JP2003215550A - 表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は、金属フレームにおけるショート
の発生を防止することができる表示装置及びその製造方
法を提供することを課題とする。 【解決手段】 アクティブ基板２１と対向基板２２との
間に形成されたスペースに液晶２４が封入されている。
対向基板２２のオーバーコート層２９の表面上には、ガ
ラス基板２７及びオーバーコート層２９の周縁部から所
定の間隔を隔てて内側に電極層として用いられる導電膜
としてＩＴＯ膜１２が形成されている。対向基板２２の
ガラス基板２７やオーバーコート層２９等にバリが発生
して金属フレーム３２に接触しても、電極層となるＩＴ
Ｏ膜１２が金属フレーム３２に直接接触してショートす
ることはない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、表示装置及びそ
の製造方法に係り、特に基板の表面上に電極層として導
電膜が形成された表示装置とその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶表示装置においては、図１
４に示されるように、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）
やＴＦＤ（Thin Film Diode）等の回路素子が形成され
るアクティブ基板１とこれに対向する対向基板２とがシ
ール材３を介して所定の間隔で互いに平行に貼り合わさ
れ、これらアクティブ基板１と対向基板２との間に液晶
４が封入されている。アクティブ基板１は、例えばガラ
ス基板５の表面上に導電膜としてＩＴＯ（Indium Tin O
xide）膜６が形成された構造を有している。一方、対向
基板２は、ガラス基板７の中央部にカラーレジスト層８
が形成され、さらにカラーレジスト層８とガラス基板７
の全面上にオーバーコート層９が形成され、オーバーコ
ート層９の上にＩＴＯ膜１０が形成された構造を有して
いる。互いに貼り合わされたアクティブ基板１と対向基
板２の外周部が金属フレーム１１で覆われ、これにより
ガラス割れを防止している。

【０００３】実際には、製造効率を向上させるために、
大きな２枚のガラス板を用いて多数のアクティブ基板１
と多数の対向基板２をそれぞれ同一工程で形成し、シー
ル材３を介してこれらのガラス板を貼り合わせる。各液
晶表示装置ごとにガラス板を分割した後に液晶４の封入
を行い、その後、金属フレーム１１を取り付けている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガラス
板の分割時に、図１４に示されるように、対向基板２の
ガラス基板７やオーバーコート層９及びＩＴＯ膜１０等
にバリが発生し、そのためＩＴＯ膜１０の端部が金属フ
レーム１１に接触して電気的なショートを生じる虞があ
った。この発明はこのような問題点を解消するためにな
されたもので、金属フレームにおけるショートの発生を
防止することができる表示装置及びその製造方法を提供
することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この発明に係る第１の表
示装置は、表面上に導電膜が形成されると共にその外周
部が金属フレームで覆われた基板を有する表示装置にお
いて、基板の周縁部から所定の間隔を隔てて基板の表面
上の内側に配置されると共に電極層として用いられる導
電膜を備えたものである。また、この発明に係る第２の
表示装置は、表面上に導電膜が形成されると共にその外
周部が金属フレームで覆われた基板を有する表示装置に
おいて、基板の表面上の周縁部に沿って配置された第１
の導電膜と、第１の導電膜の内側で且つ第１の導電膜か
ら隔離して基板の表面上に配置されると共に電極層とし
て用いられる第２の導電膜とを備えたものである。

【０００６】なお、第１及び第２の表示装置が、互いに
対向して配置されたアクティブ基板と対向基板とを備
え、導電膜を対向基板に形成することができる。液晶表
示装置に適用する場合には、導電膜をＩＴＯ膜から形成
することが好ましい。

【０００７】この発明に係る第１の製造方法は、基板の
表面上に導電膜が形成されると共に基板の外周部が金属
フレームで覆われた表示装置の製造方法において、複数
の基板が配列区画された絶縁板の表面上に導電膜を形成
し、導電膜の上からレーザビームを照射することにより
互いに隣接する基板の境界線に沿って境界線を含むよう
に所定の幅で導電膜を除去した溝を形成し、境界線に沿
って絶縁板を切断することにより複数の基板に分割する
方法である。また、この発明に係る第２の製造方法は、
基板の表面上に導電膜が形成されると共に基板の外周部
が金属フレームで覆われた表示装置の製造方法におい
て、複数の基板が配列区画された絶縁板の表面上に導電
膜を形成し、導電膜の上からレーザビームを照射するこ
とにより互いに隣接する基板の境界線上の導電膜を残し
たまま境界線に沿ってその両側にそれぞれ導電膜を除去
した溝を形成して境界線上の導電膜と各基板中央部の導
電膜とを隔離し、境界線に沿って絶縁板を切断すること
により複数の基板に分割する方法である。

