114[Correction target item name] 0114

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0114】(6)紫外線硬化性の評価 レジスト用インキをガラス基板にアプリケーターを用い
て乾燥後30μmの膜厚になるように塗装し、80℃で
30分間乾燥を行ってテストピースを得た後、このテス
トピースの上にコダック社製ステップタブレットNo.
2を載せて、その上からメタルハライドランプ〔(株)ハ
イテック製HTE106−M07、出力7KW〕を用い
て500mJ/cmと1000mJ/cmと150
0mJ/cmの照射量の紫外線照射をそれぞれ別のテ
ストピースに行い、下記基準で紫外線硬化性の評価を行
った。 評価基準 ◎: 500mJ/cmの照射量で5段以上の残存領
域が存在する。 ○:1000mJ/cmの照射量で5段以上の残存領
域が存在する。 △:1500mJ/cmの照射量で5段以上の残存領
域が存在する。 ×:1500mJ/cmの照射量で残存領域が5段未
満である。
(6) Evaluation of UV-curing property A resist ink was dried on a glass substrate using an applicator so as to have a thickness of 30 μm, and dried at 80 ° C. for 30 minutes to obtain a test piece. On top of this test piece, Kodak Step Tablet No.
No. 2 was placed, and 500 mJ / cm 2 and 1000 mJ / cm 2 and 150 were applied from above using a metal halide lamp [HTE106-M07 manufactured by Hitec Co., Ltd., output 7 kW].
Ultraviolet irradiation with an irradiation dose of 0 mJ / cm 2 was applied to different test pieces, and the ultraviolet curability was evaluated according to the following criteria. Evaluation Criteria ⊚: There are 5 or more remaining areas at an irradiation dose of 500 mJ / cm 2 . ◯: There are 5 or more remaining areas at an irradiation dose of 1000 mJ / cm 2 . Δ: There are 5 or more remaining areas at an irradiation dose of 1500 mJ / cm 2 . X: The residual area is less than 5 steps at an irradiation dose of 1500 mJ / cm 2 .

【手続補正14】[Procedure Amendment 14]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0120[Correction target item name] 0120

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0120】実施例6 攪拌装置、温度計及びコンデンサーを備えた4口フラス
コに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート4000gと、IPDI−Nを2079g(イソシ
アネート基のモル数9mol)と、ヘキサメチレンジイ
ソシアネートから誘導されるイソシアヌレート環含有ポ
リイソシアネート化合物(イソシアネート基含有率2
2.9%、イソシアヌレート環含有トリイソシアネート
化合物の含有率65%)550g(イソシアネート基の
モル数3mol)と、ジメチロールプロピオン酸134
g(1mol)を仕込み、攪拌を行いながら80℃に昇温
した。この温度で5時間反応を行った後、無水トリメリ
ット酸1152g(6mol)と、無水ピロメリット酸
218g(1mol)を仕込で170℃まで昇温した。
反応は、発泡とともに進行した。この温度で4時間反応
させた。系内は薄茶色のクリアな液体となった。溶液温
度を100℃まで冷却し、さらに4−ヒドロキシブチル
アクリレート(水酸基価390)288g(2mol)
と、メチルハイドロキノン15gを仕込み、この温度に
て5時間ウレタン化反応を行い、IRにて2270cm
−1のイソシアネート基の吸収が消失していることを確
認して、薄茶色透明の重合性ポリイミド樹脂溶液を得
た。
Example 6 In a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, 4000 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate, 2079 g of IPDI-N (mol number of isocyanate group: 9 mol) and hexamethylene diisocyanate were derived. Isocyanurate ring-containing polyisocyanate compound (isocyanate group content 2
2.9%, isocyanurate ring-containing triisocyanate compound content 65%) 550 g (mol number of isocyanate groups 3 mol), and dimethylolpropionic acid 134
g (1 mol) was charged, and the temperature was raised to 80 ° C. with stirring. After reacting at this temperature for 5 hours, 1152 g (6 mol) of trimellitic anhydride and 218 g (1 mol) of pyromellitic anhydride were charged and the temperature was raised to 170 ° C.
The reaction proceeded with foaming. The reaction was carried out at this temperature for 4 hours. The inside of the system became a light brown clear liquid. The solution temperature was cooled to 100 ° C, and 288 g (2 mol) of 4-hydroxybutyl acrylate (hydroxyl value 390) was further added.
And 15 g of methylhydroquinone were charged, and the urethane reaction was carried out at this temperature for 5 hours, and IR was 2270 cm.
It was confirmed that the absorption of the isocyanate group of -1 had disappeared, and a light brown transparent polymerizable polyimide resin solution was obtained.

