JP2003213438A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 上方に開口し、加熱しためっき液を保持するめっき槽と、
   前記めっき槽の内部に配置され、被処理材を該被処理材の被めっき面を上向きにし裏面をシールして保持するステージと、
   前記めっき槽内のめっき液の液面レベルを、非めっき時には前記ステージの表面より低いレベルに、めっき時には前記ステージで保持した被処理材をめっき液中に浸漬させるレベルにそれぞれ調整する液面レベル調整部を有することを特徴とするめっき装置。
2. 前記ステージは、被処理材を水平または傾斜させた状態で保持するように構成されていることを特徴とする請求項１記載のめっき装置。
3. 前記めっき槽内のめっき液に、めっき槽内に導入されるめっき液で旋回流を形成する旋回流形成部を更に有することを特徴とする請求項１または２記載のめっき装置。
4. 前記ステージは回転自在に支承され、該ステージをめっき槽内に導入されるめっき液で回転させるステージ回転部を更に有することを特徴とする請求項１または２記載のめっき装置。
5. 前記めっき槽の内部に、前記ステージが複数個並列して配置されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のめっき装置。
6. 前記めっき槽は、複数個備えられて多段に積層され、各めっき槽に単一のめっき液循環槽からめっき液が供給されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のめっき装置。
7. 上方に開口し、加熱しためっき液を保持するめっき槽内に配置したステージで被処理材を該被処理材の被めっき面を上向きにして保持し、
   非めっき時に前記めっき槽内のめっき液の液面レベルを前記ステージの表面より低いレベルに保持してステージをめっき液で加熱し、
   めっき時には前記ステージで保持した被処理材をめっき液中に浸漬させることを特徴とするめっき方法。
8. 前記めっき槽内のめっき液に、めっき槽内に導入されるめっき液で旋回流を形成することを特徴とする請求項７記載のめっき方法。
9. 前記被処理材を保持するステージを、めっき槽内に導入されるめっき液で回転させることを特徴とする請求項７記載のめっき方法。