【０００８】なお、第２の製造方法においては、互いに
所定の間隔を隔てた２本のレーザビームを境界線を挟む
ように照射して走査することにより境界線に沿ってその
両側に２本の溝を同時に形成することができる。この場
合、２本のレーザビームの配置関係を９０度回転させる
ことにより縦方向と横方向の境界線に沿ってそれぞれそ
の両側に２本の溝を形成してもよい。あるいは、２本の
レーザビームの配置関係をその走査方向に対して所定の
角度だけ傾斜させることによっても、縦方向にも横方向
にも境界線に沿ってその両側に２本の溝を形成すること
ができる。また、１本のレーザビームを境界線の一方の
側に照射して走査した後に境界線の他方の側に照射して
走査することにより境界線の両側に２本の溝を順次形成
することもできる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を添
付図面に基づいて説明する。 実施の形態１．図１にこの発明の実施の形態１に係る液
晶表示装置の構成を示す。液晶表示装置は、アクティブ
基板２１とこれに対向する対向基板２２とを有し、これ
らの基板２１及び２２がシール材２３を介して所定の間
隔で互いに平行に貼り合わされ、アクティブ基板２１と
対向基板２２との間に形成されたスペースに液晶２４が
封入されている。アクティブ基板２１は、ガラス基板２
５の表面上に導電膜としてＩＴＯ膜２６が形成された構
造を有し、このアクティブ基板２１にＴＦＴやＴＦＤ等
の図示しない回路素子が形成されている。

【００１０】一方、対向基板２２は、ガラス基板２７を
有し、このガラス基板２７の表面中央部にカラーレジス
ト層２８が形成され、さらにカラーレジスト層２８とガ
ラス基板２７の全面上にオーバーコート層２９が形成さ
れている。オーバーコート層２９の表面上には、ガラス
基板２７及びオーバーコート層２９の周縁部から所定の
間隔を隔てて内側に導電膜となるＩＴＯ膜１２が形成さ
れている。このＩＴＯ膜１２は、対向基板２２の電極層
として用いられる。このように互いに貼り合わされたア
クティブ基板２１と対向基板２２の外周部がガラス割れ
を防止するための金属フレーム３２で覆われている。

【００１１】図１に示した液晶表示装置では、対向基板
２２のＩＴＯ膜１２がガラス基板２７及びオーバーコー
ト層２９の周縁部から所定の間隔を隔てて内側に配置さ
れているため、対向基板２２のガラス基板２７やオーバ
ーコート層２９等にバリが発生して金属フレーム３２に
接触したとしても、電極層となるＩＴＯ膜１２が金属フ
レーム３２に直接接触することがなく、電気的なショー
トを生じることが未然に防止される。

【００１２】次に、このような液晶表示装置の製造方法
について説明する。まず、図２に示されるように、例え
ば６×５＝３０個の液晶表示装置用の対向基板を同一工
程で製造すべく絶縁板として７２０×６００ｍｍの大き
さのガラス板３３を用意する。このガラス板３３の表面
上に各液晶表示装置に対応してそれぞれカラーレジスト
層２８を塗布し、これらのカラーレジスト層２８とガラ
ス板３３の全面上にオーバーコート層２９を塗布すると
共にオーバーコート層２９の全面上にＩＴＯ膜１２をス
パッタリング法により形成する。

【００１３】このガラス板３３を図３に示されるレーザ
カッティング装置のＸＹ自動ステージ３４上に搬送す
る。ガラス板３３には予め図示しない２個のアライメン
トマークが形成されており、これらのアライメントマー
クを利用してガラス板３３とＸＹ自動ステージ３４との
位置合わせが行われる。位置合わせが完了した時点で、
ＸＹ自動ステージ３４とその情報に配置されたレーザ装
置３５とをコンピュータ制御することにより、予め設定
されたデータに基づいてレーザカッティングが行われ
る。