【手続補正15】[Procedure Amendment 15]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0127[Name of item to be corrected] 0127

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0127】さらに、攪拌装置、温度計及びコンデンサ
ーを備えた4口フラスコに、エチルジグリコールアセテ
ート4820gと、IPDI−N2772g(イソシア
ネート基のモル数12mol)と、ジメチロールブタン
酸296g(2mol)を仕込み、攪拌を行い、発熱に注
意しながら80℃に昇温した。この温度で3時間反応を
行った後、無水トリメリット酸1152g(6mol)
と、ピロメリット酸二無水物436g(2mol)を仕
込み、140℃まで昇温した。反応は、発泡とともに進
行した。この温度で5時間反応させた。系内は薄茶色透
明の液体となった。溶液温度を100℃まで冷却し、さ
らに中間体1 963g(1.5mol)を仕込み、こ
の温度にて残存する酸無水基との反応を5時間行い、I
Rにて2270cm−1のイソシアネート基の吸収と1
860cm−1の酸無水基の吸収が消失していることを
確認して、薄茶色透明の重合性ポリイミド樹脂溶液を得
た。
Further, a 4-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser was charged with 4820 g of ethyl diglycol acetate, 2772 g of IPDI-N (mol number of isocyanate group: 12 mol) and 296 g (2 mol) of dimethylolbutanoic acid. The mixture was stirred, and the temperature was raised to 80 ° C while paying attention to heat generation. After reacting for 3 hours at this temperature, trimellitic anhydride 1152 g (6 mol)
Then, 436 g (2 mol) of pyromellitic dianhydride was charged, and the temperature was raised to 140 ° C. The reaction proceeded with foaming. The reaction was carried out at this temperature for 5 hours. The inside of the system became a light brown transparent liquid. The solution temperature was cooled to 100 ° C., 963 g (1.5 mol) of Intermediate 1 was charged, and the reaction with the acid anhydride group remaining at this temperature was carried out for 5 hours.
Absorption of isocyanate group at 2270 cm -1 at R and 1
After confirming that the absorption of the acid anhydride group at 860 cm −1 had disappeared, a light brown transparent polymerizable polyimide resin solution was obtained.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/027 H01L 21/30 502R (31)優先権主張番号 特願2001−357519(P2001−357519) (32)優先日 平成13年11月22日(2001.11.22) (33)優先権主張国 日本(JP) Fターム(参考) 2H025 AA04 AA10 AA11 AA20 AB15 AB16 AC01 AD01 BC14 BC66 BC69 BC74 BC84 CA00 CC03 CC17 FA17 4J027 AD05 AE00 AG01 CB10 CC05 CD10 4J034 BA02 CA03 CA04 CA05 CA23 CA24 CA25 CA26 CB03 CB04 CB05 DK00 FA02 FB01 FB04 HA01 HA06 HA07 HC01 HC02 HC03 HC11 HC15 HC22 HC23 HC26 HC32 HC33 HC35 HC46 HC47 HC52 HC54 HC64 HC66 HC67 HC71 HC73 JA21 JA41 JA42 LA07 LA13 LA23 LA33 QA01 QA02 QA05 SA01 4J043 QB47 QB58 RA04 TA13 TA14 TA21 TA22 TA43 TA44 TA67 UA122 UA132 UA262 UB012 UB122 UB302 WA02 WA17 XB28 ZA12 ZB22 ZB50 Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 identification code FI theme code (reference) H01L 21/027 H01L 21/30 502R (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 2001-357519 (P2001-357519) (32) Priority Japan November 22, 2001 (November 22, 2001) (33) Country claiming priority Japan (JP) F-term (reference) 2H025 AA04 AA10 AA11 AA20 AB15 AB16 AC01 AD01 BC14 BC66 BC69 BC74 BC84 CA00 CC03 CC17 FA17 4J027 AD05 AE00 AG01 CB10 CC05 CD10 4J034 BA02 CA03 CA04 CA05 CA23 CA24 CA25 CA26 CB03 CB04 CB05 DK00 FA02 FB01 FB04 HA01 HA06 HA07 HC01 HC02 HC03 HC11 HC15 HC22 HC23 HC26 HC32 HC33 HC71 HC41 HC73 HC21 HC41 HC73 HC71 HC67 HC67 HC67 HC67 HC67 LA23 LA33 QA01 QA02 QA05 SA01 4J043 QB47 QB58 RA04 TA13 TA14 TA21 TA22 TA43 TA44 TA67 UA122 UA132 UA262 UB012 UB122 UB302 WA02 WA17 XB28 ZA12 ZB22 ZB50

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 イソシアヌレート環と環式脂肪族構造と
イミド環と(メタ)アクリロイル基とを有し、希アルカ
リ水溶液でパターニングが可能な重合性ポリイミド樹脂
(I)を含有することを特徴とする、活性エネルギー線
硬化型ポリイミド樹脂組成物。
1. A polymerizable polyimide resin (I) having an isocyanurate ring, a cycloaliphatic structure, an imide ring, and a (meth) acryloyl group, which is capable of patterning with a dilute alkaline aqueous solution. An active energy ray-curable polyimide resin composition.
【請求項2】 重合性ポリイミド樹脂(I)が、イソシ
アヌレート環の濃度が0.4〜1.2mmol/gで、
(メタ)アクリロイル基の濃度が0.3〜4mmol/
gで、酸価が20〜250で、数平均分子量が1,00
0〜20,000で、かつ、重量平均分子量が1,50
0〜30,000のポリイミド樹脂(I)である、請求
項1記載の活性エネルギー線硬化型ポリイミド樹脂組成
物。
2. The polymerizable polyimide resin (I) has an isocyanurate ring concentration of 0.4 to 1.2 mmol / g,
The concentration of the (meth) acryloyl group is 0.3 to 4 mmol /
g, acid value 20-250, number average molecular weight 1.00
0 to 20,000 and a weight average molecular weight of 1,50
The active energy ray-curable polyimide resin composition according to claim 1, which is a polyimide resin (I) of 0 to 30,000.
【請求項3】 さらに、有機溶剤(II)とエポキシ化合
物(III)と光開始剤(IV)とを含有する、請求項1記
載の活性エネルギー線硬化型ポリイミド樹脂組成物。
3. The active energy ray-curable polyimide resin composition according to claim 1, which further contains an organic solvent (II), an epoxy compound (III) and a photoinitiator (IV).
【請求項4】 さらに、有機溶剤(II)とエポキシ化合
物(III)と光開始剤(IV)と反応性希釈剤(V)とを
含有する、請求項1記載の活性エネルギー線硬化型ポリ
イミド樹脂組成物。
4. The active energy ray-curable polyimide resin according to claim 1, further comprising an organic solvent (II), an epoxy compound (III), a photoinitiator (IV) and a reactive diluent (V). Composition.
【請求項5】 重合性ポリイミド樹脂(I)が、環式脂
肪族ジイソシアネート化合物から誘導されるイソシアヌ
レート環含有ポリイソシアネート化合物(A1)、及び
/又は、該ポリイソシアネート化合物(A1)とポリオ
ール化合物(a2)とから得られる末端にイソシアネート
基を有するウレタンプレポリマー(A2)を含有するポ
リイソシアネート化合物(A)と、3個以上のカルボキ
シル基を有するポリカルボン酸の酸無水物(B)とを有
機溶剤中で反応させ、次いで、(メタ)アクリロイル基
と水酸基を有する化合物(C1)及び/又は(メタ)ア
クリロイル基とエポキシ基を有する化合物(C2)を反
応させて得られる重合性イミド樹脂である、請求項1ま
たは3記載の活性エネルギー線硬化型ポリイミド樹脂組
成物。
5. The polymerizable polyimide resin (I) is an isocyanurate ring-containing polyisocyanate compound (A1) derived from a cycloaliphatic diisocyanate compound, and / or the polyisocyanate compound (A1) and a polyol compound (A1). a2) a polyisocyanate compound (A) containing a urethane prepolymer (A2) having an isocyanate group at the terminal and an acid anhydride (B) of a polycarboxylic acid having three or more carboxyl groups are organic. A polymerizable imide resin obtained by reacting in a solvent and then reacting a compound (C1) having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group and / or a compound (C2) having a (meth) acryloyl group and an epoxy group. The active energy ray-curable polyimide resin composition according to claim 1 or 3.