【００１４】レーザ装置３５からは、１本のレーザビー
ムがＸＹ自動ステージ３４上のガラス板３３に向かって
照射されるようになっている。レーザビームは、ＩＴＯ
膜１２をカッティングすることのできる出力を有してい
ればよく、レーザ光源としてＹＡＧレーザ（波長１０６
４ｎｍ、５３２ｎｍ、２６６ｎｍ等）の他、Ｈｅ−Ｎｅ
レーザ、Ａｒレーザ、エキシマレーザ等の気体レーザ、
色素レーザ等の液体レーザ、Ｇａ−Ａｓレーザ等の半導
体レーザ、Ｉレーザ等の化学レーザ等、各種のものを使
用することが可能である。

【００１５】このようなレーザビームを、互いに隣接し
て区画された一対の対向基板の境界線上に照射し、境界
線に沿って走査させる。これにより、図４に示されるよ
うに、境界線１３を含むように所定の幅でＩＴＯ膜１２
を除去した溝１４が形成される。このとき、溝１４がＩ
ＴＯ膜の下層のオーバーコート層２９に多少達しても問
題はない。このようにして各液晶表示装置に対応する対
向基板の周辺部を全てレーザカッティングすることによ
り、溝１４の存在に起因して対向基板のＩＴＯ膜１２は
境界線１３から所定の間隔を隔てて内側に配置されたも
のとなる。その後、ガラス板３３は洗浄工程に導かれ、
表面に付着したダスト等の除去が行われる。

【００１６】同様にして、７２０×６００ｍｍの大きさ
のガラス板を用いて６×５＝３０個の液晶表示装置用の
アクティブ基板を作成する。そして、シール材２３を介
して対向基板用のガラス板３３とアクティブ基板用のガ
ラス板と貼り合わせる。各液晶表示装置ごとにこれらの
ガラス板を境界部３８で切断して分割した後、液晶２４
の封入を行う。その後、互いに貼り合わされているアク
ティブ基板と対向基板の外周部に金属フレーム３２を取
り付けることにより、図１に示したような液晶表示装置
が製造される。

【００１７】なお、１回のレーザビーム走査でＩＴＯ膜
１２を除去仕切れない場合には、複数回走査を繰り返し
てカッティングすることもできる。

【００１８】実施の形態２．図５に実施の形態２に係る
液晶表示装置の構成を示す。この液晶表示装置は、図１
に示した液晶表示装置において、対向基板２２のＩＴＯ
膜１２の代わりに、オーバーコート層２９の表面上にそ
の周縁部に沿って第１の導電膜となるＩＴＯ膜３０が形
成されると共にＩＴＯ膜３０の内側に第２の導電膜とな
るＩＴＯ膜３１が形成されたものである。内側のＩＴＯ
膜３１は、周縁部のＩＴＯ膜３０から隔離されており、
対向基板２２の電極層として用いられる。

【００１９】この液晶表示装置では、対向基板２２の周
縁部のＩＴＯ膜３０と内側のＩＴＯ膜３１とが互いに隔
離されているため、対向基板２２のガラス基板２７やオ
ーバーコート層２９等にバリが発生して周縁部のＩＴＯ
膜３０が金属フレーム３２に接触したとしても、電極層
となる内側のＩＴＯ膜３１が金属フレーム３２に直接接
触することがなく、電気的なショートを生じることが未
然に防止される。

【００２０】この実施の形態２の液晶表示装置の製造方
法について説明する。実施の形態１の場合と同様に、例
えば６×５＝３０個の液晶表示装置用の対向基板を同一
工程で製造すべく絶縁板として図２に示した７２０×６
００ｍｍの大きさのガラス板３３の表面上にカラーレジ
スト層２８、オーバーコート層２９及びＩＴＯ膜を順次
形成した後、このガラス板３３を図３に示されるレーザ
カッティング装置のＸＹ自動ステージ３４上に搬送して
位置合わせをする。ここで、レーザカッティング装置の
レーザ装置３５として、図６に示されるように、所定の
間隔を隔てた２本のレーザビーム３６及び３７が同時に
照射されるものを用いる。このような２本のレーザビー
ム３６及び３７は、発振器から作り出された１本の集光
ビームをミラーによって２本のビームに分割するか、あ
るいは２つの発振器を用いて２本のビームを作り出す方
法によって得ることができる。