【請求項6】 重合性ポリイミド樹脂(I)が、ポリカ
ルボン酸の酸無水物(B)としてカルボキシル基を有す
る酸無水物を含有するものを用いてポリイソシアネート
化合物(A)と反応させ、次いで、(メタ)アクリロイ
ル基と水酸基を有する化合物(C1)及び/又は(メ
タ)アクリロイル基とエポキシ基を有する化合物(C
2)を反応させるか、又は、ポリカルボン酸の酸無水物
(B)としてカルボキシル基を有しない酸無水物を用い
てポリイソシアネート化合物(A)と反応させ、次い
で、(メタ)アクリロイル基と水酸基を有する化合物
(C1)を反応させて得られる樹脂である、請求項5記
載の活性エネルギー線硬化型ポリイミド樹脂組成物。
6. A polymerizable polyimide resin (I) containing an acid anhydride having a carboxyl group as an acid anhydride (B) of a polycarboxylic acid is reacted with a polyisocyanate compound (A), A compound having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group (C1) and / or a compound having a (meth) acryloyl group and an epoxy group (C
2) or by reacting with a polyisocyanate compound (A) using an acid anhydride having no carboxyl group as the acid anhydride (B) of polycarboxylic acid, and then reacting with a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group. The active energy ray-curable polyimide resin composition according to claim 5, which is a resin obtained by reacting a compound (C1) having:
【請求項7】 ポリイソシアネート化合物(A1)が、
イソシアヌレート環を1個含有するトリイソシアネート
化合物を30重量%以上含有するものである、請求項5
記載の活性エネルギー線硬化型ポリイミド樹脂組成物。
7. The polyisocyanate compound (A1) is
6. A triisocyanate compound containing one isocyanurate ring in an amount of 30% by weight or more.
The active energy ray-curable polyimide resin composition described.
【請求項8】 重合性イミド樹脂(I)が、ポリイソシ
アネート化合物(A)とポリカルボン酸の酸無水物
(B)の反応の途中で、(メタ)アクリロイル基と水酸
基を有する化合物(C1)中の水酸基のモル数
(nc1)と、反応系内に残存する酸無水基とイソシア
ネート基の合計モル数(nab)との比(nc1)/
(nab)が0.9〜2.0となる範囲で該化合物(C
1)を添加して反応させて得られる樹脂である、請求項
5記載の活性エネルギー線硬化型ポリイミド樹脂組成
物。
8. A compound (C1) wherein the polymerizable imide resin (I) has a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group during the reaction between the polyisocyanate compound (A) and the acid anhydride (B) of a polycarboxylic acid. Ratio (n c1 ) / of the number of moles of hydroxyl groups (n c1 ) and the total number of moles of acid anhydride groups and isocyanate groups remaining in the reaction system (n ab ) /
When the (n ab ) is 0.9 to 2.0, the compound (C
The active energy ray-curable polyimide resin composition according to claim 5, which is a resin obtained by adding and reacting 1).
【請求項9】 ウレタンプレポリマー(A2)が、ポリ
イソシアネート化合物(A1)とカルボキシル基を有す
るポリオール(a21)を含有するポリオール化合物と
を、ポリイソシアネート化合物(A1)中のイソシアネ
ート基が該ポリオール化合物中の水酸基に対して過剰と
なるモル比で反応させてから得られる末端にイソシアネ
ート基を有するウレタンプレポリマーである、請求項5
記載の活性エネルギー線硬化型ポリイミド樹脂組成物。
9. The urethane prepolymer (A2) comprises a polyisocyanate compound (A1) and a polyol compound containing a carboxyl group-containing polyol (a21), and the isocyanate group in the polyisocyanate compound (A1) is the polyol compound. 6. A urethane prepolymer having an isocyanate group at a terminal, which is obtained after the reaction is carried out at an excess molar ratio with respect to the hydroxyl group therein.
The active energy ray-curable polyimide resin composition described.
【請求項10】 重合性イミド樹脂(I)が、ポリカル
ボン酸の酸無水物(B)として、トリカルボン酸の無水
物及び/又はテトラカルボン酸の無水物を用い、かつ、
(メタ)アクリロイル基と水酸基を有する化合物(C
1)及び/又は(メタ)アクリロイル基とエポキシ基を
有する化合物(C2)として、2〜5個の(メタ)アク
リロイル基と1個の水酸基とを有する化合物を用いて得
られる樹脂である、請求項5記載の活性エネルギー線硬
化型ポリイミド樹脂組成物。
10. The polymerizable imide resin (I) uses an anhydride of tricarboxylic acid and / or an anhydride of tetracarboxylic acid as the acid anhydride (B) of polycarboxylic acid, and
A compound having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group (C
1) and / or a resin obtained by using a compound having 2 to 5 (meth) acryloyl groups and one hydroxyl group as the compound (C2) having a (meth) acryloyl group and an epoxy group, Item 5. The active energy ray-curable polyimide resin composition according to item 5.
【請求項11】 有機溶剤が、窒素原子及び硫黄原子を
含有しない極性溶剤で、かつ重合性ポリイミド樹脂
(I)を溶解するものである、請求項6記載の活性エネ
ルギー線硬化型ポリイミド樹脂組成物。
11. The active energy ray-curable polyimide resin composition according to claim 6, wherein the organic solvent is a polar solvent containing no nitrogen atom and no sulfur atom and dissolves the polymerizable polyimide resin (I). .
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