【００２１】これら２本のレーザビーム３６及び３７
を、図７に示される如く、互いに隣接して区画された一
対の対向基板の境界線３８を挟むような位置関係でＩＴ
Ｏ膜の上から照射し、境界線３８に沿って走査させる。
これにより、図８に示されるように、境界線３８上にＩ
ＴＯ膜３０を残したまま境界線３８の両側にＩＴＯ膜を
除去した溝３９が形成される。このとき、溝３９がＩＴ
Ｏ膜の下層のオーバーコート層２９に多少達しても問題
はない。このようにして各液晶表示装置に対応する対向
基板の周辺部を全てレーザカッティングすることによ
り、溝３９の存在に起因して対向基板の内側のＩＴＯ膜
３１は境界線３８上のＩＴＯ膜３０から隔離されたもの
となる。その後、ガラス板３３は洗浄工程に導かれ、表
面に付着したダスト等の除去が行われる。

【００２２】なお、２本のレーザビーム３６及び３７を
発するレーザ装置３５のレーザ照射部は各レーザビーム
の光軸と平行な軸の周りに９０度回転し得るように構成
されており、図９（ａ）のように縦（Ｙ）方向に走査す
る場合と図７（ｂ）のように横（Ｘ）方向に走査する場
合とで互いに２本のレーザビーム３６及び３７の配置関
係を９０度回転させることによって、それぞれ境界線３
８の両側に溝３９を形成することが可能となる。

【００２３】同様にして、７２０×６００ｍｍの大きさ
のガラス板を用いて６×５＝３０個の液晶表示装置用の
アクティブ基板を作成する。そして、シール材２３を介
して対向基板用のガラス板３３とアクティブ基板用のガ
ラス板と貼り合わせる。各液晶表示装置ごとにこれらの
ガラス板を境界部３８で切断して分割した後、液晶２４
の封入を行う。このようにして得られた一つの対向基板
の平面図を図１０に示す。周縁部のＩＴＯ膜３０と内側
のＩＴＯ膜３１とが溝３９によって互いに隔離されてい
る。また、２本のレーザビーム３６及び３７の縦（Ｙ）
方向及び横（Ｘ）方向の走査により、この発明の第１の
導電膜としての周縁部のＩＴＯ膜３０は一つの対向基板
において複数の領域に分布することとなる。この対向基
板の部分断面は図１１のように示される。

【００２４】その後、互いに貼り合わされているアクテ
ィブ基板と対向基板の外周部に金属フレーム３２を取り
付けることにより、図５に示したような液晶表示装置が
製造される。

【００２５】以上のように、実施の形態２では、互いに
隣接する対向基板の境界部のＩＴＯ膜を幅広く除去する
のではなく、境界線上のＩＴＯ膜を残しながらその両側
においてレーザビーム照射により２本の溝を形成するた
め、各レーザビームのスポット径を小さくすることがで
き、これにより高密度のレーザビームを用いて高い処理
速度でレーザカッティングを行うことが可能となる。

【００２６】上記の実施の形態２では、縦（Ｙ）方向に
走査する場合と横（Ｘ）方向に走査する場合とで２本の
レーザビーム３６及び３７の配置関係を９０度回転させ
ることによって、それぞれ境界線３８の両側に溝３９を
形成したが、図１２に示されるように、予め２本のレー
ザビーム３６及び３７の配置関係を走査方向である縦
（Ｙ）方向及び横（Ｘ）方向に対して所定の角度、例え
ば４５度に傾斜させておけば、レーザ照射部を９０度回
転させることなく、縦（Ｙ）方向及び横（Ｘ）方向にも
境界線に沿ってその両側に２本の溝を形成することがで
きる。また、２本のレーザビーム３６及び３７を用いて
境界線３８の両側に同時に溝３９を形成したが、例えば
図１３に示されるように、１本のレーザビーム４０を境
界線３８の一方の側に照射して走査した後に境界線３８
の他方の側に照射して走査することにより境界線３８の
両側に２本の溝３９を順次形成するようにしてもよい。

【００２７】この発明は、液晶表示装置に限定されるも
のではなく、例えばＦＥＤ（フィールド・エミッション
・ディスプレイ）等にも同様にして適用することができ
る。

【００２８】

【発明の効果】以上説明したように、この発明に係る第
１の表示装置によれば、基板の周縁部から所定の間隔を
隔てて基板の表面上の内側に配置されると共に電極層と
して用いられる導電膜を備えているので、基板の外周部
を金属フレームで覆った場合に導電膜が金属フレームに
接触することがなく、電極層となる導電膜と金属フレー
ムとの間のショートの発生が防止される。

【００２９】また、この発明に係る第２の表示装置によ
れば、基板の表面上の周縁部に沿って配置された第１の
導電膜と、第１の導電膜の内側で且つ第１の導電膜から
隔離して基板の表面上に配置されると共に電極層として
用いられる第２の導電膜とを備えているので、基板の外
周部を金属フレームで覆った場合に周縁部の第１の導電
膜が金属フレームに接触したとしても、電極層となる第
２の導電膜が金属フレームに接触してショートすること
が防止される。また、第２の導電膜が第１の導電膜から
隔離しているため、周縁部の第１の導電膜を除去する必
要がなく、表示装置の製造効率が向上する。

【００３０】この発明に係る第１の製造方法によれば、
絶縁板の表面上に形成された導電膜の上からレーザビー
ムを照射することにより互いに隣接する基板の境界線に
沿って境界線を含むように所定の幅で導電膜を除去した
溝を形成し、境界線に沿って絶縁板を切断することによ
り複数の基板に分割するので、導電膜と金属フレームと
のショートを生じない表示装置を効率よく製造すること
が可能となる。

【００３１】また、この発明に係る第２の製造方法によ
れば、絶縁板の表面上に形成された導電膜の上からレー
ザビームを照射することにより互いに隣接する基板の境
界線上の導電膜を残したまま境界線に沿ってその両側に
それぞれ導電膜を除去した溝を形成して境界線上の導電
膜と各基板中央部の導電膜とを隔離し、その後境界線に
沿って絶縁板を切断することにより複数の基板に分割す
るので、スポット径の小さな高密度のレーザビームを用
いて導電膜のカッティングを行うことができ、金属フレ
ームとのショートを生じない表示装置を効率よく製造す
ることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の実施の形態１に係る液晶表示装置
の構成を示す部分断面図である。

【図２】 多数の基板が配列区画された絶縁板を示す平
面図である。

【図３】 実施の形態１で用いられたレーザカッティン
グ装置を示す斜視図である。

【図４】 １本のレーザビーム照射により導電膜がカッ
ティングされた対向基板を示す図である。

【図５】 実施の形態２に係る液晶表示装置の構成を示
す部分断面図である。

【図６】 実施の形態２の液晶表示装置を製造する際に
用いられるレーザ装置を示す側面図である。

【図７】 実施の形態２における２本のレーザビームの
走査方法を模式的に示す平面図である。

【図８】 ２本のレーザビーム照射により導電膜がカッ
ティングされた対向基板を示す図である。

【図９】 ２本のレーザビームの走査方法を示し、
（ａ）は縦方向の走査、（ｂ）は横方向の走査を示す図
である。

【図１０】 実施の形態２で製造された対向基板を示す
平面図である。

【図１１】 実施の形態２で製造された対向基板を示す
部分断面図である。

【図１２】 実施の形態２の変形例で用いられる２本の
レーザビームの配置関係を示す図である。

【図１３】 実施の形態２の他の変形例で用いられる１
本のレーザビームの走査方法を模式的に示す平面図であ
る。

【図１４】 従来の液晶表示装置の構成を示す部分断面
図である。

【符号の説明】 ２１ アクティブ基板、２２ 対向基板、２３ シール
材、２４ 液晶、２５，２７ ガラス基板、１２，２
６，３０，３１ ＩＴＯ膜、２８ カラーレジスト層、
２９ オーバーコート層、３２ 金属フレーム、３３
ガラス板、３４ＸＹ自動ステージ、３５ レーザ装置、
３６，３７，４０ レーザビーム、１３，３８ 境界
線、１４，３９ 溝。

フロントページの続き (72)発明者 川辺 雅彦 愛知県知多郡東浦町大字緒川字上舟木50番 地 エスティ・エルシーディ株式会社内 (72)発明者 富田 博 愛知県知多郡東浦町大字緒川字上舟木50番 地 エスティ・エルシーディ株式会社内 (72)発明者 盛田 敬視 愛知県知多郡東浦町大字緒川字上舟木50番 地 エスティ・エルシーディ株式会社内 Ｆターム(参考） 2H088 FA05 FA06 FA26 HA02 MA20 2H090 JA01 JA05 JB02 JC07 JC13 JC14 LA01 2H092 GA11 GA12 GA32 GA37 GA38 GA44 NA16 PA01 PA06 4G015 FA06 FA09 FB02 FC02 FC14 4G059 AA08 AB01 AB06 AB07 AB09 AB11 AC14 AC18 AC24 GA01 GA05 GA12

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面上に導電膜が形成されると共にその
   外周部が金属フレームで覆われた基板を有する表示装置
   において、 基板の周縁部から所定の間隔を隔てて基板の表面上の内
   側に配置されると共に電極層として用いられる導電膜を
   備えたことを特徴とする表示装置。
2. 【請求項２】 表面上に導電膜が形成されると共にその
   外周部が金属フレームで覆われた基板を有する表示装置
   において、 基板の表面上の周縁部に沿って配置された第１の導電膜
   と、 第１の導電膜の内側で且つ第１の導電膜から隔離して基
   板の表面上に配置されると共に電極層として用いられる
   第２の導電膜とを備えたことを特徴とする表示装置。
3. 【請求項３】 互いに対向して配置されたアクティブ基
   板と対向基板とを備え、前記導電膜は対向基板に形成さ
   れたことを特徴とする請求項１または２に記載の表示装
   置。
4. 【請求項４】 前記導電膜はＩＴＯ膜からなり、液晶表
   示装置に適用されたことを特徴とする請求項３に記載の
   表示装置。
5. 【請求項５】 基板の表面上に導電膜が形成されると共
   に基板の外周部が金属フレームで覆われた表示装置の製
   造方法において、 複数の基板が配列区画された絶縁板の表面上に導電膜を
   形成し、 導電膜の上からレーザビームを照射することにより互い
   に隣接する基板の境界線に沿って前記境界線を含むよう
   に所定の幅で導電膜を除去した溝を形成し、 前記境界線に沿って絶縁板を切断することにより複数の
   基板に分割することを特徴とする表示装置の製造方法。
6. 【請求項６】 基板の表面上に導電膜が形成されると共
   に基板の外周部が金属フレームで覆われた表示装置の製
   造方法において、 複数の基板が配列区画された絶縁板の表面上に導電膜を
   形成し、 導電膜の上からレーザビームを照射することにより互い
   に隣接する基板の境界線上の導電膜を残したまま前記境
   界線に沿ってその両側にそれぞれ導電膜を除去した溝を
   形成して前記境界線上の導電膜と各基板中央部の導電膜
   とを隔離し、 前記境界線に沿って絶縁板を切断することにより複数の
   基板に分割することを特徴とする表示装置の製造方法。
7. 【請求項７】 互いに所定の間隔を隔てた２本のレーザ
   ビームを前記境界線を挟むように照射して走査すること
   により前記境界線に沿ってその両側に２本の溝を同時に
   形成することを特徴とする請求項６に記載の表示装置の
   製造方法。
8. 【請求項８】 ２本のレーザビームの配置関係を９０度
   回転させることにより縦方向と横方向の境界線に沿って
   それぞれその両側に２本の溝を形成することを特徴とす
   る請求項７に記載の表示装置の製造方法。
9. 【請求項９】 ２本のレーザビームの配置関係をその走
   査方向に対して所定の角度だけ傾斜させることにより縦
   方向にも横方向にも境界線に沿ってその両側に２本の溝
   を形成することを特徴とする請求項７に記載の表示装置
   の製造方法。
10. 【請求項１０】 １本のレーザビームを前記境界線の一
    方の側に照射して走査した後に前記境界線の他方の側に
    照射して走査することにより前記境界線の両側に２本の
    溝を順次形成することを特徴とする請求項６に記載の表
    示装置の製造方法。